JPH10123571A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アクティブ素子側基板の構成に着目し、余分
な製造工程を必要とせずに、液晶注入時間を短縮するこ
とのできる構造の液晶表示装置及びその製造方法を提供
すること。 【解決手段】 複数の走査線及び複数の信号線が直交し
て配置され、前記各走査線と前記各信号線の交点にアク
ティブ素子が配置され、これらを覆う絶縁性膜を介して
前記アクティブ素子にて駆動される画素電極が複数形成
された第一の基板と、対向電極が形成された第二の基板
とが、前記画素電極及び前記対向電極の形成面同士を対
向させて液晶層を挟持させた液晶表示装置において、注
入孔から連続する表示領域以外の基板間のギャップが、
前記第一の基板に形成された前記絶縁性膜に凹部を設け
ることにより、表示領域のギャップより広く形成されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、直視型及び投射型
ディスプレイに用いられる液晶表示装置及びその製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＣＲＴの置換えを目指して液晶表
示装置の開発が行われている。このような液晶表示装置
の一つであるアクティブマトリクス駆動型液晶表示装置
は、図６に示すように、一方の透光性基板２上に液晶層
１４へ電圧を印加する画素電極７が複数形成され、各画
素電極７を選択駆動するスイッチング素子として薄膜ト
ランジシタ及びダイオード等のアクティブ素子３が形成
されているものである。

【０００３】このようなアクティブマトリクス駆動型液
晶表示装置（第一の液晶表示装置と称する）において
は、アクティブ素子側基板での配線段差に起因する配線
付近での液晶分子のディスクリネーションの発生による
表示ムラが問題である。そのため従来、この表示ムラ部
分を隠すために、他方の透光性基板１上に対向電極９が
設けられた対向側基板にアクティブ素子３の配線よりも
大きい幅のマトリクス状の遮光膜８（ブラックマトリク
ス、以下ＢＭと称する）を形成し、上記配線付近のディ
スクリネーションの発生による表示ムラを覆い隠してい
た。さらに、このＢＭはアクティブ素子３の光による特
性劣化を防ぐという目的も兼ねている。しかしながら、
上記対向側基板に形成されるＢＭは、基板の貼合わせマ
ージンにより画素電極７の一部分まで形成されているた
め、液晶表示装置の開口率を低下させる要因となるもの
であった。尚、図６では、アクティブ素子側基板には、
アクティブ素子３上に保護膜４及びその上に液晶を並ば
せるための配向膜１０が形成され、対向側基板には、対
向電極９上に液晶を並ばせるための配向膜１１が形成さ
れている。

【０００４】このような開口率の低下の問題に対して、
アクティブ素子上に厚膜の平坦化膜を形成する方法を適
用した第二の液晶表示装置が開発されている。この方法
においては、図７に示すように、一方の透光性基板２に
設けられたアクティブ素子３上の平坦化膜５により配線
段差が緩和され、その結果配線付近での液晶分子のディ
スクリネーションの発生を防ぐことができる。また、画
素電極７を配線上にも形成することが可能となるため
に、液晶表示装置の開口率を向上させることができる。
尚、この図では、アクティブ素子３上に保護膜４が形成
され、さらに平坦化膜５及び画素電極７の上に液晶を並
ばせる配向膜１０が形成されている。

【０００５】一方、第二の液晶表示装置のアクティブ素
子３を形成した基板は、他方の透光性基板１に対向電極
９及び遮光膜８を設け、さらに液晶を並ばせるための配
向膜１１を備えた対向側基板と所要の直径のスペーサ１
２を介して熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂により貼
合わせ、その基板間のギャップに液晶層１４を形成し
て、液晶表示装置を構成していた。

【０００６】ところで、この液晶層１４を形成する方法
としては、真空注入法が一般的である。この真空注入法
とは、上記貼合わせた基板を真空チャンバ内で真空引き
を行い、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂の特定の箇
所にあらかじめ形成されている注入孔に液晶を浸し、そ
の後真空チャンバ内を大気圧に戻すことにより、貼合わ
せを行った基板間の狭ギャップによる毛細管現象と、パ
ネル内圧とパネル外圧との差によって、注入孔から基板
間に液晶を浸透させて、基板間に液晶層１４を形成する
ものである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】一般に、液晶表示装置
は対向する基板間のどちらか一方に所要の直径のスペー
サを均一に散布させ、基板間のギャップを形成してい
る。

【０００８】従来の第一の液晶表示装置においては、図
６に示すように、アクティブ素子側基板の表面は配線及
びアクティブ素子３により凹凸形状となっており、基板
間のギャップはアクティブ素子側基板の凸状部分に散布
されたスペーサ１２によって確立されている。

【０００９】これに対して、従来の第二の液晶表示装置
は、図７に示すように、アクティブ素子３上に平坦化膜
５を形成し、その上部に画素電極７を形成するので、ア
クティブ素子側基板の表面は平坦化されており、基板間
のギャップは散布された全てのスペーサ１２によって確
立されている。よって、この構造の液晶表示装置では基
板間のギャップは、従来の第一の液晶表示装置の構造の
ものより精度良く形成することができる。

【００１０】しかしながら、液晶の注入に際して、従来
の第一の液晶表示装置では、アクティブ素子３の基板の
表面が凹凸形状になっているため、基板のギャップの狭
い部分（基板間のギャップが確立されているアクティブ
素子側基板の凸状部分）と、基板のギャップの広い部分
とが存在することになり、液晶の注入速度が小さい部分
と、液晶の注入速度が大きい部分の両方が存在し、総合
的には、二つの注入速度の組合わせにより、注入時間が
決定されていた。

【００１１】一方、従来の第二の液晶表示装置では、ア
クティブ素子側基板が平坦化されているため、液晶パネ
ルのギャップの全体が、従来の第一の液晶表示装置の基
板のギャップの狭い部分と同程度になり、液晶の注入速
度は従来の第一の液晶表示装置の基板のギャップの狭い
部分と同程度に小さくなる。よって、従来の第二の液晶
表示装置の注入時間は、従来の第一の液晶表示装置に比
べて、多くの時間が必要になってくるという問題があっ
た。

【００１２】ところで、液晶注入工程時間を短縮する方
法としては、特開平５−３２３３３７号公報に開示され
ている。この方法は、対向側基板に形成されたカラーフ
ィルタ層及びオーバーコート層の非表示領域をエッチン
グすることにより、アクティブ素子側基板と対向側基板
を貼合わせた際に、非表示領域に表示領域よりも広いギ
ャップ部分を形成して、注入時間を短縮するものであ
る。

【００１３】しかしながら、この方法の場合、対向側基
板のカラーフィルタ層及びオーバーコート層のエッチン
グを行なわなければならず、余分な工程を必要としてい
た。

【００１４】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、アクティブ素子側基板の構成に着目
し、余分な製造工程を必要とせずに、液晶注入時間を短
縮することのできる構造の液晶表示装置及びその製造方
法を提供することを目的としている。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
液晶表示装置は、複数の走査線及び複数の信号線が直交
して配置され、前記各走査線と前記各信号線の交点にア
クティブ素子が配置され、これらを覆う絶縁性膜を介し
て前記アクティブ素子にて駆動される画素電極が複数形
成された第一の基板と、対向電極が形成された第二の基
板とが、前記画素電極及び前記対向電極の形成面同士を
対向させて液晶層を挟持させた液晶表示装置において、
注入孔から連続する表示領域以外の基板間のギャップ
が、表示領域のギャップより広く形成されていることを
特徴としている。

【００１６】本発明の請求項２記載の液晶表示装置は、
請求項１記載の液晶表示装置であって、前記表示領域の
ギャップより広く形成されている注入孔から連続する表
示領域以外の基板間のギャップは、シール樹脂と前記表
示領域の間の非表示領域に形成されていることを特徴と
している。

【００１７】本発明の請求項３記載の液晶表示装置は、
請求項１又は２記載の液晶表示装置であって、前記表示
領域のギャップより広く形成されている注入孔から連続
する表示領域以外の基板間のギャップは、前記第一の基
板に形成された前記絶縁性膜に凹部を設けることにより
形成されていることを特徴としている。

【００１８】本発明の請求項４記載の液晶表示装置は、
請求項１乃至３記載の液晶表示装置であって、前記注入
孔は、２箇所以上設けたことを特徴としている。

【００１９】本発明の請求項５記載の液晶表示装置の製
造方法は、複数の走査線及び複数の信号線が直交して配
置され、前記各走査線と前記各信号線の交点にアクティ
ブ素子が配置され、これらを覆う絶縁性膜を介して前記
アクティブ素子にて駆動される画素電極が複数形成され
た第一の基板と、対向電極が形成された第二の基板と
が、前記画素電極及び前記対向電極の形成面同士を対向
させて液晶層を挟持させた液晶表示装置の製造方法にお
いて、前記アクティブ素子と前記画素電極とを電気的に
接続するためにアクティブ素子上の絶縁性膜をエッチン
グする際に、前記注入孔から連続する表示領域以外の絶
縁性膜を同時にエッチングして、前記注入孔から連続す
る表示領域以外の基板間のギャップを、表示領域のギャ
ップより広く形成することを特徴としている。

【００２０】以下、上記構成による作用を説明する。

【００２１】本発明の液晶表示装置は、注入孔から連続
する表示領域以外の基板間のギャップが、表示領域のギ
ャップより広く形成されているので、まず、注入孔部分
の開口部が広く形成されていることにより、真空注入法
により液晶パネル内に液晶を注入する際、単位時間当た
りの注入量を多くすることができる。次に、注入孔から
連続して表示領域以外の基板間のギャップが、表示領域
のギャップより広く形成されていることにより、注入孔
から浸透した液晶は、この表示領域以外の広いギャップ
部分に沿って浸透する。さらに、液晶は、表示領域以外
から表示領域を包み込むように、表示領域の外周から表
示領域の内部に向かって、浸透する。したがって、表示
領域以外の広いギャップ部分での液晶の浸透速度が大き
いことと、表示領域に対して外周から内部に向かって包
み込むように一気に液晶を浸透させる作用により、液晶
パネルへの液晶の注入を完了させる時間を短縮すること
ができる。

【００２２】また、前記表示領域のギャップより広く形
成されている注入孔から連続する表示領域以外の基板間
のギャップは、シール樹脂と前記表示領域の間の非表示
領域に形成されているので、シール樹脂部の基板間のギ
ャップと表示領域のギャップをほぼ同一にすることがで
きる。よって、基板の貼合わせの際のギャップ制御を容
易に行うことができる。さらに、シール樹脂を硬化する
際に、非表示領域の広ギャップ部分にシール樹脂が浸透
して、非表示領域のギャップを狭くすることはない。ま
た、液晶の真空注入に際して、シール樹脂部分が液晶の
浸透の速度を低下させる抵抗成分としての作用を抑制す
ることができ、液晶パネルへの注入時間を短縮すること
ができる。

【００２３】また、前記表示領域のギャップより広く形
成されている注入孔から連続する表示領域以外の基板間
のギャップは、前記第一の基板に形成された前記絶縁性
膜に凹部を設けることにより形成されているので、膜厚
が大きい絶縁膜を除去して、広ギャップ部を形成するこ
とになり、効率的にギャップが広い部分を形成すること
ができる。また、広ギャップ部分では、絶縁性膜が除去
されているので、液晶の真空注入に際して、液晶パネル
へ液晶を浸透させるときに、液晶と絶縁性膜の表面張力
等の相互作用を抑制することができ、液晶の浸透速度を
大きくすることができ、液晶パネルへの注入時間を短縮
することができる。さらに、広ギャップによる液晶の浸
透速度の向上との相乗効果により、液晶パネルへの注入
時間の短縮の効果を高めることができる。

【００２４】また、前記注入孔は、２箇所以上設けたの
で、複数の場所から液晶を液晶パネル内に浸透させるこ
とができ、さらに液晶パネルへの注入時間を短縮するこ
とができる。さらに、複数の注入孔から広ギャップへ液
晶を供給しているので、広ギャップ部分での液晶の浸透
速度の最大値を引き出せるように、複数の注入孔から液
晶を十分に供給することができ、このことにより、液晶
パネルへの注入時間を短縮することができる。また、注
入孔からの液晶の供給不足による、液晶パネル内への液
晶の浸透能力を効果的に引き出せないと言ったことは生
じない。

【００２５】本発明の液晶表示装置の製造方法は、アク
ティブ素子と画素電極とを電気的に接続するためにアク
ティブ素子上の絶縁性膜をエッチングする際に、注入孔
から連続する表示領域以外の絶縁性膜を同時にエッチン
グして、注入孔から連続する表示領域以外の基板間のギ
ャップを、表示領域のギャップより広く形成するので、
広ギャップ部分を形成するのに、従来の工程と同一の工
程で行うことができ、マスクの設計変更のみで形成する
ことができる。さらに、広ギャップ部分を表示領域以外
の部分に正確に形成することができ、液晶パネル内へ液
晶を浸透させる際に、液晶の浸透方向を制御することが
可能になる。

【００２６】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。

【００２７】まず、本実施の形態における液晶表示装置
の構造を図１乃至図３に従って説明する。図１は本実施
の形態の液晶表示装置の全体平面図を示している。図２
は図１のＡ−Ａ線断面図であり、図３は図１のＢ−Ｂ線
断面図を示している。

【００２８】本発明の液晶表示装置は、図１に示すよう
に、対向側の透光性基板１とアクティブ素子を有する透
光性基板２とがシール樹脂１３を介して対向して配され
ている。シール樹脂１３には、液晶を対向側の透光性基
板１とアクティブ素子を有する透光性基板２の間に注入
するために、注入孔１７が設けられている。注入孔１７
では、表示領域１６のギャップよりも広くなっている広
ギャップ部分１５が形成されている。この広ギャップ部
分１５は、シール樹脂１３と表示領域１６の間の非表示
領域にも形成されており、注入孔１７から表示領域１６
を囲んで連続して形成されている。

【００２９】さらに、この液晶表示装置の部分構成につ
いて詳しく説明する。まず、非表示領域を含めたシール
樹脂部から表示領域までは、図２に示すように、対向側
の透光性基板１とアクティブ素子３を有する透光性基板
２とがスペーサ１２と一対の透光性基板１、２を固定す
るシール樹脂１３とを介して対向して配されており、一
対の透光性基板１、２間に液晶層１４が挟持されてい
る。上記透光性基板１、２としては、ガラス又は石英等
からなる透明性基板を用いることができる。

【００３０】アクティブ素子３を有する透光性基板２の
液晶層１４側表面には、図示しない複数の走査線と複数
の信号線とが互いに直交するマトリクス状に配設されて
おり、このマトリクスの交差点毎に画素電極７を駆動す
るアクティブ素子３が形成されている。これらアクティ
ブ素子３の上には、アクティブ素子３を覆うように絶縁
性の保護膜４が形成され、この上に絶縁性の平坦化膜５
がさらに形成されている。この平坦化膜５の表面には、
透明電極膜が画素形状にパターニングされてなる複数の
画素電極７が個々のアクティブ素子３に対応して形成さ
れており、対応する画素電極７とアクティブ素子３と
は、それぞれコンタクトホール６を通じて電気的に接続
されている。さらに、画素電極７の上には配向膜１０が
形成されている。また、シール樹脂１３と表示領域の間
の非表示領域において、絶縁性の保護膜４と絶縁性の平
坦化膜５が除去され凹部１８が形成されている。このこ
とにより、非表示領域のギャップは、表示領域のギャッ
プよりも広く形成されている。このことにより、液晶の
注入の際に、液晶が非表示領域の方から先に浸透してい
き、表示領域の全周囲から包み込むようにして、表示領
域で液晶の浸透が一気に進行する。その結果、液晶パネ
ルに短い時間で液晶を注入することができる。

【００３１】上記アクティブ素子３としては、薄膜トラ
ンジスタ又はダイオード、ＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓ
ｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）素子等を用いることができ
る。絶縁性の保護膜４としては、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘ等
を用いることができる。尚、この保護膜４は、必ずしも
必要ではないが、上記平坦化膜５の絶縁性があまり高く
ない場合、又は平坦化膜５中にイオン性の不純物が含ま
れている場合には、アクティブ素子３の特性劣化を防止
する効果を有するので設けることが望ましい。平坦化膜
５としては、例えばポリイミドを用いることができる。
画素電極７を構成する透明電極膜としては例えばＩＴＯ
（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜を用いること
ができる。また、配向膜１０としては例えばポリイミド
を用いることができる。

【００３２】一方、対向側の透光性基板１の液晶層側表
面には、上記アクティブ素子３を有する透光性基板２に
形成されたアクティブ素子３の光劣化を防止するため
に、アクティブ素子３を覆いかくす形状でアクティブ素
子３の配置位置に対応して配列されたパターン及び表示
領域以外に遮光膜８が形成され、この遮光膜８の上に、
透明電極膜からなる対向電極９が全面に設けられてい
る。この対向電極９上には、配向膜１１が形成されてい
る。

【００３３】上記遮光膜８は、例えばアルミニウム又は
タンタル等の金属等の遮光性物質を用いることができ
る。対向電極９の透明電極としては、上記の画素電極７
と同様の例えばＩＴＯ膜を用いることができる。

【００３４】次に、注入孔部分では、図３に示すよう
に、対向側の透光性基板１とアクティブ素子３を有する
透光性基板２とが一対の透光性基板１、２を固定するシ
ール樹脂１３とを介して対向して配されており、シール
樹脂１３には液晶を注入するための注入孔１７が設けら
れている。

【００３５】注入孔部分において、アクティブ素子３を
有する透光性基板２の液晶層１４側表面には、絶縁性の
保護膜４が形成され、さらにこの上に平坦化膜５が形成
されている。さらに、注入孔１７では、注入孔１７の形
状に対応して、保護膜４及び平坦化膜５が除去され、凹
部１８が形成されている。この凹部１８により注入孔１
７の面積を広くしている。このことにより、液晶の注入
の際に、単位時間当たりの液晶パネル内に浸透する液晶
の注入量が多くなり、その結果、液晶パネル全体に液晶
が注入される時間を短くすることができる。

【００３６】一方、注入孔部分において、対向側の透光
性基板１の液晶層側表面には、表示領域以外に形成され
た遮光膜８が形成され、この遮光膜８上に、透明電極膜
からなる対向電極９が形成されている。

【００３７】次に、本液晶表示装置の製造方法を、図１
乃至図４に従って説明する。図４は、本発明の液晶表示
装置のアクティブ素子の構造を示す模式図である。

【００３８】まず、ガラス又は石英等からなる透光性基
板２上に、図４に示すように、信号線１９と走査線２０
とを、各々直交するようにマトリクス状に形成し、マト
リクスの交差部分毎にアクティブ素子３を形成する。
尚、図４においては、アクティブ素子３として薄膜トラ
ンジスタを例示している。

【００３９】次に、これら信号線１９、走査線２０、及
びアクティブ素子３を覆うように図２に示すＳｉＮｘ又
はＳｉＯｘからなる絶縁性の保護膜４を膜厚１μｍに形
成し、さらにこの保護膜４の表面に、ポリイミドからな
る平坦化膜５を膜厚３μｍで全面に形成する。続いて、
画素電極７とそれに対応するアクティブ素子３とを電気
的に接続するためのコンタクトホール６を、平坦化膜５
及び保護膜４をエッチングすることにより形成する。こ
のとき、図２及び図３に示すように、シール樹脂１３と
表示領域の間の非表示領域及び注入孔１７に対応する部
分の平坦化膜５及び保護膜４も同時にエッチングして、
注入孔１７から表示領域を囲む全周囲にわたって連続し
て非表示領域に凹部１８をパターニングする。その後、
全面にＩＴＯからなる透明電極膜を成膜してパターニン
グすることで画素電極７を形成し、さらにこれら画素電
極７を覆うようにポリイミドからなる配向膜１０を形成
する。

【００４０】一方、ガラス又は石英等からなる透光性基
板１上に、アルミニウム又はタンタル等の遮光性物質か
らなる遮光性物質層を全面に形成し、図２及び図３に示
すように、もう一方の透光性基板２上に形成されたアク
ティブ素子の形状、その配置位置、さらに表示領域以外
の形状に応じてパターニングし、遮光膜８を形成する。
次いで、その上にＩＴＯからなる透明電極膜を全面に成
膜して対向電極９を形成し、この表面に配向膜１１を形
成する。

【００４１】次に、これら透光性基板１、２に形成され
た配向膜１０、１１に液晶を並ばせるためにラビング等
による配向処理を行う。

【００４２】この後、一方の透光性基板上に本実施の形
態では直径５μｍのスペーサを散布し、５μｍのスペー
サを混入したシール樹脂を、図１及び図３に示すよう
に、透光性基板２上に形成した凹部１８に対応して、一
箇所の注入孔１７を形成するようにシール印刷を行い、
透光性基板１、２を貼合わせて液晶パネルを構成する。
ここで、図１に示す広ギャップ部１５のギャップは、表
示領域１６でのギャップより４μｍ広くなっている。

【００４３】次いで、この広ギャップ部１５を有する液
晶パネルの基板の間隙に液晶を真空注入して液晶層１４
を形成し、液晶表示装置が製造される。ここで、液晶層
１４となる液晶としては、例えばＺＬＩ−４７９２（メ
ルクジャパン（株）製）のネマティック液晶等を用いる
ことができる。

【００４４】次に、本実施の形態で説明した構成及び製
造方法を、５型サイズの液晶パネルに適用した結果の具
体例について説明する。広ギャップ部分１５を有する５
型サイズの液晶パネルは、真空チャンバ内で液晶パネル
の空気の除去のための真空引きに４０分間を要した。次
いで、注入孔を液晶に浸し、その後真空チャンバを大気
圧に戻し、液晶パネル内に液晶を完全に注入するのに３
０分間を要した。ここで、液晶パネル内に注入する液晶
は、注入孔１７から表示領域１６の全周囲に連続して形
成した凹部１８に沿って浸透し、さらに表示領域１６の
全周囲から表示領域１６の中心方向に向かって包み込む
ように浸透するのが認められた。よって、液晶注入工程
に要した時間は、真空引きに４０分、液晶注入に３０
分、合わせて７０分であった。

【００４５】一方、比較例として、広ギャップ部分１５
を有さない５型サイズの液晶パネルの注入工程の結果に
ついて説明する。広ギャップ部分１５を有さない５型サ
イズの液晶パネルは、真空チャンバ内で液晶パネルの空
気の除去のための真空引きに６０分間を要した。次い
で、注入孔１７を液晶に浸し、その後真空チャンバを大
気圧に戻し、液晶パネル内に液晶を完全に注入するのに
６０分間を要した。ここで、液晶パネル内に注入する液
晶は、注入孔１７から順次浸透し、注入孔１７に近い表
示領域１６から注入孔１７から一番離れた表示領域１６
まで連続的に浸透するのが認められた。よって、液晶注
入工程に要した時間は、真空引きに６０分、液晶注入に
６０分、合わせて１２０分であった。

【００４６】したがって、本発明の広ギャップ部分１５
を有する構造にすることにより、液晶注入工程に要する
時間は、従来に比べて約１／２に短縮することができ
た。

【００４７】ところで、上記実施の形態では、注入孔１
７を一箇所の場合について説明したが、注入孔１７を複
数設けて、それに連続する凹部１８をパターニングし
て、広ギャップ部分１５を形成することもできる。この
場合の注入孔１７の個数と液晶注入に要する時間との関
係を図５に示す。注入孔１７の個数を増やすことによ
り、さらに液晶の注入工程に要する時間を短縮すること
ができる。

【００４８】

【発明の効果】本発明の液晶表示装置は、注入孔から連
続する表示領域以外の基板間のギャップが、表示領域の
ギャップより広く形成されているので、まず、注入孔部
分の開口部が広く形成されていることにより、真空注入
法により液晶パネル内に液晶を注入する際、単位時間当
たりの注入量を多くすることができる。次に、注入孔か
ら連続して表示領域以外の基板間のギャップが、表示領
域のギャップより広く形成されていることにより、注入
孔から浸透した液晶は、この表示領域以外の広いギャッ
プ部分に沿って浸透する。さらに、液晶は、表示領域以
外から表示領域を包み込むように、表示領域の外周から
表示領域の内部に向かって、浸透する。したがって、表
示領域以外の広いギャップ部分での液晶の浸透速度が大
きいことと、表示領域に対して外周から内部に向かって
包み込むように一気に液晶を浸透させる作用により、液
晶パネルへの液晶の注入を完了させる時間を短縮するこ
とができる。

【００４９】また、前記表示領域のギャップより広く形
成されている注入孔から連続する表示領域以外の基板間
のギャップは、シール樹脂と前記表示領域の間の非表示
領域に形成されているので、シール樹脂部の基板間のギ
ャップと表示領域のギャップをほぼ同一にすることがで
きる。よって、基板の貼合わせの際のギャップ制御を容
易に行うことができる。さらに、シール樹脂を硬化する
際に、非表示領域の広ギャップ部分にシール樹脂が浸透
して、非表示領域のギャップを狭くすることはない。ま
た、液晶の真空注入に際して、シール樹脂部分が液晶の
浸透の速度を低下させる抵抗成分としての作用を抑制す
ることができ、液晶パネルへの注入時間を短縮すること
ができる。

【００５０】また、前記表示領域のギャップより広く形
成されている注入孔から連続する表示領域以外の基板間
のギャップは、前記第一の基板に形成された前記絶縁性
膜に凹部を設けることにより形成されているので、膜厚
が大きい絶縁膜を除去して、広ギャップ部を形成するこ
とになり、効率的にギャップが広い部分を形成すること
ができる。また、広ギャップ部分では、絶縁性膜が除去
されているので、液晶の真空注入に際して、液晶パネル
へ液晶を浸透させるときに、液晶と絶縁性膜の表面張力
等の相互作用を抑制することができ、液晶の浸透速度を
大きくすることができ、液晶パネルへの注入時間を短縮
することができる。さらに、広ギャップによる液晶の浸
透速度の向上との相乗効果により、液晶パネルへの注入
時間の短縮の効果を高めることができる。

【００５１】また、前記注入孔は、２箇所以上設けたの
で、複数の場所から液晶を液晶パネル内に浸透させるこ
とができ、さらに液晶パネルへの注入時間を短縮するこ
とができる。さらに、複数の注入孔から広ギャップへ液
晶を供給しているので、広ギャップ部分での液晶の浸透
速度の最大値を引き出せるように、複数の注入孔から液
晶を十分に供給することができ、このことにより、液晶
パネルへの注入時間を短縮することができる。また、注
入孔からの液晶の供給不足による、液晶パネル内への液
晶の浸透能力を効果的に引き出せないと言ったことは生
じない。

【００５２】本発明の液晶表示装置の製造方法は、アク
ティブ素子と画素電極とを電気的に接続するためにアク
ティブ素子上の絶縁性膜をエッチングする際に、注入孔
から連続する表示領域以外の絶縁性膜を同時にエッチン
グして、注入孔から連続する表示領域以外の基板間のギ
ャップを、表示領域のギャップより広く形成するので、
広ギャップ部分を形成するのに、従来の工程と同一の工
程で行うことができ、マスクの設計変更のみで形成する
ことができる。さらに、広ギャップ部分を表示領域以外
の部分に正確に形成することができ、液晶パネル内へ液
晶を浸透させる際に、液晶の浸透方向を制御することが
可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示装置の全体平面図である。

【図２】図１に示す液晶表示装置のＡ−Ａ線断面図であ
る。

【図３】図１に示す液晶表示装置のＢ−Ｂ線断面図であ
る。

【図４】本発明の液晶表示装置のアクティブ素子の構成
の模式図である。

【図５】本発明の液晶表示装置の注入孔の個数と液晶注
入工程に要する時間との関係を示す図である。

【図６】従来の第一の液晶表示装置の部分断面構造図で
ある。

【図７】従来の第二の液晶表示装置の部分断面構造図で
ある。

【符号の説明】

１ 透光性基板 ２ 透光性基板 ３ アクティブ素子 ４ 保護膜 ５ 平坦化膜 ６ コンタクトホール ７ 画素電極 ８ 遮光膜 ９ 対向電極 １０ 配向膜 １１ 配向膜 １２ スペーサ １３ シール樹脂 １４ 液晶層 １５ 広ギャップ部分 １６ 表示領域 １７ 注入孔 １８ 凹部 １９ 信号線 ２０ 走査線

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の走査線及び複数の信号線が直交し
   て配置され、前記各走査線と前記各信号線の交点にアク
   ティブ素子が配置され、これらを覆う絶縁性膜を介して
   前記アクティブ素子にて駆動される画素電極が複数形成
   された第一の基板と、対向電極が形成された第二の基板
   とが、前記画素電極及び前記対向電極の形成面同士を対
   向させて液晶層を挟持させた液晶表示装置において、 注入孔から連続する表示領域以外の基板間のギャップ
   が、表示領域のギャップより広く形成されていることを
   特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】 前記表示領域のギャップより広く形成さ
   れている注入孔から連続する表示領域以外の基板間のギ
   ャップは、シール樹脂と前記表示領域の間の非表示領域
   に形成されていることを特徴とする請求項１記載の液晶
   表示装置。
3. 【請求項３】 前記表示領域のギャップより広く形成さ
   れている注入孔から連続する表示領域以外の基板間のギ
   ャップは、前記第一の基板に形成された前記絶縁性膜に
   凹部を設けることにより形成されていることを特徴とす
   る請求項１又は２記載の液晶表示装置。
4. 【請求項４】 前記注入孔は、２箇所以上設けたことを
   特徴とする請求項１乃至３記載の液晶表示装置。
5. 【請求項５】 複数の走査線及び複数の信号線が直交し
   て配置され、前記各走査線と前記各信号線の交点にアク
   ティブ素子が配置され、これらを覆う絶縁性膜を介して
   前記アクティブ素子にて駆動される画素電極が複数形成
   された第一の基板と、対向電極が形成された第二の基板
   とが、前記画素電極及び前記対向電極の形成面同士を対
   向させて液晶層を挟持させた液晶表示装置の製造方法に
   おいて、 前記アクティブ素子と前記画素電極とを電気的に接続す
   るためにアクティブ素子上の絶縁性膜をエッチングする
   際に、前記注入孔から連続する表示領域以外の絶縁性膜
   を同時にエッチングして、前記注入孔から連続する表示
   領域以外の基板間のギャップを、表示領域のギャップよ
   り広く形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方
   法。