JPH10123538A

JPH10123538A - 液晶表示素子の製造方法

Info

Publication number: JPH10123538A
Application number: JP27973196A
Authority: JP
Inventors: Hideki Matsukawa; 秀樹松川; Satoru Shinsenji; 哲秦泉寺; Satoshi Yamada; 聡山田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1996-10-22
Filing date: 1996-10-22
Publication date: 1998-05-15
Anticipated expiration: 2016-10-22
Also published as: JP3088960B2

Abstract

(57)【要約】【課題】シール材として紫外線硬化型樹脂を使用しつ
つ、表示品位の優れた液晶表示素子を製造することがで
きる液晶表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】表面に配向膜を形成し、この配向膜にラ
ビング処理を施した２枚のガラス基板１１，１２を用意
し、一方の基板の配向膜上に紫外線硬化型樹脂からなる
シール材１３を塗布し、他方の基板の配向膜上に図示し
ないスペーサを散布して固着し、これらを貼り合わせて
空セルを形成する。次に、平行光に集光された紫外線２
０をガラス基板１２の外側からシール材１３のみに向け
て照射してシール材１３を硬化させる。次にシール材１
３の硬化が行われた空セルと液晶材料を溜めたプールを
真空槽中に設置し、真空注入法により空セル内に液晶材
料を毛細管現象によって吸い上げ、空セルの全面に液晶
材料が広がった後、注入口に封口剤を塗布してセルを封
じ、完成パネルとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はパーソナルコンピュ
ータやワードプロセッサなどのＯＡ機器、ハンディ端末
機器、及び携帯型情報通信機器などに使用される液晶表
示素子の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示素子の製造方法では、セ
ル内への液晶の封入方法として真空注入法がよく使用さ
れている。図１０はこの真空注入法による液晶の注入工
程を示している。これを簡単に説明すると、先ず、一主
面に配向膜を形成し、この配向膜に必要に応じてラビン
グ処理を施した２枚のガラス基板４４を用意し、いずれ
か一方の基板の配向膜上にスペーサを散布して固着さ
せ、更にいずれか一方の基板の配向膜上に接着剤（シー
ル材）を印刷した後、２枚のガラス基板４４を貼り合わ
せて空セル４０を形成する。次に、この空セル４０と液
晶４２を溜めたプール４５を真空槽４１中に設置し、真
空槽４１中をある一定の真空度にする。次に、空セル４
０の一方の注入口４３をプール４５に浸した後、真空槽
４１内の圧力を大気圧に戻すことによって空セル４０内
に液晶４２を毛細管現象によって吸い上げる。そして、
空セル４０の全面に液晶が広がると注入口４３に封口剤
を塗布してセルを封じる。なお、空セル４０の接着剤
（シール材）としては一般的に熱硬化型樹脂または紫外
線硬化型樹脂が用いられ、塗布後に硬化処理を行ってい
る。以上が真空注入法を用いた液晶表示素子の製造工程
であるが、かかる液晶表示素子の製造工程では液晶４２
の注入作業に長時間を要するという欠点がある。特に、
空セル４０のサイズが大きい程、真空槽４１内の圧力と
空セル４０内の圧力を同じにするのに時間を要する。近
年、液晶表示素子の応答速度を速めるために、セルギャ
ップ（２枚のガラス基板４４間のギャップ（間隔））を
従来の６〜７μｍから３〜４μｍに狭める検討が行われ
ており、セルギャップを狭くすればするほど、空セル４
０内の圧力を一定にするのに要する時間や毛細管現象に
よって液晶を引き上げるのに要する時間が長くなる。こ
のため、従来の数倍の作業時間が必要になっている。そ
こで、このような液晶の注入作業の長時間化を解消でき
る方法として図１１に示す滴下工法が提案されている。

【０００３】この滴下工法は以下の工程からなる。先
ず、配向膜を形成し、この配向膜に必要に応じてラビン
グ処理を施した２枚のガラス基板５０，５１を用意し、
一方のガラス基板５１に貼り合わせのためのシール材５
４をスクリーン印刷やディスペンサーなどでパターン形
成し、更に適正量の液晶５２を滴下する。また、他方の
基板５０にスペーサ５５を散布して、固着させる。ここ
で、シール材５４としては硬化型樹脂が使用される。次
に、両ガラス基板５０，５１を真空槽５３中に配置し、
槽内が最適な真空度に達したら、両ガラス基板５０，５
１を貼り合わせる。そして、シール材５４を硬化してセ
ルギャップ（貼り合わせられたガラス基板５０，５１間
のギャップ）内の液晶表示素子の表示領域となる領域を
完全に封止する。そして、最後に、両ガラス基板５０，
５１の液晶表示素子となる部分を残して、両ガラス基板
５０，５１を裁断する。図１１では、一個の素子領域
（液晶表示素子となる部分）しか示していないが、大面
積の基板に複数の素子領域（液晶表示素子となる部分）
を形成し、ガラス基板の裁断によって個々の素子領域
（液晶表示素子となる部分）を分断して、複数の素子を
一括的に得ることも可能である。このような滴下工法で
は、セル内へ液晶を配置させるために長時間を要しない
ので、液晶表示素子を短時間で完成させることができ
る。また、製造すべき液晶表示素子のサイズが大きくて
も、また、セルギャップが狭くても、液晶表示素子を完
成させるに要する時間が全く変わらないという利点があ
る。また、真空注入法のようなバッチ処理ではなく、イ
ンラインで連続的に処理でき、しかも、複数の素子を一
括的に製造することができ、製造コストを削減できると
いうメリットもある。なお、前記シール材５４としては
熱硬化型樹脂よりも紫外線硬化型樹脂を使用するのが好
適である。これは、熱硬化型樹脂の場合、その硬化処理
時に一旦樹脂が軟化（溶融）し、この軟化（溶融）状態
の樹脂が液晶に混入して液晶の特性を劣化させるためで
ある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記いずれ
の製法（真空注入法、滴下工法）においても、シール材
として紫外線硬化型樹脂が使用されている（特に、滴下
工法においては紫外線硬化型樹脂が好適に使用されてい
る）。ところが、かかる紫外線硬化型樹脂を硬化するた
めのセルへの紫外線の照射工程において、この紫外線が
少なからずセル内に悪影響を与えてしまう。一般的にセ
ル内の配向膜に強い紫外線が照射されると、照射された
部分の特性が変化して、セル内の液晶材料（液晶分子）
とのプレチルト角が変化することとなり、液晶材料（液
晶分子）配向状態が不安定になる。また、滴下工法の場
合は、紫外線の照射時にセル内に液晶材料が存在してい
るので液晶材料にも紫外線が照射され、液晶材料の抵抗
値変化や成分の分解が起こって正常な表示特性が得られ
なくなる。このような紫外線の照射を受けた液晶表示素
子を信頼性試験にかけると、その多くは電流値や光学特
性が著しく劣化したものになる。また、最近の配向膜に
は機械的なラビング処理ではなく、方向性を持った紫外
線を照射することによって配向がなされる光配向膜があ
り、この光配向膜に紫外線が照射されると、光配向膜が
再配向して異常配向を起こすことがある。近年、液晶材
料には紫外線に対して耐性の強いもの（特性変化しにく
もの）も多くなっってきているが十分ではなく、また、
エンドユーザーからの表示品位の向上に対する要求は益
々強くなってきており、シール材（紫外線硬化型樹脂）
の硬化に際し、液晶材料や配向膜への紫外線の照射によ
る悪影響を抑制する方法が求められている。

【０００５】この発明は前記のような課題に鑑みてなさ
れたものであり、シール材として紫外線硬化型樹脂を使
用しつつ、表示品位の優れた液晶表示素子を製造するこ
とができる液晶表示素子の製造方法を提供することを目
的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示素子の製造方法は、表面に配向膜
を有する２枚の透明基板のいずれか一方の基板の配向膜
上に紫外線硬化型のシール材を塗布する工程と、前記２
枚の透明基板のいずれか一方の基板の配向膜上にスペー
サ材を散布して固着する工程と、前記２枚の透明基板を
互いの配向膜が対向するように前記シール材を介して貼
り合わせる工程と、前記貼り合わされた２枚の透明基板
のいずれか一方または双方の基板の外側から実質的に前
記２枚の透明基板間にあるシール材のみに紫外線を照射
して前記シール材を硬化させる工程とを含む。このよう
な本発明の液晶表示素子の製造方法では、シール材の硬
化工程において、セル内（貼り合わされた２枚の透明基
板内）の液晶表示素子の表示領域になるべき領域にある
配向膜には実質的に紫外線が照射されないため、配向膜
の配向性が所定の配向性に維持される。また、光配向膜
を用いた場合には、光配向膜の再配向による異常配向が
防止される。従って、前記シール材の硬化工程後に前記
貼り合わされた２枚の透明基板のギャップ内に液晶材料
を注入する態様にて液晶表示素子を完成させると、注入
後の液晶材料の配向状態は所望の好ましい配向状態とな
り、表示品位の優れた液晶表示素子を製造することがで
きる。また、前記２枚の透明基板を貼り合わせる工程前
に予め２枚の透明基板のいずれか一方の基板の配向膜上
に液晶材料を滴下することにより２枚の透明基板のギャ
ップ内に液晶材料を配置させる態様にて液晶表示素子を
完成させると、配向膜の配向性が所定の配向性に維持さ
れるとともに、シール材の硬化工程において２枚の透明
基板のギャップ内にある液晶材料のには紫外線が照射さ
れず、液晶材料の抵抗値が変化したり、成分が分解した
りすることがないので、表示品位の優れた液晶表示素子
を製造することができる。

【０００７】前記本発明の液晶表示素子の製造方法にお
いては、シール材の硬化工程が、光学手段によって集光
した紫外線を２枚の透明基板のいずれか一方または双方
の基板の外側から前記２枚の透明基板間にあるシール材
へ向けて照射して前記シール材を硬化させる工程である
のが好ましく、このような好ましい構成により、前記紫
外線の選択的な照射を簡単に行うことができ、製造時間
を短時間化できる。

【０００８】また前記本発明の液晶表示素子の製造方法
においては、シール材の硬化工程が、シール材の塗布パ
ターンに対応した開口パターンを有する紫外線遮光部材
を通過させて得られた紫外線のパターン光を、貼り合わ
された２枚の透明基板のいずれか一方または双方の基板
の外側から前記２枚の透明基板間にある前記シール材へ
向けて照射して前記シール材を硬化させる工程であるの
が好ましく、このような好ましい構成により、紫外線の
シール材への選択的な照射を高精度に行うことができ、
液晶材料及び配向膜への紫外線の照射がより高いレベル
で抑制されることとなり、その結果、表示品位の優れた
液晶表示素子を高い歩留まりで製造することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の代表的な実施形態
について説明する。（第１の実施形態）図１は本発明の第１の実施形態によ
る液晶表示素子の製造工程におけるシール材の硬化工程
を示した断面図であり、図において、１１，１２は各々
の内側面に配向膜が形成され、この配向膜にラビング処
理が施されている一対のガラス基板、１３は例えばアク
リル系の紫外線硬化型樹脂からなるシール材、２０は平
行光に集光された紫外線である。なお、ここでは、スペ
ーサを図示していないが、通常、２枚のガラス基板１
１，１２間には所定の間隔（ギャップ）を保持するため
にスペーサが配設されている。

【００１０】以下、製造工程を説明する。先ず、表面に
配向膜を形成し、この配向膜にラビング処理を施した２
枚のガラス基板１１，１２を用意し、一方の基板（ガラ
ス基板１２）の配向膜上に紫外線硬化型樹脂からなるシ
ール材１３を塗布し、他方の基板（ガラス基板１１）の
配向膜上に図示しないスペーサを散布して固着し、これ
らを貼り合わせて空セルを形成する。ここでは、２枚の
ガラス基板の一方の基板（ガラス基板１２）にシール材
１３を塗布し、他方の基板（ガラス基板１１）にスペー
サを散布して固着させたが、いずれか一方の基板にシー
ル材１３を塗布し、かつ、スペーサを散布して固着させ
てもよい。図３はシール材１３が表面に形成されたガラ
ス基板１２をその上方から見た平面図であり、図１では
素子領域（実際に液晶表示素子となる部分）のみを示し
ているが、この図３に示すように、多くの場合、シール
材は素子領域を区画するための線状パターン（シール
材）１３と２枚の基板の貼り合わせ強度を高めるための
補強用の線状パターン（シール材）１３ａとからなる。
線状パターンの幅は特に限定されないが一般に１．０〜
２．０ｍｍである。

【００１１】次に、図２の紫外線出射装置を用いて平行
光に集光された紫外線２０をガラス基板１２の外側から
シール材１３へ向けて照射してシール材１３を硬化させ
る。ここで、平行光に集光された紫外線２０はシール材
１３の塗布パターンに沿って走査させる。平行光に集光
された紫外線２０のスポット幅（直径または長径）は、
前記シール材１３，１３ａの幅と同等もしくは小さいこ
とが必要である。ここで、図２の紫外線出射装置の構成
を簡単に説明する。図において、１４は超高圧水銀灯、
１５は楕円集光鏡、１６は凹レンズ、２０は平行光に集
光された紫外線であり、この装置は一般的に用いられる
投影露光装置の光学系である。超高圧水銀灯１４から出
射した紫外線が楕円集光鏡１５で集光され、更に凹レン
ズ１６で平行光に集光される。この平行光に集光された
紫外線２０はこれら超高圧水銀灯１４、楕円集光鏡１５
及び凹レンズ１６からなる光学系が図示しない駆動機構
によって移動することによって走査される。なお、凹レ
ンズ１６を用いず楕円集光鏡１５の光学設計のみでも平
行光を得ることが可能である。また、平行光に集光され
た紫外線２０を一旦光ファイバーで取り込んで分岐させ
て出射させることにより、紫外線２０を走査させるため
の機構を簡略化及び小型化することができる。

【００１２】次に、従来と同様にして、シール材１３の
硬化が行われた前記空セルと液晶材料を溜めたプールを
真空槽中に設置し、真空槽中をある一定の真空度にした
後、空セルの一方の注入口をプールに浸し、真空槽内の
圧力を大気圧に戻すことによって空セル内に液晶材料を
毛細管現象によって吸い上げる。そして、空セルの全面
に液晶が広がると注入口に封口剤を塗布してセルを封
じ、完成パネルとする。

【００１３】このような本実施形態の液晶表示素子の製
造工程では、シール材１３にのみ平行光に集光された紫
外線２０を照射するようにしてシール材１３の硬化を行
うので、セル（貼り合わされた２枚の透明基板１１，１
２）内の素子領域（実際に液晶表示素子となる部分）に
ある配向膜には実質的に紫外線が照射されない。従っ
て、素子領域における配向膜の特性変化により配向膜と
液晶材料（液晶分子）間のプレチルト角が不揃いになる
ことを防止することができ、その結果、しきい値ムラの
ない表示品位に優れた液晶表示素子を得ることができ
る。なお、平行光に集光された紫外線２０がシール材１
３から外れて素子領域の配向膜に照射されてしまうこと
を確実に防止し、かつ、シール材１３を未硬化領域を残
すことなく硬化させるために、平行光に集光された紫外
線２０のスポット幅（直径または長径）をシール材１３
のパターンの幅とほぼ同等またはそれ以下の幅にし、紫
外線２０を複数回走査してシール材１３の未硬化領域を
無くすようにするのが好ましい。

【００１４】（第２の実施形態）図４は本発明の第２の
実施形態による液晶表示素子の製造工程におけるシール
材の硬化工程を示した断面図であり、図において、図１
と同一符号は同一または相当する部分を示し、２０ａが
集束光に集光された紫外線である。なお、ここでは、ス
ペーサを図示していないが、通常、２枚のガラス基板１
１，１２間には所定の間隔（ギャップ）を保持するため
にスペーサが配設されている。

【００１５】すなわち、本実施形態による液晶表示素子
の製造工程は、シール材１３に照射する紫外線として集
束光の紫外線２０ａを用いる以外は前記第１の実施形態
のそれと基本的に同じである。なお、図５は集束光の紫
外線２０ａを出射する紫外線出射装置である。図におい
て、図２と同一符号は同一または相当する部分を示し、
３６は凸レンズである。超高圧水銀灯１４から出射した
紫外線が楕円集光鏡１５で集光され、更に凸レンズ３６
で集束光に集光される。なお、集束光に集光された紫外
線２０ａを一旦光ファイバーで取り込んで分岐させて出
射させることにより、紫外線２０ａを走査させるための
機構を簡略化及び小型化することができる。

【００１６】このような本実施形態の液晶表示素子の製
造工程においても、前記第１の実施形態と同様の効果を
得ることができる。また、前記第１の実施形態では、シ
ール材１３のパターン幅が変更された場合、紫外線出射
装置における楕円集光鏡１５を取り換えるか、楕円集光
鏡１５とレンズ１６間の距離を調整するという繁雑な作
業により、平行光の紫外線２０のスポット幅（直径また
は長径）を変更することが必要であるが、本実施形態で
は紫外線出射装置の凸レンズ３６を厚みの違うものに取
り換えるという簡単な作業で、集束光の紫外線２０ａの
スポット幅（直径または長径）を容易に変更できる。従
って、シール材１３のパターン幅が変更された場合の作
業性に優れている。なお、集束光の紫外線２０ａがシー
ル材１３から外れて素子領域の配向膜に照射されてしま
うことを確実に防止し、かつ、シール材１３を未硬化領
域を残すことなく硬化させるために、前記第１の実施形
態と同様に、集束光の紫外線２０ａのスポット幅（直径
または長径）をシール材１３のパターンの幅とほぼ同等
またはそれ以下の幅にし、集束光の紫外線２０ａを複数
回走査してシール材１３の未硬化領域を無くすようにす
るのが好ましい。

【００１７】（第３の実施形態）図７は本発明の第３の
実施形態による液晶表示素子の製造工程におけるシール
材の硬化工程を示した断面図であり、図において、図１
と同一符号は同一または相当する部分を示し、１７が液
晶材料である。

【００１８】図６は本実施形態の製造工程のフローチャ
ートであり、このフローチャートは一般的な滴下工法の
フローを示している。すなわち、本実施形態は滴下工法
を用いた液晶表示素子の製造工程である。

【００１９】以下、これらの図に基づいて液晶表示素子
の製造工程を説明する。先ず、表面に配向膜を形成し、
この配向膜にラビング処理を施した２枚のガラス基板１
１，１２を用意し、一方の基板の配向膜上に紫外線硬化
型樹脂からなるシール材１３を塗布し、更に液晶材料１
７を滴下し、他方の基板の配向膜上に図示しないスペー
サを散布して固着する。そして、両ガラス基板１１，１
２を真空槽中に配置し、槽内が最適な真空度に達した
ら、両ガラス基板１１，１２を貼り合わせて、液晶セル
を形成する。ここで、２枚のガラス基板１１，１２の一
方の基板にシール材１３を塗布し、他方の基板にスペー
サを散布して固着させたが、いずれか一方の基板にシー
ル材１３を塗布し、更にスペーサを散布して固着させて
もよい。

【００２０】次に、前記第１の実施形態で使用した紫外
線出射装置を用いてガラス基板１２の外側からシール材
１３へ向けて平行光に集光された紫外線２０を照射して
シール材１３を硬化させる。ここで、平行光に集光され
た紫外線２０はシール材１３の塗布パターンに沿って走
査させる。平行光に集光された紫外線２０のスポット幅
（直径または長径）は、前記シール材１３，１３ａの幅
と同等もしくは小さいことが必要である。そして、最後
にガラス基板の切断を行って、液晶セルの実際に液晶表
示素子となる部分を取得する。

【００２１】このような本実施形態の液晶表示素子の製
造工程では、シール材１３にのみ平行光に集光された紫
外線２０を照射するようにしてシール材１３の硬化を行
うので、液晶セル内の素子領域（実際に液晶表示素子と
なる部分）にある液晶材料１７及び配向膜には実質的に
紫外線が照射されない。従って、素子領域における液晶
材料の抵抗値が変化したり、成分が分解したりすること
がなく、しかも、配向膜の特性変化により配向膜と液晶
材料（液晶分子）間のプレチルト角が不揃いになること
を防止することができ、その結果、しきい値ムラのない
表示品位に優れた液晶表示素子を得ることができる。

【００２２】なお、本実施形態において、表示品位に優
れた液晶表示素子が再現性よく得られるようにするため
には、紫外線がシール材にのみ照射されるようにする精
度を、前記第１及び第２の実施形態におけるそれよりも
一層高くし、かつ、両ガラス基板の貼り合わせ後、紫外
線を照射するまでの時間を前記第１及び第２の実施形態
の製造工程におけるそれよりも短時間化する必要があ
る。これは、前述のとおり、滴下工法においては、シー
ル材に紫外線を照射する際、セル内にはシール材に隣接
して液晶材料が存在しており、配向膜の特性変動だけで
なく液晶材料の特性変動が液晶表示素子の表示品位に大
きく影響を与えるので、この液晶材料への紫外線の照射
をできるだけ少なくする必要があり、また、両ガラス基
板の貼り合わせ後、紫外線を照射するまでの間、シール
材は未硬化状態にあるため、紫外線を照射するまでの時
間が長くなると、未硬化状態のシール材が液晶材料中に
混入して、液晶材料の特性が変動してしまうためであ
る。

【００２３】（第４の実施形態）本発明の第４の実施形
態による液晶表示素子の製造工程は紫外線出射装置とし
て前記図５に示した紫外線出射装置を用いた以外は第３
の実施形態の液晶表示素子の製造工程と同様である。

【００２４】このような本実施形態の液晶表示素子の製
造工程でにおいても、前記第３の実施形態と同様に、シ
ール材の硬化工程において液晶セル内の素子領域（実際
に液晶表示素子となる部分）にある液晶材料１７及び配
向膜には実質的に紫外線を照射したりことなくシール材
を硬化することができ、しきい値ムラのない表示品位に
優れた液晶表示素子を得ることができる。また、前記第
２の実施形態と同様に集束光の紫外線２０ａのスポット
幅（直径または長径）を用意に変更でき、シール材１３
のパターン幅が変更された場合の作業性に優れるという
効果が得られる。

【００２５】（第５の実施の形態）図８は本発明の第５
の実施形態による液晶表示素子の製造工程におけるシー
ル材の硬化工程を示した断面図であり、図において、図
１と同一符号は同一または相当する部分を示し、３０は
平行光や集束光に集光していない紫外線である。６１は
紫外線遮光部材で、これは、ガラス基板６２とガラス基
板６２の主面に形成された黒色に着色されたレジストパ
ターン６３とからなり、シール材１３の塗布パターンに
対応した開口パターン６４を有している。ここで、ガラ
ス基板６２の板厚は２．０〜５．０ｍｍの範囲にして、
熱などの影響によって紫外線遮光部材６１が反ったりす
るのを防止している。なお、図９がこの紫外線遮光部材
をその上方かた見た平面図である。

【００２６】すなわち、本実施形態の液晶表示素子の製
造工程は、液晶セル内のシール材１３の塗布パターンに
対応する開口パターン６４を有する紫外線遮光部材６１
を液晶セルに隣接させて配置し、この紫外線遮光部材６
１を介して液晶セルに向けて紫外線３０を照射して、シ
ール材１３にのみ選択的に紫外線３０を照射するように
したものである。従って、このような本実施形態の液晶
表示素子の製造工程においても、紫外線３０の照射工程
において、液晶セル内の素子領域（実際に液晶表示素子
となる部分）には紫外線が照射されないため、前記第１
の実施形態と同様に、素子領域における配向膜の特性変
化により配向膜と液晶材料（液晶分子）間のプレチルト
角が不揃いになることを防止することができ、その結
果、しきい値ムラのない表示品位に優れた液晶表示素子
を得ることができる。また、前記第１〜第４の実施形態
では紫外線を平行光や集束光に集光するための特別な光
学部材（楕円集光鏡１５、凸レンズ３６、凹レンズ等）
を用いる必要があり、平行光や集束光に集光した紫外線
２０，２０ａをシール材１３に向けて走査させる必要が
あるが、本実施形態では紫外線遮光部材６１を液晶セル
に隣接させ、液晶セルの全面に対して紫外線を一回照射
するだけでよいので、作業が簡単であり、また、設備費
も安価にできる利点がある。また、前記第１〜第４の実
施形態では平行光や集束光に集光した紫外線２０，２０
ａの走査中に誤って液晶セル内の素子領域（実際に液晶
表示素子となる部分）にある液晶材料１７及び配向膜に
紫外線２０，２０ａが照射されてしまう可能性がある
が、本実施形態では液晶セル内の素子領域は紫外線遮光
部材６１によって完全に遮光されるので、液晶セル内の
素子領域への紫外線の照射をより高いレベルで防止する
ことができる。

【００２７】（第６の実施形態）本発明の第６の実施形
態による液晶表示素子の製造工程は、前記第３の実施形
態と同様の滴下工法による製造工程であって、シール材
の硬化工程を前記第５の実施形態におけるそれと同じに
したものである。

【００２８】このような本実施形態の液晶表示素子の製
造工程でにおいても、前記第３の実施形態と同様に、シ
ール材の硬化工程において液晶セル内の素子領域（実際
に液晶表示素子となる部分）にある液晶材料１７及び配
向膜には実質的に紫外線を照射したりことなくシール材
を硬化することができ、しきい値ムラのない表示品位に
優れた液晶表示素子を得ることができる。

【００２９】なお、前記第５，６の実施形態で使用した
紫外線遮光部材６１は、前記第１〜第４の実施形態にお
いても、平行光の紫外線２０または集束光の紫外線２０
ａが誤ってセル内のシール材１３の形成領域以外の領域
に照射されてしまうのを防止するための遮光部材として
使用できることは言うまでもない。

【００３０】また、前記いずれの実施形態においても、
一方の基板の外側から紫外線を照射しているが、両方の
基板の外側から紫外線を照射してもよいことは言うまで
もない。両方の基板の外側から紫外線を照射する場合、
照射作業時間を短縮できる。

【００３１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
素子の製造方法によれば、表面に配向膜を有する２枚の
透明基板のいずれか一方の基板の配向膜上に紫外線硬化
型のシール材を塗布する工程と、前記２枚の透明基板の
いずれか一方の基板の配向膜上にスペーサ材を散布して
固着する工程と、前記２枚の透明基板を互いの配向膜が
対向するように前記シール材を介して貼り合わせる工程
と、前記貼り合わされた２枚の透明基板のいずれか一方
または双方の基板の外側から実質的に前記２枚の透明基
板間にあるシール材のみに紫外線を照射して前記シール
材を硬化させる工程とを含むことにより、シール材の硬
化工程において、セル内（貼り合わされた２枚の透明基
板内）の液晶表示素子の表示領域になるべき領域にある
配向膜に実質的に紫外線を照射することなく、シール材
を硬化することができる。この結果、液晶表示素子の表
示領域になるべき領域にある配向膜の配向性が所定の配
向性に維持され、また、光配向膜を用いた場合には、光
配向膜の再配向による異常配向が防止されることとな
る。従って、シール材の硬化工程後に貼り合わされた２
枚の透明基板のギャップ内に液晶材料を注入する、所
謂、（真空）注入法にて液晶表示素子を完成させた場
合、注入後の液晶材料の配向状態は所望の好ましい配向
状態となり、表示品位の優れた液晶表示素子を製造する
ことができる。また、２枚の透明基板を貼り合わせる工
程前に予め２枚の透明基板のいずれか一方の基板の配向
膜上に液晶材料を滴下する、所謂、滴下工法にて液晶表
示素子を完成させた場合、配向膜の配向性が所定の配向
性に維持されるとともに、２枚の透明基板のギャップ内
にある液晶材料抵抗値が変化したり、成分が分解したり
しすることがなく、表示品位の優れた液晶表示素子を製
造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態による液晶表示素子の
製造工程におけるシール材の硬化工程を示す断面図であ
る。

【図２】本発明の第１の実施形態による液晶表示素子の
製造工程におけるシール材の硬化工程で使用した紫外線
出射装置の側面図である。

【図３】図１に示すシール材が表面に形成されたガラス
基板をその上方かた見た平面図である。

【図４】本発明の第２の実施形態による液晶表示素子の
製造工程におけるシール材の硬化工程を示す断面図であ
る。

【図５】本発明の第２の実施形態による液晶表示素子の
製造工程におけるシール材の硬化工程で使用した紫外線
出射装置の側面図である。

【図６】本発明の第３の実施形態による液晶表示素子の
製造工程を示すフローチャート（一般的な滴下工法のフ
ローチャート）である。

【図７】本発明の第３の実施形態による液晶表示素子の
製造工程におけるシール材の硬化工程を示す断面図であ
る。

【図８】本発明の第５の実施形態による液晶表示素子の
製造工程におけるシール材の硬化工程を示す断面図であ
る。

【図９】図８に示す紫外線遮光部材をその上方から見た
平面図でる。

【図１０】真空注入法によるセル内への液晶材料の注入
工程を示した側面図である。

【図１１】滴下工法による液晶表示素子の製造工程にお
ける液晶材料滴下後の基板の貼り合わせ工程を示した側
面図である。

【符号の説明】

１１，１２ガラス基板１３シール材１４超高圧水銀灯１５楕円集光鏡１６凹レンズ２０平行光に集光された紫外線６１紫外線遮光部材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に配向膜を有する２枚の透明基板の
いずれか一方の基板の配向膜上に紫外線硬化型のシール
材を塗布する工程と、前記２枚の透明基板のいずれか一
方の基板の配向膜上にスペーサ材を散布して固着する工
程と、前記２枚の透明基板を互いの配向膜が対向するよ
うに前記シール材を介して貼り合わせる工程と、前記貼
り合わされた２枚の透明基板のいずれか一方または双方
の基板の外側から実質的に前記２枚の透明基板間にある
シール材のみに紫外線を照射して前記シール材を硬化さ
せる工程とを含む液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】シール材の硬化工程後、貼り合わされた
２枚の透明基板のギャップ内に液晶材料を注入する工程
を含む請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】２枚の透明基板を貼り合わせる工程前
に、前記２枚の透明基板のいずれか一方の基板の配向膜
上に液晶材料を滴下する工程を含む請求項１に記載の液
晶表示素子の製造方法。
【請求項４】シール材の硬化工程が、光学手段によっ
て集光した紫外線を２枚の透明基板のいずれか一方また
は双方の基板の外側から前記２枚の透明基板間にあるシ
ール材へ向けて照射して前記シール材を硬化させる工程
である請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示素子の
製造方法。
【請求項５】シール材の硬化工程が、シール材の塗布
パターンに対応した開口パターンを有する紫外線遮光部
材を通過させることにより得られた紫外線のパターン光
を、貼り合わされた２枚の透明基板のいずれか一方また
は双方の基板の外側から前記２枚の透明基板間にある前
記シール材へ向けて照射して前記シール材を硬化させる
工程である請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示素
子の製造方法。