JPH10123085A - 加熱型センサの加熱制御回路 - Google Patents

加熱型センサの加熱制御回路

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JPH10123085A
JPH10123085A JP8298267A JP29826796A JPH10123085A JP H10123085 A JPH10123085 A JP H10123085A JP 8298267 A JP8298267 A JP 8298267A JP 29826796 A JP29826796 A JP 29826796A JP H10123085 A JPH10123085 A JP H10123085A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】感知部の温度を主ヒータ及び補助ヒータで高温
に一定に維持する。 【解決手段】例えば400度Cの高温に維持され得る感
知部3、主ヒータ30及び補助ヒータ32が近接配置さ
れた熱伝導性絶縁板又は膜2を含む。ブリッジ回路18
は一辺に補助ヒータ32及び残りの三辺に第1抵抗1
2、第2抵抗14及び第3抵抗16を各々有する。給電
回路は、主ヒータ30に電圧を供給する電圧フォロア2
0と、第1抵抗12及び補助ヒータ32の直列接続点に
反転入力端が接続され、第2抵抗14及び第3抵抗15
の直列接続点に非反転入力端が接続され、出力端が電圧
フォロア20の制御入力端に接続される増幅器24とを
備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、O2ガスセンサやNO
xガスセンサ等の加熱型センサの加熱制御回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術】酸素センサ及びNOxセンサ等の感知部
をヒータで加熱する加熱型センサにおいては、加熱用ヒ
ータ自身の温度変動或は環境の温度変化によるヒータの
温度変化によってもセンサの特性が変わってしまう。こ
のヒータ温度を例えば300〜400度Cの所定値に保
持させる従来のヒータ温度制御方法が特開昭60−11
4758号公報に記載されている。
【0003】この温度制御方法は、加熱型センサの空間
を隔てた近傍に測温体を配置して環境温度を測定し、こ
の測定結果を基づいてヒータの給電を制御することによ
ってセンサの温度を一定に保持している。この方法は、
周囲温度を測定する測温体を必要とし、また加熱型セン
サ自身の構造及び加熱制御回路の仕組みも複雑になりコ
ストアップに繋がる。
【0004】更にセンサの間接温度測定は、空間を流れ
るガスの状態でセンサの温度が正確に伝達せず高精度が
期待できず、温度の伝播速度で制御系に位相遅れが生
じ、センサの温度が目標値と異なる値に収束し、又は発
散して制御不能になる恐れがある。
【0005】また補助ヒータを設けていない従来例とし
て、1992年1月20日号の日経エレクトロニクスの
111頁には、中が抉られたシリコン基板チップの角か
ら内方に突出した二酸化シリコン薄膜突起基板を4つ形
成し、各突起基板の一面に酸化錫薄膜のガス感知部及び
加熱用の白金電極とを蒸着した酸化錫薄膜ガス・センサ
が開示されている。本発明者は、特願平7−32839
5号において、上記方法の改良策を提案している。
【0006】図1は、これまでに知られているブリッジ
型加熱制御回路の例を示す。この回路は、一辺に例えば
白金薄膜ヒータ10及び残りの三辺に抵抗12、14及
び16を各々有するブリッジ回路18と、このブリッジ
回路18に電圧を供給するエミッタフォロア20と、こ
れら抵抗12及びヒータ10の直列接続点13に反転入
力端が接続され、抵抗14及び16の直列接続点17に
非反転入力端が接続され、出力端が抵抗22を介してエ
ミッタフォロア20のベースに接続される増幅器24と
を備える。
【0007】白金薄膜ヒータ10は、抵抗値が温度に対
して図2の温度T−抵抗R特性図のように変化する。ま
た、直列接続点13の電位をe1、直列接続点17の電
位をe2とすると、電位e1は、電位e2に等しくなる
ように、即ち抵抗12対ヒータ10の抵抗値比率が抵抗
14対抵抗16のそれと等しくなるように、増幅器24
及びエミッタフォロア接続のトランジスタ20が動作し
て、ヒータ10の温度を所定値に保持している。
【0008】従って、ヒータ10が所定温度より低い時
には、e1<e2で増幅器24及びエミッタフォロア2
0の出力電圧が上昇してヒータ10がより加熱される。
ヒータ10が所定温度より高い時には、e1>e2で増
幅器24及びエミッタフォロア20の出力電圧が減少し
てヒータ10への給電が減少させられる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】以上のことから、図1
のブリッジ型加熱制御回路は、次のような問題があるこ
とが明白である。温度変化を正確に促えるためにヒータ
10の抵抗値変化を検出し易くするためには、抵抗12
の値をヒータ10の値に対して十分大きくすればよい。
しかしながら抵抗12における発熱量もヒータ10に比
べて大きくなり、エネルギ損失が増すと同時に抵抗12
の温度上昇が過大となり危険である。
【0010】変化率が最も大きい抵抗12の値がヒータ
10の値と等しい場合、抵抗12での発熱量はヒータ1
0での発熱量と等しくなる。従って、e1の変化量を大
きくするには限度があり、抵抗12における発熱量はあ
る程度許容せざるを得ない。一方抵抗14及び抵抗16
は比較抵抗であり、発熱量が極めて少なく設定すること
ができる。
【0011】抵抗12は、発熱すると、その抵抗値がそ
の抵抗温度係数に従って変動即ち基準抵抗値が変動する
ため、適切なヒータ温度を得ることが難しくなる。ま
た、抵抗の温度係数が正の場合には、ヒータ10が加熱
されると共に抵抗12も温度上昇し、抵抗12の抵抗値
は増加する。従って、e1=e2に収束するまでの時間
が延長される。
【0012】本発明は、前述の問題に鑑み、主ヒータ及
び補助ヒータを用いて環境温度の変化に対しても一定の
ヒータ温度が保持され、発熱を極力抑えた高信頼性の加
熱制御回路を提供することを目的とする。勿論、感知部
と主ヒータ及び補助ヒータとの間に設けられる絶縁板
は、熱伝導率が良くまたその値が変動しないものが用い
られる。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の加熱型センサの
加熱制御回路は、感知部を主ヒータ及び補助ヒータによ
って所定温度に加熱する加熱型センサにおいて、前記補
助ヒータをブリッジ回路の一辺とし、このブリッジ回路
及び前記主ヒータを並列接続して、前記ブリッジ回路の
出力に基づいて前記ブリッジ回路及び前記主ヒータを給
電する給電回路を備える。
【0014】本発明の実施態様によれば、前記感知部、
主ヒータ及び補助ヒータが近接配置された絶縁板を含
み、前記ブリッジ回路は一辺に前記補助ヒータ及び残り
の三辺に第1抵抗、第2抵抗及び第3抵抗を各々有し、
前記給電回路は、前記主ヒータに電圧を供給する電圧フ
ォロアと、前記第1抵抗及び前記補助ヒータの直列接続
点に反転入力端が接続され、前記第2抵抗及び第3抵抗
の直列接続点に非反転入力端が接続され、出力端が前記
電圧フォロアの制御入力端に接続される増幅器とを備え
る。
【0015】前記絶縁板は熱伝導性を有すると共に、一
面に前記感知部及び他面に同感知部の領域と位置合わせ
された主ヒータが各々固定され、この絶縁板の他面の主
ヒータの回りには前記補助ヒータが配置され、また前記
ブリッジ回路は起動抵抗によって初期給電される。
【0016】この絶縁板は、感知部の支持板として用い
られる窒化アルミニウム、シリコンカーバイド等の熱伝
導率が金属に近いセラミック基板、二酸化シリコン層、
或は断熱支持体にプリント配線された略長方形又は楕円
の断面形状を有する線形又は蛇行ヒータ上に形成される
蒸着膜或は塗布膜である。
【0017】従って、補助ヒータはブリッジ回路の一辺
となり、主に温度の感知作用を受け持つ。主ヒータはブ
リッジ回路と並列接続され、ブリッジ回路が平衡するよ
うに感知部の加熱を行う。補助ヒータの発熱量は主ヒー
タのそれに比べて格段に少ないので図1の第1抵抗部に
相当する抵抗での発熱を小さくできるため、正確、且つ
迅速な温度制御が可能となる。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
【0019】まず、本発明の加熱型センサは、特願平7
−328395号の図2に示されたものに補助ヒータを
追加している。例えばガス感知部は2つの多孔性電極基
板間に挟まれ、一電極基板が検査されるべきガスと接触
し、他の電極基板が大気に接触している。各多孔性電極
基板上には、白金薄膜又はワイヤの主ヒータが敷設さ
れ、この主ヒータに等間隔を保って白金薄膜又はワイヤ
の補助ヒータも敷設される。
【0020】その上には、耐熱性好ましくは熱伝導性絶
縁膜が塗布され、更にその上に電極が形成される。この
ように形成された2つの多孔性基板は、電極を内側にし
て対向して組立てられ内部にガス濃度を感知する物質例
えば酸化錫又は酸化鉛の多孔性焼結体が充填される。
【0021】従って、主ヒータ及び補助ヒータは、例え
ば410度Cに加熱されて、ガス感知部全体を400度
Cに維持している。上記絶縁膜は、薄ければ薄いほど熱
抵抗が低くまた熱伝導率の良いものが用いられて、測定
誤差を最小にすることができる。
【0022】別の実施例の加熱型センサは、図3に示さ
れるように、高温に加熱されるガス感知部(図示略)が
熱伝導性絶縁板2の表側に形成され、両端に2つの電極
(図示略)が形成されている。この絶縁板2の裏面に
は、加熱領域がガス感知部の感知領域より僅かに広いよ
うに、感知領域と位置合わせされて白金薄膜主ヒータ3
0が固定され、この主ヒータ30の回りに例えば410
度Cで目標抵抗値を持つ白金薄膜補助ヒータ32が配置
される。
【0023】従って図3の傾斜部分が加熱領域を示す。
これら主ヒータ30及び補助ヒータ32は、同一材料又
は同一温度係数を持つ金属即ちニクロム合金、白金又は
白金合金が好ましい。この場合、主ヒータ30は、温度
変化が補助ヒータ32のそれと同じになり、抵抗値変化
も補助ヒータ32のそれと同じになる。また、主ヒータ
及び補助ヒータは、蛇行させ或は同心円状の白金薄膜又
は白金線で配置されてもよい。
【0024】図4は、本発明による加熱型センサの加熱
制御回路の一実施例を示す回路図である。この図4にお
いて、図1に示す部品と類似するものには同じ符号を付
してある。本発明の加熱制御回路が図1の従来のそれと
異なる点は、主ヒータ30がブリッジ回路18に並列接
続され、ブリッジ回路18における従来のヒータの接続
位置に本発明の補助ヒータ32が接続されて、分圧され
ない電圧が直接主ヒータ30に供給される点である。
【0025】即ち、エミッタフォロア接続のトランジス
タ20は、コレクタが正電源電圧+Vcラインに接続さ
れ、エミッタがブリッジ回路18及び主ヒータ30に接
続される。この主ヒータ30が接地される。一方ブリッ
ジ回路18は、第1抵抗12がトランジスタ20のエミ
ッタ及び直列接続点13間に接続され、この直列接続点
13及び接地間に補助ヒータ32が接続される。
【0026】また、第2抵抗14がトランジスタ20の
エミッタ及び直列接続点17間に接続され、この直列接
続点17及び接地間に第3抵抗16が可変抵抗34を経
て接続される。これら直列接続点13及び17は、入力
電流が無視できるFET又はバイポーラトランジスタ入
力の演算増幅器24の反転及び非反転入力端に各々接続
される。この増幅器24は、出力端が保護抵抗22を経
てトランジスタ20のベースに接続される。また、トラ
ンジスタ20のコレクタ・エミッタ間には、エミッタフ
ォロア20がオフ状態の起動時に初期電圧をブリッジ回
路18に供給するプルアップ抵抗36が接続される。
【0027】この回路の基本動作において、電源投入時
には、ブリッジ回路18に不平衡出力電圧が発生しない
ので、例えば1ボルトの起動用の電圧をブリッジ回路に
供給する抵抗36が必要となる。この起動抵抗36は、
主ヒータ30への電流が主にエミッタフォロア20から
供給されるので、かなり高い抵抗値が用いられ、その消
費電力が殆ど無視できる。また、主ヒータ30及び補助
ヒータ32の抵抗値は各々未通電時に低く、通電すると
徐々に高くなって例えば400度Cに目標抵抗値に到達
する。従って、ブリッジ回路18、増幅器24及びエミ
ッタフォロア20は、補助ヒータ32の抵抗値の上昇に
起因するブリッジ回路18の不平衡出力電圧によって、
給電電圧を上昇させ、平衡給電電圧に到達させる。
【0028】補助ヒータ又は主ヒータの温度が所定値よ
り低い時には、e1<e2で増幅器24の出力即ちトラ
ンジスタ20のエミッタ電圧が上昇する。これによっ
て、主ヒータへの給電が増加される。また、補助ヒータ
によっても若干加熱される。補助ヒータ又は主ヒータの
温度が所定値より高い時には、e1>e2で増幅器24
の出力は低くなり、主ヒータ及び補助ヒータへの給電は
減少する。
【0029】可変抵抗34は、ヒータ温度を所望値に調
整するポテンショメータ又は可変抵抗器である。図4の
回路において、主及び補助ヒータの目標温度は、第1抵
抗12対補助ヒータの抵抗値比率が第2抵抗14対(第
3抵抗16+可変抵抗34)の抵抗値比率と等しくなる
ように、設定される。
【0030】従って、補助ヒータ32が400度Cにな
った時には目標給電電圧が主ヒータ30にも供給され、
同時に主ヒータ30も400度Cになっている。主ヒー
タ30の温度変化は、補助ヒータ32にも伝わり、この
温度変化を元に戻すように給電電圧を増減させて、目標
の温度に戻させる。また目標の温度は、例えばガス感知
部との間に介挿される基板又は膜の熱抵抗による損失を
考慮して410度Cに加熱制御されてもよい。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の加熱型セ
ンサの加熱制御回路は、従来のブリッジ型加熱制御回路
に比べて、第1抵抗の抵抗値を十分大きくしながら、そ
の発熱量を極めて少なくすることができるため、主ヒー
タ結果的に補助ヒータの温度即ち抵抗値変化による出力
電圧の変化(e1の変化)を大きくすることができて、
より正確な温度制御が可能となる。
【0032】また、エネルギ損失が少なくなり、加熱制
御回路内の温度上昇も抑えられて安全である。更に基準
抵抗となる第1抵抗の抵抗値変動が極めて小さくなるた
め、正確な温度制御機能を得ると共に、所定温度への収
束時間が短縮される。
【0033】従って、ヒータの発熱或は周囲温度変動下
の感知部を例えば400度Cの高温に一定に維持し、信
頼性を高めると共に、構造が簡単で安価に構成すること
ができる。また、感知部及びヒータ間に設けられる基板
又は膜は、気体の対流伝熱と異なり固体中を伝播する熱
伝導率が金属に近く一定である。このため、ガス感知部
又はヒータ自身の発熱変動或は周囲温度の変化によるガ
ス感知部又はヒータの温度変化が補償され、ガス感知部
の感度特性が安定する。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のブリッジ型加熱制御回路図である。
【図2】白金薄膜ヒータの温度(T)−抵抗(R)特性
図である。
【図3】本発明によるガスセンサの一実施例を示し、見
えない表側に感知部を配置し、見えている裏側に主ヒー
タ及び補助ヒータを配置した概略平面図である。
【図4】本発明による加熱制御回路の実施例を示す回路
図である。
【符号の説明】
12 第1抵抗 14 第2抵抗 16 第3抵抗 20 電圧フォロア 24 増幅器 30 主ヒータ 32 補助ヒータ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】感知部を主ヒータ及び補助ヒータによって
    所定温度に加熱する加熱型センサにおいて、 前記補助ヒータをブリッジ回路の一辺とし、このブリッ
    ジ回路及び前記主ヒータを並列接続して、前記ブリッジ
    回路の出力に基づいて前記ブリッジ回路及び前記主ヒー
    タに給電する給電回路を備えた加熱型センサの加熱制御
    回路。
  2. 【請求項2】前記感知部、主ヒータ及び補助ヒータが近
    接配置された絶縁板を含み、 前記ブリッジ回路は一辺に前記補助ヒータ及び残りの三
    辺に第1抵抗、第2抵抗及び第3抵抗を各々有し、 前記給電回路は、前記主ヒータに電圧を供給する電圧フ
    ォロアと、 前記第1抵抗及び前記補助ヒータの直列接続点に反転入
    力端が接続され、前記第2抵抗及び第3抵抗の直列接続
    点に非反転入力端が接続され、出力端が前記電圧フォロ
    アの制御入力端に接続される増幅器とを備えた請求項1
    に記載の加熱制御回路。
  3. 【請求項3】前記絶縁板は、熱伝導性を有すると共に一
    面に前記感知部及び他面に同感知部の領域と位置合わせ
    された主ヒータが各々固定され、この絶縁板の他面の主
    ヒータの回りには前記補助ヒータが配置された請求項2
    に記載の加熱制御回路。
  4. 【請求項4】前記ブリッジ回路は、起動抵抗によって初
    期給電される請求項2又は3に記載の加熱制御回路。
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