JPH10120446A - シリカ系塗布溶液用容器及びそれを用いたシリカ系塗布溶液の保存方法 - Google Patents
シリカ系塗布溶液用容器及びそれを用いたシリカ系塗布溶液の保存方法Info
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- JPH10120446A JPH10120446A JP29124896A JP29124896A JPH10120446A JP H10120446 A JPH10120446 A JP H10120446A JP 29124896 A JP29124896 A JP 29124896A JP 29124896 A JP29124896 A JP 29124896A JP H10120446 A JPH10120446 A JP H10120446A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】形成されたシリカ系被膜表面にオレンジピール
の発生やグローバル平坦化性の低下がのないシリカ系塗
布溶液用容器、及びシリカ系塗布溶液の保存方法を提供
すること。 【解決手段】容器の内表面を加熱酸性ガスで処理したこ
とを特徴とするシリカ系塗布溶液用容器及び該ガラス容
器を用いるシリカ系塗布溶液の保存方法。
の発生やグローバル平坦化性の低下がのないシリカ系塗
布溶液用容器、及びシリカ系塗布溶液の保存方法を提供
すること。 【解決手段】容器の内表面を加熱酸性ガスで処理したこ
とを特徴とするシリカ系塗布溶液用容器及び該ガラス容
器を用いるシリカ系塗布溶液の保存方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品製造分野にお
いて平坦化膜、層間絶縁膜、保護膜、多層レジスト用被
膜、位相シフター膜、屈折率調整被膜などを形成するシ
リカ系塗布溶液を保存するための容器及びその保存方
法、特にシラン構造、シラザン構造又はその両構造を有
する化合物を含有するシリカ系塗布溶液を保存するため
の容器及びその保存方法に関するものである。
いて平坦化膜、層間絶縁膜、保護膜、多層レジスト用被
膜、位相シフター膜、屈折率調整被膜などを形成するシ
リカ系塗布溶液を保存するための容器及びその保存方
法、特にシラン構造、シラザン構造又はその両構造を有
する化合物を含有するシリカ系塗布溶液を保存するため
の容器及びその保存方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来、半導体素子や液晶表示素子などの電
子部品の製造分野においては、その製造工程おいて、平
坦化膜、層間絶縁膜、保護膜、多層レジスト用被膜、位
相シフター膜、屈折率調整被膜などの機能性被膜が使用
されている。前記機能性被膜として特に絶縁性及び緻密
性が高く、しかも耐クラック性に優れたシリカ系被膜が
多用されている。このシリカ系被膜を形成する方法とし
ては、アルコキシシランの部分加水分解物を用いたゾル
−ゲル法が知られているが、このゾル−ゲル方法では被
膜形成時に膜収縮が起こり均一なシリカ系被膜の形成が
困難である。そこでシリカ系被膜形成材料を、例えばポ
リシラザン系材料（特公昭６３−１６３２５号公報）や
ポリヒドリドシラン系材料（特開平３−１１９０２８号
公報、特公昭６３−６６４１８号公報）とし、シリカ系
被膜の形成時の膜収縮を少なくするとともに、脱ガス性
も少なくし、かつ膜厚にしてもクラックの発生を少なく
したシリカ系塗布溶液が提案されている。
子部品の製造分野においては、その製造工程おいて、平
坦化膜、層間絶縁膜、保護膜、多層レジスト用被膜、位
相シフター膜、屈折率調整被膜などの機能性被膜が使用
されている。前記機能性被膜として特に絶縁性及び緻密
性が高く、しかも耐クラック性に優れたシリカ系被膜が
多用されている。このシリカ系被膜を形成する方法とし
ては、アルコキシシランの部分加水分解物を用いたゾル
−ゲル法が知られているが、このゾル−ゲル方法では被
膜形成時に膜収縮が起こり均一なシリカ系被膜の形成が
困難である。そこでシリカ系被膜形成材料を、例えばポ
リシラザン系材料（特公昭６３−１６３２５号公報）や
ポリヒドリドシラン系材料（特開平３−１１９０２８号
公報、特公昭６３−６６４１８号公報）とし、シリカ系
被膜の形成時の膜収縮を少なくするとともに、脱ガス性
も少なくし、かつ膜厚にしてもクラックの発生を少なく
したシリカ系塗布溶液が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記ポリシラザン系材
料やポリヒドリドシラン系材料などを含有する塗布溶液
を用いると高品位のシリカ系被膜が形成できるが、その
塗布特性が塗布溶液の保存状態により大きく左右され、
塗布溶液を長期にわたって保存したのちシリカ系被膜を
形成すると被膜特性が大きく低下する欠点がある。その
ため前記シリカ系塗布溶液の保存容器として、内面がフ
ッ素加工されたポリ容器、例えばＰＶＤＦ（ポリフッ化
ビニリデン樹脂）ビン、ＰＦＡ（ポリフッ化アルコキシ
樹脂）ビン、ＰＴＦＥ（ポリテトラフッ化エチレン樹
脂）ビンや、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラスの
ガラス容器、又はステンレスやアクリロニトリル樹脂に
より内面を加工した容器などが提案されているが、ガラ
ス容器以外の容器はコストや製造工程の多さから実用的
でなく、多くはガラス容器が使用されている。
料やポリヒドリドシラン系材料などを含有する塗布溶液
を用いると高品位のシリカ系被膜が形成できるが、その
塗布特性が塗布溶液の保存状態により大きく左右され、
塗布溶液を長期にわたって保存したのちシリカ系被膜を
形成すると被膜特性が大きく低下する欠点がある。その
ため前記シリカ系塗布溶液の保存容器として、内面がフ
ッ素加工されたポリ容器、例えばＰＶＤＦ（ポリフッ化
ビニリデン樹脂）ビン、ＰＦＡ（ポリフッ化アルコキシ
樹脂）ビン、ＰＴＦＥ（ポリテトラフッ化エチレン樹
脂）ビンや、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラスの
ガラス容器、又はステンレスやアクリロニトリル樹脂に
より内面を加工した容器などが提案されているが、ガラ
ス容器以外の容器はコストや製造工程の多さから実用的
でなく、多くはガラス容器が使用されている。
【０００４】しかしながら、上記ガラス容器に保存した
シリカ系塗布溶液を用いて形成されたシリカ系被膜表面
にオレンジピール（オレンジ皮類似の表面が凹凸となる
状態）が発生しやすく、グローバル平坦化性も低下する
欠点があり大きな問題となっている。
シリカ系塗布溶液を用いて形成されたシリカ系被膜表面
にオレンジピール（オレンジ皮類似の表面が凹凸となる
状態）が発生しやすく、グローバル平坦化性も低下する
欠点があり大きな問題となっている。
【０００５】こうした現状に鑑み、本発明者等は鋭意研
究を重ねた結果、シリカ系塗布溶液、特にポリシラザン
系材料やポリヒドリドシラン系材料などのシリカ系塗布
溶液を加熱酸性ガスで処理したガラス容器中で保存する
と、前記欠点がなく安定に長期保存ができることを見出
し本発明を完成したものである。
究を重ねた結果、シリカ系塗布溶液、特にポリシラザン
系材料やポリヒドリドシラン系材料などのシリカ系塗布
溶液を加熱酸性ガスで処理したガラス容器中で保存する
と、前記欠点がなく安定に長期保存ができることを見出
し本発明を完成したものである。
【０００６】すなわち、本発明は、オレンジピールの発
生が少なく、かつグローバル平坦化性の低下の少ないシ
リカ系塗布溶液用容器を提供することを目的とする。
生が少なく、かつグローバル平坦化性の低下の少ないシ
リカ系塗布溶液用容器を提供することを目的とする。
【０００７】また、本発明は、シリカ系塗布溶液の保存
方法を提供することを目的とする。
方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、シラン構造若しくはシラザン構造又はその両方を
含むシリカ系塗布溶液用のガラス容器であって、該容器
の内表面が加熱酸性ガスで処理されていることを特徴と
するシリカ系塗布溶液用容器及び前記容器を用いたシリ
カ系塗布溶液の保存方法に係る。
明は、シラン構造若しくはシラザン構造又はその両方を
含むシリカ系塗布溶液用のガラス容器であって、該容器
の内表面が加熱酸性ガスで処理されていることを特徴と
するシリカ系塗布溶液用容器及び前記容器を用いたシリ
カ系塗布溶液の保存方法に係る。
【０００９】以下に、本発明を詳細に説明する。本発明
のシリカ系塗布溶液用容器は、ソーダ灰ガラス、ホウケ
イ酸ガラスなどのガラス容器製造用素材として知られる
材料で形成した容器であって、その内表面が加熱酸性ガ
スで処理された容器である。前記加熱酸性ガスとは加熱
下の酸性ガスを意味し、酸性ガスとしては特に制限はな
いが、実用的には塩化水素ガスや亜硫酸ガスが好ましく
使用できる。前記酸性ガスによる処理方法としては、ガ
ラス容器内に酸性ガスを充満させた状態で加熱する方
法、加熱したガラス容器に酸性ガスを充満する方法、塩
化アンモニウムや硫酸アンモニウムのように加熱下で塩
化水素ガスや亜硫酸ガスを発生する熱分解性化合物をガ
ラス容器内に投入し加熱分解する方法、加熱したガラス
容器内に熱分解性化合物を吹き付ける方法、加熱下成形
加工された直後のガラス容器の内面に酸性ガスを接触さ
せる方法などが挙げられる。前記処理方法のうち、熱分
解性化合物を使用する方法は、腐食性の高い塩化水素ガ
スや亜硫酸ガスを直接使用する必要がなく処理コストを
低下できて好ましいが、これらの熱分解性化合物は固体
であるところから、ガラス容器の大量生産、自動化には
不向きで、自動化には塩化水素ガスや亜硫酸ガスなどの
酸性ガスを使用するのがよい。自動化にあっては、型に
流し込んだのち、型抜きした直後のガラス容器（加熱状
態）内に製造ラインに設けた酸性ガス導入管から酸性ガ
スを吹き込み、充満させる方法が好ましい。前記酸性ガ
ス処理で使用する加熱温度としては、３５０〜６００℃
の範囲がよい。
のシリカ系塗布溶液用容器は、ソーダ灰ガラス、ホウケ
イ酸ガラスなどのガラス容器製造用素材として知られる
材料で形成した容器であって、その内表面が加熱酸性ガ
スで処理された容器である。前記加熱酸性ガスとは加熱
下の酸性ガスを意味し、酸性ガスとしては特に制限はな
いが、実用的には塩化水素ガスや亜硫酸ガスが好ましく
使用できる。前記酸性ガスによる処理方法としては、ガ
ラス容器内に酸性ガスを充満させた状態で加熱する方
法、加熱したガラス容器に酸性ガスを充満する方法、塩
化アンモニウムや硫酸アンモニウムのように加熱下で塩
化水素ガスや亜硫酸ガスを発生する熱分解性化合物をガ
ラス容器内に投入し加熱分解する方法、加熱したガラス
容器内に熱分解性化合物を吹き付ける方法、加熱下成形
加工された直後のガラス容器の内面に酸性ガスを接触さ
せる方法などが挙げられる。前記処理方法のうち、熱分
解性化合物を使用する方法は、腐食性の高い塩化水素ガ
スや亜硫酸ガスを直接使用する必要がなく処理コストを
低下できて好ましいが、これらの熱分解性化合物は固体
であるところから、ガラス容器の大量生産、自動化には
不向きで、自動化には塩化水素ガスや亜硫酸ガスなどの
酸性ガスを使用するのがよい。自動化にあっては、型に
流し込んだのち、型抜きした直後のガラス容器（加熱状
態）内に製造ラインに設けた酸性ガス導入管から酸性ガ
スを吹き込み、充満させる方法が好ましい。前記酸性ガ
ス処理で使用する加熱温度としては、３５０〜６００℃
の範囲がよい。
【００１０】本発明のシリカ系塗布溶液用容器は、シラ
ン構造、シラザン構造又はその両構造を有する化合物を
含有する塗布溶液の保存に使用され、前記シラン構造を
有する化合物としてはポリヒドリドシラン類が、またシ
ラザン構造を有する化合物としてはポリシラザン類が好
ましい。前記ポリヒドリドシラン類はその製造方法が特
に限定されなく公知の製造方法で製造されたポリシラザ
ン類でよく、例えば一般式化（１）
ン構造、シラザン構造又はその両構造を有する化合物を
含有する塗布溶液の保存に使用され、前記シラン構造を
有する化合物としてはポリヒドリドシラン類が、またシ
ラザン構造を有する化合物としてはポリシラザン類が好
ましい。前記ポリヒドリドシラン類はその製造方法が特
に限定されなく公知の製造方法で製造されたポリシラザ
ン類でよく、例えば一般式化（１）
【００１１】
【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルシ
リル基又はアルキルアミノ基、Ｘはハロゲン原子、ｎは
０又は１である。）で表わされるハロゲノヒドリドシラ
ン化合物を加水分解して得られた化合物などが挙げられ
る。
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルシ
リル基又はアルキルアミノ基、Ｘはハロゲン原子、ｎは
０又は１である。）で表わされるハロゲノヒドリドシラ
ン化合物を加水分解して得られた化合物などが挙げられ
る。
【００１２】また、ポリシラザン類は、例えば一般式化
（２）
（２）
【００１３】
【化２】 （式中、Ｒ2は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルシ
リル基又はアルキルアミノ基、Ｘはハロゲン原子、ｍは
０又は１であり、Ｒ2が２つある場合、２つのＲ2は同一
でも異なっていてもよい。）で表わされるハロゲノシラ
ン化合物と、アンモニア又はアミン類とを、有機溶媒中
で反応させて得られた化合物などが挙げられる。
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルシ
リル基又はアルキルアミノ基、Ｘはハロゲン原子、ｍは
０又は１であり、Ｒ2が２つある場合、２つのＲ2は同一
でも異なっていてもよい。）で表わされるハロゲノシラ
ン化合物と、アンモニア又はアミン類とを、有機溶媒中
で反応させて得られた化合物などが挙げられる。
【００１４】上記一般式化（１）及び化（２）におい
て、Ｒ1及びＲ2におけるアルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシ
ル基などが、アルケニル基としては、例えばビニル基、
アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、
オクテニル基、デセニル基、シクロヘキセニル基など
が、アリール基としては、例えばフェニル基、トリル
基、キシリル基、ナフチル基などが、アラルキル基とし
ては、例えばベンジル基、フェネチル基などが、アルコ
キシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基などが、アルキルシリル基として
は、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基な
どが、アルキルアミノ基としては、例えばジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基などが挙げられる。
て、Ｒ1及びＲ2におけるアルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシ
ル基などが、アルケニル基としては、例えばビニル基、
アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、
オクテニル基、デセニル基、シクロヘキセニル基など
が、アリール基としては、例えばフェニル基、トリル
基、キシリル基、ナフチル基などが、アラルキル基とし
ては、例えばベンジル基、フェネチル基などが、アルコ
キシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基などが、アルキルシリル基として
は、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基な
どが、アルキルアミノ基としては、例えばジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基などが挙げられる。
【００１５】上記シラン構造、シラザン構造又はその両
構造を有する化合物を含有するシリカ系塗布溶液は、該
化合物を任意の有機溶媒に溶解して調製されるが、該化
合物の含有量は１〜６０重量％、好ましくは５〜３０重
量％の範囲で、かつ常温における粘度が０．５〜５０セ
ンチポアズ、好ましくは１〜２０センチポアズとなる範
囲が好ましい。
構造を有する化合物を含有するシリカ系塗布溶液は、該
化合物を任意の有機溶媒に溶解して調製されるが、該化
合物の含有量は１〜６０重量％、好ましくは５〜３０重
量％の範囲で、かつ常温における粘度が０．５〜５０セ
ンチポアズ、好ましくは１〜２０センチポアズとなる範
囲が好ましい。
【００１６】本発明のシリカ系塗布溶液の保存方法とし
ては該塗布溶液を本発明のシリカ系塗布溶液用容器に充
填し、不活性ガス雰囲気下で密封するのがよい。前記保
存方法によりシリカ系塗布溶液を長期にわたって保存し
ても形成されたシリカ系被膜表面にオレンジピールの発
生が少なく、またグローバル平坦化性の低下も少ない。
そのため本発明のシリカ系塗布溶液用容器を用いるとシ
リカ系塗布溶液を低温で保存する必要がなく、室温で保
存することができる。
ては該塗布溶液を本発明のシリカ系塗布溶液用容器に充
填し、不活性ガス雰囲気下で密封するのがよい。前記保
存方法によりシリカ系塗布溶液を長期にわたって保存し
ても形成されたシリカ系被膜表面にオレンジピールの発
生が少なく、またグローバル平坦化性の低下も少ない。
そのため本発明のシリカ系塗布溶液用容器を用いるとシ
リカ系塗布溶液を低温で保存する必要がなく、室温で保
存することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に実施例に基づいて本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何
ら限定されるものではない。
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何
ら限定されるものではない。
【００１８】〈シリカ系化合物の合成〉 合成例１ 温度が０℃の恒温槽内に設置した反応器内を乾燥窒素で
置換したのち乾燥ピリジンを９８０ｍｌ入れ温度が一定
になったところで、かきまぜながらジクロロシラン１０
３．２ｇを加えて反応混合物を得た。この反応混合物を
０℃に設定したのち、かきまぜながら乾燥アンモニア１
０２ｇを吹き込み、その反応が終了したところで、未反
応のアンモニアを乾燥窒素を吹き込み除去した。次いで
窒素雰囲気下で加圧ろ過し、ろ液９００ｍｌを得、その
ろ液を耐圧反応容器に入れ、窒素雰囲気下、密閉系で９
０℃、３時間かき混ぜて改質反応を行った。この間大量
のガスが発生し、反応前後で容器内の圧力が１ｋｇ／ｃ
ｍ2まで上昇した。室温まで冷却したところで乾燥エチ
ルシクロヘキサン３４００ｍｌを加え、３〜５ｍｍＨｇ
の減圧下、５０〜７０℃で溶媒除去を行い、白色固体状
の無機ポリシラザン（数平均分子量１３５０）７９．５
６ｇを得た。前記ポリシラザンを１週間脱水処理し、メ
チルイソブチルケトン４５０．８４ｇに溶解し、１５重
量％のポリシラザン塗布溶液原液を調製した。
置換したのち乾燥ピリジンを９８０ｍｌ入れ温度が一定
になったところで、かきまぜながらジクロロシラン１０
３．２ｇを加えて反応混合物を得た。この反応混合物を
０℃に設定したのち、かきまぜながら乾燥アンモニア１
０２ｇを吹き込み、その反応が終了したところで、未反
応のアンモニアを乾燥窒素を吹き込み除去した。次いで
窒素雰囲気下で加圧ろ過し、ろ液９００ｍｌを得、その
ろ液を耐圧反応容器に入れ、窒素雰囲気下、密閉系で９
０℃、３時間かき混ぜて改質反応を行った。この間大量
のガスが発生し、反応前後で容器内の圧力が１ｋｇ／ｃ
ｍ2まで上昇した。室温まで冷却したところで乾燥エチ
ルシクロヘキサン３４００ｍｌを加え、３〜５ｍｍＨｇ
の減圧下、５０〜７０℃で溶媒除去を行い、白色固体状
の無機ポリシラザン（数平均分子量１３５０）７９．５
６ｇを得た。前記ポリシラザンを１週間脱水処理し、メ
チルイソブチルケトン４５０．８４ｇに溶解し、１５重
量％のポリシラザン塗布溶液原液を調製した。
【００１９】合成例２ モノクロロトリエトキシシラン８９．３ｇ（０．４５モ
ル）をエチレングリコールジメチルエーテル７９９．０
ｇ（８．８７モル）に溶解しかきまぜたのち、純水２
４．２ｇ（１．３４モル）と濃硝酸５ｐｐｍを混合した
ものを、ゆっくりかきまぜながら滴下し、約３時間かき
混ぜたのち、室温で６日間静置させて溶液を得た。この
溶液を１２０〜１４０ｍｍＨｇ、４０℃にて１時間減圧
蒸留し、固形分濃度８重量％のポリヒドリドシラン塗布
溶液を調製した。
ル）をエチレングリコールジメチルエーテル７９９．０
ｇ（８．８７モル）に溶解しかきまぜたのち、純水２
４．２ｇ（１．３４モル）と濃硝酸５ｐｐｍを混合した
ものを、ゆっくりかきまぜながら滴下し、約３時間かき
混ぜたのち、室温で６日間静置させて溶液を得た。この
溶液を１２０〜１４０ｍｍＨｇ、４０℃にて１時間減圧
蒸留し、固形分濃度８重量％のポリヒドリドシラン塗布
溶液を調製した。
【００２０】
実施例１ 容量５００ｍｌのガラス容器中に硫酸アンモニウム１．
５ｇを入れ、それを温度５５０℃の電気炉に導入し、加
熱して、硫酸アンモニウムを熱分解させ亜硫酸ガスを生
成し、そのガスで容器内面を処理した。処理後、ガラス
容器の内外表面を水道水で洗浄し、電気抵抗１ＭΩ・ｃ
ｍの純水で１回ガラス容器内部をすすぎ、更に電気抵抗
１７ＭΩ・ｃｍの純水で３回ガラス容器内部をすすい
だ。このガラス容器をクリーンオーブンＳＤＢ−２００
Ｍ型（ダン産業社製）を用いて温度７０℃で１６時間乾
燥し、デシケーター中にいれて室温まで冷却した。次い
で、前記ガラス容器に合成例１で得たポリシラザン塗布
溶液原液１００ｇを充填し、乾燥窒素ガスで置換し１気
圧に加圧したのち密封した。前記ポリシラザン塗布溶液
原液を５℃に設定された貯蔵庫に９ヵ月間保存したのち
ロータリーエバポレータで濃縮し、２５重量％のポリシ
ラザン塗布溶液とし、それを０．８μｍ段差のパターン
が形成された６インチシリコンウェーハ上に２０００ｒ
ｐｍで４０秒間スピンナー塗布し、８０℃、２００℃、
３００℃の順でそれぞれ３分間ずつホットプレート上で
加熱処理し、さらに４００℃で６０分間焼成してシリカ
系被膜を形成した。得られたシリカ系被膜にはオレンジ
ピールの発生が確認されず、またグローバル平坦化性も
良好であった。
５ｇを入れ、それを温度５５０℃の電気炉に導入し、加
熱して、硫酸アンモニウムを熱分解させ亜硫酸ガスを生
成し、そのガスで容器内面を処理した。処理後、ガラス
容器の内外表面を水道水で洗浄し、電気抵抗１ＭΩ・ｃ
ｍの純水で１回ガラス容器内部をすすぎ、更に電気抵抗
１７ＭΩ・ｃｍの純水で３回ガラス容器内部をすすい
だ。このガラス容器をクリーンオーブンＳＤＢ−２００
Ｍ型（ダン産業社製）を用いて温度７０℃で１６時間乾
燥し、デシケーター中にいれて室温まで冷却した。次い
で、前記ガラス容器に合成例１で得たポリシラザン塗布
溶液原液１００ｇを充填し、乾燥窒素ガスで置換し１気
圧に加圧したのち密封した。前記ポリシラザン塗布溶液
原液を５℃に設定された貯蔵庫に９ヵ月間保存したのち
ロータリーエバポレータで濃縮し、２５重量％のポリシ
ラザン塗布溶液とし、それを０．８μｍ段差のパターン
が形成された６インチシリコンウェーハ上に２０００ｒ
ｐｍで４０秒間スピンナー塗布し、８０℃、２００℃、
３００℃の順でそれぞれ３分間ずつホットプレート上で
加熱処理し、さらに４００℃で６０分間焼成してシリカ
系被膜を形成した。得られたシリカ系被膜にはオレンジ
ピールの発生が確認されず、またグローバル平坦化性も
良好であった。
【００２１】比較例１ ＰＴＦＥ容器内外表面を水道水で洗浄したのち、電気抵
抗１ＭΩ・ｃｍの純水で１回ＰＴＦＥ容器内部をすす
ぎ、更に電気抵抗１７ＭΩ・ｃｍの純水で３回すすい
だ。前記ＰＴＦＥ容器をクリーンオーブンＳＤＢ−２０
０Ｍ型（ダン産業社製）を用いて温度７０℃で１６時間
乾燥し、デシケーター中で室温まで冷却した。得られた
ＰＴＦＥ容器に、合成例１で得たシラザン塗布溶液原液
１００ｇを充填し、ＰＴＦＥ容器内部を乾燥窒素ガスで
置換し、１気圧に加圧したのち、密閉した。前記ポリシ
ラザン塗布溶液原液を５℃に設定された貯蔵庫に３ヵ月
間保存したのちロータリーエバポレータで濃縮し、２５
重量％のポリシラザン塗布溶液とし、それを０．８μｍ
段差のパターンが形成された６インチシリコンウェーハ
上に２０００ｒｐｍで４０秒間スピンナー塗布し、８０
℃、２００℃、３００℃の順でそれぞれ３分間ずつホッ
トプレート上で加熱処理し、さらに４００℃で６０分間
焼成してシリカ系被膜を形成したところ被膜にはオレン
ジピールが発生し、またグローバル平坦化性も悪いもの
であった。
抗１ＭΩ・ｃｍの純水で１回ＰＴＦＥ容器内部をすす
ぎ、更に電気抵抗１７ＭΩ・ｃｍの純水で３回すすい
だ。前記ＰＴＦＥ容器をクリーンオーブンＳＤＢ−２０
０Ｍ型（ダン産業社製）を用いて温度７０℃で１６時間
乾燥し、デシケーター中で室温まで冷却した。得られた
ＰＴＦＥ容器に、合成例１で得たシラザン塗布溶液原液
１００ｇを充填し、ＰＴＦＥ容器内部を乾燥窒素ガスで
置換し、１気圧に加圧したのち、密閉した。前記ポリシ
ラザン塗布溶液原液を５℃に設定された貯蔵庫に３ヵ月
間保存したのちロータリーエバポレータで濃縮し、２５
重量％のポリシラザン塗布溶液とし、それを０．８μｍ
段差のパターンが形成された６インチシリコンウェーハ
上に２０００ｒｐｍで４０秒間スピンナー塗布し、８０
℃、２００℃、３００℃の順でそれぞれ３分間ずつホッ
トプレート上で加熱処理し、さらに４００℃で６０分間
焼成してシリカ系被膜を形成したところ被膜にはオレン
ジピールが発生し、またグローバル平坦化性も悪いもの
であった。
【００２２】比較例２ 実施例１と同様にしてポリシラザン塗布溶液を調製し、
それを実施例１の亜硫酸ガスによる処理を行わないガラ
ス容器中に３ヵ月間保存したのち実施例１と同様にして
シリカ系被膜を形成したところ、オレンジピールが発生
し、グローバル平坦化性も悪いものであった。
それを実施例１の亜硫酸ガスによる処理を行わないガラ
ス容器中に３ヵ月間保存したのち実施例１と同様にして
シリカ系被膜を形成したところ、オレンジピールが発生
し、グローバル平坦化性も悪いものであった。
【００２３】実施例２ 容量５００ｍｌのガラス容器中に塩化アンモニウム１．
５ｇを入れ、それを温度５５０℃の電気炉に導入し、加
熱して、硫酸アンモニウムを熱分解させ、塩化水素ガス
を生成し、そのガスで容器内面を処理した。処理後、ガ
ラス容器の内外表面を水道水で洗浄し、電気抵抗１ＭΩ
・ｃｍの純水で１回ガラス容器内部をすすぎ、更に電気
抵抗１７ＭΩ・ｃｍの純水で３回ガラス容器内部をすす
いだ。このガラス容器をクリーンオーブンＳＤＢ−２０
０Ｍ型（ダン産業社製）を用いて温度７０℃で１６時間
乾燥し、デシケーター中にいれて室温まで冷却した。次
いで、前記ガラス容器に合成例２で得たポリヒドリドシ
ラン塗布溶液１００ｇを充填し、乾燥窒素ガスで置換し
１気圧に加圧したのち密封した。前記ポリヒドリドシラ
ン塗布溶液を５℃に設定された貯蔵庫に９ヵ月間保存し
たのち０．８μｍ段差のパターンが形成された６インチ
シリコンウェーハ上に２０００ｒｐｍで４０秒間スピン
ナー塗布し、８０℃、２００℃、３００℃の順でそれぞ
れ３分間ずつホットプレート上で加熱処理し、さらに４
００℃で６０分間焼成してシリカ系被膜を形成した。得
られたシリカ系被膜にはオレンジピールの発生が確認さ
れず、またグローバル平坦化性も良好であった。
５ｇを入れ、それを温度５５０℃の電気炉に導入し、加
熱して、硫酸アンモニウムを熱分解させ、塩化水素ガス
を生成し、そのガスで容器内面を処理した。処理後、ガ
ラス容器の内外表面を水道水で洗浄し、電気抵抗１ＭΩ
・ｃｍの純水で１回ガラス容器内部をすすぎ、更に電気
抵抗１７ＭΩ・ｃｍの純水で３回ガラス容器内部をすす
いだ。このガラス容器をクリーンオーブンＳＤＢ−２０
０Ｍ型（ダン産業社製）を用いて温度７０℃で１６時間
乾燥し、デシケーター中にいれて室温まで冷却した。次
いで、前記ガラス容器に合成例２で得たポリヒドリドシ
ラン塗布溶液１００ｇを充填し、乾燥窒素ガスで置換し
１気圧に加圧したのち密封した。前記ポリヒドリドシラ
ン塗布溶液を５℃に設定された貯蔵庫に９ヵ月間保存し
たのち０．８μｍ段差のパターンが形成された６インチ
シリコンウェーハ上に２０００ｒｐｍで４０秒間スピン
ナー塗布し、８０℃、２００℃、３００℃の順でそれぞ
れ３分間ずつホットプレート上で加熱処理し、さらに４
００℃で６０分間焼成してシリカ系被膜を形成した。得
られたシリカ系被膜にはオレンジピールの発生が確認さ
れず、またグローバル平坦化性も良好であった。
【００２４】比較例３ 合成例２で調製したポリヒドリドシラン塗布溶液を実施
例２の塩化水素ガスによる処理を行わないガラス容器中
に３ヵ月間保存したのち実施例２と同様にしてシリカ系
被膜を形成したところ、オレンジピールが発生し、グロ
ーバル平坦化性も悪いものであった。
例２の塩化水素ガスによる処理を行わないガラス容器中
に３ヵ月間保存したのち実施例２と同様にしてシリカ系
被膜を形成したところ、オレンジピールが発生し、グロ
ーバル平坦化性も悪いものであった。
【００２５】
【発明の効果】本発明のシリカ系塗布溶液用容器は、シ
リカ系塗布溶液を長期に保存しても形成されるシリカ系
被膜表面にオレンジピールの発生やグローバル平坦化性
の低下が少ない。特にシラン構造、シラザン構造又はそ
の両構造を有する化合物を含有するシリカ系塗布溶液の
保存に有用である。しかも本発明のシリカ系塗布溶液用
容器は、製造素材がガラスであるところから低コストで
製造でき、かつ室温保存が可能で実用的価値が高い。
リカ系塗布溶液を長期に保存しても形成されるシリカ系
被膜表面にオレンジピールの発生やグローバル平坦化性
の低下が少ない。特にシラン構造、シラザン構造又はそ
の両構造を有する化合物を含有するシリカ系塗布溶液の
保存に有用である。しかも本発明のシリカ系塗布溶液用
容器は、製造素材がガラスであるところから低コストで
製造でき、かつ室温保存が可能で実用的価値が高い。
Claims (4)
- 【請求項１】シラン構造若しくはシラザン構造又はその
両方を含むシリカ系塗布溶液用のガラス容器であって、
該容器の内表面が加熱酸性ガスで処理されていることを
特徴とするシリカ系塗布溶液用容器。 - 【請求項２】酸性ガスが、亜硫酸ガス又は塩化水素ガス
であることを特徴とする請求項１記載のシリカ系塗布液
用容器。 - 【請求項３】シラン構造若しくはシラザン構造又はその
両方を含むシリカ系塗布溶液を、内表面が加熱酸性ガス
で処理された容器中に充填密封することを特徴とするシ
リカ系塗布溶液の保存方法。 - 【請求項４】酸性ガスが、亜硫酸ガス又は塩化水素ガス
であることを特徴とする請求項３記載のシリカ系塗布溶
液の保存方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29124896A JPH10120446A (ja) | 1996-10-15 | 1996-10-15 | シリカ系塗布溶液用容器及びそれを用いたシリカ系塗布溶液の保存方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29124896A JPH10120446A (ja) | 1996-10-15 | 1996-10-15 | シリカ系塗布溶液用容器及びそれを用いたシリカ系塗布溶液の保存方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10120446A true JPH10120446A (ja) | 1998-05-12 |
Family
ID=17766410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29124896A Pending JPH10120446A (ja) | 1996-10-15 | 1996-10-15 | シリカ系塗布溶液用容器及びそれを用いたシリカ系塗布溶液の保存方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10120446A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014132653A (ja) * | 2012-12-11 | 2014-07-17 | Air Products And Chemicals Inc | アルコキシシリルアミン化合物及びその応用 |
| WO2016001661A3 (en) * | 2014-07-02 | 2016-02-25 | Pilkington Group Limited | Planarisation of a coating |
-
1996
- 1996-10-15 JP JP29124896A patent/JPH10120446A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014132653A (ja) * | 2012-12-11 | 2014-07-17 | Air Products And Chemicals Inc | アルコキシシリルアミン化合物及びその応用 |
| WO2016001661A3 (en) * | 2014-07-02 | 2016-02-25 | Pilkington Group Limited | Planarisation of a coating |
| EP3650416A1 (en) * | 2014-07-02 | 2020-05-13 | Pilkington Group Limited | Coated glass pane comprising an underlayer and a smooth layer based on silica and/or organo silica |
| US10919800B2 (en) | 2014-07-02 | 2021-02-16 | Pilkington Group Limited | Planarisation of a coating |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051110 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051116 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051226 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060601 |