JPH10116950A - Manufacturing method of semiconductor device - Google Patents

Manufacturing method of semiconductor device

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Publication number
JPH10116950A
JPH10116950A JP26836696A JP26836696A JPH10116950A JP H10116950 A JPH10116950 A JP H10116950A JP 26836696 A JP26836696 A JP 26836696A JP 26836696 A JP26836696 A JP 26836696A JP H10116950 A JPH10116950 A JP H10116950A
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JP
Japan
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resin
lead
water
leads
soluble resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP26836696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadayuki Shintani
忠之 新谷
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NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve productivity by coating a water-soluble resin only to each lead forming a lead frame, resin molding each lead to be connected to the semiconductor element, and removing burn from the mold resin by using a low water pressure nozzle for the water-soluble resin. SOLUTION: A lead frame connects a lead 1 to a tie bar 2. A water-soluble resin 3 is coated only from a end portion of a region of resin mold of lead 1 to the tie bar 2 and its surroundings. Each lead 1 for connecting by bonding to the semiconductor element is attached to a die, and molding is performed by a mold resin 4. A mold resin 4 leaks out from the die to a space between leads 1 and burr 4' but this burr 4' flows between the leads 1 and is stopped by the tie bar 2. Thereafter, the water-soluble resin 3 coated in the vicinity of each lead 1 is removed by using a low water pressure nozzle 5 and the burr 4' can be eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造方
法に関し、特に樹脂封止型半導体装置の製造方法に関す
る。
The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、かかる樹脂封止型の半導体装置の
製造においては、樹脂封止したときのバリの発生が問題
になり、ころを解決するために各種の提案がなされてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the production of such a resin-sealed type semiconductor device, the occurrence of burrs at the time of resin-sealing has been a problem, and various proposals have been made to solve the rollers.

【0003】図3(a)〜(d)はそれぞれ従来の一例
を説明するための工程順に示す半導体装置の断面図であ
る。まず、図3(a)に示すように、リードフレームの
アイランド8上に半導体素子(ペレット)7を搭載し、
リード1とペレット7をボンディングワイヤ9によりボ
ンディング接続する。ついで、このボンディング接続工
程の済んだ半製品を樹脂封止金型6の内部に装着する。
なお、タイバー2はリード1に直角に形成される。
FIGS. 3A to 3D are cross-sectional views of a semiconductor device shown in the order of steps for explaining an example of the related art. First, as shown in FIG. 3A, a semiconductor element (pellet) 7 is mounted on an island 8 of a lead frame,
The lead 1 and the pellet 7 are bonded by a bonding wire 9. Next, the semi-finished product that has been subjected to the bonding connection step is mounted inside the resin sealing mold 6.
The tie bar 2 is formed at right angles to the lead 1.

【0004】次に、図3(b)に示すように、樹脂封止
金型6にモールド用樹脂4が注入され、樹脂封止が行わ
れる。このとき、モールド用樹脂4は、タイバー2で関
止められる。
Next, as shown in FIG. 3 (b), a molding resin 4 is injected into a resin sealing mold 6, and the resin is sealed. At this time, the molding resin 4 is engaged with the tie bar 2.

【0005】ついで、図3(c)に示すように、樹脂封
止した半製品を樹脂封止金型6から取り出し、樹脂のバ
リ取りを行う。すなわち、リード1間に付着したバリ
4’を水圧バリ取りノズル5からの水圧を利用して除去
する。
[0005] Next, as shown in FIG. 3 (c), the resin-sealed semi-finished product is taken out of the resin-sealing mold 6, and the resin is deburred. That is, the burrs 4 ′ adhered between the leads 1 are removed by using the water pressure from the hydraulic deburring nozzle 5.

【0006】さらに、図3(d)に示すように、タイバ
ー2まで達していたリード1間のバリ4’は取り除かれ
る。
Further, as shown in FIG. 3D, the burrs 4 'between the leads 1 reaching the tie bars 2 are removed.

【0007】図4(a)〜(d)はそれぞれ図3(a)
〜(d)に対応する工程順に示す半導体装置の平面図で
ある。図4(a)〜(d)に示すように、製造過程につ
いては、前述した図3(a)〜(d)の通りであり、樹
脂封止後、リード1間にバリ4’が生ずるが、水圧ノズ
ル5によって除去される。
FIGS. 4A to 4D respectively show FIGS.
It is a top view of a semiconductor device shown in order of a process corresponding to (d). As shown in FIGS. 4A to 4D, the manufacturing process is as described above with reference to FIGS. 3A to 3D. After resin sealing, burrs 4 ′ are generated between the leads 1. , Are removed by a hydraulic nozzle 5.

【0008】上述したバリ取り方法以外にも、各種の方
法があり、例えば特開平4−38858号公報に記載さ
れたような例もある。
There are various methods other than the deburring method described above, and for example, there is an example described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-38858.

【0009】図5はかかる従来の他の例を説明するため
の半導体装置におけるリードフレームの平面図である。
図5に示すように、この半導体装置のリードフレーム
は、前述した図3によって製造される半導体装置の改善
例であり、塗布パターン10を用いたものである。すな
わち、ダイパッド(アイランド)8の周囲にリード1が
配置され、樹脂成形の外郭11の周囲に、しかもリード
1を除いて部分に塗布パターン10を形成するものであ
る。この塗布パターン10を形成しておくことにより、
リード1間のばりを関止めている。
FIG. 5 is a plan view of a lead frame in a semiconductor device for explaining another example of the related art.
As shown in FIG. 5, the lead frame of the semiconductor device is an improved example of the semiconductor device manufactured according to FIG. 3 described above, and uses a coating pattern 10. That is, the leads 1 are arranged around the die pad (island) 8, and the coating pattern 10 is formed around the resin-molded outer shell 11, and at a portion other than the leads 1. By forming this coating pattern 10 in advance,
The burrs between the leads 1 are stopped.

【0010】しかしながら、この場合はリード1間の樹
脂の食い込みが強いため、完全に樹脂のバリを除去する
ことができず、樹脂残りを発生させてしまう。この樹脂
残りを改善するために、つぎのような方法も採られてい
る。
However, in this case, since the resin bite between the leads 1 is strong, it is not possible to completely remove the burr of the resin, and the resin residue is generated. In order to improve the resin residue, the following method has been adopted.

【0011】図6は従来のまた別の例を説明するための
半導体装置のリードフレームの一部の斜視図である。図
6に示すように、このリードフレームは図5の塗布パタ
ーン10を水溶性樹脂3を用いて形成したものである。
要するに、この例では、タイバーを水溶性樹脂3で形成
することにより、樹脂残りを少なくしている。
FIG. 6 is a perspective view of a part of a lead frame of a semiconductor device for explaining another conventional example. As shown in FIG. 6, this lead frame is obtained by forming the coating pattern 10 of FIG.
In short, in this example, by forming the tie bar with the water-soluble resin 3, the resin residue is reduced.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
装置の製造方法、特に図6などの例において、タイバー
を水溶性樹脂に変更した部分は、バリを容易に除去する
ことができるが、リード側面部は樹脂残りを発生すると
いう欠点がある。すなわち、モールド樹脂がリードに対
して食い込む力は強く、タイバー部のみ樹脂残りを無く
しても、バリ除去には有効とならないからである。
In the above-described conventional method for manufacturing a semiconductor device, particularly in the example shown in FIG. 6, the portion where the tie bar is changed to a water-soluble resin can easily remove burrs. The side portion has a disadvantage that resin residue is generated. That is, the force of the mold resin biting into the lead is strong, and even if the resin residue is eliminated only in the tie bar portion, it is not effective in removing burrs.

【0013】また、図5などのリード間に樹脂を塗布す
る例においては、樹脂封止時に金型の熱で塗布した樹脂
が膨張し、リードを変形させるという欠点がある。例え
ば、水溶性樹脂をスクリーン印刷でリード間に塗布する
と、隙間がないために、熱で膨張した樹脂がリード方向
に行き、リードそのものを変形させてしまう。
Further, in the example of applying resin between the leads as shown in FIG. 5, there is a disadvantage that the applied resin expands due to the heat of the mold at the time of sealing the resin and deforms the leads. For example, if a water-soluble resin is applied between the leads by screen printing, the resin expanded by heat goes in the lead direction because there is no gap, and the leads themselves are deformed.

【0014】さらに、かかる水溶性樹脂をスクリーン印
刷でリード間に塗布しても、リード間をリードと同じ高
さには埋られず、樹脂封止時にその隙間から樹脂が漏れ
るという欠点がある。その理由は、スクリーン印刷での
樹脂膜厚の精度出しが困難であることによる。すなわ
ち、リード間を隙間なく形成するには、樹脂膜厚を厚く
しなければならず、その場合には、リードより高く出た
樹脂が金型で押され、同様にリードの変形を誘発するこ
とになる。
Further, even if such a water-soluble resin is applied between the leads by screen printing, the space between the leads is not buried at the same height as the leads, and the resin leaks from the gap at the time of resin sealing. The reason is that it is difficult to obtain the precision of the resin film thickness by screen printing. In other words, in order to form a space between the leads without any gaps, the resin film thickness must be increased. In this case, the resin that has come out higher than the leads is pressed by a mold, and the leads are similarly deformed. become.

【0015】本発明の目的は、かかる水溶性樹脂を用
い、しかも低水圧でモールド樹脂のバリを除去するとと
もに、生産性を向上させることのできる半導体装置の製
造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor device using such a water-soluble resin, which can remove burrs of a mold resin at a low water pressure and can improve productivity.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の製
造方法は、リードフレームを形成する各リードにのみ水
溶性樹脂をコーティングする工程と、半導体素子および
前記半導体素子に接続するための前記各リードを樹脂モ
ールドする工程と、しかる後に前記各リードの前記水溶
性樹脂を低水圧ノズルを用いて除去する工程とを含んで
構成される。
According to a method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, a step of coating a water-soluble resin only on each lead forming a lead frame, and a step of coating a semiconductor element and each of said leads for connecting to the semiconductor element The method includes a step of resin-molding the leads, and a step of subsequently removing the water-soluble resin of each of the leads using a low-pressure nozzle.

【0017】また、本発明における前記水溶性樹脂は、
前記樹脂モールドする領域の端部からタイバーまでのリ
ード部分にコーティングするように形成される。
Further, the water-soluble resin in the present invention comprises:
The lead portion from the end of the resin molding region to the tie bar is formed to be coated.

【0018】さらに、本発明における前記水溶性樹脂
は、スクリーン印刷を用いて前記各リードの所定部分に
10μm程度の厚さにコーティングするように形成され
る。
Further, the water-soluble resin in the present invention is formed so as to coat a predetermined portion of each of the leads to a thickness of about 10 μm using screen printing.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0020】図1(a)〜(d)はそれぞれ本発明の一
実施の形態を説明するための工程順に示す半導体装置の
断面図である。図1(a)に示すように、本実施の形態
における半導体装置の製造にあたっては、インナーリー
ド(リード)1をタイバー2によって結合したリードフ
レームを用いる。
FIGS. 1A to 1D are sectional views of a semiconductor device shown in the order of steps for explaining an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1A, in manufacturing the semiconductor device according to the present embodiment, a lead frame in which inner leads (leads) 1 are connected by tie bars 2 is used.

【0021】ついで、図1(b)に示すように、このリ
ード1の周囲にのみ水溶性樹脂3をコーティング(塗
布)する。特に、この水溶性樹脂3は、リード1におい
て、樹脂モールドする領域の端部からタイバー2までの
リード部分に塗布される。
Next, as shown in FIG. 1B, a water-soluble resin 3 is coated only around the lead 1. In particular, the water-soluble resin 3 is applied to the lead 1 from the end of the resin molding region to the tie bar 2 in the lead 1.

【0022】さらに、図1(c)に示すように、半導体
素子(図示省略)およびこの半導体素子にボンディング
接続するための各リード1を金型(図示省略)に装着
し、モールド樹脂4により樹脂モールドする。このと
き、モールド樹脂4は、金型よりリード1間の空間に漏
れ出て、バリ4’を形成するが、このバリ4’はリード
1間を流れ、タイバー2により関止められる。すなわ
ち、このバリ4’は、リード1上には水溶性樹脂3が存
在するため、流れて来ない。
Further, as shown in FIG. 1C, a semiconductor element (not shown) and leads 1 for bonding connection to the semiconductor element are mounted on a mold (not shown). Mold. At this time, the mold resin 4 leaks out of the mold into the space between the leads 1 to form burrs 4 ′. The burrs 4 ′ flow between the leads 1 and are stopped by the tie bars 2. That is, the burr 4 ′ does not flow because the water-soluble resin 3 exists on the lead 1.

【0023】しかる後、図1(d)に示すように、各リ
ード1の周囲に塗布した水溶性樹脂3を低水圧バリ取り
ノズル5を用いて除去する。これと同時に、バリ4’は
リード1の周囲には付着していないため、低水圧バリ取
りノズル5により除去される。従って、リード1の側面
部、すなわちリード1間の樹脂残りであるバリ4’を無
くすことができる。
Thereafter, as shown in FIG. 1D, the water-soluble resin 3 applied around each lead 1 is removed by using a low water pressure deburring nozzle 5. At the same time, the burrs 4 ′ are not attached to the periphery of the lead 1 and are removed by the low-pressure deburring nozzle 5. Accordingly, it is possible to eliminate the side surface of the lead 1, that is, the burr 4 ′ which is a resin residue between the leads 1.

【0024】図2(a)〜(d)はそれぞれ図1(a)
〜(d)に対応する工程順に示す半導体装置の平面図で
ある。図2(a)〜(d)に示すように、製造過程につ
いては、前述した図1(a)〜(d)の通りである。こ
こで、水溶性樹脂3は、前述したように、樹脂封止され
るエッジからタイバー2までの所定部分に塗布される
が、この水溶性樹脂3の塗布方法は、液状状態にした樹
脂をスプレーで塗布したり、スクリーン印刷を用いて塗
布する。特に、スクリーン印刷を用いて塗布するとき
は、熱膨張を考慮して、各リード1の所定部分に10μ
m程度の厚さに塗布される。
FIGS. 2A to 2D respectively show FIGS.
It is a top view of a semiconductor device shown in order of a process corresponding to (d). As shown in FIGS. 2A to 2D, the manufacturing process is as described above with reference to FIGS. 1A to 1D. Here, the water-soluble resin 3 is applied to a predetermined portion from the edge to be sealed to the tie bar 2 as described above. Or using screen printing. In particular, when applying using screen printing, 10 μm is applied to a predetermined portion of each lead 1 in consideration of thermal expansion.
m.

【0025】上述した本実施の形態によれば、リードの
所定部分に水溶性樹脂をコーティングすることにより、
モールド樹脂の食い込みをリードそのものではなく、水
溶性樹脂に対して行わせることができるので、低水圧で
も確実に樹脂残りを防止することができる。
According to the above-described embodiment, by coating a predetermined portion of the lead with a water-soluble resin,
Since the bite of the mold resin can be performed not on the lead itself but on the water-soluble resin, the resin residue can be reliably prevented even at a low water pressure.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置の製造方法は、リードのみを水溶性樹脂でコーティン
グし、樹脂モールドした後に、各リードの水溶性樹脂を
水圧バリ取りノズルを用いて除去することにより、樹脂
残りであるバリを確実に且つ容易に除去することができ
るという効果がある。すなわち、リードの側面部も水溶
性樹脂で塗布しているため、容易に、低水圧で除去する
ことができる。
As described above, in the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, only the leads are coated with a water-soluble resin, and after resin molding, the water-soluble resin of each lead is removed using a hydraulic deburring nozzle. By removing, there is an effect that burrs, which are resin residues, can be reliably and easily removed. That is, since the side surfaces of the leads are also coated with the water-soluble resin, they can be easily removed at a low water pressure.

【0027】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
リード間を水溶性樹脂で埋めないことにより、水溶性樹
脂が金型で押されても、また樹脂封止時の金型の熱によ
る水溶性樹脂の膨張が生じても、リード間の隙間方向に
逃げることができるので、リード変形を生じないという
効果がある。
Further, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention
By not filling the space between the leads with the water-soluble resin, even if the water-soluble resin is pressed by the mold, or if the water-soluble resin expands due to the heat of the mold at the time of resin sealing, the direction of the gap between the leads can be reduced Therefore, there is an effect that the lead is not deformed.

【0028】さらに、本発明の半導体装置の製造方法
は、タイバーそのものを水溶性樹脂に変更した従来の半
導体装置と比較しても、樹脂封止時に樹脂がタイバーを
超えて漏れることもないという効果がある。特に、タイ
バー部にスクリーン印刷で水溶性樹脂を塗布するのは、
膜厚調整などの精度を要求されるため、リードとタイバ
ーを接続(一体化)した従来の構造を使用することによ
り、樹脂濡れを防止している。
Further, the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention has an effect that the resin does not leak beyond the tie bar during resin sealing as compared with a conventional semiconductor device in which the tie bar itself is changed to a water-soluble resin. There is. In particular, applying a water-soluble resin to the tie bar by screen printing is
Since precision such as film thickness adjustment is required, resin wetting is prevented by using a conventional structure in which leads and tie bars are connected (integrated).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態を説明するための工程順
に示す半導体装置の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor device shown in the order of steps for describing one embodiment of the present invention.

【図2】図1に対応する工程順に示した半導体装置の平
面図である。
FIG. 2 is a plan view of the semiconductor device shown in a process order corresponding to FIG. 1;

【図3】従来の一例を説明するための工程順に示す半導
体装置の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a semiconductor device shown in the order of steps for explaining an example of the related art.

【図4】図3に対応する工程順に示した半導体装置の平
面図である。
FIG. 4 is a plan view of the semiconductor device shown in a process order corresponding to FIG. 3;

【図5】従来の他の例を説明するための半導体装置にお
けるリードフレームの平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a lead frame in a semiconductor device for explaining another conventional example.

【図6】従来のまた別の例を説明するための半導体装置
のリードフレームの一部の斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view of a part of a lead frame of a semiconductor device for explaining another conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リード 2 タイバー 3 水溶性樹脂 4 モールド樹脂 5 水圧バリ取りノズル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lead 2 Tie bar 3 Water-soluble resin 4 Mold resin 5 Hydraulic deburring nozzle

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リードフレームを形成する各リードにの
み水溶性樹脂をコーティングする工程と、半導体素子お
よび前記半導体素子に接続するための前記各リードを樹
脂モールドする工程と、しかる後に前記各リードの前記
水溶性樹脂を低水圧ノズルを用いて除去する工程とを含
むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
1. A step of coating only a lead forming a lead frame with a water-soluble resin; a step of resin-molding a semiconductor element and each of the leads for connecting to the semiconductor element; Removing the water-soluble resin using a low water pressure nozzle.
【請求項2】 前記水溶性樹脂は、前記樹脂モールドす
る領域の端部からタイバーまでのリード部分にコーティ
ングされる請求項1記載の半導体装置の製造方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein said water-soluble resin is coated on a lead portion from an end of said resin molding region to a tie bar.
【請求項3】 前記水溶性樹脂は、スクリーン印刷を用
いて前記各リードの所定部分に10μm程度の厚さにコ
ーティングされる請求項1記載の半導体装置の製造方
法。
3. The method according to claim 1, wherein the water-soluble resin is coated on a predetermined portion of each of the leads to a thickness of about 10 μm using screen printing.
JP26836696A 1996-10-09 1996-10-09 Manufacturing method of semiconductor device Pending JPH10116950A (en)

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JP (1) JPH10116950A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009252778A (en) * 2008-04-01 2009-10-29 Sharp Corp Manufacturing method of semiconductor package

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Legal Events

Date Code Title Description
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19981208