JPH10115412A - 蓄熱式脱臭装置 - Google Patents

蓄熱式脱臭装置

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JPH10115412A
JPH10115412A JP8268779A JP26877996A JPH10115412A JP H10115412 A JPH10115412 A JP H10115412A JP 8268779 A JP8268779 A JP 8268779A JP 26877996 A JP26877996 A JP 26877996A JP H10115412 A JPH10115412 A JP H10115412A
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gas
processing gas
heat
bypass passage
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Hideo Yamaguchi
英男 山口
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Chugai Ro Co Ltd
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Chugai Ro Co Ltd
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    • Y02E20/00Combustion technologies with mitigation potential
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  • Air Supply (AREA)
  • Incineration Of Waste (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高価な断熱材を有するバイパス管、ミキシン
グボックス、および高耐熱鋼製の封止弁などを不要とし
て構成の簡素化を図る。 【解決手段】 燃焼室23に連通した少なくとも3つの
蓄熱室16A,16B,16Cに対して被処理ガスの供
給、パージガスの供給、および燃焼室内で燃焼した処理
ガスの排気を切換弁により順次切り換えながら被処理ガ
スを脱臭処理する蓄熱式脱臭装置15において、蓄熱室
内に複数の蓄熱体17a,17bを処理ガスの流れ方向
Xに所定間隔をもって配設し、かつ、これら蓄熱体のう
ち、処理ガスの流れ方向最上流の蓄熱体を除く少なくと
も1つの蓄熱体(下流側蓄熱体17b)にバイパス通路
18を設けるとともに、該バイパス通路に封止弁19を
設け、前記バイパス通路を通過する処理ガスの通過量を
調節してバイパス通路を有する蓄熱体の蓄熱量を調節可
能とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は蓄熱式脱臭装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、蓄熱式脱臭装置1は、図4に
示すように、3つの蓄熱室2A,2B,2Cを備え、こ
れらのうち、被処理ガス供給管5からの被処理ガスを、
たとえば、蓄熱室2Aに供給して蓄熱体3Aを通過させ
ることにより予熱して燃焼室4に供給し、該燃焼室4内
で被処理ガスをバーナにて燃焼することにより脱臭処理
する。そして、脱臭処理した処理ガスを他の蓄熱室2C
の蓄熱体3Cを通過させることにより該蓄熱体3Cに熱
を供給し、処理ガス自体を降温させた状態で処理ガス排
出管6に排出する。一方、残りの蓄熱室2Bにはパージ
ガス供給管7よりパージガスが供給され、被処理ガスを
供給した工程で該蓄熱室2Bの蓄熱体3B内に残留して
いる被処理ガスを燃焼室4に追いやって蓄熱体3B内を
浄化し、燃焼室4からの処理ガスを排気する際に該処理
ガスに被処理ガスが混入することを防止している。
【0003】このように、従来の蓄熱式脱臭装置1で
は、前記各蓄熱室2A,2B,2Cに分岐接続した前記
被処理ガス供給管5の分岐管にそれぞれ切換弁VA1,V
B1,VC1を、同様に処理ガス排出管6の分岐管にそれぞ
れ切換弁VA3,VB3,VC3を、さらに、パージガス供給
管7の分岐管にそれぞれ切換弁VA2,VB2,VC2を設
け、これら切換弁を開閉させて各蓄熱室2A,2B,2
Cに対して被処理ガスの供給、パージガスの供給および
処理ガスの排出を順次切り換えながら連続的に脱臭処理
を行う。なお、前記切換弁VA1,VA2,VA3,VB1,V
B2,VB3およびVC1,VC2,VC3において、図中の□は
開状態、■は閉状態を示す。
【0004】しかしながら、前記蓄熱式脱臭装置1で設
定濃度より高濃度の溶剤を含む被処理ガスを脱臭処理す
ると、前記溶剤自体の燃焼による発熱量が設定値より大
きくなるため、燃焼室4内の温度(処理ガスの温度)が
通常の脱臭処理温度(約820℃)より高くなる。そし
て、この高温の処理ガスが蓄熱体3を介して排出される
と、該蓄熱体3の蓄熱温度も通常時の温度より高くなる
ため、後の被処理ガスを供給する工程で該被処理ガスは
所定の温度よりさらに高い温度に昇温した状態で燃焼室
4に供給されることになり、蓄熱体3の温度は徐々に高
温となり、やがて蓄熱体3が溶損するという問題が発生
する。
【0005】そのため、従来の蓄熱式脱臭装置1は、断
熱材10で内張りしたバイパス管8の一端を前記燃焼室
4に接続するとともに、他端を処理ガス排出管6にミキ
シングボックス11を介して接続し、前記バイパス管8
内に封止弁9を設けて高温の処理ガスの一部をバイパス
管8を介して直接排出できるようにしてあり、高温の処
理ガスは前記ミキシングボックス11にて蓄熱室2を通
過して降温された低温の処理ガスと混合して降温し、排
気ファン12により排気される。このようにすれば、蓄
熱体3への処理ガスの供給熱量が減るので該蓄熱体3の
蓄熱量が減少し、後の被処理ガスを供給する工程で該被
処理ガスが異常昇温することが防止され、その結果、燃
焼室4内で脱臭処理された処理ガスが高温になりつづけ
ることを防止している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記蓄
熱式脱臭装置1では、被処理ガスに含まれる溶剤濃度に
よっては前記燃焼室4内の温度は900℃以上となるた
め、前記バイパス管8の内部には耐熱性の高い断熱材1
0を取り付けなければならない。また、前記バイパス管
8内に取り付ける封止弁9も900℃以上の高温にさら
されるため非常に高い耐熱性が要求されコスト高である
とともに、通常運転時には処理ガスのリークが許されな
いので頻繁にメンテナンスを実施しなければならないと
いう問題がある。さらに、前記排気ファン12は高温の
処理ガスが供給されると損傷するため、バイパス管8か
らの高温処理ガスと蓄熱室2からの低温処理ガスとを前
記ミキシングボックス11で確実に混合する必要があ
り、その結果、該ミキシングボックス11が大型化する
とともにこの大型化に伴ってコスト高になるという問題
がある。
【0007】本発明は前記問題に鑑みてなされたもの
で、高価な断熱材を有するバイパス管、ミキシングボッ
クス、および高耐熱鋼製の封止弁などを不要として構成
の簡素化を図ることができる蓄熱式脱臭装置を提供する
ことを課題とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解消するた
め、本発明の蓄熱式脱臭装置は、燃焼室に連通した少な
くとも3つの蓄熱室に対して被処理ガスの供給、パージ
ガスの供給、および燃焼室内で燃焼した処理ガスの排気
を切換弁により順次切り換えながら被処理ガスを脱臭処
理する蓄熱式脱臭装置において、前記蓄熱室内に複数の
蓄熱体を処理ガスの流れ方向に所定間隔をもって配設
し、かつ、これら蓄熱体のうち、処理ガスの流れ方向最
上流の蓄熱体を除く少なくとも1つの蓄熱体に処理ガス
の流れ方向に該蓄熱体を貫通するバイパス通路を設ける
とともに、該バイパス通路に封止弁を設け、前記バイパ
ス通路を通過する処理ガスの通過量を調節してバイパス
通路を有する蓄熱体の蓄熱量を調節可能に構成したもの
である。
【0009】あるいは、本発明の蓄熱式脱臭装置は、燃
焼室に連通した少なくとも3つの蓄熱室に対して被処理
ガスの供給、パージガスの供給、および燃焼室内で燃焼
した処理ガスの排気を切換弁により順次切り換えながら
被処理ガスを脱臭処理する蓄熱式脱臭装置において、前
記蓄熱室内に複数の蓄熱体を処理ガスの流れ方向に所定
間隔をもって配設し、かつ、これら蓄熱体のうち、処理
ガスの流れ方向最上流の蓄熱体を除く少なくとも1つの
蓄熱体に処理ガスの流れ方向に該蓄熱体を迂回するバイ
パス通路を設けるとともに、該バイパス通路に封止弁を
設け、前記バイパス通路を通過する処理ガスの通過量を
調節してバイパス通路を有する蓄熱体の蓄熱量を調節可
能に構成したものである。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
従って説明する。本発明の第1実施形態の蓄熱式脱臭装
置15は、図1に示すように、くら型セラミック片等か
らなる蓄熱体17を収容した3つの蓄熱室16(16
A,16B,16C)と、これら蓄熱室16に連通した
燃焼室23とを備え、各蓄熱室16A,16B,16C
の底部には被処理ガス供給管24、処理ガス排出管25
およびパージガス供給管26の各分岐管をそれぞれ接続
してあり、前記燃焼室23には図示しないバーナなどの
燃焼手段が設けてある。
【0011】前記蓄熱室16は、その略中央部からその
内径を処理ガスの流れ方向Xの下流側に向けて拡径させ
て下流側を大径とした略筒形状をなし、空間aを挟んで
処理ガスの流れ方向Xの上流側に上流側蓄熱体17a
が、下流側の拡径部に下流側蓄熱体17bが配設してあ
る。
【0012】前記両蓄熱体17a,17bのうち、下流
側蓄熱体17bには、その軸芯部に処理ガスの流れ方向
Xに貫通するバイパス通路18が設けてあるとともに、
該バイパス通路18の下流側には封止弁19が設けてあ
る。そして、下流側蓄熱体17bの前記バイパス通路1
8の断面積を除いた蓄熱部の断面積は、上流側蓄熱体1
7aの蓄熱部の断面積と同一に形成してある。また、前
記封止弁19は約870℃の温度に耐える耐熱鋼からな
り、前記燃焼室23内の温度を測定する温度センサ22
と接続した温度指示調節計20からの信号で作動するコ
ントロールモータ21により開閉するようにしている。
【0013】前記被処理ガス供給管24、処理ガス排出
管25およびパージガス供給管26の一端は、前記蓄熱
室16A,16B,16Cの下部にそれぞれ分岐して接
続してあり、前記被処理ガス供給管24の分岐管にそれ
ぞれ切換弁VA1,VB1,VC1を、処理ガス排出管25の
分岐管にそれぞれ切換弁VA3,VB3,VC3を、パージガ
ス供給管26の分岐管にそれぞれ切換弁VA2,VB2,V
C2を設けてある。そして、前記被処理ガス供給管24の
他端は図示しない乾燥設備などに接続してある。また、
前記処理ガス排出管25の他端は排気ファン30を介し
て煙突31に直接接続してある。さらに、前記パージガ
ス供給管26の他端は排気ファン30の下流に接続して
あり、処理ガスの一部をパージガスとして前記蓄熱室1
6に供給するようにしている。
【0014】前記構成の蓄熱式脱臭装置15で被処理ガ
スを脱臭処理するには、まず、各蓄熱室16内の封止弁
19をそれぞれ閉状態として前記バイパス通路18を閉
鎖し、たとえば前記各切換弁VA1,VA2,VA3,VB1
B2,VB3およびVC1,VC2,VC3を図中の開状態□、
閉状態■のように切り換える。そして、被処理ガス供給
管24からの被処理ガスを切換弁VA1を介して蓄熱室1
6Aに供給、パージガス供給管26からのパージガスを
切換弁VB2を介して蓄熱室16Bに供給、そして処理ガ
スを蓄熱室16Cから切換弁VC3を介して処理ガス排出
管25に排出して脱臭処理を行う。
【0015】前記状態では、封止弁19を閉状態として
いるため、蓄熱室16A内に供給された被処理ガスは全
て蓄熱体17(17a,17b)内を通過し、前の処理
ガス排気工程で蓄熱された熱で被処理ガスを予熱して燃
焼室23に供給する。
【0016】そして、前記燃焼室23内で被処理ガスを
燃焼して脱臭した後、その処理ガスは蓄熱室16C内の
上流側蓄熱体17aおよび下流側蓄熱体17bを同一流
速で通過し、その間に蓄熱体17a,17bで吸熱さ
れ、前記処理ガス自体は降温して処理ガス排出管25か
ら排気ファン30を介して煙突31より排気される。
【0017】一方、前記蓄熱室16Bには、前記煙突3
1より排気される処理ガスの一部がパージガスとしてパ
ージガス供給管26より供給され、該蓄熱室16Bに被
処理ガスを供給した工程で蓄熱体17に残留している未
処理の被処理ガスを燃焼室23に追いやって、該蓄熱体
17を浄化するとともにパージされた前記被処理ガスを
脱臭処理する。
【0018】前記工程を所定時間行った後、各切換弁V
A1,VA2,VA3,VB1,VB2,VB3およびVC1,VC2
C3を作動させ、被処理ガスを切換弁VC1を介して蓄熱
室16Cに供給、パージガスを切換弁VA2を介して蓄熱
室16Aに供給、そして処理ガスを蓄熱室16Bより切
換弁VB3を介して排出して所定時間脱臭処理を行う。
【0019】つぎに、再び各切換弁VA1,VA2,VA3
B1,VB2,VB3およびVC1,VC2,VC3を作動させ、
被処理ガスを切換弁VB1を介して蓄熱室16Bに供給、
パージガスを切換弁VC2を介して蓄熱室16Cに供給、
そして処理ガスを蓄熱室16Aより切換弁VA3を介して
排出して所定時間脱臭処理を行う。
【0020】このように、前記3つの工程を順次繰り返
して、連続的に被処理ガスの脱臭処理を行うが、燃焼室
23で被処理ガス中の溶剤濃度が設定値より高くなると
溶剤の燃焼による発熱量が多くなり、該燃焼室23内の
脱臭処理温度が徐々に高くなる。そして、燃焼室23内
の温度が設定した上限温度以上になったことを温度セン
サ22が検知すると、前記温度指示調節計20よりコン
トロールモータ21を介して蓄熱室16(16A,16
B,16C)の封止弁19が所要の開度で開く。なお、
前記実施形態では、通常時の脱臭処理温度が820℃で
あるのに対して前記上限温度を900℃としてある。
【0021】図1の状態では前記のように封止弁19を
開状態としてあるので処理ガスを排出する蓄熱室16C
では、まず、前記処理ガスは上流側蓄熱体17a内を通
って該蓄熱体17aを加熱して処理ガス自体は降温し、
上流側蓄熱体17aと下流側蓄熱体17bとの間の空間
aを介して下流側蓄熱体17bに供給される。この時、
下流側蓄熱体17bでは、前記のように封止弁19を開
状態としているため、処理ガスの大部分は抵抗が少ない
バイパス通路18を通って処理ガス排出管25に排出さ
れる。
【0022】このように、大部分の処理ガスはバイパス
通路18を介して処理ガス排出管25に排出されるの
で、下流側蓄熱体17bの蓄熱量が減少する。これによ
り、次に蓄熱室16Cへ被処理ガスを供給する工程にな
った際に、該被処理ガスに対する伝熱は、ほとんど上流
側蓄熱体17aからなされるので伝熱量が少なくなり、
蓄熱室16Cの蓄熱体17を通して被処理ガスを燃焼室
23内に供給した時点での該被処理ガスの温度が低下
し、これに伴って燃焼室23内の脱臭処理温度も低下す
る。すなわち、封止弁19は、上流側蓄熱体17aで降
温された処理ガスに曝されるので、耐熱性の低い安価な
耐熱鋼で構成でき、また、処理ガスの流れは切換弁によ
り制御されているので封止弁19を高密閉状態に保持す
る必要がなくなる。
【0023】図2は第2実施形態の蓄熱式脱臭装置35
を示す。第2実施形態では蓄熱室36の壁面外側に処理
ガスの流れ方向Xに下流側蓄熱体37bを迂回するよう
にバイパス通路38を配設し、該バイパス通路38の下
流側に前記封止弁39を設けたもので、封止弁39の作
動は第1実施形態と同様である。
【0024】なお、本発明の蓄熱式脱臭装置は前記形態
に限定されるものではない。たとえば、図3(A)に示
すように、各蓄熱室54に対する被処理ガスの供給、パ
ージガスの供給、そして処理ガスの排出を回転式の切換
弁(分配弁)51により順次切り換える構成とした多筒
式の脱臭装置にも容易に採用することができる。
【0025】具体的には、前記蓄熱式脱臭装置50は、
外装体58の内部に前記第1実施形態と同様の蓄熱体5
5a,55b、バイパス通路56および封止弁57を備
えた全蓄熱室54を外装するハウジング59を備え、該
ハウジング59の下端開口部に各蓄熱室54に連通する
開口52aを有する固定弁52と、該固定弁52と対向
配置され、それぞれ図示しない被処理ガス供給用開口、
パージガス供給用開口、および処理ガス排出用開口を周
方向に所定間隔をあけて設けた回転弁53からなる前記
切換弁51を取り付けている。また、該切換弁51を取
り付ける外装体58の下部58aには被処理ガス供給管
60を接続する一方、前記回転弁53を回転可能に支持
する支持体53aには外装体58を貫通させて処理ガス
排出管61およびパージガス供給管62を接続してい
る。このようにすれば、各蓄熱室54に対して前記回転
弁53の回転により被処理ガスの供給、パージガスの供
給、そして処理ガスの排出を順次切り換えることができ
る。なお、前記固定弁52の各開口52aと各蓄熱室5
4とは、図3(B)に示すように、各蓄熱室54の下部
にダクト63を設け、固定弁52の各開口52aを塞ぐ
ように設けたフランジ64と前記ダクト63とを配管6
5で連通し、開口52aと蓄熱室54とが1対1で対応
するように接続すればよい。
【0026】また、前記第1および第2実施形態に示す
バイパス通路の下流側に取り付ける封止弁は、処理ガス
の流れ方向上流側に設けてもよい。ところで、前記第1
および第2実施形態では、各蓄熱室に設けた封止弁が同
時に開閉するものとして説明したが、たとえば、被処理
ガスの供給および処理ガスの排気を行う蓄熱室の封止弁
は開にして前記両ガスと下流側蓄熱体との伝熱を制御
し、パージガスの供給を行う蓄熱室の封止弁は閉にし
て、バイパス通路を通らず下流側蓄熱体内を通り、該蓄
熱体内に残留するわずかな被処理ガスをパージするよう
にする等のように各封止弁を個別に作動させてもよい。
さらに、蓄熱体は蓄熱室に対して処理ガスの流れ方向に
所定間隔をもって3以上配設してもよく、また、蓄熱室
も4以上設けてもよい。さらにまた、脱臭装置は蓄熱燃
焼式に限らず、触媒燃焼式であっても何ら問題がないの
は当然である。
【0027】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の蓄熱式脱臭装置では、バイパス通路および該通路に設
けた封止弁が曝される処理ガスは、バイパス通路を有す
る蓄熱体より上流に配設された蓄熱体で既に降温されて
いるので、前記バイパス通路および封止弁は耐熱性の高
い耐熱鋼で構成する必要がない。また、前記処理ガスの
排出は切換弁により制御されるので、バイパス通路の封
止弁そのものは高密閉状態に保持する必要がなく、バイ
パス通路の構造を簡素化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施形態の蓄熱式脱臭装置を示
す断面図である。
【図2】 第2実施形態の蓄熱式脱臭装置の一部を示す
断面図である。
【図3】 本発明の構成を他の形式の蓄熱式脱臭装置に
用いた場合を示し、(A)は斜視図、(B)は(A)の
要部斜視図である。
【図4】 従来の蓄熱式脱臭装置を示す断面図である。
【符号の説明】
15,35…蓄熱式脱臭装置、16,36…蓄熱室、1
7,37…蓄熱体、17a…上流側蓄熱体、17b…下
流側蓄熱体、18,38…バイパス通路、19,39…
封止弁、23…燃焼室、30…排気ファン、VA1
A2,VA3,VB1,VB2,VB3,VC1,VC2,VC3…切
換弁。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 燃焼室に連通した少なくとも3つの蓄熱
    室に対して被処理ガスの供給、パージガスの供給、およ
    び燃焼室内で燃焼した処理ガスの排気を切換弁により順
    次切り換えながら被処理ガスを脱臭処理する蓄熱式脱臭
    装置において、前記蓄熱室内に複数の蓄熱体を処理ガス
    の流れ方向に所定間隔をもって配設し、かつ、これら蓄
    熱体のうち、処理ガスの流れ方向最上流の蓄熱体を除く
    少なくとも1つの蓄熱体に処理ガスの流れ方向に該蓄熱
    体を貫通するバイパス通路を設けるとともに、該バイパ
    ス通路に封止弁を設け、前記バイパス通路を通過する処
    理ガスの通過量を調節してバイパス通路を有する蓄熱体
    の蓄熱量を調節可能としたことを特徴とする蓄熱式脱臭
    装置。
  2. 【請求項2】 燃焼室に連通した少なくとも3つの蓄熱
    室に対して被処理ガスの供給、パージガスの供給、およ
    び燃焼室内で燃焼した処理ガスの排気を切換弁により順
    次切り換えながら被処理ガスを脱臭処理する蓄熱式脱臭
    装置において、前記蓄熱室内に複数の蓄熱体を処理ガス
    の流れ方向に所定間隔をもって配設し、かつ、これら蓄
    熱体のうち、処理ガスの流れ方向最上流の蓄熱体を除く
    少なくとも1つの蓄熱体に処理ガスの流れ方向に該蓄熱
    体を迂回するバイパス通路を設けるとともに、該バイパ
    ス通路に封止弁を設け、前記バイパス通路を通過する処
    理ガスの通過量を調節してバイパス通路を有する蓄熱体
    の蓄熱量を調節可能としたことを特徴とする蓄熱式脱臭
    装置。
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