JP2002146513A - ガス加熱による浸炭処理装置 - Google Patents
ガス加熱による浸炭処理装置Info
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- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F27D99/0001—Heating elements or systems
- F27D99/0033—Heating elements or systems using burners
- F27D99/0035—Heating indirectly through a radiant surface
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
- C21D1/773—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material under reduced pressure or vacuum
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/20—Carburising
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガスを加熱出力源として利用するモジュラ浸
炭装置を提供する。 【解決手段】 鋼鉄部品を熱処理するための低圧力セル
及び装置において、該セルは、密閉したチャンバの有効
な容積の周りに分布するいくつかの放射ガスチューブか
ら成る加熱手段と、加熱手段の少なくとも一つのパルス
調整モードを備える制御手段を含む。
炭装置を提供する。 【解決手段】 鋼鉄部品を熱処理するための低圧力セル
及び装置において、該セルは、密閉したチャンバの有効
な容積の周りに分布するいくつかの放射ガスチューブか
ら成る加熱手段と、加熱手段の少なくとも一つのパルス
調整モードを備える制御手段を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は鉄鋼部品の加工に関
し、より詳細には熱浸炭処理法、つまり部品の硬度を改
良するために部品表面に炭素を導入する方法に関する。
より詳細には、本発明は真空または大気圧より気圧の低
い低ガス圧力での浸炭処理装置に関する。
し、より詳細には熱浸炭処理法、つまり部品の硬度を改
良するために部品表面に炭素を導入する方法に関する。
より詳細には、本発明は真空または大気圧より気圧の低
い低ガス圧力での浸炭処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】低圧力浸炭処理法では、空気漏れのない
チャンバにおいて、加工する部品に二つのステップを交
互に選択して実施する。即ち、低圧力浸炭ガスが存在す
る場合の濃縮のステップと、真空または中性低気圧での
拡散のステップを選択する。濃縮ステップおよび拡散ス
テップの回数とそれぞれの時間は、所望の炭素濃度と部
品内の容器の深さによって決定し、このような加工方法
は従来技術において既知である。低圧力浸炭処理法の例
は本出願人による仏国特許出願番号２，６７８，２８７
に説明されている。浸炭処理法は一般に８００℃から１
０００℃、またはそれ以上の高温での熱処理であり、拡
散ステップ及び濃縮ステップにおいて、部品の加熱と、
部品温度の均一維持が浸炭処理の重要な鍵である。
チャンバにおいて、加工する部品に二つのステップを交
互に選択して実施する。即ち、低圧力浸炭ガスが存在す
る場合の濃縮のステップと、真空または中性低気圧での
拡散のステップを選択する。濃縮ステップおよび拡散ス
テップの回数とそれぞれの時間は、所望の炭素濃度と部
品内の容器の深さによって決定し、このような加工方法
は従来技術において既知である。低圧力浸炭処理法の例
は本出願人による仏国特許出願番号２，６７８，２８７
に説明されている。浸炭処理法は一般に８００℃から１
０００℃、またはそれ以上の高温での熱処理であり、拡
散ステップ及び濃縮ステップにおいて、部品の加熱と、
部品温度の均一維持が浸炭処理の重要な鍵である。
【０００３】本発明はまた、一般的にアンモニアが加え
られる浸炭窒化に関する。浸炭窒化と浸炭との違いは使
用される濃縮ガスの違いのみである。浸炭においてはカ
ーバイドを形成するが、その代わりに、この既知の浸炭
窒化においては部品表面に窒化物を形成する。従って、
浸炭に関する後述の説明は浸炭窒化にも適用する。
られる浸炭窒化に関する。浸炭窒化と浸炭との違いは使
用される濃縮ガスの違いのみである。浸炭においてはカ
ーバイドを形成するが、その代わりに、この既知の浸炭
窒化においては部品表面に窒化物を形成する。従って、
浸炭に関する後述の説明は浸炭窒化にも適用する。
【０００４】一般的に浸炭チャンバは、１立方メートル
または数立法メートルの容積を確定し、その容積は電気
加熱手段によって加熱され、浸炭温度で維持される。実
際、バー形式の電気抵抗が使用され、電気抵抗は所望の
熱分布とチャンバ構造に連接している熱ブリッジに基づ
いて、浸炭容積の周辺、即ち浸炭チャンバの周りに分布
する。
または数立法メートルの容積を確定し、その容積は電気
加熱手段によって加熱され、浸炭温度で維持される。実
際、バー形式の電気抵抗が使用され、電気抵抗は所望の
熱分布とチャンバ構造に連接している熱ブリッジに基づ
いて、浸炭容積の周辺、即ち浸炭チャンバの周りに分布
する。
【０００５】好ましくは、浸炭チャンバの加熱用に、電
気に代わる別のエネルギーが使用される。
気に代わる別のエネルギーが使用される。
【０００６】第一に考えられるエネルギーはガスであ
る。ガスは不純物がなく安価なエネルギーである。しか
しながら、特に低圧力装置において浸炭チャンバを加熱
するためにガスを使用すると多くの問題を生じ、現在に
至るまで電気による加熱が好まれて使用されてきた。
る。ガスは不純物がなく安価なエネルギーである。しか
しながら、特に低圧力装置において浸炭チャンバを加熱
するためにガスを使用すると多くの問題を生じ、現在に
至るまで電気による加熱が好まれて使用されてきた。
【０００７】第一の問題はガスバーナーそのものの構造
と関係している。ガスバーナーはチャンバの内部スペー
スを加熱し、その際チャンバ内部にガス燃焼の煙を全く
導入してはならない。これに関し、浸炭チャンバの寸法
が大きいために、バーナーに必要な長さは、チャンバ内
の熱分布の点から見て重大な問題である。
と関係している。ガスバーナーはチャンバの内部スペー
スを加熱し、その際チャンバ内部にガス燃焼の煙を全く
導入してはならない。これに関し、浸炭チャンバの寸法
が大きいために、バーナーに必要な長さは、チャンバ内
の熱分布の点から見て重大な問題である。
【０００８】適切な使用におけるガスバーナーシステム
は例えば、仏国特許出願番号２，６１６，５２０に説明
されるシステムに相当する。このバーナーシステムは、
密閉した外囲器と、燃焼チャンバの境界決定をする中央
炉チューブから形成される。このようなシステムは燃焼
済みのガスの再循環を用い、ガスを高速で排出すること
ができる。このバーナーシステムは、仏国特許出願番号
２，６１６，５１８に説明される型の内部チューブと組
み合わせることができる。上記公報のそれぞれの内容は
参考として組み込まれている。
は例えば、仏国特許出願番号２，６１６，５２０に説明
されるシステムに相当する。このバーナーシステムは、
密閉した外囲器と、燃焼チャンバの境界決定をする中央
炉チューブから形成される。このようなシステムは燃焼
済みのガスの再循環を用い、ガスを高速で排出すること
ができる。このバーナーシステムは、仏国特許出願番号
２，６１６，５１８に説明される型の内部チューブと組
み合わせることができる。上記公報のそれぞれの内容は
参考として組み込まれている。
【０００９】浸炭チャンバ、特に低圧力チャンバの加熱
用ガスチューブの使用に関する別の問題点は、これらの
チューブのバルクと関係がある。これらのチューブのバ
ルクは、電気抵抗バーのバルクよりも実質的に大きい。
このようなバルクでは、チャンバの有効な容積の周辺に
ガスチューブを適切に分布できず、従って均一な温度分
布を得ることができない。
用ガスチューブの使用に関する別の問題点は、これらの
チューブのバルクと関係がある。これらのチューブのバ
ルクは、電気抵抗バーのバルクよりも実質的に大きい。
このようなバルクでは、チャンバの有効な容積の周辺に
ガスチューブを適切に分布できず、従って均一な温度分
布を得ることができない。
【００１０】別の問題点は、使用済み加熱ソースの熱出
力を調整する必要がある点である。実際、浸炭される部
品のバッチは先ず浸炭高温度にしなければならず、続い
て浸炭につながるステップの間、この温度を均一に維持
しなければならない。電気システムでは、熱要素の電流
を調節することによって温度調整を特に容易に実施でき
るが、このような解決策はガスバーナーに置き換えるこ
とはできない。
力を調整する必要がある点である。実際、浸炭される部
品のバッチは先ず浸炭高温度にしなければならず、続い
て浸炭につながるステップの間、この温度を均一に維持
しなければならない。電気システムでは、熱要素の電流
を調節することによって温度調整を特に容易に実施でき
るが、このような解決策はガスバーナーに置き換えるこ
とはできない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
の問題点を克服できるガス加熱による浸炭セルを提供す
ることである。
の問題点を克服できるガス加熱による浸炭セルを提供す
ることである。
【００１２】本発明の別の目的は、浸炭セル周辺での加
熱手段の電流分布と互換性のある解決策を提供すること
である。
熱手段の電流分布と互換性のある解決策を提供すること
である。
【００１３】本発明の別の目的は、ガスを加熱出力源と
して利用するモジュラ浸炭装置を提供することである。
して利用するモジュラ浸炭装置を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】これらの目的を達成する
ため本発明は、鋼鉄部品を熱処理するための低圧力セル
を提供し、該セルは、密閉したチャンバの有効な容積の
周りに分布するいくつかの放射ガスチューブから成る加
熱手段と、加熱手段の少なくとも一つのパルス調整モー
ドを有する制御手段を含む。
ため本発明は、鋼鉄部品を熱処理するための低圧力セル
を提供し、該セルは、密閉したチャンバの有効な容積の
周りに分布するいくつかの放射ガスチューブから成る加
熱手段と、加熱手段の少なくとも一つのパルス調整モー
ドを有する制御手段を含む。
【００１５】本発明の実施形態によると、制御手段は全
出力予熱の動作段階と、パルス調整での温度保持の動作
段階のそれぞれ二つの動作段階に従って、加熱手段を制
御するように適合される。
出力予熱の動作段階と、パルス調整での温度保持の動作
段階のそれぞれ二つの動作段階に従って、加熱手段を制
御するように適合される。
【００１６】本発明の実施形態によると、制御手段は、
予熱のための最大レベルとパルス調整のための中間レベ
ルのそれぞれ二つのレベルの間のガス流動を修正するよ
うに適合される。
予熱のための最大レベルとパルス調整のための中間レベ
ルのそれぞれ二つのレベルの間のガス流動を修正するよ
うに適合される。
【００１７】本発明の実施形態によると、全ての放射ガ
スチューブは、個別にまたはグループで制御される。
スチューブは、個別にまたはグループで制御される。
【００１８】本発明の実施形態によると、制御手段は異
なるチューブへ送信する制御信号を個別化するための、
プログラマブル状態装置を含む。
なるチューブへ送信する制御信号を個別化するための、
プログラマブル状態装置を含む。
【００１９】本発明はまた、低圧力で鉄鋼部品を熱処理
するための装置を提供し、該装置は共通の密閉したチャ
ンバに接続された、いくつかの熱処理セルを含み、チャ
ンバは負荷をセルからセルへ移動させるためのハンドリ
ング手段を有し、少なくとも一つのセルは前述した型の
セルである。
するための装置を提供し、該装置は共通の密閉したチャ
ンバに接続された、いくつかの熱処理セルを含み、チャ
ンバは負荷をセルからセルへ移動させるためのハンドリ
ング手段を有し、少なくとも一つのセルは前述した型の
セルである。
【００２０】本発明の実施形態によると、少なくとも一
つのセルは浸炭処理する負荷の予熱専用のセルであり、
また少なくとも一つのセルは浸炭セルである。
つのセルは浸炭処理する負荷の予熱専用のセルであり、
また少なくとも一つのセルは浸炭セルである。
【００２１】本発明の実施形態によると、浸炭セルはパ
ルス調整モードで制御されるように適合されたガス加熱
手段を有する。
ルス調整モードで制御されるように適合されたガス加熱
手段を有する。
【００２２】本発明の目的、特徴、及び利点は、特定の
実施形態に関する非限定の説明において、添付の図面と
関連して論じられる。
実施形態に関する非限定の説明において、添付の図面と
関連して論じられる。
【００２３】
【発明の実施の形態】明白化のため、図２は寸法を規定
しない。更に、本発明の理解に必要な要素のみ図示し、
これより説明する。特に、図３においては装置の多重セ
ル構造のみを示し、従来技術のセルの要素を成す詳細に
ついては言及しない限り考察はしない。
しない。更に、本発明の理解に必要な要素のみ図示し、
これより説明する。特に、図３においては装置の多重セ
ル構造のみを示し、従来技術のセルの要素を成す詳細に
ついては言及しない限り考察はしない。
【００２４】本発明の特徴は、予熱段階の後の少なくと
も温度保持段階の間、熱処理セルのガスバーナーのパル
ス制御を提供することである。従って本発明によると、
前述の仏国特許出願番号２，６１６，５２０に説明され
る型のガスバーナーが使用され、これらのバーナーは少
なくとも予熱段階の後、制御されてパルス調整を得る。
も温度保持段階の間、熱処理セルのガスバーナーのパル
ス制御を提供することである。従って本発明によると、
前述の仏国特許出願番号２，６１６，５２０に説明され
る型のガスバーナーが使用され、これらのバーナーは少
なくとも予熱段階の後、制御されてパルス調整を得る。
【００２５】バーナーのガス流動を調節し、出力を適合
してパルス調整を得るように工夫することも可能であっ
た。しかしながら、低ガス流動ではそのような解決策
は、バーナー内の煙の排気口に関する問題を生じてしま
う。事実、一般的にバーナーは与えられた流動範囲で最
適な煙の排気には適合するが、極めて低いガス流動での
動作ではチューブでの均一な温度分布も、正常な煙の出
力回復も得ることができない。更にこれにより炎の安定
性の問題も生じ得る。
してパルス調整を得るように工夫することも可能であっ
た。しかしながら、低ガス流動ではそのような解決策
は、バーナー内の煙の排気口に関する問題を生じてしま
う。事実、一般的にバーナーは与えられた流動範囲で最
適な煙の排気には適合するが、極めて低いガス流動での
動作ではチューブでの均一な温度分布も、正常な煙の出
力回復も得ることができない。更にこれにより炎の安定
性の問題も生じ得る。
【００２６】チューブ加熱出力の均一性を改良するため
に、好ましくは、バーナーの動作モードによって空気流
動及びガス流動の二つの流動間で切替えが実施される。
従って、所謂空気及びガスの二重流動バーナーが提供さ
れる。このバーナーによって、予熱段階のための第一の
最大流動動作と、調整段階のための第二の中間流動動作
が可能になる。本発明によると、中間ガス流動はバーナ
ーの最小流動に相当しないので、二つの流動はバーナー
内の煙を正常に回復すると共に、温度均一性を提供する
ことができる。
に、好ましくは、バーナーの動作モードによって空気流
動及びガス流動の二つの流動間で切替えが実施される。
従って、所謂空気及びガスの二重流動バーナーが提供さ
れる。このバーナーによって、予熱段階のための第一の
最大流動動作と、調整段階のための第二の中間流動動作
が可能になる。本発明によると、中間ガス流動はバーナ
ーの最小流動に相当しないので、二つの流動はバーナー
内の煙を正常に回復すると共に、温度均一性を提供する
ことができる。
【００２７】図１は本発明の実施形態を示す図である。
この図は熱処理セルを極めて部分的に示す図であり、単
一のガスバーナー１とセル内のガスバーナーの制御シス
テム２が示されている。
この図は熱処理セルを極めて部分的に示す図であり、単
一のガスバーナー１とセル内のガスバーナーの制御シス
テム２が示されている。
【００２８】ガスバーナー１は本質的に外部放射外囲器
１０で形成され、外囲器１０は真空密閉システム１１を
介して熱処理セルの壁１２と交差する、グラブフィンガ
の形状を有する。ガスバーナーはまた、外囲器１０の内
部にちょうど納まるチューブ１３も含む。チューブ１３
の第一の末端は、浸炭セル内の外囲器１０の末端に近接
している。チューブ１３の第二の末端は、燃焼チャンバ
１４の排気口に向けて開いており、燃焼チャンバ内で空
気とバーナー用のガスが混ぜられる。図１の矢印で示す
ように、バーナーは好ましくは、煙再循環バーナーであ
り、即ち燃焼煙の一部がチューブ１３の吸気口に再導入
されるように使用され、残りの煙はセル外部に位置する
外囲器１０の通気孔１５を通って排出される。明白化の
ため、バーナーは極めて概略的に図示され、特に点火手
段は図示しない。チャンバ１４は少なくとも一つのガス
供給１６と少なくとも一つの空気供給１７を含む。一般
的には、複数の空気供給が備えられ、より均一にガスと
空気が混合され燃焼される。空気供給ダクト１６及び１
７は浸炭セルの外部に位置する外囲器１０の外へ延び
る。
１０で形成され、外囲器１０は真空密閉システム１１を
介して熱処理セルの壁１２と交差する、グラブフィンガ
の形状を有する。ガスバーナーはまた、外囲器１０の内
部にちょうど納まるチューブ１３も含む。チューブ１３
の第一の末端は、浸炭セル内の外囲器１０の末端に近接
している。チューブ１３の第二の末端は、燃焼チャンバ
１４の排気口に向けて開いており、燃焼チャンバ内で空
気とバーナー用のガスが混ぜられる。図１の矢印で示す
ように、バーナーは好ましくは、煙再循環バーナーであ
り、即ち燃焼煙の一部がチューブ１３の吸気口に再導入
されるように使用され、残りの煙はセル外部に位置する
外囲器１０の通気孔１５を通って排出される。明白化の
ため、バーナーは極めて概略的に図示され、特に点火手
段は図示しない。チャンバ１４は少なくとも一つのガス
供給１６と少なくとも一つの空気供給１７を含む。一般
的には、複数の空気供給が備えられ、より均一にガスと
空気が混合され燃焼される。空気供給ダクト１６及び１
７は浸炭セルの外部に位置する外囲器１０の外へ延び
る。
【００２９】チャンバの壁１２に関しバーナー１は、好
ましくはチューブ１３全体が浸炭セルの内部容積内に包
含されるように位置する。しかしながら、チューブ１３
全体は好ましくは、浸炭チャンバの所謂高温容積には包
含されない。高温容積は一般的に熱スクリーンによって
境界決定され、同図において点線１８で示す。同様にチ
ャンバ１４自体もセルの内部容積内に位置するが、好ま
しくは、高温容積の外部に位置する。バーナー１は、高
温容積内にあるチューブ１３の部分が温度に関して均一
になるように、位置が選択される。本発明の実施形態で
は、チャンバの壁１２に関して外囲器１０を含むバーナ
ー全体を偏移させることによって、バーナーの位置を調
節し、それによりチューブ１３の吸気口の位置を熱スク
リーン１８に関して調節する。
ましくはチューブ１３全体が浸炭セルの内部容積内に包
含されるように位置する。しかしながら、チューブ１３
全体は好ましくは、浸炭チャンバの所謂高温容積には包
含されない。高温容積は一般的に熱スクリーンによって
境界決定され、同図において点線１８で示す。同様にチ
ャンバ１４自体もセルの内部容積内に位置するが、好ま
しくは、高温容積の外部に位置する。バーナー１は、高
温容積内にあるチューブ１３の部分が温度に関して均一
になるように、位置が選択される。本発明の実施形態で
は、チャンバの壁１２に関して外囲器１０を含むバーナ
ー全体を偏移させることによって、バーナーの位置を調
節し、それによりチューブ１３の吸気口の位置を熱スク
リーン１８に関して調節する。
【００３０】好ましくは、熱処理セルの全てのガスバー
ナーは同じ調整システム２によって制御される。システ
ム２は後述するように、本質的に一つ又は複数の電子調
整回路（ＲＥＧ）２０と、該回路２０によって、あるい
はプログラマブル状態装置３０（ＡＵＴＯ）によって制
御されるバルブ網２１を含む。調整機能を確保するた
め、回路２０は測定信号及び制御信号２２を受信する。
測定信号は本質的に、浸炭チャンバ内の少なくとも一つ
の温度センサによって送信される測定結果から成る。制
御信号は、オペレータによってアクセス可能な制御ユニ
ットから送信される。調整回路２０（または状態装置３
０）は、ガスバーナーへ制御信号２３を送信し、それぞ
れ点火または消火をする。
ナーは同じ調整システム２によって制御される。システ
ム２は後述するように、本質的に一つ又は複数の電子調
整回路（ＲＥＧ）２０と、該回路２０によって、あるい
はプログラマブル状態装置３０（ＡＵＴＯ）によって制
御されるバルブ網２１を含む。調整機能を確保するた
め、回路２０は測定信号及び制御信号２２を受信する。
測定信号は本質的に、浸炭チャンバ内の少なくとも一つ
の温度センサによって送信される測定結果から成る。制
御信号は、オペレータによってアクセス可能な制御ユニ
ットから送信される。調整回路２０（または状態装置３
０）は、ガスバーナーへ制御信号２３を送信し、それぞ
れ点火または消火をする。
【００３１】本発明によると、回路２０はガスバルブ網
及び空気バルブ網２１も制御する。このバルブ網は、異
なるバーナーのそれぞれガス流動及び空気流動を制御す
るのに使用される。
及び空気バルブ網２１も制御する。このバルブ網は、異
なるバーナーのそれぞれガス流動及び空気流動を制御す
るのに使用される。
【００３２】図１を簡素にするため、バルブ網２１にお
いてガスダクト及び空気ダクトは単線様式で図示してい
る。図１に示すバルブ構造は好ましくはバーナーごとに
再現される。
いてガスダクト及び空気ダクトは単線様式で図示してい
る。図１に示すバルブ構造は好ましくはバーナーごとに
再現される。
【００３３】図１に示す実施例において、主要ガス供給
ダクト２４は二つのダクト２５及び２６に分配され、二
つのダクト２５及び２６はそれぞれ流動リミッター２５
−１及び２６−１と組み合わせられる。本発明による
と、ダクト２５及び２６は異なる流動を有する。例えば
ダクト２５はリミッター２５−１と組み合わせられ、少
なくとも一つの予熱段階の間、バーナー動作のための最
大ガス流動を最大出力で提供する。ダクト２６はリミッ
ター２６−１と組み合わせられ、本発明のパルス段階
で、バーナー動作のための小さなガス流動を提供する。
空気回路側では、主要ダクト２７は、リミッター２８−
１及び２９−１にそれぞれ組み合わせられた二つのダク
ト２８及び２９に分割され、その機能は上述したガス供
給に関する機能と同様である。リミッター２５−１、２
６−１、２８−１、及び２９−１によって割り当てられ
る流動は、好ましくは予め設定されている。
ダクト２４は二つのダクト２５及び２６に分配され、二
つのダクト２５及び２６はそれぞれ流動リミッター２５
−１及び２６−１と組み合わせられる。本発明による
と、ダクト２５及び２６は異なる流動を有する。例えば
ダクト２５はリミッター２５−１と組み合わせられ、少
なくとも一つの予熱段階の間、バーナー動作のための最
大ガス流動を最大出力で提供する。ダクト２６はリミッ
ター２６−１と組み合わせられ、本発明のパルス段階
で、バーナー動作のための小さなガス流動を提供する。
空気回路側では、主要ダクト２７は、リミッター２８−
１及び２９−１にそれぞれ組み合わせられた二つのダク
ト２８及び２９に分割され、その機能は上述したガス供
給に関する機能と同様である。リミッター２５−１、２
６−１、２８−１、及び２９−１によって割り当てられ
る流動は、好ましくは予め設定されている。
【００３４】本発明によると、ダクト２５、２６、２
８、２９のそれぞれは、制御バルブ２５−２、２６−
２、２８−２、２９−２の全てに組み合わせられるか、
または全く組み合わせられない。好ましくはバルブ２６
−２及び２９−２は、パルス段階で回路２０（または状
態装置３０）から送信される信号３２によって同時に制
御される。好ましくはバルブ２５−２および２８−２
は、回路２０または状態装置３０からの信号３３によっ
て同時に制御される。ダクト２５、２６、２８、２９の
末端は、それぞれ反対側の末端に接続される。
８、２９のそれぞれは、制御バルブ２５−２、２６−
２、２８−２、２９−２の全てに組み合わせられるか、
または全く組み合わせられない。好ましくはバルブ２６
−２及び２９−２は、パルス段階で回路２０（または状
態装置３０）から送信される信号３２によって同時に制
御される。好ましくはバルブ２５−２および２８−２
は、回路２０または状態装置３０からの信号３３によっ
て同時に制御される。ダクト２５、２６、２８、２９の
末端は、それぞれ反対側の末端に接続される。
【００３５】本発明によるガスバーナーシステムの動作
を図２に関して説明する。図２は信号３３、信号３２及
びそれに相当するガスバーナーの瞬時出力Ｐの例を時間
図表形式で表す図である。
を図２に関して説明する。図２は信号３３、信号３２及
びそれに相当するガスバーナーの瞬時出力Ｐの例を時間
図表形式で表す図である。
【００３６】図２の実施形態において、バーナーは最初
に予熱段階（時間ｔ０からｔ１）にて最大出力で使用さ
れる。つまり最大ガス流量と最大空気流量で使用され
る。この予熱段階の間、バルブ２５−２と２８−２は最
大流量で開放され、最大流量は全てのリミッターの流量
合計に設定して提供される。この場合、バルブ２６−２
と２９−２も開放される。続いて好ましくは中間段階が
提供される（時間ｔ１からｔ２）。中間段階の間、バー
ナー出力はパルス調整されていない低流量に切換わる。
これを実施するため、バーナー１は時間ｔ１からは中間
出力で動作する。従って制御信号３３はバルブ２５−２
と２８−２を閉じるようにスイッチし、信号３２はバル
ブ２６−２と２９−２を（まだ開いていなければ）開く
ようにスイッチする。時間ｔ１は、所望の調整温度より
も低い温度基準点に接近することによって決定される。
時間ｔ１とｔ２の間の中間段階は特に、システム慣性の
原因による温度基準点の超過を回避するのに使うことが
できる。
に予熱段階（時間ｔ０からｔ１）にて最大出力で使用さ
れる。つまり最大ガス流量と最大空気流量で使用され
る。この予熱段階の間、バルブ２５−２と２８−２は最
大流量で開放され、最大流量は全てのリミッターの流量
合計に設定して提供される。この場合、バルブ２６−２
と２９−２も開放される。続いて好ましくは中間段階が
提供される（時間ｔ１からｔ２）。中間段階の間、バー
ナー出力はパルス調整されていない低流量に切換わる。
これを実施するため、バーナー１は時間ｔ１からは中間
出力で動作する。従って制御信号３３はバルブ２５−２
と２８−２を閉じるようにスイッチし、信号３２はバル
ブ２６−２と２９−２を（まだ開いていなければ）開く
ようにスイッチする。時間ｔ１は、所望の調整温度より
も低い温度基準点に接近することによって決定される。
時間ｔ１とｔ２の間の中間段階は特に、システム慣性の
原因による温度基準点の超過を回避するのに使うことが
できる。
【００３７】時間ｔ２からは浸炭チャンバ温度の保持動
作が実施される。この時間よりパルスされた調整信号３
２は、信号２２を通して回路２０によって受信されたパ
ラメータに従って、バルブ２６−２と２９−２のそれぞ
れの開放時間を適合させる。図２の実施例において、時
間ｔ２からｔ３の間にバーナーに要求される出力は比較
的高く、そしてその出力に必要なパルスは比較的長い、
と仮定する。この段階では例えば、バーナー出力の最大
レベルと中間レベルの間の変化を適合することができ
る。時間ｔ３から実際の調整段階が始まり、ここでバー
ナー点火パルスの使用率（デューティーサイクル）は浸
炭チャンバ内の温度変化のみによって決まる。その温度
は例えば、浸炭処理によって起こる修正またはセル内の
負荷の移動によって変化する。図２の時間ｔ４からは、
出力の減少が必要な段階を図示している。
作が実施される。この時間よりパルスされた調整信号３
２は、信号２２を通して回路２０によって受信されたパ
ラメータに従って、バルブ２６−２と２９−２のそれぞ
れの開放時間を適合させる。図２の実施例において、時
間ｔ２からｔ３の間にバーナーに要求される出力は比較
的高く、そしてその出力に必要なパルスは比較的長い、
と仮定する。この段階では例えば、バーナー出力の最大
レベルと中間レベルの間の変化を適合することができ
る。時間ｔ３から実際の調整段階が始まり、ここでバー
ナー点火パルスの使用率（デューティーサイクル）は浸
炭チャンバ内の温度変化のみによって決まる。その温度
は例えば、浸炭処理によって起こる修正またはセル内の
負荷の移動によって変化する。図２の時間ｔ４からは、
出力の減少が必要な段階を図示している。
【００３８】バーナーのそれぞれ点火時間及び消火時間
は、特にチャンバ内のバーナーの配列とその構造によっ
て確定される。
は、特にチャンバ内のバーナーの配列とその構造によっ
て確定される。
【００３９】別の実施例としては、バーナーは全出力動
作においてもパルスされた状態で制御することが可能で
ある。
作においてもパルスされた状態で制御することが可能で
ある。
【００４０】チャンバ内の全てのバーナーに同時に点火
することは可能であるが、好ましくは浸炭セルの異なる
バーナーは個別に制御される。例えば、加熱する負荷を
支持する脚部によって形成される熱ブリッジの近くに位
置するバーナーは、点火時間が長くかかる。この場合、
状態装置３０は例えば、連続的にバーナー点火を行い、
点火パルスの時間を異なるバーナーに適合させることに
よって、別のバーナー（図示せず）の信号３２´と３３
´を個別に制御する。状態装置３０は予め確定された動
作を有し、特に調整装置から送信された制御信号３４及
び３５を受信する。これらの制御信号は全てのバーナー
に共通である。状態装置はこれらの信号を異なるバーナ
ーに適合させるのに用いられる。
することは可能であるが、好ましくは浸炭セルの異なる
バーナーは個別に制御される。例えば、加熱する負荷を
支持する脚部によって形成される熱ブリッジの近くに位
置するバーナーは、点火時間が長くかかる。この場合、
状態装置３０は例えば、連続的にバーナー点火を行い、
点火パルスの時間を異なるバーナーに適合させることに
よって、別のバーナー（図示せず）の信号３２´と３３
´を個別に制御する。状態装置３０は予め確定された動
作を有し、特に調整装置から送信された制御信号３４及
び３５を受信する。これらの制御信号は全てのバーナー
に共通である。状態装置はこれらの信号を異なるバーナ
ーに適合させるのに用いられる。
【００４１】異なるバーナーは、所望の熱均一性に従っ
て浸炭セル内に分布する。例えば好ましくは、浸炭セル
のボトム即ち負荷を支持する脚部付近に、均等速度の、
または加熱時間の長い、大きな出力を有し、垂直均一性
を改良する。セルの縦方向（バーナーの縦方向）におけ
る熱均一性は本質的に、中間周波数の選択によって調整
される。その中間周波数はバーナーの長さの関数であ
り、従ってチャンバ容積の関数である。
て浸炭セル内に分布する。例えば好ましくは、浸炭セル
のボトム即ち負荷を支持する脚部付近に、均等速度の、
または加熱時間の長い、大きな出力を有し、垂直均一性
を改良する。セルの縦方向（バーナーの縦方向）におけ
る熱均一性は本質的に、中間周波数の選択によって調整
される。その中間周波数はバーナーの長さの関数であ
り、従ってチャンバ容積の関数である。
【００４２】別の実施例としては、バーナーをグループ
で制御することも可能である。
で制御することも可能である。
【００４３】図３は本発明の適用する浸炭セルのモジュ
ラ装置の一例を示す図である。図３の実施形態は、本出
願人による既知の欧州特許出願番号０，９２２，７７８
に説明するモジュラ装置から示唆されている。
ラ装置の一例を示す図である。図３の実施形態は、本出
願人による既知の欧州特許出願番号０，９２２，７７８
に説明するモジュラ装置から示唆されている。
【００４４】ベース装置４０は、横軸を有するシリンダ
ー形状をした密閉したチャンバ４１を含む。シリンダー
は必ずしも環状ではない。フランジを有するシリンダー
４１の二つの末端は、取り外し可能な密閉カバー４２に
よって閉じられている。熱処理セルは側面においてシリ
ンダー４１に接続され、同じ平面上に位置する。例えば
浸炭する二つの負荷を含むための二つの熱処理セル４３
及び４４は、互いにそれぞれの前に配列され、シリンダ
ー４１を形成する第一の移動ケーソン４１−１に接続さ
れる。負荷セル４５は急冷セル４６の前に配列され、こ
れらのセルは第二の移動ケーソン４１−２に接続され
る。ケーソン４１−２自体は軸方向にケーソン４１−１
に接続される。
ー形状をした密閉したチャンバ４１を含む。シリンダー
は必ずしも環状ではない。フランジを有するシリンダー
４１の二つの末端は、取り外し可能な密閉カバー４２に
よって閉じられている。熱処理セルは側面においてシリ
ンダー４１に接続され、同じ平面上に位置する。例えば
浸炭する二つの負荷を含むための二つの熱処理セル４３
及び４４は、互いにそれぞれの前に配列され、シリンダ
ー４１を形成する第一の移動ケーソン４１−１に接続さ
れる。負荷セル４５は急冷セル４６の前に配列され、こ
れらのセルは第二の移動ケーソン４１−２に接続され
る。ケーソン４１−２自体は軸方向にケーソン４１−１
に接続される。
【００４５】ハンドリング装置はトロリ４８の形状を
し、トロリ４８は一つの移動ケーソンから別の移動ケー
ソンへ、シリンダー４１の軸に平行に移動する。このト
ロリは例えばシリンダー４１全長にわたって延びるレー
ル５０の上を移動する。トロリには伸縮自在フォーク５
２が備えられ、フォーク５２はトロリ４８の両側に延び
てセル４３から４６のそれぞれ中心まで達し、処理中の
負荷５４をそこから取り出したり、そこへ配置したりす
る。図３において、トロリ４８は全てのラインにわたっ
てセル４５及び４６の高さに位置し、伸縮自在フォーク
５２はセル４５に侵入し、そこから負荷５４を取り出
す。セル４５はもちろんチャンバ４１の低圧力の中に事
前に置かれ、外部扉４５−２と共に吸気口ロックを形成
する扉４５−１を開放する。点線において、トロリ４８
はセル４３及び４４の高さに位置する。図３の装置はモ
ジュラである。即ち、一つまたは複数の付加装置６０は
それぞれ、レール５０´に備えられる移動ケーソン４１
−３と一つまたは二つのセル４３´から成り、該装置６
０はケーソン４１−１または４１−２のどちらか一方と
軸方向に接続され、シリンダー４１を完成することがで
きる。
し、トロリ４８は一つの移動ケーソンから別の移動ケー
ソンへ、シリンダー４１の軸に平行に移動する。このト
ロリは例えばシリンダー４１全長にわたって延びるレー
ル５０の上を移動する。トロリには伸縮自在フォーク５
２が備えられ、フォーク５２はトロリ４８の両側に延び
てセル４３から４６のそれぞれ中心まで達し、処理中の
負荷５４をそこから取り出したり、そこへ配置したりす
る。図３において、トロリ４８は全てのラインにわたっ
てセル４５及び４６の高さに位置し、伸縮自在フォーク
５２はセル４５に侵入し、そこから負荷５４を取り出
す。セル４５はもちろんチャンバ４１の低圧力の中に事
前に置かれ、外部扉４５−２と共に吸気口ロックを形成
する扉４５−１を開放する。点線において、トロリ４８
はセル４３及び４４の高さに位置する。図３の装置はモ
ジュラである。即ち、一つまたは複数の付加装置６０は
それぞれ、レール５０´に備えられる移動ケーソン４１
−３と一つまたは二つのセル４３´から成り、該装置６
０はケーソン４１−１または４１−２のどちらか一方と
軸方向に接続され、シリンダー４１を完成することがで
きる。
【００４６】上述のような本発明の適用するモジュラ装
置の第一様態によると、セル４３、４３´及び４４は通
常前に述べたようにガス加熱による浸炭処理セルであ
る。
置の第一様態によると、セル４３、４３´及び４４は通
常前に述べたようにガス加熱による浸炭処理セルであ
る。
【００４７】本発明の適用するモジュラ装置の第二様態
及び本発明の第二実施形態によると、浸炭する負荷の予
熱動作は、温度保持動作とは切り離される。これを実施
するため、例えば図３のセル４４のようなセルの一つ
が、浸炭する全ての負荷の予熱に割り当てられる。次い
でこのセルにガスバーナーが装備され、浸炭する負荷を
作動温度に近い温度、例えば６００℃から８００℃の温
度まで上昇させる。次に負荷は別の浸炭セル４３及び４
３´に移され、そこでは異なる部品の温度を維持し均一
にするためだけに必要な、加熱動作が実施される。従っ
て加熱手段の使用が最適化される。浸炭セル４３及び４
３´で使用される加熱手段は電気手段でも可能だが、予
熱セル４４はガス手段である。しかしながら本発明の実
施形態によると、温度保持動作のみ実施される浸炭セル
内でもガスバーナーは使用される。この場合、第一の型
のバーナーを用いた予熱セルと、第一のバーナーより出
力の弱い第二の型のバーナーまたは第一と同じ型だが流
量の少ないバーナーを用いた浸炭セル、を提供すること
が可能である。予熱機能と温度保持機能を切り離す利点
は、これによりバーナーが二つの機能のうち単一機能専
用に使用でき、その一方バーナー全てが最大出力で動作
可能になる点である。従って、二重ガス流動の構造は二
つの型のバーナーを備えることによって、バルクの問題
も全くなく節約することができる。次いで、少なくとも
浸炭処理セル内で固定の出力例えば最大出力で、パルス
調整によってバーナーを制御する。
及び本発明の第二実施形態によると、浸炭する負荷の予
熱動作は、温度保持動作とは切り離される。これを実施
するため、例えば図３のセル４４のようなセルの一つ
が、浸炭する全ての負荷の予熱に割り当てられる。次い
でこのセルにガスバーナーが装備され、浸炭する負荷を
作動温度に近い温度、例えば６００℃から８００℃の温
度まで上昇させる。次に負荷は別の浸炭セル４３及び４
３´に移され、そこでは異なる部品の温度を維持し均一
にするためだけに必要な、加熱動作が実施される。従っ
て加熱手段の使用が最適化される。浸炭セル４３及び４
３´で使用される加熱手段は電気手段でも可能だが、予
熱セル４４はガス手段である。しかしながら本発明の実
施形態によると、温度保持動作のみ実施される浸炭セル
内でもガスバーナーは使用される。この場合、第一の型
のバーナーを用いた予熱セルと、第一のバーナーより出
力の弱い第二の型のバーナーまたは第一と同じ型だが流
量の少ないバーナーを用いた浸炭セル、を提供すること
が可能である。予熱機能と温度保持機能を切り離す利点
は、これによりバーナーが二つの機能のうち単一機能専
用に使用でき、その一方バーナー全てが最大出力で動作
可能になる点である。従って、二重ガス流動の構造は二
つの型のバーナーを備えることによって、バルクの問題
も全くなく節約することができる。次いで、少なくとも
浸炭処理セル内で固定の出力例えば最大出力で、パルス
調整によってバーナーを制御する。
【００４８】モジュラ浸炭装置そのものの中に備えられ
る予熱セルの個数は、分布する浸炭セルの個数によって
決まる。簡素な実施形態において、第一の出力型のガス
バーナーを有する予熱セルと、第二の出力型のガスバー
ナーを有する浸炭セルが提供される。しかしながら、図
１に関して前述したような、予熱セルまたは浸炭セル用
の二重流動ガスバーナーを用いたセルも実施可能であ
る。このような実施形態により、負荷内温度の調整及び
均一性の最適化が可能になる。
る予熱セルの個数は、分布する浸炭セルの個数によって
決まる。簡素な実施形態において、第一の出力型のガス
バーナーを有する予熱セルと、第二の出力型のガスバー
ナーを有する浸炭セルが提供される。しかしながら、図
１に関して前述したような、予熱セルまたは浸炭セル用
の二重流動ガスバーナーを用いたセルも実施可能であ
る。このような実施形態により、負荷内温度の調整及び
均一性の最適化が可能になる。
【００４９】本発明はもちろん、当業者が容易に考え得
る様々な変更、修正、改良が可能である。特に、実際の
セル構造に従ってガスバーナーを浸炭セルまたは予熱セ
ルに設置することは、前述の機能的表示と適用に基づけ
ば、当業者の能力範囲内である。同様に、制御システム
（回路２０、状態装置３０及びバルブ２１）も既知の手
段を使用することによって形成可能である。更に、これ
は本発明の関連事項であるが、使用されるガスバーナー
においてガス流動と空気流動は、最大出力とパルス調整
出力に基づいて選択される。本発明はまた、本出願人に
よる欧州特許番号０，３８８，３３３に説明する型の処
理装置内でも実施可能であり、該装置においていくつか
の垂直処理セルが密閉した負荷移動チャンバの上に分布
される。このような装置をガス予熱セル、及びガス浸炭
セルまたは電気浸炭セルに適合させることは、図３の平
行装置に関する表示に基づけば当業者の能力範囲内であ
る。
る様々な変更、修正、改良が可能である。特に、実際の
セル構造に従ってガスバーナーを浸炭セルまたは予熱セ
ルに設置することは、前述の機能的表示と適用に基づけ
ば、当業者の能力範囲内である。同様に、制御システム
（回路２０、状態装置３０及びバルブ２１）も既知の手
段を使用することによって形成可能である。更に、これ
は本発明の関連事項であるが、使用されるガスバーナー
においてガス流動と空気流動は、最大出力とパルス調整
出力に基づいて選択される。本発明はまた、本出願人に
よる欧州特許番号０，３８８，３３３に説明する型の処
理装置内でも実施可能であり、該装置においていくつか
の垂直処理セルが密閉した負荷移動チャンバの上に分布
される。このような装置をガス予熱セル、及びガス浸炭
セルまたは電気浸炭セルに適合させることは、図３の平
行装置に関する表示に基づけば当業者の能力範囲内であ
る。
【図１】本発明による熱処理セル内のガスバーナーシス
テムの実施例を説明する、簡素な部分断面図である。
テムの実施例を説明する、簡素な部分断面図である。
【図２】本発明によるガスバーナー制御方法の実施例を
説明する、時間測定図表である。
説明する、時間測定図表である。
【図３】本発明を実施するモジュラ処理装置の実施例を
概略的に示す図である。
概略的に示す図である。
１ ガスバーナー ２ 制御システム １０ 外部放射外囲器 １１ 真空密閉システム １２ 壁 １３ チューブ １４ 燃焼チャンバ １５ 通気孔 １６ ガス供給 １７ 空気供給 １８ 熱スクリーン ２０ 電子調整回路 ２１ バルブ網 ２２、２３、３３、３４、３５ 制御信号 ２４ 主要ガス供給ダクト ２５、２６、２８、２９ ダクト ２７ 主要空気供給ダクト ２５−１、２６−１、２８−１、２９−１ 流動リミッ
ター ２５−２、２６−２、２８−２、２９−２ 制御バルブ ３０ プログラマブル状態装置 ３２ 調整信号 ３２´、３３´ 信号 Ｐ 同時出力 ４０ ベース装置 ４１ シリンダー ４１−１ 第一移動ケーソン ４１−２ 第二移動ケーソン ４１−３ 移動ケーソン ４２ 取り外し可能カバー ４３、４４ 熱処理セル ４３´ セル ４５ 負荷セル ４５−１ 扉 ４５−２ 外部扉 ４６ 急冷セル ４８ トロリ ５０、５０´ レール ５２ 伸縮自在フォーク ５４ 負荷 ６０ 付加装置
ター ２５−２、２６−２、２８−２、２９−２ 制御バルブ ３０ プログラマブル状態装置 ３２ 調整信号 ３２´、３３´ 信号 Ｐ 同時出力 ４０ ベース装置 ４１ シリンダー ４１−１ 第一移動ケーソン ４１−２ 第二移動ケーソン ４１−３ 移動ケーソン ４２ 取り外し可能カバー ４３、４４ 熱処理セル ４３´ セル ４５ 負荷セル ４５−１ 扉 ４５−２ 外部扉 ４６ 急冷セル ４８ トロリ ５０、５０´ レール ５２ 伸縮自在フォーク ５４ 負荷 ６０ 付加装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ローラン ペリスィエ フランス国， 38430 サン ジャン ド ゥ ムワラン， ル ルウレ Ｆターム(参考） 4K028 AA01 AC03 AC04 AC07
Claims (8)
- 【請求項１】 鋼鉄部品を熱処理するための低圧力セル
（４３、４３´、４４）において、該セルは、 密閉したチャンバの有効な容積の周りに分布するいくつ
かの放射ガスチューブから成る加熱手段（１）と、 加熱手段の少なくとも一つのパルス調整モードを備える
制御手段（２）を含むことを特徴とする、熱処理セル。 - 【請求項２】 制御手段（２）が、全出力予熱の動作段
階と、パルス調整での温度保持の動作段階のそれぞれ二
つの動作段階に従って、加熱手段を制御するように適合
されることを特徴とする、請求項１に記載の熱処理セ
ル。 - 【請求項３】 制御手段（２）が、予熱のための最大レ
ベルとパルス調整のための中間レベルのそれぞれ二つの
レベルの間のガス流動を修正するように適合されること
を特徴とする、請求項２に記載の熱処理セル。 - 【請求項４】 全ての放射ガスチューブ（１）が、個別
にまたはグループで制御されることを特徴とする、請求
項１に記載の熱処理セル。 - 【請求項５】 制御手段が、異なるチューブへ送信する
制御信号を個別化するための、プログラマブル状態装置
を含むことを特徴とする、請求項４に記載の熱処理セ
ル。 - 【請求項６】 低圧力で鉄鋼部品を熱処理するための装
置において、該装置は、共通の密閉したチャンバ（４
１）に接続された、いくつかの熱処理セル（４３、４３
´、４４´、４５、４６）を含み、該チャンバ（４１）
は負荷（５４）をセルからセルへ移動させるためのハン
ドリング手段（４８、５０、５２）を有し、少なくとも
一つのセル（４４）が請求項１に基づくセルであること
を特徴とする装置。 - 【請求項７】 該装置が、浸炭処理する負荷の予熱専用
の少なくとも一つのセル（４４）と、少なくとも一つの
浸炭セル（４３、４３´）を含むことを特徴とする、請
求項６に記載の装置。 - 【請求項８】 浸炭セル（４３、４３´）が、パルス調
整モードで制御されるように適合されたガス加熱手段を
有することを特徴とする、請求項７に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0007232A FR2809746B1 (fr) | 2000-06-06 | 2000-06-06 | Installation de cementation chauffee au gaz |
| FR0007232 | 2000-06-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002146513A true JP2002146513A (ja) | 2002-05-22 |
Family
ID=8851013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001169414A Withdrawn JP2002146513A (ja) | 2000-06-06 | 2001-06-05 | ガス加熱による浸炭処理装置 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6627145B2 (ja) |
| EP (1) | EP1162279B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002146513A (ja) |
| CN (1) | CN1328171A (ja) |
| AT (1) | ATE302290T1 (ja) |
| CA (1) | CA2350004A1 (ja) |
| DE (1) | DE60112657T9 (ja) |
| FR (1) | FR2809746B1 (ja) |
| MX (1) | MXPA01005661A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008538386A (ja) * | 2005-04-19 | 2008-10-23 | エチューズ エ コンストリクションズ メカニクス | 低圧浸炭窒化方法及び装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1989335A4 (en) * | 2005-11-23 | 2010-04-07 | Surface Comb Inc | SURFACE TREATMENT OF METAL OBJECTS IN AN ATMOSPHERIC OVEN |
| AT504218B1 (de) * | 2006-10-02 | 2008-06-15 | Siemens Vai Metals Tech Gmbh | Haspelofen |
| CA2771090C (en) | 2009-08-07 | 2017-07-11 | Swagelok Company | Low temperature carburization under soft vacuum |
| US9617632B2 (en) | 2012-01-20 | 2017-04-11 | Swagelok Company | Concurrent flow of activating gas in low temperature carburization |
| CN104276595B (zh) | 2014-10-28 | 2016-08-17 | 东江环保股份有限公司 | 一种碱式氯化锌的制备方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4093195A (en) * | 1977-01-19 | 1978-06-06 | Holcroft & Company | Carburizing furnace |
| GB2045408A (en) * | 1979-03-28 | 1980-10-29 | Holcroft | Furnace system |
| DE8414235U1 (de) * | 1984-05-10 | 1984-08-02 | Colt International Gmbh, 4190 Kleve | Heizgeraet |
| JPS60248909A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-09 | Tokyo Gas Co Ltd | ラジアントチユ−ブバ−ナ |
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