JPH0992137A - プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法及び隔壁形成用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】プラズマディスプレイパネルの各表示セルを区
画する隔壁の製造において、従来の方法に比べて実質的
に工程数が少なく、作業性が優れ、また蛍光体部位の輝
度を低下させることがない隔壁形状の優れた、プラズマ
ディスプレイ用隔壁の製造方法、及び前記製造方法に好
適に使用しうる隔壁形成用組成物を提供する。 【解決手段】少なくとも（ｉ）基板上に隔壁形成用組成
物の膜を形成する工程と、（ｉｉ）前記隔壁形成用組成
物の膜上にレジストの膜を形成する工程と、（ｉｉｉ）
前記レジストの膜に選択的に放射線を照射する工程と、
（ｉｖ）前記レジストの膜を現像処理し、レジストのパ
ターンを形成する工程と、（ｖ）隔壁形成用組成物のパ
ターンを形成する工程と、（ｖｉ）隔壁形成用組成物の
パターンを焼成する工程を行うことを特徴とするプラズ
マディスプレイパネル用隔壁の製造方法。少なくとも
（ａ）低融点ガラスフリット、（ｂ）アルカリ可溶性樹
脂を含有するバインダー及び（ｃ）溶剤を含有してなる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用隔壁形
成用組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、隔壁によって区画
された領域に表示単位となる螢光体部位が設けられてな
るプラズマディスプレイパネルの隔壁の製造方法及び隔
壁形成用組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、大型パネルを製造するプロセスが容易であること、
視野角が広いこと、自発光タイプで表示品位が高いこと
等の理由から、フラットパネル表示技術の中で注目され
ており、特にカラープラズマディスプレイパネルは、２
０インチ以上の壁掛けハイビジョンＴＶ（ＨＤＴＶ）用
の表示デバイスとして将来主流になるものと期待されて
いる。カラープラズマディスプレイパネルは、ガス放電
によって紫外線を発生させ、その紫外線を螢光体に照射
することにより、カラー表示を可能にする。そして、一
般に、カラープラズマディスプレイパネルにおいては、
基板上に、赤色発光用、緑色発光用及び青色発光用の螢
光体部位が形成されることにより、各色の発光表示セル
が全体に均一に混在した状態に構成されている。具体的
には、ガラス基板の表面上にバリアリブと称される絶縁
性材料からなる隔壁が設けられており、この隔壁によっ
て多数の表示セルが区画され、表示セル内部がプラズマ
作用空間となる。このプラズマ作用空間に螢光体部位が
設けられると共に、この螢光体部位にプラズマを作用さ
せる電極が設けられることにより、各々の表示セルを表
示単位とするプラズマディスプレイパネルが構成され
る。

【０００３】このようなプラズマディスプレイパネル用
隔壁の製造方法としては、（１）ペースト状の隔壁形成
用組成物を用いてスクリーン印刷により基板の表面の隔
壁を形成するスクリーン印刷法、（２）感光性の隔壁形
成用組成物層を形成し、フォトマスクを介して紫外線を
照射した上で現像することにより基板の表面に隔壁を残
存させるフォトリソグラフィー法、（３）ペースト状の
隔壁形成用組成物を用いてスクリーン印刷等により隔壁
形成用組成物の膜を形成し、その層上にレジスト膜のパ
ターンからなる現像用マスクを形成後、研磨材粒子を吹
き付けて隔壁形成用組成物層をエッチングするサンドブ
ラスト法等が知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
クリーン印刷法では、最終的な隔壁の高さが１００〜２
００μｍ必要であるのに対し、一回の印刷によって形成
できる隔壁の高さは１０〜２０μｍ程度であり、所望の
高さを得るために数回〜１０数回の印刷を行わなければ
ならないが、パネルの大型化及び高精細化に伴い、重ね
塗りの際の隔壁の位置精度の要求が非常に厳しくなり、
通常の印刷では対応できないという問題がある。また、
前記フォトリソグラフィー法では、一回の露光及び現像
の工程で１００〜２００μｍの膜厚を有する隔壁形成用
組成物層を得るには、隔壁形成用組成物の感度が不十分
であり、数回の塗布と露光工程が必要であるという問題
がある。さらに、サンドブラスト法では、製造工程が煩
雑であり、また、アルミナ等の研磨材粒子の隔壁側面へ
の不可避的な残留、過剰なエッチングによる基板の傷つ
き等によって、蛍光体部位の輝度が低下するという問題
がある。

【０００５】本発明の目的は、プラズマディスプレイパ
ネルの各表示セルを区画する隔壁の製造において、従来
の方法に比べて実質的に工程数が少なく、従って作業性
を向上させることができ、蛍光体部位の輝度を低下させ
ることがない隔壁形状の優れた、プラズマディスプレイ
用隔壁の製造方法を提供することにある。本発明の他の
目的は、前記プラズマディスプレイパネルの各表示セル
を区画する隔壁の製造において、好適に使用しうる隔壁
形成用組成物を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイパネル用隔壁の製造方法に関する第１の発明は、
少なくとも（ｉ）基板上に隔壁形成用組成物の膜を形成
する工程と、（ｉｉ）前記隔壁形成用組成物の膜上にレ
ジストの膜を形成する工程と、（ｉｉｉ）前記レジスト
の膜に選択的に放射線を照射する工程と、（ｉｖ）前記
レジストの膜を現像処理し、レジストのパターンを形成
する工程と、（ｖ）隔壁形成用組成物の膜を現像処理
し、隔壁形成用組成物のパターンを形成する工程と、
（ｖｉ）隔壁形成用組成物のパターンを焼成する工程を
行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用隔
壁の製造方法である。また、本発明のプラズマディスプ
レイパネル用隔壁の製造方法に関する第２の発明は、前
記プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法におい
て、隔壁形成用組成物の膜が、現像液に対する溶解性の
異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を
有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用
隔壁の製造方法である。さらに、本発明のプラズマディ
スプレイパネル用隔壁の製造方法に関する第３の発明
は、前記プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法
において、現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁
形成用組成物を積層してなる構造を有する隔壁形成用組
成物の膜において、隔壁形成用組成物の各層の現像液に
対する溶解性が、基板側から順次、小さくなるように積
層されていることを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネル用隔壁の製造方法である。さらに、本発明のプラズ
マディスプレイパネル用隔壁の製造方法に関する第４の
発明は、前記プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造
方法において、現像液がアルカリ現像液であることを特
徴とするプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法
である。また、本発明の隔壁形成用組成物に関する第５
の発明は、少なくとも（ａ）低融点ガラスフリット、
（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するバインダー及び
（ｃ）溶剤を含有してなることを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネル用隔壁形成用組成物であり、前記プラ
ズマディスプレイパネル製造方法における隔壁形成用組
成物として、好適に用いられる。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、図面によって本発明を具体
的に説明する。図１（イ）〜（ニ）及び図２（ホ）〜
（チ）は、本発明の一実施例に係るプラズマディスプレ
イパネル用隔壁の製造方法を、工程順に示す説明用断面
図である。図１（イ）は、本発明の製造方法に用いられ
る基板１１の説明用断面図である。この基板１１におい
ては、平板状の基板材料（例えばガラス板）の表面に、
プラズマ発生用の電極１２が多数、例えば互いに並行に
離間した状態で設けられている。このような基板１１に
対し、下記の各工程からなる隔壁の形成操作が行われ
る。

【０００８】（ｉ）基板上に隔壁形成用組成物の膜を形
成する工程 前記基板１１に対し、図１（ロ）に示すように隔壁形成
用組成物の膜１３を形成する。前記膜の形成方法は、通
常の塗膜形成方法を使用することができ、特に塗布方法
が使用される。具体的には、例えばスクリーン印刷法、
ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法等を挙げること
ができる。また、前記膜１３の厚さは、通常、乾燥後の
厚さが５０〜３００μｍである。前記膜１３の乾燥温度
は、後の各工程に影響がない程度に前記膜１３中の溶媒
を除去できる限り、適宜選定できるが、具体的には、例
えば６０〜１３０℃程度である。本発明においては、前
記隔壁形成用組成物の膜は、現像液に対する溶解性の異
なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有
することが好ましい。特に本発明においては、前記現像
液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組成物を
積層してなる構造を有する隔壁形成用組成物の膜におい
て、隔壁形成用組成物の各層の現像液に対する溶解性
が、基板側から順次、小さくなるように積層されている
ことが好ましい。すなわち隔壁形成性組成物の膜の基板
から遠い上層部分は、後述する隔壁形成用組成物を溶解
する現像液と接触する時間が、基板に近い下層部分と比
較し長時間に及ぶため、設定された現像時間において、
上層部分に望ましくないサイドエッチングが生じ、その
結果、隔壁の形状は、上層部分のパターンが細い台形状
になる場合がある。これは、隔壁形成用組成物の膜にお
いて、上層部分と下層部分との現像液に対する溶解性が
同一であるために生じるもので、隔壁形成用組成物の膜
の膜厚が大きいほど顕著になる。本発明においては、前
記現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組
成物を積層してなる構造を有する隔壁形成用組成物の膜
とすることにより、さらに、隔壁形成用組成物の各層の
現像液に対する溶解性が、基板側から順次、小さくなる
ように積層することにより、形成される隔壁の断面形状
は、より基板に対して垂直な構造とすることができる。
前記現像液は、アルカリ現像液であることが好ましい。

【０００９】（ｉｉ）レジストの膜を形成する工程 前記膜１３が形成された基板に対し、図１（ハ）に示す
ように、前記膜１３上に、レジストの膜１４を形成す
る。前記レジストとしては、通常のポジレジストやネガ
レジストを使用することができる。前記膜１４の形成
は、前記膜１３の形成と同様に、通常塗布方法を使用す
ることができる。前記膜１４の厚さは、乾燥後の膜厚
が、通常、０．１〜４０μｍ、好ましくは０．５〜２０
μｍである。また、前記膜１４の乾燥温度は、例えば６
０〜１３０℃程度である。

【００１０】（ｉｉｉ）放射線を照射する工程 次いで前記膜１４に、図１（ニ）に示すように、例えば
露光用マスク１５を配置し、この露光用マスク１５を介
して、放射線、例えば紫外線を選択的に前記膜１４に照
射する。放射線の照射のための装置としては、感光性の
隔壁形成用組成物を用いて隔壁を形成するフォトリソグ
ラフィー法に使用されている放射線照射装置や、半導体
や液晶表示装置の製造に使用される露光装置等を使用で
きる。

【００１１】（ｉｖ）レジストのパターンを形成する工
程 前記膜１４に放射線を照射することにより、レジストの
膜には選択的に潜像が形成されているので、現像処理に
よりレジストのパターンを形成する。すなわち現像処理
により、図２（ホ）に示すように、選択的にレジストの
膜が現像され除去され（１６Ａ）、露光マスク１５に対
応するレジストのパターン１６が形成され、このパター
ン１６は、次の隔壁形成用組成物の膜の現像用マスクと
して作用する。前記現像処理の方法としては、例えば浸
漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法等の
方法を利用することができる。また、現像処理条件は、
用いるレジストの種類によって異なり、例えば現像液の
種類又は組成、現像液の濃度、現像時間、現像温度、現
像方法、現像装置等が適宜決定される。

【００１２】（ｖ）隔壁形成用組成物のパターンを形成
する工程 前記現像処理により、前記パターン１６（現像用マス
ク）が形成され、続いて行われる隔壁形成用組成物の膜
の現像処理工程おいて、隔壁形成用組成物用の現像液
は、前記パターン１６を介して、選択的に前記膜１３に
作用し、隔壁形成用組成物を溶解し、除去する。具体的
に図２（ヘ）に示すように、前記パターン１６によって
露出された前記隔壁形成用組成物の膜１３の中央部分
（１６Ａ）、すなわち前記電極１２設置部位の上部か
ら、前記膜１３の溶解が進行する。従って、現像処理に
より、隔壁形成用組成物のパターン１７及びプラズマ作
用空間１８が形成されると共に、このプラズマ作用空間
１８に前記電極１２の表面が露出された状態、具体的に
図２（ト）により示される隔壁形成用組成物のパターン
１７が形成された、パネル中間体１９が得られる。前記
現像処理の方法としては、例えば浸漬法、揺動法、シャ
ワー法、スプレー法、パドル法等の方法を利用すること
ができる。また、現像処理条件は、用いる隔壁形成用組
成物の種類によって異なり、例えば現像液の種類又は組
成、現像液の濃度、現像時間、現像温度、現像の方法、
現像装置等が適宜決定される。特にレジストの膜の現像
と隔壁形成用組成物の現像が、同種の現像液、特にアル
カリ現像液を用いることができる場合、（ｉｖ）レジス
トのパターンを形成する工程及び（ｖ）隔壁形成用組成
物のパターンを形成する工程とが連続的に行うことがで
き、工程の短縮の点から好ましい。

【００１３】前記レジストのパターン１６は、前記隔壁
形成用組成物の膜１３に比較して、現像液への溶解に対
する抵抗性が大きいことが必要であり、具体的には隔壁
形成用組成物よりも現像液に対する溶解速度が小さいこ
とが好ましい。特に、隔壁形成用組成物のパターン１７
の形成が完了するまでに、レジストのパターン１６が徐
々に溶解し、現像処理の工程の終了時に完全に溶解消失
するものが好ましい。また現像処理の工程が終了するま
でに完全に溶解消失せず、例えば残渣が隔壁形成用組成
物のパターン１７の表面上に残留する程度のもの、ある
いは全く溶解消失しないが、次の隔壁形成用組成物を焼
成する工程で消失するものであってもよい。

【００１４】（ｖｉ）隔壁形成用組成物のパターンを焼
成する工程 次いで、前記隔壁形成用組成物のパターン１７が形成さ
れたパネル中間体１９に対して焼成処理が施され、これ
により、隔壁形成用組成物のパターン１７に含有される
有機物質が焼失して、図２（チ）に示すように、基板１
１上にプラズマディスプレイパネル用隔壁２０が製造さ
れる。この焼成処理の温度は、隔壁形成用組成物に含有
される有機物質が焼失される温度であることが必要であ
り、通常、４００〜６００℃であり、また焼成処理時間
は、通常、１０〜６０分間である。

【００１５】次に前記の各工程に用いられる材料、各種
条件等について説明する。 （１）基板 本発明において用いられる基板は、絶縁性材質の基板材
料の表面に適宜の電極が形成されたものである。 （１−１）基板材料 基板材料としては、例えばガラス、シリコン、ポリカー
ボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイ
ミド、ポリイミド等の絶縁性物質を挙げることができ
る。この基板材料の表面に対しては、必要に応じて、シ
ランカップリング剤等による薬品処理；プラズマ処理；
又はイオンプレーティング法、スパッタリング法、気相
反応法、真空蒸着法等による薄膜形成処理の如き適宜の
前処理を施しておくことができる。

【００１６】（１−２）隔壁の寸法 隔壁は、プラズマディスプレイパネルにおいて、表示単
位となる表示セルを区画するものであり、これによって
区画される表示セルの形状及び寸法は適宜選定され、例
えば縦方向ピッチが０．１０〜１．２０ｍｍ、横方向ピ
ッチが０．１０〜１．００ｍｍとされる。隔壁の断面形
状、幅、高さ、隔壁の離間距離等の寸法は、目的とする
プラズマディスプレイパネルの特性に応じて適宜選定す
ることができる。具体的には、例えば隔壁の底面の幅が
１０〜３００μｍ、高さが１０〜５００μｍ、隔壁の離
間距離が５０〜１０００μｍ、電極の寸法が５０〜５０
０μｍ角である。特に典型的な一例においては、例えば
隔壁の底面の幅が１００μｍ、高さが２００μｍ、隔壁
の離間距離が４００μｍ、電極の寸法が２００μｍ角で
ある。

【００１７】（２）隔壁形成用組成物 本発明において用いられる隔壁形成用組成物は、少なく
とも（ａ）低融点ガラスフリット、（ｂ）アルカリ可溶
性樹脂を含有するバインダー及び（ｃ）溶剤を含有して
なる。具体的には、例えば鉛ホウケイ酸ガラス等の低融
点ガラスフリットとバインダーとよりなり、適宜の有機
溶剤等よりなるペースト状とされた組成物である。この
隔壁形成用組成物における各成分の配合割合は、（ａ）
低融点ガラスフリット１００重量部に対し、（ｂ）アル
カリ可溶性樹脂を含有するバインダーが１〜５０重量部
であり、好ましくは１〜４０重量部である。さらに
（ｃ）溶剤の割合は、隔壁形成用組成物の膜の形成に適
した流動性又は可塑性が得られるよう適宜決定される。

【００１８】（２−１）（ａ）低融点ガラスフリット 本発明の隔壁形成用組成物に使用される低融点ガラスフ
リットとしては、具体的に、例えば 酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物（ＺｎＯ−
Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）、 酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ
₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）、 酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウムの
混合物（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃系）、 酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物
（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）等を挙げるこ
とができる。

【００１９】（２−２）（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含
有するバインダー 本発明の隔壁形成用組成物に使用されるバインダーとし
ては、種々の樹脂を用いることができるが、特にアルカ
リ可溶性樹脂を含有するバインダーであることが好まし
い。ここに、「アルカリ可溶性」とは、後述するアルカ
リ現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行さ
れる程度に溶解性を有する性質をいう。前記アルカリ可
溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系
樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリ
エステル樹脂等を挙げることができる。このようなアル
カリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下
記の（ａ）及び（ｂ）のモノマーの共重合体、又は
（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）のモノマーの共重合体等を挙
げることができる。

【００２０】（ａ）アルカリ可溶性官能基含有モノマー
類：アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン
酸、ケイ皮酸等のカルボキシル基含有モノマー類；（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリ
ル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−
ヒドロキシプロピル等の水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒ
ドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒド
ロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類
等 （ｂ）（ａ）以外の重合性モノマー類：（メタ）アクリ
ル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アク
リル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジ
ル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）
アクリレート等の（ａ）以外の（メタ）アクリル酸エス
テル類；スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニ
ル系モノマー類；ブタジエン、イソプレン等の共役ジエ
ン類等 （ｃ）マクロモノマー類：ポリスチレン、ポリ（メタ）
アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポ
リ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の
末端に、例えば（メタ）アクリロイル基等の重合性不飽
和基を有するマクロモノマー

【００２１】（２−３）（ｃ）溶剤 前記（ａ）低融点ガラスフリット及び（ｂ）アルカリ可
溶性樹脂を含有するバインダーと、（ｃ）溶剤とが混合
されることによって、適当な流動性あるいは可塑性を有
し、良好な膜形成性を有するペースト状又は溶液状の隔
壁形成用組成物が得られる。溶剤としては通常の有機溶
剤を用いることができ、例えばエーテル類、エステル
類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル
類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクト
ン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロ
ゲン化炭化水素類等を挙げることができる。具体的に
は、例えばテトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサ
ン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエ
チレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレング
リコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコー
ルジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ
酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオ
ン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、
アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、
エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテ
ート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非
環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エス
テル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン
類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジア
ルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン等を挙げることができる。これらの有機溶剤
は単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いること
ができる。

【００２２】（２−４）他の添加剤 本発明に用いる隔壁形成用組成物には、必要に応じて、
現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定
剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、蛍
光体、顔料、染料等の添加剤を配合することができる。

【００２３】（３）レジスト 本発明のレジストの膜を形成するためのレジスト組成物
は、形成されるレジストの膜がネガ型であっても、ポジ
型であってもよいが、例えば、（３−１）アルカリ現像
型感放射線性レジスト組成物、（３−２）有機溶剤現像
型感放射線性レジスト組成物、（３−３）水性現像型感
放射線性レジスト組成物等のレジスト組成物を用いるこ
とができる。

【００２４】（３−１）アルカリ現像型感放射線性レジ
スト組成物 アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物に用いるアル
カリ可溶性樹脂としては、前記隔壁形成用組成物の成分
として掲げられているアルカリ可溶性樹脂を挙げること
ができる。アルカリ現像型の感放射線性成分としては、
例えば多官能性（メタ）アクリレート等の多官能性モノ
マーと光重合開始剤との組み合わせ、メラミン樹脂と放
射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせ
等を好ましいものとして挙げることができる。このアル
カリ現像型感放射線性レジスト組成物における各成分の
使用割合は、アルカリ可溶性樹脂１００重量部当たり、
感放射線成分が１〜３００重量部、好ましくは１０〜２
００重量部である。

【００２５】前記レジスト組成物における特に好ましい
感放射線性成分は、多官能性（メタ）アクリレートと光
重合開始剤との組み合わせである。このような多官能性
（メタ）アクリレートの具体例としては、例えばエチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のアルキレング
リコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレ
ングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒド
ロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレ
ン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒ
ドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリ
セリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロー
ルアルカン、テトラメチロールアルカン、ジペンタエリ
スリトール等の３価以上の多価アルコールのポリ（メ
タ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリ
アルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレー
ト類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベン
ゼンジオール類等の環式ポリオールのポリ（メタ）アク
リレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポ
キシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレ
ート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン
樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アク
リレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類；等を挙げ
ることができる。これらは単独で、あるいは２種以上を
組み合わせて用いることができる。

【００２６】また、前記多官能性（メタ）アクリレート
と組合せて使用される光重合開始剤の具体例としては、
例えばベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンフ
ァーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニ
ルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フ
ェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベ
ンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ
フェニル）−ブタン−１−オン等のカルボニル化合物；
アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒド
等のアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジ
スルフィド等の有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシ
ド、ジ−ｔｒｅｔ−ブチルパーオキシド、ｔｒｅｔ−ブ
チルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシ
ド、パラメタンハイドロパーオキシド等の有機パーオキ
シド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’
−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等のト
リハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビ
イミダゾール等のイミダゾール二量体；等を挙げること
ができる。これらは単独で、あるいは２種以上を組み合
わせて用いることができる。前記アルカリ現像型感放射
線性レジスト組成物については、必要な膜形成性を得る
ために、適宜有機溶剤が用いられる。その具体例として
は、隔壁形成用組成物のための溶剤と同様の有機溶剤を
挙げることができる。

【００２７】（３−２）有機溶剤現像型感放射線性レジ
スト組成物 有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物における成分
としては、例えばアジド化合物と天然ゴム、合成ゴム、
あるいはこれらを環化させた環化ゴム等との組み合わせ
を挙げることができる。好ましいアジド化合物の具体例
としては、例えば４，４’−ジアジドベンゾフェノン、
４，４’−ジアジドジフェニルメタン、４，４’−ジア
ジドスチルベン、４，４’−ジアジドカルコン、４，
４’−ジアジドベンザルアセトン、２，６−ジ（４’−
アジドベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ジ（４’
−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン等を
挙げることができる。これらのアジド化合物は、単独
で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ
る。前記有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物につ
いては、必要な膜形成性を得るために、適宜有機溶剤が
用いられる。その具体例としては、隔壁形成用組成物の
ための溶剤と同様の有機溶剤を挙げることができる。

【００２８】（３−３）水性現像型感放射線性レジスト
組成物 水性現像型感放射線性レジスト組成物における成分とし
ては、例えばポリビニルアルコールとジアゾニウム化合
物、あるいは重クロム酸化合物との組み合わせを挙げる
ことができる。

【００２９】（３−４）他の添加剤 本発明に用いられるレジストの組成物には、必要に応じ
て、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存
安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラ
ー、蛍光体、顔料、染料等の添加剤を配合することがで
きる。

【００３０】（４）露光用マスク 本発明において、レジストのパターン１６を形成するた
めの露光用マスク１５の露光パターンは、隔壁形成用組
成物のパターン１７がプラズマ作用空間を形成するため
に必要な１００〜１，０００μｍ角又は３０〜５００μ
ｍ幅のストライプであることが好ましく、典型的な一例
においては、４００μｍ角又は２００μｍ幅のストライ
プである。

【００３１】（５）現像液 前記現像処理の工程に使用される現像液としては、使用
するレジストの種類に応じて、アルカリ現像液、有機溶
剤現像液又は水性現像液が用いられる。 （５−１）アルカリ現像液 アルカリ現像液の有効成分としては、具体的に、例えば
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リ
ン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸
二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二
水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、
ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸
カリウム、アンモニア等の無機アルカリ性化合物；テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロ
キシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミ
ン等の有機アルカリ性化合物等を挙げることができる。
本発明のアルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物を単
独で、あるいは２種以上を組み合わせて用い、通常、
０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量
％の濃度となるように通常は水に溶解してアルカリ現像
液とする。前記アルカリ現像液による現像処理がなされ
た後は、通常、水洗処理が施される。 （５−２）有機溶剤現像液 有機溶剤現像液の具体例としては、トルエン、キシレ
ン、酢酸ブチル等の有機溶剤を挙げることができ、これ
らは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いるこ
とができる。有機溶剤現像液による現像処理がなされた
後は、必要に応じて貧溶媒によるリンス処理が施され
る。 （５−３）水性現像液 水性現像液の具体例としては、水、アルコール等を挙げ
ることができる。

【００３２】（６）隔壁形成用組成物の膜の現像処理 前記隔壁形成用組成物の膜の現像処理においては、前記
本発明の隔壁形成用組成物がアルカリ可溶性樹脂を含有
するので、通常アルカリ現像液が用いられる。前記隔壁
形成用組成物の現像液としては、レジストの現像液とし
て使用されるアルカリ現像液と同様のものを用いること
ができる。従って、前記レジストの現像処理にアルカリ
現像液が用いられる場合には、レジストの現像処理の工
程と、隔壁形成用組成物の現像処理の工程を、中断せず
連続的に行うことができる。このアルカリ現像液による
処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。ま
た、前記隔壁形成用組成物の膜の現像処理に、有機溶剤
を用いることもできる。すなわち前記隔壁形成用組成物
に含有される（ｃ）溶剤と同様の溶剤からなる有機溶剤
現像液により、前記隔壁形成用組成物の膜を再溶解させ
ることにより、現像することもできる。このような隔壁
形成用組成物の有機溶剤現像液の具体例としては、前記
隔壁形成用組成物の（ｃ）溶剤として例示した有機溶剤
を挙げることができる。これらは単独で、あるいは２種
以上を組み合わせて用いることができる。また、有機溶
剤現像液による現像処理がなされた後は、必要に応じて
貧溶媒によるリンス処理が施される。

【００３３】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
がこれらによって制約されるものではない。但し、実施
例中に記載の％及び部は特に断らない限り重量単位であ
る。また、ポリスチレン換算重量平均分子量（以下、Ｍ
ｗという。）は、東ソー株式会社製ゲルパーミィエーシ
ョンクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８
０２Ａ）により、ポリスチレン換算で測定した。

【００３４】＜合成例＞ 合成例１ Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２００ 部 ｎ−ブチルメタクリレート ７０ 部 メタクリル酸 ３０ 部 アゾビスイソブチロニトリル １ 部 の混合物を、攪拌基付きオートクレーブに仕込み、窒素
雰囲気下で室温で均一になるまで攪拌した後、８０℃で
３時間重合し、さらに１００℃で１時間反応を続けた
後、室温まで冷却し、ポリマー溶液Ａを得た。得られた
ポリマー（以下、ポリマーＡという。）は、重合率９８
％であり、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）
は、７０，０００であった。

【００３５】合成例２ Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２００ 部 ｎ−ブチルメタクリレート ８０ 部 メタクリル酸 ２０ 部 アゾビスイソブチロニトリル １ 部 を用いた以外は、合成例１と同様にして、ポリマー溶液
Ｂを得た。得られたポリマー（以下、ポリマーＢとい
う。）は、重合率９７％であり、ポリスチレン換算重量
平均分子量（Ｍｗ）は、１００，０００であった。

【００３６】合成例３ Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２００ 部 ｎ−ブチルメタクリレート ９０ 部 メタクリル酸 １０ 部 アゾビスイソブチロニトリル １ 部 を用いた以外は、合成例１と同様にして、ポリマー溶液
Ｃを得た。得られたポリマー（以下、ポリマーＣとい
う。）は、重合率９７％であり、ポリスチレン換算重量
平均分子量（Ｍｗ）は、９０，０００であった。

【００３７】合成例４ ３−エトキシプロピオン酸エチル ２００ 部 ｎ−ブチルメタクリレート ８５ 部 メタクリル酸 １５ 部 アゾビスイソブチロニトリル １ 部 を用いた以外は、合成例１と同様にして、ポリマー溶液
Ｄを得た。得られたポリマー（以下、ポリマーＤとい
う。）は、重合率９８％であり、ポリスチレン換算重量
平均分子量（Ｍｗ）は、５０，０００であった。

【００３８】実施例１ 厚さ１．１ｍｍのガラス基板の表面に電極を形成してな
る基板を用い、スクリーン印刷法により、下記組成によ
る隔壁形成用組成物を塗布し、８０℃のクリーンオー
ブン中で１０分間乾燥して、膜厚５０μｍの隔壁形成用
組成物の膜を形成した。さらに同様の操作を４回繰り返
して、最終的に、膜厚２００μｍの隔壁形成用組成物の
膜を形成した。 隔壁形成用組成物 低融点ガラスフリット： 鉛ホウケイ酸ガラス ５００重量部 アルカリ可溶性樹脂： メタクリル酸３０重量％とメタクリル酸ベンジル７０重量％の共重合体 （Ｍｗ＝４０，０００） １００重量部 溶剤： ３−エトキシプロピオン酸エチル １５０重量部

【００３９】次いで、隔壁形成用組成物の膜の表面上
に、回転数１０００ｒｐｍのスピンコーターを用いて下
記組成のレジスト組成物を塗布し、８０℃のクリーン
オーブン中で１０分間乾燥して、膜厚１５μｍのレジス
トの膜を形成した。 レジスト組成物 アルカリ可溶性樹脂： メタクリル酸３０重量％とメタクリル酸ベンジル７０重量％の共重合体 （Ｍｗ＝４０，０００） ５０重量部 感放射線性成分： 多官能性モノマー： ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４０重量部 光重合開始剤： １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン １０重量部 溶剤： ３−エトキシプロピオン酸エチル １５０重量部

【００４０】このようにして得られたレジストの膜を有
する隔壁形成用組成物の膜に対して、マスクを介して、
超高圧水銀灯のｉ線と称される波長３６５ｎｍの紫外線
を１００ｍＪ／ｃｍ²の照射量で照射した。次いで、
０．１重量％の水酸化カリウム水溶液で３分間シャワー
現像し、続いて１分間超純水のシャワーを浴びせること
により、レジストの膜の紫外線未照射部を除去した上、
さらにこのレジストの膜の除去に続けて、隔壁形成用組
成物の膜を現像して隔壁形成用組成物のパターンを形成
し、空気中で乾燥した。その後、５５０℃の焼成炉内で
３０分間焼成処理してプラズマディスプレイパネル用隔
壁を作製した。

【００４１】実施例２ 隔壁形成用組成物として下記の隔壁形成用組成物を用
いた以外は、実施例１と同様にして、膜厚２００μｍの
隔壁形成用組成物の膜を形成した。 隔壁形成用組成物 低融点ガラスフリット： 鉛ホウケイ酸ガラス ５００重量部 アルカリ可溶性樹脂： メタクリル酸２０重量％とメタクリル酸メチル８０重量％の共重合体 （Ｍｗ＝１００，０００） １２０重量部 溶剤： プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート １５０重量部

【００４２】次いで、下記組成のレジスト組成物を用
いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁形成用組成物
の膜の表面上に膜厚１０μｍのレジストの膜を形成し
た。 レジスト組成物 アルカリ可溶性樹脂： メタクリル酸２５重量％とメタクリル酸ベンジル５重量％とポリエチレンマク ロモノマー７０重量％との共重合体 （Ｍｗ＝３０，０００） ６０重量部 感放射線性成分： 多官能性モノマー： ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４０重量部 光重合開始剤： ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）− ブタン−１−オン ５重量部 溶剤： ３−エトキシプロピオン酸エチル １５０重量部

【００４３】このようにして得られたレジストの膜を有
する隔壁形成用組成物の膜に対して、マスクを介して、
超高圧水銀灯のｉ線と称される波長３６５ｎｍの紫外線
を１００ｍＪ／ｃｍ²の照射量で照射した。次いで、
０．１重量％の水酸化カリウム水溶液で４分間シャワー
現像し、続いて１分間超純水のシャワーを浴びせること
により、レジストの膜の紫外線未照射部を除去した上、
さらにこのレジストの膜の除去に続けて、隔壁形成用組
成物の膜を現像して隔壁形成用組成物のパターンを形成
し、空気中で乾燥した。パターンの形成状態を、基板の
断面写真１−１により示す。その後、１８０℃のクリー
ンオーブン中で３０分間加熱し、さらに５５０℃の焼成
炉内で３０分間焼成処理してプラズマディスプレイパネ
ル用隔壁を作製した。隔壁の形成状態を、基板の断面写
真１−２により示す。

【００４４】実施例３ 厚さ２．０ｍｍのガラス基板を用い、下記組成による隔
壁形成用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、膜厚１００μｍの隔壁形成用組成物の膜を形成し
た。 隔壁形成用組成物 低融点ガラスフリット： 鉛ホウケイ酸ガラス ７５０重量部 アルカリ可溶性樹脂： ポリマーＡ １５０重量部 現像促進剤： プルロニック型非イオン界面活性剤 （ニューポールＰＥ６４ 三洋化成工業株式会社製） ２０重量部 溶剤： Ｎ−メチル−２−ピロリドン ４００重量部

【００４５】さらに、隔壁形成用組成物の膜の表面上
に、スクリーン印刷法により、下記組成の、前記隔壁形
成用組成物より現像液に対する溶解性の小さい、隔壁
形成用組成物を塗布し、８０℃のクリーンオーブン中
で１０分間乾燥して、膜厚１００μｍの隔壁形成用組成
物の膜を形成した。 隔壁形成用組成物 低融点ガラスフリット： 鉛ホウケイ酸ガラス ７５０重量部 アルカリ可溶性樹脂： ポリマーＣ １５０重量部 現像促進剤： プルロニック型非イオン界面活性剤 （ニューポールＰＥ６４ 三洋化成工業株式会社製） ２０重量部 溶剤： Ｎ−メチル−２−ピロリドン ４００重量部

【００４６】次いで、下記組成のレジスト組成物を用
いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁形成用組成物
の膜の表面上に膜厚２０μｍのレジストの膜を形成し
た。 レジスト組成物 アルカリ可溶性樹脂： ポリマーＤ ５０重量部 感放射線性成分： 多官能性モノマー： ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４０重量部 光重合開始剤： ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）− ブタン−１−オン ５重量部 溶剤： ３−エトキシプロピオン酸エチル １５０重量部

【００４７】このようにして得られたレジストの膜を有
する隔壁形成用組成物の膜に対して、マスクを介して、
超高圧水銀灯のｉ線と称される波長３６５ｎｍの紫外線
を１００ｍＪ／ｃｍ²の照射量で照射した。次いで、
０．２重量％の水酸化カリウム水溶液で５分間シャワー
現像し、続いて１分間超純水のシャワーを浴びせること
により、レジストの膜の紫外線未照射部を除去した上、
さらにこのレジストの膜の除去に続けて、隔壁形成用組
成物の膜を現像して隔壁形成用組成物のパターンを形成
し、空気中で乾燥した。パターンの形成状態を、基板の
断面写真２−１により示す。その後、１８０℃のクリー
ンオーブン内で３０分間加熱後、５２０℃の焼成炉内で
３０分間焼成処理してプラズマディスプレイパネル用隔
壁を作製した。得られたプラズマディスプレイパネル用
隔壁の形状は、高さ１５０μｍ、幅７０μｍであった。
隔壁の形成状態を、基板の断面写真２−２により示す。
実施例３において、隔壁形成用組成物の膜を現像液に対
する溶解性の異なる２層の構造とすることにより、実施
例２と比較し、より基板に対して垂直な断面を有する台
形の形状で、隔壁が形成されることが、断面写真により
明かである。

【００４８】実施例４ 厚さ２．０ｍｍのガラス基板を用い、下記組成による隔
壁形成用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にし
て、膜厚５０μｍの隔壁形成用組成物の膜を形成した。 隔壁形成用組成物 低融点ガラスフリット： 鉛ホウケイ酸ガラス ７５０重量部 アルカリ可溶性樹脂： ポリマーＡ １５０重量部 現像促進剤： プルロニック型非イオン界面活性剤 （ニューポールＰＥ６４ 三洋化成工業株式会社製） ２０重量部 溶剤： Ｎ−メチル−２−ピロリドン ４００重量部

【００４９】次いで、隔壁形成用組成物の膜の表面上
に、スクリーン印刷法により、下記組成の、前記隔壁形
成用組成物より現像液に対する溶解性の小さい、隔壁
形成用組成物を塗布し、８０℃のクリーンオーブン中
で１０分間乾燥して、膜厚５０μｍの隔壁形成用組成物
の膜を形成した。 隔壁形成用組成物 低融点ガラスフリット： 鉛ホウケイ酸ガラス ７５０重量部 アルカリ可溶性樹脂： ポリマーＢ １５０重量部 現像促進剤： プルロニック型非イオン界面活性剤 （ニューポールＰＥ６４ 三洋化成工業株式会社製） ２０重量部 溶剤： Ｎ−メチル−２−ピロリドン ４００重量部

【００５０】さらに、隔壁形成用組成物の膜の表面上
に、スクリーン印刷法により、下記組成の、前記隔壁形
成用組成物より現像液に対する溶解性の小さい、隔壁
形成用組成物を塗布し、８０℃のクリーンオーブン中
で１０分間乾燥して、膜厚１００μｍの隔壁形成用組成
物の膜を形成した。 隔壁形成用組成物 低融点ガラスフリット： 鉛ホウケイ酸ガラス ７５０重量部 アルカリ可溶性樹脂： ポリマーＣ １５０重量部 現像促進剤： プルロニック型非イオン界面活性剤 （ニューポールＰＥ６４ 三洋化成工業株式会社製） ２０重量部 溶剤： Ｎ−メチル−２−ピロリドン ４００重量部

【００５１】次いで、下記組成のレジスト組成物を用
いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁形成用組成物
の膜の表面上に膜厚２０μｍのレジストの膜を形成し
た。 レジスト組成物 アルカリ可溶性樹脂： ポリマーＤ ５０重量部 感放射線性成分： 多官能性モノマー： ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４０重量部 光重合開始剤： ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）− ブタン−１−オン ５重量部 溶剤： ３−エトキシプロピオン酸エチル １５０重量部

【００５２】このようにして得られたレジストの膜を有
する隔壁形成用組成物の膜に対して、マスクを介して、
超高圧水銀灯のｉ線と称される波長３６５ｎｍの紫外線
を１００ｍＪ／ｃｍ²の照射量で照射した。次いで、
０．２重量％の水酸化カリウム水溶液で５分間シャワー
現像し、続いて１分間超純水のシャワーを浴びせること
により、レジストの膜の紫外線未照射部を除去した上、
さらにこのレジストの膜の除去に続けて、隔壁形成用組
成物の膜を現像して隔壁形成用組成物のパターンを形成
し、空気中で乾燥した。パターンの形成状態を、基板の
断面写真３−１により示す。その後、１８０℃のクリー
ンオーブン内で３０分間加熱後、５２０℃の焼成炉内で
３０分間焼成処理してプラズマディスプレイパネル用隔
壁を作製した。得られたプラズマディスプレイパネル用
隔壁の形状は、高さ１５０μｍ、幅７０μｍであった。
隔壁の形成状態を、基板の断面写真３−２により示す。
実施例４において、隔壁形成用組成物の膜を現像液に対
する溶解性の異なる３層の構造とすることにより、実施
例２、３と比較し、より基板に対して垂直な断面を有す
る台形の形状で、隔壁が形成されることが、断面写真に
より明かである。

【００５３】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネル用
隔壁の製造方法によれば、従来の方法に比べて実質的に
工程数が少なく、従って作業性を向上させることがで
き、蛍光体部位の輝度を低下させることがない隔壁形状
の優れた、プラズマディスプレイ用隔壁を製造すること
ができる。また本発明の隔壁形成用組成物は、前記プラ
ズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法に好適に使用
しうる。特に隔壁形成用組成物の膜を多層構造とするこ
とにより、アルカリ現像工程における隔壁形成組成物の
エッチングに対する深さ方向の異方性が生じるため、従
来の方法による隔壁の形状に比べ、アスペクト比の高い
隔壁が形成可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係るプラズマディスプレイ
パネル用隔壁の製造方法を工程順に示す説明用断面図で
ある。

【図２】本発明の一実施例に係る製造方法の、図１の工
程に続く工程を順に示す説明用断面図である。

【符号の説明】

１１ 基板 １２ 電極 １３ 隔壁形成用組成物の膜 １４ レジストの膜 １５ 露光マスク １５Ａ 放射線非透過部分 １５Ｂ 放射線透過部分 １６ レジストのパターン（現像用マスク） １６Ａ レジスト除去部分 １７ 隔壁形成用組成物のパターン １８ プラズマ作用空間 １９ パネル中間体 ２０ プラズマディスプレイパネル用隔壁

【図３】実施例２において形成された、隔壁形成用組成
物（及びレジスト）のパターンの状態を示す基板の断面
写真（写真１−１）及び焼成後の隔壁の状態を示す基板
の断面写真（写真１−２）である。

【図４】実施例３において形成された、隔壁形成用組成
物（及びレジスト）のパターンの状態を示す基板の断面
写真（写真２−１）及び焼成後の隔壁の状態を示す基板
の断面写真（写真２−２）である。

【図５】実施例４において形成された、隔壁形成用組成
物（及びレジスト）のパターンの状態を示す基板の断面
写真（写真３−１）及び焼成後の隔壁の状態を示す基板
の断面写真（写真３−２）である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇田川 忠彦 東京都中央区築地２丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 (72)発明者 熊野 厚司 東京都中央区築地２丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 (72)発明者 別所 信夫 東京都中央区築地２丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも（ｉ）基板上に隔壁形成用組成
   物の膜を形成する工程と、（ｉｉ）前記隔壁形成用組成
   物の膜上にレジストの膜を形成する工程と、（ｉｉｉ）
   前記レジストの膜に選択的に放射線を照射する工程と、
   （ｉｖ）前記レジストの膜を現像処理し、レジストのパ
   ターンを形成する工程と、（ｖ）隔壁形成用組成物の膜
   を現像処理し、隔壁形成用組成物のパターンを形成する
   工程と、（ｖｉ）隔壁形成用組成物のパターンを焼成す
   る工程を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパ
   ネル用隔壁の製造方法。
2. 【請求項２】少なくとも（ａ）低融点ガラスフリット、
   （ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するバインダー及び
   （ｃ）溶剤を含有してなることを特徴とするプラズマデ
   ィスプレイパネル用隔壁形成用組成物。