JPH0991768A

JPH0991768A - 磁気記録媒体基板用スタンパ及びこのスタンパを用いて製造された磁気記録媒体用基板

Info

Publication number: JPH0991768A
Application number: JP24968995A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Uchiyama; 浩内山
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-09-27
Filing date: 1995-09-27
Publication date: 1997-04-04

Abstract

(57)【要約】【課題】ディスク基板のグルーブを精密に成形するこ
とを可能とし、また、設計通りのディスク基板を成形
し、幅方向でのトラック幅方向での高密度化を図る。【解決手段】平坦な上面部１３とこの上面部１３の両
側に設けられた一対の立上がり側面１４を備えてなるグ
ルーブ３を形成するための複数の凸部１１と、各凸部１
１の立上がり側面１４と連続して設けられた底面部１５
が平坦な複数の凹部１２とを備え、凹部１２の底面部１
５には、磁気記録媒体基板の成形時に気体を溜めるため
の突部５を内方向に設けたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体を成
形する金型に取り付けられる磁気記録媒体基板用スタン
パ及びこれを用いて製造された磁気記録媒体用基板に関
する。

【０００２】

【従来の技術】記録媒体として用いられる光ディスク
は、情報記録信号の記録若しくは再生に、光ビームを用
い、大容量の情報信号の記録若しくは再生を可能とする
とともに、経時的変化に対する記録済みの情報信号の記
録の信頼性が高い等の利点を有する。このような利点を
有する光ディスクは、情報処理システム、オーディオデ
ィスクシステム或いはビデオディスクシステムの情報記
録媒体として広く用いられている。

【０００３】この光ディスクは、光透過性を有するディ
スク基板と、ディスク基板の一方の表面に形成された記
録層若しくは反射層及び反射層若しくは記録層を保護す
るための保護層とから構成されている。このように構成
された光ディスクは、情報信号の記録工程を含む記録原
盤の製作工程、金型製作工程等を含むスタンパを製作す
るためのマスタリング工程、ディスク基板の成形工程、
このディスク基板に成膜を施す成膜工程及び後処理工程
等の工程を経て製作される。

【０００４】マスタリング工程においては、回転駆動さ
れているフォトレジストを塗布したガラス基板に、レー
ザ記録装置としての光ヘッドより記録する情報信号に基
づいて変調されたレーザ光を照射することによって、フ
ォトレジスト層を情報信号に対応して露光する。マスタ
リング工程では、露光後のガラス基板に現象等の処理を
施した後、このガラス基板上に金属材料の電鋳を行う電
鋳工程によって金属材料の表面に凹凸の情報信号が転写
されたスタンパを形成する。

【０００５】上述したマスタリング工程及び電鋳工程を
経て製作したスタンパは、成形用金型に装着される。こ
のスタンパは、装着された金型内に合成樹脂材料を充填
することによって、表面に情報信号に基づく凹凸が転写
されたディスク基板を成形する。情報信号の追記或いは
再記録を可能とする光ディスクの場合には、成形された
ディスク基板の表面に蒸着等によって記録層や反射層が
成膜形成される。成膜が施されたディスク基板は、保護
層の被覆工程を経て、或いは書換を可能とする光ディス
クとして完成される。この光ディスクには、ディスク回
転駆動機構にクランプさせるためのハブが取り付けられ
たり、レーベルが印刷される。このように、ガラス基板
によりスタンパを成形し、スタンパによりディスク基板
が成形されることから、ディスク基板とガラス基板の凹
凸は同じくされる。

【０００６】例えば、ディスク基板１００のトラック幅
Ｔｗを３、２μｍ、トラックピッチＴｒを４、８μｍ、
グルーブ１０１の深さ寸法ｇｈを０、２μｍとするディ
スク基板１００を成形する場合について以下説明する。

【０００７】このディスク基板１００を成形するスタン
パ１１０は、図６乃至図１０に示すように、上述のマス
タリング工程により成形される。具体的に、スタンパ１
１０を製作するための原盤材料には、高度な表面精度が
得られ、且つ廉価なソーダライムガラスが用いられる。
このガラス基板は、第１の工程において表面の研磨処理
が施された後、十分に洗浄されて乾燥される。

【０００８】次に、第２の工程でガラス基板１１１に
は、感光層を形成するためのフォトレジストが滴下され
フォトレジスト層１１２が形成される。そして、ガラス
基板１１１とフォトレジスト層１１２とでガラス原盤１
１３を構成する。このフォトレジスト層１１２は、一般
にその膜厚が光ディスクのピット或いはグルーブの深さ
寸法ｇｈに相当する値に設定される。したがって、フォ
トレジスト層１１２は、図６に示すように、このディス
ク基板１００を成形する場合、グルーブ１０１の深さ寸
法に対応するように、ｇｈ＝０、２μｍに成形される。

【０００９】そして、第３の工程でガラス原盤１１３
は、フォトレジスト層１１２にレーザ記録装置を用いて
情報信号のカッティングが行われる。そして、ガラス原
盤１１３のフォトレジスト層１１２には、図７及び図８
に示すように、光ディスクの表面に情報信号部であるグ
ルーブ１０１を形成するためのグルーブ形成用の凹部１
１６が形成される。また、この凹部１１６は、スタンパ
１１０と成形されるディスク基板１００との成形の際の
離型特性を向上させるため、立上がり部１２１を斜面と
なるように成形している。

【００１０】したがって、レーザ光は、入射角Ｃ₁が２
０゜となるように照射される。また、凸部１１５の幅寸
法Ｂ₂は、成形するディスク基板１００のトラック幅Ｔ
ｗが３、２μｍとされることから、３、２μｍとされ
る。さらに、凸部１１５と凸部１１５との間隔Ｂ₄は、
１、６μｍとされ、立上がり部１２１の幅寸法ε／２
は、０、０５μｍとされる。これにより、凹部１１６の
幅寸法Ｂ₁は、１、６ー２×０、２×ｔａｎ２０゜より
１、４５μｍとされる。

【００１１】そして、第４の工程において、ガラス基板
１１１は、ベーキング処理が施されて、形成されたグル
ーブ１０１形成用の凹部１１６のガラス原盤１１３上へ
の焼き付けが行われる。

【００１２】以上の工程によって成形されたガラス原盤
１１３には、第５の工程において、表面上にスパッタ法
或いは無電解メッキ法等によりニッケル膜を成形するこ
とによって、導電化処理が行われる。

【００１３】そして、第６の工程において、ガラス原盤
１１３には、電気メッキ処理が施される。この際、ガラ
ス原盤１１３は、マイナス電極に接続され、プラス電極
には、ニッケルのチップが用いられる。ガラス原盤１１
３は、この電気メッキ処理によって、表面にニッケル層
が析出形成される。このニッケル層は、ガラス原盤１１
３から剥離されることによってニッケルマスタが形成さ
れる。

【００１４】このニッケルマスタは、第７の工程におい
て、グルーブ１０１を形成する凸部１１５が形成された
表面側を保護フィルムで被覆した状態で、裏面の研磨が
行われる。

【００１５】また、第８の工程において、ニッケルマス
タは、その表面にフォトレジストの一部が付着している
ため、溶剤を用いて除去するレジスト除去処理が施され
る。そして、このニッケルマスタは、マザーの製作原盤
として用いられる。さらには、マザーの製作原盤は、こ
のマザーの転写によってスタンパ１１０を形成する。転
写されたスタンパ１１０は、最後の工程において、光デ
ィスクの成形金型に合わせて内外径のトリミング処理が
施された後、仕上げ処理、洗浄処理を施してスタンパ１
１０として完成される。

【００１６】以上のマスタリング工程によって成形され
たスタンパ１１０は、成形金型に取り付けられてポリカ
ーボネート樹脂等を材料にディスク基板１００の成形が
行われる。

【００１７】このように成形されたディスク基板１００
は、図９に示すように、グルーブ１０１を形成するテー
パ角度Ｅ₁及びＥ₂が５０゜乃至６０゜で、グルーブ１０
１の深さ寸法が０、２μｍで、トラック幅Ｔｗが２、８
μｍ乃至３、０μｍで成形される。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
は、厚み寸法に対して投影寸法が極めて大きいといった
特殊な形状から、その成形加工に際しては、例えば、成
形後の透明性の維持、情報信号部の精密な転写性、すな
わち、スタンパ１１０の情報信号に基づく凹凸の転写
性、寸法精度或いは肉厚の均一性等の種々の厳格な加工
特性が要求される。スタンパ１１０と形成されたディス
ク基板１００とが良好な状態で均一に離型させることも
極めて重要な加工特性の１つである。

【００１９】例えば、ディスク基板１００は、図１０に
示すように、ディスク基板１００のグルーブ１０１を成
形する際には、スタンパ１１０の凹部１１８とディスク
基板１００との間に空気溜まり１２０が生じ設計当初の
寸法精度を得ることができない。これは、ディスク基板
１００の成形時に、樹脂が空気の存在する中で、圧入さ
れることからスタンパ１１０の凹部１１８の角に空気溜
まりが生じるからである。そのため、ディスク基板１０
０のトラック幅Ｔｗの角は、弧状に形成されることにな
る。

【００２０】したがって、トラック幅Ｔｗを３、２μ
ｍ、トラックピッチＴｒを４、８μｍ、グルーブ１０１
の深さ寸法を０、２μｍとするディスク基板１００を成
形するようにスタンパ１１０を成形した場合であって
も、実際に成形されたディスク基板１００は、グルーブ
１０１を形成するテーパ角度Ｅ₁及びＥ₂が４５゜乃至５
０゜で、グルーブ１０１の深さ寸法が０、２μｍで、ト
ラック幅Ｔｗが２、８μｍ乃至３、０μｍで成形され
る。このように実際に成形されたディスク基板１００
は、設計寸法よりもトラック幅Ｔｗが減少することにな
る。すなわち、成形されたディスク基板１００の成形寸
法は、設計寸法に比べてトラック幅Ｔｗが０、２μｍ乃
至０、４μｍ、テーパ角度Ｅ₁及びＥ₂が１０゜乃至１５
゜程度の成形誤差が生じる。そのため、ディスク基板１
００は、トラック幅Ｔｗが減少した分、情報信号が記録
できなくなる。したがって、ディスク基板１００は、現
在以上のトラック方向での高密度化を図ることができな
い。また、信号対ノイズ比（Ｓ／Ｎ）についても小さく
なる。

【００２１】また、このような問題を解決する手段とし
て、ディスク基板１００の成形をディスク基板１００と
スタンパ１１０の間に空気が入らないように真空中でス
タンパ１１０に樹脂を圧入することが考えられる。しか
しながら、真空中でディスク基板１００を成形した場
合、成形品であるディスク基板１００が高圧の空気がス
タンパ１１０とディスク基板１００との間に入らないた
め、スタンパ１１０から離れにくくなり、スタンパ１１
０の寿命が１／１０乃至１／１００程度短くなるといっ
た問題点が生じる。

【００２２】そこで、本発明は、ディスク基板のグルー
ブを精密に成形することを可能とし、また、設計通りの
ディスク基板を成形し、さらには、スタンパの寿命を縮
めること無く、光ディスクのトラック幅Ｔｗの高密度化
を図ることのできる情報記録媒体用基板の製造用スタン
パを提供することを目的として提案されたものである。

【００２３】また、本発明は、光ディスクのトラック幅
Ｔｗの高密度化を図ることのできる情報記録媒体用基板
を提供することを目的に提案されたものである。

【００２４】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気記録媒
体基板用スタンパは、上述のような課題を解決すべく、
平坦な上面部とこの上面部の両側に設けられた一対の立
上がり部を備えてなるグルーブを形成するための複数の
凸部と、各凸部の立上がり部と連続して設けられた底面
部が平坦な複数の凹部とを備え、凹部の底面部には、磁
気記録媒体基板の成形時に気体を溜めるための突部を内
方向に設けたことを特徴として構成される。

【００２５】以上のように構成された磁気記録媒体基板
用スタンパには、磁気記録媒体用基板の材料となる樹脂
が圧入される。この際、スタンパは、磁気記録媒体用
基板の成形時に、樹脂が気体の存在する中で圧入されて
も、グルーブを成形する凸部に設けられた突部に空気が
溜まることから、スタンパの表面とスタンパと対抗する
樹脂の表面に空気が介在することが無い。したがって、
スタンパは、設計寸法通りの磁気記録媒体用基板を成形
する。

【００２６】また、本発明に係る磁気記録媒体基板用ス
タンパを用いて製造された磁気記録媒体用基板は、上述
のような課題を解決すべく、平坦な上面部とこの上面部
の両側に設けられた一対の立上がり部を備えてなるグル
ーブを形成するための複数の凸部と、各凸部の上記立上
がり部と連続して設けられた底面部が平坦な複数の凹部
とを備え、凹部の底面部には、磁気記録媒体用基板の成
形時に気体を溜めるための突部を内方向に設けたことを
特徴とする磁気記録媒体基板用スタンパを用いて製造さ
れる。

【００２７】以上のように構成された磁気記録媒体基板
用スタンパを用いて製造された磁気記録媒体用基板は、
成形時に、樹脂が空気の存在する中で圧入されても、グ
ルーブを成形するスタンパの凸部に設けられた突部に空
気が溜まることから、スタンパの表面とスタンパと対抗
する樹脂の表面に空気が介在することが無い。したがっ
て、情報記録媒体用基板は、設計寸法通りに成形される
ことにより、情報記録媒体のトラック幅方向の高密度化
が図られる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒体
基板用スタンパ及び磁気記録媒体基板用スタンパを用い
て製造された磁気記録媒体用基板について、ディスク基
板１を用いて詳細に説明する。なお、以下、トラック幅
Ｔｗが３、２μｍ、トラックピッチＴｒが４、８μｍ、
グルーブの深さ寸法が０、２μｍのディスク基板１の製
造工程に沿って説明する。

【００２９】本発明の実施の形態であるスタンパ１０
は、従来のスタンパの製造工程とほぼ同様な工程である
マスタリング工程を経て製造される。このスタンパ１０
は、円盤状を呈して形成されている。そして、このスタ
ンパ１０には、グルーブ３を形成する凸部１１が同心円
状に形成されている。また、この凸１１部の両側には、
それぞれ連続して凹部１２が形成されている。これら凹
１２の底面部は、平坦な面に成るように形成されてい
る。そして、これら凸部１１によって形成されたディス
ク基板１上の凹部２に情報信号が記録される。

【００３０】このようなディスク基板１を製造するスタ
ンパ１０は、詳細には以下の通り製造される。

【００３１】このディスク基板１を製造するための原材
料には、高度な表面精度が得られ、且つ廉価なソーダラ
イムガラス等によって成形されたガラス基板２１が用い
られる。このガラス基板２１は、第１の製造工程におい
て、表面の研磨等の再生処理が施される。そして、第２
の工程で超音波洗浄器等によって十分に洗浄されて乾燥
される。

【００３２】そして、第３の工程で、ガラス基板２１に
は、回転動作するスピンナに載置された状態で表面にフ
ォトレジストが滴下されることによって感光層であるフ
ォトレジスト層２２が形成されガラス原盤２０を構成す
る。なお、この際、ガラス基板２１上には、フォトレジ
ストの密着性を確保するために予めヘキサメチルジシラ
ザン等の密着補強材が塗布されている。

【００３３】このフォトレジスト層２２は、一般にその
膜厚が光ディスクのピット或いはグルーブの深さ寸法乃
至それ以上の値に設定されるため、滴下するフォトレジ
ストの濃度やスピンナの回転数が精密に管理された状態
で形成される。したがって、フォトレジスト層２２は、
図１に示すように、グルーブの深さ寸法が０、２μｍの
ディスク基板１を成形することから、厚み寸法ｇｈ₁を
０、２５μｍとし塗布される。

【００３４】そして、フォトレジスト層２２が形成され
たガラス基板２１は、図２及び図３に示すように、第４
の工程でフォトレジスト層２２に弱レーザ光を用いて突
部３０を形成するための凹部３１が形成される。この突
部３０は、ディスク基板１の成形時にスタンパ１０との
間の空気を溜めるための空気溜まり部である突部５を形
成するために行われる。

【００３５】この突部３０は、凹部３１の底面部３２よ
りスタンパ１０の内方向に０、０５μｍ程度に突起と成
るように形成される。そのため、先ず、フォトレジスト
層２２には、突部３０の向かい合う斜面を形成するため
入射角Ａ₁が２０゜となるように弱レーザ光が照射さ
れ、潜像が形成される。また、また、この一対の突部の
間の寸法Ｄ₃は、凸部４０が３、２μｍであることか
ら、３、２×０、０５×ｔａｎ２０゜より３、１６μｍ
とされる。これにより、先ず、フォトレジスト層２２の
表面には、立上がり側面３３が斜面とされた幅寸法が
３、１６μｍの凹部３１が形成される。なお、凹部３１
の対向する立上がり側面３３を斜面としたのは、スタン
パ１０と成形される離型特性を向上させるためである。

【００３６】次に、上述した凹部３１を形成した後、ガ
ラス原盤２０には、フォトレジスト層２２にレーザ記録
装置により強レーザ光を用いて情報信号のカッティング
が行われる。なお、このレーザ記録装置は、フォトレジ
スト層２２に照射されるレーザ光を出射するレーザ光源
と、情報信号に応じてレーザ光を変調するための光変調
器、この光変調器に情報信号を送出する信号処理部、レ
ーザ光源から出射されたレーザ光をフォトレジスト層２
２に集光させる光学系及びフォーカスサーボ系と、ガラ
ス基板２１の回転駆動機構等から構成されている。

【００３７】ガラス基板２１のフォトレジスト層２２に
は、レーザ記録装置から出射されたレーザ光が照射され
ることによって情報信号に対応した潜像が形成される。
この潜像は、図３に示すように、第６の工程である現像
工程によって顕在化されてディスク基板１の表面に情報
信号部であるグルーブ３を形成するためのグルーブ形成
用の凹部４１として形成される。すなわち、この凹部４
１は、上述した突部３０を形成するための凹部３１から
外方向に入射角が２０゜で強レーザ光が照射されて形成
される。凹部４１の底面部４２は、１、４５μｍとされ
る。また、この底面ブ４２は、スタンパ１０のグルーブ
３を形成する凸部１１に対応することから、平面になる
ように成形される。また、立上がり部である立上がり側
面４４が斜面に形成されるのは、離型特性を向上させる
ためである。

【００３８】以上のようにレーザ記録装置による情報信
号のカッティングが行われたガラス原盤２０には、スピ
ンデベロッパにおいて回転しながら現像液が滴下される
ことによって、潜像以外のフォトレジストが除去され、
表面上に凹凸パターンのグルーブ形成用の凹４１部が形
成される。次に、第７の工程において、ガラス原盤２０
には、クリーンオーブンにおいてベーキング処理が施さ
れて、形成されたグルーブ形成用の凸部４０と凹部４１
のガラス基板２１への焼き付けが行われる。

【００３９】以上のようにカッティングが行われたガラ
ス原盤２０は、突部が一体に設けられたグルーブ形成用
の凹部４１と、凸部４０凹部４１が連続して形成され
る。すなわち、このように形成されたガラス原盤２０に
は、同心円上グルーブ形成用の凹部４１が形成される。
この凹部４１は、幅寸法Ｄ₄が１、４５μｍで深さ寸法
ｇｈ₁が０、２５μｍに形成される。また、この凹部４
１を形成する立上がり側面４４は、Ａ₃が７０゜の角度
を有する斜面に形成される。その一方、この凹部４４と
連続して設けられた同心円上の凸部４０には、その両端
に高さ寸法ｇｈ₂が０、０５μｍの突部が設けられる。

【００４０】以上の工程によって製作されたガラス原盤
２０には、第８の工程において、ガラス原盤２０の表面
上に、スパッタ法或いは無電解メッキ法等によってニッ
ケル膜を形成することによって、導電化処理が行われ
る。なお、この導電化処理については、例えば真空蒸着
法によって、銀膜を形成する処理も採用されている。

【００４１】次に、第９の工程において、このガラス基
板２１には、電気メッキ処理が施される。この場合、ガ
ラス基板２１は、マイナス電極に接続され、プラス電極
にはニッケルのチップが用いられる。ガラス基板２１に
は、図４に示すように、この電気メッキ処理が施される
ことによって厚さ３００μｍ程度のニッケル層が析出形
成される。このニッケル層は、ガラス基板２１から剥離
されることによってニッケルマスタ５０が形成される。

【００４２】このニッケルマスタ５０は、第１０の工程
において、凸パターンのグルーブ形成の凸部が形成され
た表面側を保護フィルムで被覆した状態で、裏面の研磨
が行われる。このニッケルマスタ５０の裏研磨は、射出
形成時に、裏面の凹凸が成形品のディスク基板１に転写
されることを防止するために行われ、一般に研磨材とし
てアルミナ等が用いられる。

【００４３】また、ニッケルマスタ５０には、第１１の
工程では、その表面にフォトレジストの一部が付着して
いることから、これをアセント等の溶剤を用いて除去す
るレジスト除去処理が施される。このニッケルマスタ５
０は、マザーの製作原盤として用いられ、スタンパ１０
が製作される。

【００４４】このマザーの転写によって成形されるスタ
ンパ１０１は、第１１の工程において、光ディスクの成
形金型に合わせて内外径のトリミング処理が施された
後、仕上げ処理、洗浄処理がなされて完成される。

【００４５】このようにマスタリング工程を経て形成さ
れたスタンパ１０は、図５に示すように、製造されるデ
ィスク基板１の凹凸とが逆となるように、すなわち、ス
タンパ１０の凹部１２がディスク基板１の凸部４に対応
し、スタンパ１０の凸部４がディスク基板１の凹部１１
に対応するように形成される。

【００４６】成形されたスタンパ１０は、グルーブ３を
形成する凸部１１が同心円上に形成される。そして、こ
の凸部１１に連続してなる凹部１２は、幅寸法Ｄ₆が
３、２μｍに形成され、深さ寸法ｇｈ₃が０、２μｍで
且つ突部５の深さ寸法は０、０５μｍとなるように成形
される。また、成形された突部５と突部５の幅寸法Ｄ₇
は、３、１６μｍに形成され、この両端から深さ寸法が
０、０５の突部５が連続して形成される。そして、この
スタンパ１０は、平坦に形成された凸部１１の上面部１
３の両端に立上がり側面１４が形成され、この立上がり
側面１４と連続して平坦な底面部１５が設けられた凹部
１２が形成される。

【００４７】このように成形されたスタンパ１０は、デ
ィスク基板１の成形金型に取り付けられディスク基板１
の製造が行われる。このスタンパ１０を用いて製造され
たディスク基板１は、凸部４の幅寸法が３、１２μｍ、
グルーブ３の深さが０、２μｍ、立上がり側面６の角度
Ａ₄及びＡ₅が６５゜乃至７０゜に形成される。このよう
に、ディスク基板１は、当初の設計寸法とほぼ同寸法で
形成される。

【００４８】この際、ディスク基板１とスタンパ１０の
凸部との間に存する空気は、スタンパ１０に樹脂が圧入
される際に、空気溜まり部として設けられた突部に空気
が溜められることからスタンパ１０とディスク基板１が
密着して成形される。したがって、ディスク基板１は、
設計通りスタンパ１０により形成されるグルーブの領域
を正確に判断することができる。また、成形されたディ
スク基板１のグルーブの角が精密に成形されることから
グルーブの有効利用を図ることができ、光ディスクのト
ラック幅方向での高密度化を図ることができる。

【００４９】

【発明の効果】本発明に係る磁気記録媒体基板用スタン
パによれば、磁気記録媒体用基板のグルーブを形成する
凸部に空気を溜めるための突部が設けられていることか
ら、成形時に、樹脂が空気の存在する中で圧入されて
も、グルーブを成形する凸部に設けられた突部に空気が
溜まることから、スタンパの表面とスタンパと対向する
樹脂の表面に空気が介在することが無い。したがって、
スタンパは、設計寸法通りの磁気記録媒体基板を成形す
ることができる。

【００５０】また、本発明に係る磁気記録媒体基板用ス
タンパを用いて製造された磁気記録媒体基板によれば、
スタンパの表面とスタンパと対抗する樹脂の表面に空気
が介在することが無く、設計寸法通りに成形される。し
たがって、グルーブを形成する凸部の底面の全面に情報
信号が記録でき、トラック幅Ｔｗでの高密度化を図るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気記録媒体基板用スタンパを成
形するガラス原盤の要部縦断面図である。

【図２】同磁気記録媒体基板用スタンパを成形するガラ
ス原盤に突部を成形するために設けられた凹部がカッテ
ィングされた状態を示す要部縦断面図である。

【図３】同磁気記録媒体基板用スタンパを成形するガラ
ス原盤の寸法特性を示す要部縦断面図である。

【図４】同磁気記録媒体基板用スタンパを成形するガラ
ス原盤にニッケルマスタか形成された状態を示す要部縦
断面図である。

【図５】同磁気記録媒体基板用スタンパでディスク基板
を製造する状態を示す要部縦断面図である。

【図６】従来の磁気記録媒体基板用スタンパを成形する
ガラス原盤の要部縦断面図である。

【図７】同磁気記録媒体基板用スタンパを成形するガラ
ス原盤の寸法特性を示す要部縦断面図である。

【図８】同磁気記録媒体基板用スタンパを成形するガラ
ス原盤の寸法特性を示す要部縦断面図である。

【図９】同磁気記録媒体基板用スタンパを用いて成形さ
れたディスク基板の要部縦断面図である。

【図１０】同磁気記録媒体基板用スタンパでディスク基
板を成形する状態を示す要部縦断面図である。

【符号の説明】

１ディスク基板２凹部３グルーブ４凸部５突部６立上がり側面１０スタンパ１１凸部１２凹部２０ガラス原盤２１ガラス基板２２フォトレジスト層３０突部３１凹部３３立上がり側面４０凸部４１凹部４２底面部４３上面部５０ニッケルマスタ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平坦な上面部とこの上面部の両側に設け
られた一対の立上がり部を備えてなるグルーブを形成す
るための複数の凸部と、上記各凸部の上記立上がり部と連続して設けられた底面
部が平坦な複数の凹部とを備え、上記凹部の上記底面部には、磁気記録媒体基板の成形時
に気体を溜めるための突部を内方向に設けたことを特徴
とする磁気記録媒体基板用スタンパ。
【請求項２】上記突部は、上記凹部の両端の内方向に
設けたことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体
基板用スタンパ。
【請求項３】上記突部は、深さ寸法が上記凹部の内方
向に略０、０５μｍであることを特徴とする請求項２に
記載の情報記録媒体基板用スタンパ。
【請求項４】平坦な上面部とこの上面部の両側に設け
られた一対の立上がり部を備えてなるグルーブを形成す
るための複数の凸部と、上記各凸部の上記立上がり部と連続して設けられた底面
部が平坦な複数の凹部とを備え、上記凹部の上記底面部には、磁気記録媒体用基板の成形
時に気体を溜めるための突部を内方向に設けたことを特
徴とする磁気記録媒体基板用スタンパを用いて製造され
た磁気記録媒体基板。
【請求項５】上記スタンパは、突部が上記凹部の両端
の内方向に設けられた磁気記録媒体基板用スタンパを用
いて製造された請求項４に記載された磁気記録媒体用基
板。
【請求項６】上記スタンパは、突部が深さ寸法が上記
凹部の内方向に略０、０５μｍである磁気記録媒体基板
用スタンパを用いて製造された請求項５に記載された磁
気記録媒体用基板。