JPH0987501A - 添加剤含有樹脂組成物 - Google Patents
添加剤含有樹脂組成物Info
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- JPH0987501A JPH0987501A JP26803795A JP26803795A JPH0987501A JP H0987501 A JPH0987501 A JP H0987501A JP 26803795 A JP26803795 A JP 26803795A JP 26803795 A JP26803795 A JP 26803795A JP H0987501 A JPH0987501 A JP H0987501A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エステル交換法ポリカーボネートおよび他の
高分子重合体の混合において色調が優れ、添加剤分散の
工程を簡略化した樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 (A)芳香族ジヒドロキシ化合物及び炭
酸ジエステルを必須成分としてエステル交換法により製
造し、(a)アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属
を1〜800ppbを含み、かつ(b)末端ヒドロキシ
基が全末端基に対し1〜60%であり、(c)重量平均
分子量が5,000〜40,000のポリカーボネート
であり、更に添加剤を含有するポリカーボネートおよび
(B)他の高分子重合体を、A/B(重量比)=1/9
9〜80/20で混合してなる樹脂組成物。
高分子重合体の混合において色調が優れ、添加剤分散の
工程を簡略化した樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 (A)芳香族ジヒドロキシ化合物及び炭
酸ジエステルを必須成分としてエステル交換法により製
造し、(a)アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属
を1〜800ppbを含み、かつ(b)末端ヒドロキシ
基が全末端基に対し1〜60%であり、(c)重量平均
分子量が5,000〜40,000のポリカーボネート
であり、更に添加剤を含有するポリカーボネートおよび
(B)他の高分子重合体を、A/B(重量比)=1/9
9〜80/20で混合してなる樹脂組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は良好な色調を保持
し、かつ生産性が優れる樹脂組成物に関する。
し、かつ生産性が優れる樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、樹脂はさまざまな用途に用いられ
ているが、樹脂の特性を充分に引き出す上で添加剤の役
割が大きく影響し、かかる添加剤としては、安定剤、耐
候剤、顔料、ガラス繊維、無機フィラー等が知られてお
り、またそれら添加剤の添加方法としては成形材料(ペ
レット)を押出機で製造する際に、樹脂に直接ブレンド
する方法が一般的である。更に、樹脂の性質を改善する
目的で、種々の他の樹脂、又はエラストマーを配合する
こともしばしば行われる。
ているが、樹脂の特性を充分に引き出す上で添加剤の役
割が大きく影響し、かかる添加剤としては、安定剤、耐
候剤、顔料、ガラス繊維、無機フィラー等が知られてお
り、またそれら添加剤の添加方法としては成形材料(ペ
レット)を押出機で製造する際に、樹脂に直接ブレンド
する方法が一般的である。更に、樹脂の性質を改善する
目的で、種々の他の樹脂、又はエラストマーを配合する
こともしばしば行われる。
【0003】例をポリカーボネート樹脂(以下、「P
C」という。)にとると、PCは従来ビスフェノールA
のような芳香族ジヒドロキシ化合物のナトリウム塩とホ
スゲンとによる界面重縮合(いわゆるホスゲン法)で得
られるが、その成形体は単体として透明シート、光ディ
スク、コネクター、カメラ部品等として広い用途に供せ
られ、他方、複合体としても自動車バンパー、ホイール
キャップ、パソコン等のハウジング等に多々利用されて
いる。これらの用途においては、成形体は短期物性、耐
久性等に加え、商品性・コストの尺度としての外観・色
調、成形安定性、工程簡略化が特に重要となる。
C」という。)にとると、PCは従来ビスフェノールA
のような芳香族ジヒドロキシ化合物のナトリウム塩とホ
スゲンとによる界面重縮合(いわゆるホスゲン法)で得
られるが、その成形体は単体として透明シート、光ディ
スク、コネクター、カメラ部品等として広い用途に供せ
られ、他方、複合体としても自動車バンパー、ホイール
キャップ、パソコン等のハウジング等に多々利用されて
いる。これらの用途においては、成形体は短期物性、耐
久性等に加え、商品性・コストの尺度としての外観・色
調、成形安定性、工程簡略化が特に重要となる。
【0004】従来の方法では、例えば粉状の添加剤を押
出機のホッパーに直接投入しようとした場合には、粉体
の粒度のバラツキは色ムラ等のバラツキの原因となり、
どうしても粉状体の分級が避けられない。他の方法とし
て例えば特開平4−103626号公報、特開平5−9
286号公報、特開平5−239332号公報、特開平
5−310906号公報に開示されているように溶融法
PCの重合時にかかる添加剤を添加せしめる方法も提案
されているが、ベースポリマー中にホスゲンに由来する
塩素を持込むことは妨げられるものの、リアクターの汚
染および重合反応そのものの阻害等の問題があり、特に
高濃度配合を行なう上では実用的とは言い難い。
出機のホッパーに直接投入しようとした場合には、粉体
の粒度のバラツキは色ムラ等のバラツキの原因となり、
どうしても粉状体の分級が避けられない。他の方法とし
て例えば特開平4−103626号公報、特開平5−9
286号公報、特開平5−239332号公報、特開平
5−310906号公報に開示されているように溶融法
PCの重合時にかかる添加剤を添加せしめる方法も提案
されているが、ベースポリマー中にホスゲンに由来する
塩素を持込むことは妨げられるものの、リアクターの汚
染および重合反応そのものの阻害等の問題があり、特に
高濃度配合を行なう上では実用的とは言い難い。
【0005】
【本発明が解決しようとする課題】樹脂中に、例えば着
色剤等の添加剤を少量配合する場合には、添加剤の分散
性の不均一等に起因する、色調のバラツキが大きい。本
発明はPCを一成分とする樹脂組成物において、良好な
色調と優れた生産性との両方を満足する製法を提供する
ものである。
色剤等の添加剤を少量配合する場合には、添加剤の分散
性の不均一等に起因する、色調のバラツキが大きい。本
発明はPCを一成分とする樹脂組成物において、良好な
色調と優れた生産性との両方を満足する製法を提供する
ものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
に対し種々検討した結果、(A)PC成分として芳香族
ジヒドロキシ化合物および炭酸ジエステルを必須成分と
してエステル交換法により製造し、重量平均分子量が
5,000〜40,000で、かつ添加剤を含有したも
のを用いるとともに(B)他の高分子重合体を重量比で
A/B=1/99〜80/20の範囲で混合することに
より、良好な色調の樹脂組成物が得られることを見出
し、本発明に至ったものである。
に対し種々検討した結果、(A)PC成分として芳香族
ジヒドロキシ化合物および炭酸ジエステルを必須成分と
してエステル交換法により製造し、重量平均分子量が
5,000〜40,000で、かつ添加剤を含有したも
のを用いるとともに(B)他の高分子重合体を重量比で
A/B=1/99〜80/20の範囲で混合することに
より、良好な色調の樹脂組成物が得られることを見出
し、本発明に至ったものである。
【0007】すなわち、本発明は、 (1)(A)芳香族ジドロキシ化合物および炭酸ジエス
テルを必須成分としてエステル交換法により製造し、
(a)アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属を1〜
800ppbを含み、かつ(b)末端ヒドロキシ基が全
末端基に対し1〜60%であり、(c)重量平均分子量
が5,000〜40,000のポリカーボネートであ
り、更に添加剤を含有するポリカーボネート、および
(B)他の高分子重合体を、A/B(重量比)=1/9
9〜80/20の範囲で混合してなることを特徴とする
樹脂組成物、
テルを必須成分としてエステル交換法により製造し、
(a)アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属を1〜
800ppbを含み、かつ(b)末端ヒドロキシ基が全
末端基に対し1〜60%であり、(c)重量平均分子量
が5,000〜40,000のポリカーボネートであ
り、更に添加剤を含有するポリカーボネート、および
(B)他の高分子重合体を、A/B(重量比)=1/9
9〜80/20の範囲で混合してなることを特徴とする
樹脂組成物、
【0008】(2)(B)他の高分子重合体がスチレン
系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル
樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリフェニレンエーテル樹脂およびエラストマー樹脂の
群から選ばれる1種又は2種以上であることを特徴とす
る前記(1)記載のの樹脂組成物、 (3)前記(1)又は(2)記載の樹脂組成物を成形し
てなる成形体、を提供するものである。
系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル
樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリフェニレンエーテル樹脂およびエラストマー樹脂の
群から選ばれる1種又は2種以上であることを特徴とす
る前記(1)記載のの樹脂組成物、 (3)前記(1)又は(2)記載の樹脂組成物を成形し
てなる成形体、を提供するものである。
【0009】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
おけるポリカーボネート(A)は、芳香族ジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルを必須成分としてエステル交換
法にて製造される。本発明において、芳香族ジヒドロキ
シ化合物とは、一般式 HO−Ar−OH (式中、Arは2価の芳香族基を表す。)で示される化
合物である。
おけるポリカーボネート(A)は、芳香族ジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルを必須成分としてエステル交換
法にて製造される。本発明において、芳香族ジヒドロキ
シ化合物とは、一般式 HO−Ar−OH (式中、Arは2価の芳香族基を表す。)で示される化
合物である。
【0010】芳香族基Arとしては、好ましくは、例え
ば、 −Ar1 −Y−Ar2 − (式中、Ar1 及びAr2 は、各々独立にそれぞれ炭素
数5〜70を有する2価の炭素環式又は複素環式芳香族
基を表し、Yは炭素数1〜30を有する2価のアルカン
基を表す。)で示される2価の芳香族基である。
ば、 −Ar1 −Y−Ar2 − (式中、Ar1 及びAr2 は、各々独立にそれぞれ炭素
数5〜70を有する2価の炭素環式又は複素環式芳香族
基を表し、Yは炭素数1〜30を有する2価のアルカン
基を表す。)で示される2価の芳香族基である。
【0011】2価の芳香族基Ar1 、Ar2 において、
1つ以上の水素原子が、反応に悪影響を及ぼさない他の
置換基、例えば、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアル
キル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミ
ド基、ニトロ基などによって置換されたものであっても
良い。
1つ以上の水素原子が、反応に悪影響を及ぼさない他の
置換基、例えば、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアル
キル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミ
ド基、ニトロ基などによって置換されたものであっても
良い。
【0012】複素環式芳香族基の好ましい具体例として
は、1ないし複数の環形成窒素原子、酸素原子又は硫黄
原子を有する芳香族基を挙げる事ができる。2価の芳香
族基Ar1 、Ar2 は、例えば、置換又は非置換のフェ
ニレン、置換又は非置換のビフェニレン、置換または非
置換のビリジレンなどの基を表し、ここでの置換基は前
述のとおりの基である。2価のアルカン基Yとしては、
例えば、下記の構造式で示される有機基等である。
は、1ないし複数の環形成窒素原子、酸素原子又は硫黄
原子を有する芳香族基を挙げる事ができる。2価の芳香
族基Ar1 、Ar2 は、例えば、置換又は非置換のフェ
ニレン、置換又は非置換のビフェニレン、置換または非
置換のビリジレンなどの基を表し、ここでの置換基は前
述のとおりの基である。2価のアルカン基Yとしては、
例えば、下記の構造式で示される有機基等である。
【0013】
【化1】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、は、各々独立に水
素、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のア
ルコキシ基、環構成炭素数5〜10のシクロアルキル
基、環構成炭素数5〜10炭素環式芳香族基、炭素数6
〜10の炭素環式アラルキル基を表す。kは3〜11の
整数を表し、R5 およびR6 は、各Xについて個々に選
択され、お互いに独立に、水素または炭素数1〜6のア
ルキル基を表し、Xは炭素を表す。また、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 において、一つ以上の水素原子
が反応に悪影響を及ぼさない範囲で他の置換基、例えば
ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1
〜10のアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ビ
ニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニトロ基等
によって置換されたものであっても良い。)
素、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のア
ルコキシ基、環構成炭素数5〜10のシクロアルキル
基、環構成炭素数5〜10炭素環式芳香族基、炭素数6
〜10の炭素環式アラルキル基を表す。kは3〜11の
整数を表し、R5 およびR6 は、各Xについて個々に選
択され、お互いに独立に、水素または炭素数1〜6のア
ルキル基を表し、Xは炭素を表す。また、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 において、一つ以上の水素原子
が反応に悪影響を及ぼさない範囲で他の置換基、例えば
ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1
〜10のアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ビ
ニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニトロ基等
によって置換されたものであっても良い。)
【0014】このような2価の芳香族基Arとしては、
例えば、下記構造式で示されるものが挙げられる。
例えば、下記構造式で示されるものが挙げられる。
【化2】 (式中、R7 、R8 は、各々独立に水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10の
アルコキシ基、環構成炭素数5〜10のシクロアルキル
基、またはフェニル基であって、mおよびnは1〜4の
整数で、mが2〜4の場合には各R7 はそれぞれ同一で
も異なるものであってもよいし、nが2〜4の場合には
各R8 はそれぞれ同一でも異なるものであってもよ
い。)
原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10の
アルコキシ基、環構成炭素数5〜10のシクロアルキル
基、またはフェニル基であって、mおよびnは1〜4の
整数で、mが2〜4の場合には各R7 はそれぞれ同一で
も異なるものであってもよいし、nが2〜4の場合には
各R8 はそれぞれ同一でも異なるものであってもよ
い。)
【0015】さらに、2価の芳香族基Arは、下記の構
造式で示される芳香族基であっても良い。 −Ar1 −Z−Ar2 − (式中、Ar1 、Ar2 は前述のとおりであり、Zは単
結合又は−O−、−CO−、−S−、−SO2 −、−S
O−、−COO−、−CON(R1 )−などの2価の基
を表す。ただし、R1 は前述のとおりである。)
造式で示される芳香族基であっても良い。 −Ar1 −Z−Ar2 − (式中、Ar1 、Ar2 は前述のとおりであり、Zは単
結合又は−O−、−CO−、−S−、−SO2 −、−S
O−、−COO−、−CON(R1 )−などの2価の基
を表す。ただし、R1 は前述のとおりである。)
【0016】このような2価の芳香族基Arとしては、
例えば、下記構造式で示されるものが挙げられる。
例えば、下記構造式で示されるものが挙げられる。
【化3】 (式中、R7 、R8 、mおよびnは、前述のとおりであ
る。)
る。)
【0017】本発明で用いられる芳香族基ジヒドロキシ
化合物は、単一種類でも2種類以上でもかまわない。芳
香族ジヒドロキシ化合物の代表的な例としてはビスフェ
ノールAが挙げられる。また、これら芳香族ジヒドロキ
シ化合物は、塩素原子とアルカリまたはアルカリ土類金
属の含有量が少ない方が好ましく、出来れば実質的に含
有していないことが好ましい。
化合物は、単一種類でも2種類以上でもかまわない。芳
香族ジヒドロキシ化合物の代表的な例としてはビスフェ
ノールAが挙げられる。また、これら芳香族ジヒドロキ
シ化合物は、塩素原子とアルカリまたはアルカリ土類金
属の含有量が少ない方が好ましく、出来れば実質的に含
有していないことが好ましい。
【0018】本発明で用いられるジアリールカーボネー
トは、下記の構造式(4)で表される。
トは、下記の構造式(4)で表される。
【化4】 (式中、Ar3 、Ar4 はそれぞれ1価の芳香族基を表
す。)
す。)
【0019】Ar3 、Ar4 は、1価の炭素環式又は複
素環式芳香族基を表すが、このAr3 、Ar4 におい
て、1つ以上の水素原子が、反応に悪影響を及ぼさない
他の置換基、例えば、ハロゲン原子、炭素数1〜10の
アルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、フェニル
基、フェノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、
アミド基、ニトロ基などによって置換されたものであっ
ても良く、Ar3 、Ar4 は同じものであっても良い
し、異なるものであっても良い。1価の芳香族基Ar3
及びAr4 の代表例としては、フェニル基、ナフチル
基、ビフェニル基、ビリジル基を挙げることができる。
これらは、上述の1種以上の置換基で置換されたもので
も良い。
素環式芳香族基を表すが、このAr3 、Ar4 におい
て、1つ以上の水素原子が、反応に悪影響を及ぼさない
他の置換基、例えば、ハロゲン原子、炭素数1〜10の
アルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、フェニル
基、フェノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、
アミド基、ニトロ基などによって置換されたものであっ
ても良く、Ar3 、Ar4 は同じものであっても良い
し、異なるものであっても良い。1価の芳香族基Ar3
及びAr4 の代表例としては、フェニル基、ナフチル
基、ビフェニル基、ビリジル基を挙げることができる。
これらは、上述の1種以上の置換基で置換されたもので
も良い。
【0020】好ましいAr3 及びAr4 としては、それ
ぞれ例えば、下記構造式で表される基などが挙げられ
る。
ぞれ例えば、下記構造式で表される基などが挙げられ
る。
【化5】
【0021】ジアリールカーボネートの代表的な例とし
ては、下記構造式(6)で示される置換または非置換の
ジフェニルカーボネート類を挙げる事ができる。
ては、下記構造式(6)で示される置換または非置換の
ジフェニルカーボネート類を挙げる事ができる。
【化6】 (式中、R9 及びR10は、各々独立に水素原子、炭素数
1〜10を有するアルキル基、炭素数1〜10を有する
アルコキシ基、環構成炭素数5〜10のシクロアルキル
基又はフェニル基を示し、p及びqは1〜5の整数で、
pが2以上の場合には、各R9 はそれぞれ異なるもので
あっても良いし、qが2以上の場合には、各R10はそれ
ぞれ異なるものであっても良い。)
1〜10を有するアルキル基、炭素数1〜10を有する
アルコキシ基、環構成炭素数5〜10のシクロアルキル
基又はフェニル基を示し、p及びqは1〜5の整数で、
pが2以上の場合には、各R9 はそれぞれ異なるもので
あっても良いし、qが2以上の場合には、各R10はそれ
ぞれ異なるものであっても良い。)
【0022】このジフェニルカーボネート類のなかで
も、非置換のジフェニルカーボネートや、ジトリルカー
ボネート、ジ−t−ブチルフェニルカーボネートのよう
な低級アルキル置換ジフェニルカーボネートなとの対称
型ジアリールカーボネートが好ましいが、特にもっとも
簡単な構造のジアリールカーボネートであるジフェニル
カーボネートが好適である。これらのジアリールカーボ
ネート類は単独で用いても良いし、2種以上を組み合わ
せて用いても良い。また、これらジアリールカーボネー
トは、塩素原子とアルカリまたはアルカリ土類金属の含
有量が少ない方が好ましく、出来れば実質的に含有して
いないことが好ましい。
も、非置換のジフェニルカーボネートや、ジトリルカー
ボネート、ジ−t−ブチルフェニルカーボネートのよう
な低級アルキル置換ジフェニルカーボネートなとの対称
型ジアリールカーボネートが好ましいが、特にもっとも
簡単な構造のジアリールカーボネートであるジフェニル
カーボネートが好適である。これらのジアリールカーボ
ネート類は単独で用いても良いし、2種以上を組み合わ
せて用いても良い。また、これらジアリールカーボネー
トは、塩素原子とアルカリまたはアルカリ土類金属の含
有量が少ない方が好ましく、出来れば実質的に含有して
いないことが好ましい。
【0023】芳香族ジヒドロキシ化合物とジアリールカ
ーボネートとの使用割合(仕込比率)は、用いられる芳
香族ジヒドロキシ化合物とジアリールカーボネートの種
類や、重合温度その他の重合条件及び得ようとするポリ
カーボネートの分子量や末端比率によって異なるが、ジ
アリールカーボネートは芳香族ジヒドロキシ化合物1モ
ルに対して、通常0.9〜2.5モル、好ましくは0.
95〜2.0モル、より好ましくは0.98〜1.5モ
ルの割合で用いられる。また、本発明においては、本発
明の目的を損なわない範囲で、分岐構造を導入するため
に芳香族多価モノヒドロキシ化合物を併用してもよい
し、末端変換や分子量調節のために芳香族モノヒドロキ
シ化合物を併用してもよい。
ーボネートとの使用割合(仕込比率)は、用いられる芳
香族ジヒドロキシ化合物とジアリールカーボネートの種
類や、重合温度その他の重合条件及び得ようとするポリ
カーボネートの分子量や末端比率によって異なるが、ジ
アリールカーボネートは芳香族ジヒドロキシ化合物1モ
ルに対して、通常0.9〜2.5モル、好ましくは0.
95〜2.0モル、より好ましくは0.98〜1.5モ
ルの割合で用いられる。また、本発明においては、本発
明の目的を損なわない範囲で、分岐構造を導入するため
に芳香族多価モノヒドロキシ化合物を併用してもよい
し、末端変換や分子量調節のために芳香族モノヒドロキ
シ化合物を併用してもよい。
【0024】本発明のポリカーボネートの分子量は重量
平均分子量で5,000〜40,000の範囲であり、
好ましくは12,000〜35,000の範囲である。
分子量が5,000未満では機械物性が不十分であり、
添加剤を含有せしめる際に支障がでてくるし、逆に4
0,000越えると添加剤の分散性能が劣り、色ムラ等
の原因となり得る。また、末端比率は、該ポリカーボネ
ートの全末端に占める末端ヒドロキシ基の割合が1〜6
0%の範囲にあることが好ましい。好ましくは、1〜4
5%の範囲であり、より好ましくは2〜15%の範囲で
ある。末端ヒドロキシ基の全末端に占める割合が60%
より大きい場合は、ポリカーボネートに求められる耐熱
水性や耐熱性が低下する。また、1%より小さい場合
は、成形中断後の再開時の黒ゴミの発生が増加しやすく
生産性が低下する。なお、本発明のポリカーボネート
は、微量成分として、アルカリ金属及び/又はアルカリ
土類金属含有量が1〜800ppbの範囲であることが
必須である。
平均分子量で5,000〜40,000の範囲であり、
好ましくは12,000〜35,000の範囲である。
分子量が5,000未満では機械物性が不十分であり、
添加剤を含有せしめる際に支障がでてくるし、逆に4
0,000越えると添加剤の分散性能が劣り、色ムラ等
の原因となり得る。また、末端比率は、該ポリカーボネ
ートの全末端に占める末端ヒドロキシ基の割合が1〜6
0%の範囲にあることが好ましい。好ましくは、1〜4
5%の範囲であり、より好ましくは2〜15%の範囲で
ある。末端ヒドロキシ基の全末端に占める割合が60%
より大きい場合は、ポリカーボネートに求められる耐熱
水性や耐熱性が低下する。また、1%より小さい場合
は、成形中断後の再開時の黒ゴミの発生が増加しやすく
生産性が低下する。なお、本発明のポリカーボネート
は、微量成分として、アルカリ金属及び/又はアルカリ
土類金属含有量が1〜800ppbの範囲であることが
必須である。
【0025】アルカリ金属及びアルカリ土類金属として
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグ
ネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等が
挙げられる。これら金属類は、触媒残査や原材料中の不
純物、製造過程で混入する異物としてポリカーボネート
中に混入し、その状態も、イオン、無機化合物、有機化
合物との塩やコンプレックス等であり、ポリカーボネー
ト中に存在する形態は特に限定されない。該金属類の測
定法は特に限定されないが、ポリカーボネートを灰化し
た後に原子吸光法で測定する方法が好ましい。該金属含
有量が上記範囲より多い場合は、成形再開時の黒ゴミの
発生が増加し好ましくない。上記範囲より少ない場合
は、成形性が低下して好ましくない。好ましい該金属含
有量としては、1〜400ppbの範囲であり、より好
ましくは1〜200ppbの範囲である。
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグ
ネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等が
挙げられる。これら金属類は、触媒残査や原材料中の不
純物、製造過程で混入する異物としてポリカーボネート
中に混入し、その状態も、イオン、無機化合物、有機化
合物との塩やコンプレックス等であり、ポリカーボネー
ト中に存在する形態は特に限定されない。該金属類の測
定法は特に限定されないが、ポリカーボネートを灰化し
た後に原子吸光法で測定する方法が好ましい。該金属含
有量が上記範囲より多い場合は、成形再開時の黒ゴミの
発生が増加し好ましくない。上記範囲より少ない場合
は、成形性が低下して好ましくない。好ましい該金属含
有量としては、1〜400ppbの範囲であり、より好
ましくは1〜200ppbの範囲である。
【0026】芳香族モノヒドロキシ化合物としては、重
縮合過程で発生する芳香族モノヒドロキシ化合物類と、
分子量調節剤または特定末端基用に用いられる芳香族モ
ノドロキシ化合物類が挙げられる。前者の場合、原料と
して用いる炭酸ジエステルの種類によって発生する芳香
族モノヒドロキシ化合物の種類も異なるが、例えば、炭
酸ジエステルとしてシフェニルカーボネートを使用して
場合には、フェノールが発生する。後者の場合、例え
ば、t−ブチルフェノール、t−オクチルフェノール、
クミルフェノール、クロマニルフェノール及びその核置
換体等が一般に用いられている。本発明においては、該
芳香族モノヒドロキシ化合物を1〜200ppm含有す
ることが必須であり、該範囲より多い場合は、色調の低
下が避けられない。上記範囲より少ない場合は、成形性
が低下して望ましくない。より好ましくは1〜150p
pmの範囲であり、特に好ましくは5〜90ppmの範
囲である。
縮合過程で発生する芳香族モノヒドロキシ化合物類と、
分子量調節剤または特定末端基用に用いられる芳香族モ
ノドロキシ化合物類が挙げられる。前者の場合、原料と
して用いる炭酸ジエステルの種類によって発生する芳香
族モノヒドロキシ化合物の種類も異なるが、例えば、炭
酸ジエステルとしてシフェニルカーボネートを使用して
場合には、フェノールが発生する。後者の場合、例え
ば、t−ブチルフェノール、t−オクチルフェノール、
クミルフェノール、クロマニルフェノール及びその核置
換体等が一般に用いられている。本発明においては、該
芳香族モノヒドロキシ化合物を1〜200ppm含有す
ることが必須であり、該範囲より多い場合は、色調の低
下が避けられない。上記範囲より少ない場合は、成形性
が低下して望ましくない。より好ましくは1〜150p
pmの範囲であり、特に好ましくは5〜90ppmの範
囲である。
【0027】本発明のポリカーボネートは、上記のよう
な芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとからエ
ステル交換法にて製造されるが、エステル交換法とは、
上記化合物を触媒の存在もしくは非存在下で減圧下及び
/又は不活性ガス流下で加熱しながら溶融状態でエステ
ル交換反応にて重縮合する方法をいい、その重合方法、
装置等には制限はない。例えば、撹拌槽型反応器、薄膜
反応器、遠心式薄膜蒸発反応器、表面更新型二軸混練反
応器、二軸横型撹拌反応器、濡れ壁式反応器、自由落下
させながら重合する多孔型反応器、ワイヤーに沿わせて
落下させながら重合するワイヤー付き多孔型反応器等を
用い、これらの単独もしくは組み合わせることで容易に
製造できる。また、溶融状態でエステル交換反応を行い
プレポリマーを製造した後、固相状態で減圧下及び/又
は不活性ガス流下で重合度を高める固相重合法でも製造
できる。エステル交換の反応の温度は、通常50〜35
0℃、好ましくは100〜300℃の温度の範囲が選ば
れ、特に制限はない。一般に、上記範囲より高い温度で
は、得られるポリカーボネートの着色が大きく且つ熱安
定性にも劣る傾向にある。また、上記範囲より低い温度
では、重合反応が遅く実用的でない。反応圧力は、溶融
重合中のポリカーボネートの分子量によっても異なり、
数平均分子量が1000以下の範囲では、50mmHg
〜常圧の範囲が一般に用いられ、数平均分子量が100
0〜2000の範囲では、3mmHg〜80mmHgの
範囲が、数平均分子量が2000以上の範囲では、10
mmHg以下、特に5mmHg以下が用いられる。
な芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとからエ
ステル交換法にて製造されるが、エステル交換法とは、
上記化合物を触媒の存在もしくは非存在下で減圧下及び
/又は不活性ガス流下で加熱しながら溶融状態でエステ
ル交換反応にて重縮合する方法をいい、その重合方法、
装置等には制限はない。例えば、撹拌槽型反応器、薄膜
反応器、遠心式薄膜蒸発反応器、表面更新型二軸混練反
応器、二軸横型撹拌反応器、濡れ壁式反応器、自由落下
させながら重合する多孔型反応器、ワイヤーに沿わせて
落下させながら重合するワイヤー付き多孔型反応器等を
用い、これらの単独もしくは組み合わせることで容易に
製造できる。また、溶融状態でエステル交換反応を行い
プレポリマーを製造した後、固相状態で減圧下及び/又
は不活性ガス流下で重合度を高める固相重合法でも製造
できる。エステル交換の反応の温度は、通常50〜35
0℃、好ましくは100〜300℃の温度の範囲が選ば
れ、特に制限はない。一般に、上記範囲より高い温度で
は、得られるポリカーボネートの着色が大きく且つ熱安
定性にも劣る傾向にある。また、上記範囲より低い温度
では、重合反応が遅く実用的でない。反応圧力は、溶融
重合中のポリカーボネートの分子量によっても異なり、
数平均分子量が1000以下の範囲では、50mmHg
〜常圧の範囲が一般に用いられ、数平均分子量が100
0〜2000の範囲では、3mmHg〜80mmHgの
範囲が、数平均分子量が2000以上の範囲では、10
mmHg以下、特に5mmHg以下が用いられる。
【0028】また、重合後のポリカーボネートから微量
成分を除去して、本発明のポリカーボネート組成物を製
造することも可能である。例えば、該ポリカーボネート
を良溶媒に溶解し、濾過後に貧溶媒を加え再沈澱させる
方法、微量成分を溶解し且つポリカーボネートを溶解し
ない溶媒、例えばアセトンのような溶媒で微量成分を抽
出する方法、随伴溶媒を添加して(また無添加で)高真
空下で微量成分を強制除去する方法、ポリカーボネート
が溶解しない温度で、真空下また常圧下で乾燥する方法
等が挙げられる。
成分を除去して、本発明のポリカーボネート組成物を製
造することも可能である。例えば、該ポリカーボネート
を良溶媒に溶解し、濾過後に貧溶媒を加え再沈澱させる
方法、微量成分を溶解し且つポリカーボネートを溶解し
ない溶媒、例えばアセトンのような溶媒で微量成分を抽
出する方法、随伴溶媒を添加して(また無添加で)高真
空下で微量成分を強制除去する方法、ポリカーボネート
が溶解しない温度で、真空下また常圧下で乾燥する方法
等が挙げられる。
【0029】また、エステル交換法による重合は、触媒
を加えずに実施することができるが、重合速度を高める
ため、必要に応じて触媒の存在下で行なわれる。重合触
媒としては、この分野で用いられているものであれば特
に制限はないが、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属
及びアルカリ土類金属の水酸化物類;水素化アルミニウ
ムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素テ
トラメチルアンモニウムなどのホウ素やアルミニウムの
水素化物のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、第四
級アンモニウム塩類;水素化リチウム、水素化カルシウ
ムなどのアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水素化合
物類;リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
ルシウムメトキシドなどのアルカリ金属及びアルカリ土
類金属のアルコキシド類;リチウムフェノキシド、ナト
リウムフェノキシド、マグネシウムフェノキシド、Li
O−Ar−OLi、NaO−Ar−ONa(Arはアリ
ール基)などのアルカリ金属及びアルカリ土類金属のア
リーロキシド類;酢酸リチウム、酢酸カルシウム、安息
香酸ナトリウムなどのアルカリ金属及びアルカリ土類金
属の有機酸塩類;酸化亜鉛、酢酸亜鉛、亜鉛フェノキシ
ドなどの亜鉛化合物類;酸化ホウ酸、ホウ酸ナトリウ
ム、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリ
フェニル、(R1 R2 R3 R4 )NB(R1 R2 R3 R
4 )または(R1 R2 R3 R4 )PB(R1 R2 R3 R
4 )で表されるアンモニウムボレート類またはホスホニ
ウムボレート類(R1 R2 R3 R4 は前述の説明とおり
である。)などのホウ酸の化合物類;酸化ケイ素、ケイ
酸ナトリウム、テトラアルキルケイ素、テトラアリール
ケイ素、ジフェニル−エチル−エトキシケイ素などのケ
イ素の化合物類;酸化ゲルマニウム、四塩化ゲルマニウ
ム、ゲルマニウムエトキシド、ゲルマニウムフェノキシ
ドなどのゲルマニウムの化合物類;酸化スズ、ジアルキ
ルスズオキシド、ジアルキルスズカルボキシレート、酢
酸スズ、エチルスズトリプトキシドなどのアルコキシ基
またはアリーロキシ基と結合したスズ化合物;有機スズ
化合物などのスズの化合物類;酸化鉛、酢酸鉛、炭素
鉛、塩基性炭酸塩、鉛及び有機鉛のアルコキシドまたは
アリーロキシドなどの鉛の化合物類;第四級アンモニウ
ム塩、第四級ホスホニウム塩、第四級アルソニウム塩な
どのオニウム化合物類;酸化アンチモン、酢酸アンチモ
ンなどのアンチモン化合物類;酸化マンガン、炭酸マン
ガン、ホウ酸マンガンなどのマンガンの化合物類;酸化
チタン、チタンのアルコキシドまたはアリーロキシドな
どのチタンの化合物類;酢酸ジルコニウム、酸化ジルコ
ニウム、ジルコニウムのアルコキシド又はアリーロキシ
ド、ジルコニウムアセチルアセトンなどのジルコニウム
の化合物類などの触媒を挙げることができる。
を加えずに実施することができるが、重合速度を高める
ため、必要に応じて触媒の存在下で行なわれる。重合触
媒としては、この分野で用いられているものであれば特
に制限はないが、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属
及びアルカリ土類金属の水酸化物類;水素化アルミニウ
ムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素テ
トラメチルアンモニウムなどのホウ素やアルミニウムの
水素化物のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、第四
級アンモニウム塩類;水素化リチウム、水素化カルシウ
ムなどのアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水素化合
物類;リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
ルシウムメトキシドなどのアルカリ金属及びアルカリ土
類金属のアルコキシド類;リチウムフェノキシド、ナト
リウムフェノキシド、マグネシウムフェノキシド、Li
O−Ar−OLi、NaO−Ar−ONa(Arはアリ
ール基)などのアルカリ金属及びアルカリ土類金属のア
リーロキシド類;酢酸リチウム、酢酸カルシウム、安息
香酸ナトリウムなどのアルカリ金属及びアルカリ土類金
属の有機酸塩類;酸化亜鉛、酢酸亜鉛、亜鉛フェノキシ
ドなどの亜鉛化合物類;酸化ホウ酸、ホウ酸ナトリウ
ム、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリ
フェニル、(R1 R2 R3 R4 )NB(R1 R2 R3 R
4 )または(R1 R2 R3 R4 )PB(R1 R2 R3 R
4 )で表されるアンモニウムボレート類またはホスホニ
ウムボレート類(R1 R2 R3 R4 は前述の説明とおり
である。)などのホウ酸の化合物類;酸化ケイ素、ケイ
酸ナトリウム、テトラアルキルケイ素、テトラアリール
ケイ素、ジフェニル−エチル−エトキシケイ素などのケ
イ素の化合物類;酸化ゲルマニウム、四塩化ゲルマニウ
ム、ゲルマニウムエトキシド、ゲルマニウムフェノキシ
ドなどのゲルマニウムの化合物類;酸化スズ、ジアルキ
ルスズオキシド、ジアルキルスズカルボキシレート、酢
酸スズ、エチルスズトリプトキシドなどのアルコキシ基
またはアリーロキシ基と結合したスズ化合物;有機スズ
化合物などのスズの化合物類;酸化鉛、酢酸鉛、炭素
鉛、塩基性炭酸塩、鉛及び有機鉛のアルコキシドまたは
アリーロキシドなどの鉛の化合物類;第四級アンモニウ
ム塩、第四級ホスホニウム塩、第四級アルソニウム塩な
どのオニウム化合物類;酸化アンチモン、酢酸アンチモ
ンなどのアンチモン化合物類;酸化マンガン、炭酸マン
ガン、ホウ酸マンガンなどのマンガンの化合物類;酸化
チタン、チタンのアルコキシドまたはアリーロキシドな
どのチタンの化合物類;酢酸ジルコニウム、酸化ジルコ
ニウム、ジルコニウムのアルコキシド又はアリーロキシ
ド、ジルコニウムアセチルアセトンなどのジルコニウム
の化合物類などの触媒を挙げることができる。
【0030】触媒を用いる場合、これらの触媒は1種だ
けで用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても
良い。また、これらの触媒の使用量は、原料の芳香族ジ
ヒドロキシ化合物に対して、通常10-8〜1重量%、好
ましくは10-7〜10-1重量%の範囲で選ばれる。ま
た、アルカリ又はアルカリ土類金属系触媒を用い、重合
後の除去操作を行わない場合は、重合後のポリカーボネ
ート中のアルカリ又は及びアルカリ土類金属の合計含有
量が1〜800ppbになる範囲で用いる必要がある。
けで用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても
良い。また、これらの触媒の使用量は、原料の芳香族ジ
ヒドロキシ化合物に対して、通常10-8〜1重量%、好
ましくは10-7〜10-1重量%の範囲で選ばれる。ま
た、アルカリ又はアルカリ土類金属系触媒を用い、重合
後の除去操作を行わない場合は、重合後のポリカーボネ
ート中のアルカリ又は及びアルカリ土類金属の合計含有
量が1〜800ppbになる範囲で用いる必要がある。
【0031】次に、本発明においてポリカーボネートに
高濃度に含有される添加剤としては、耐熱安定剤、耐候
剤、離型剤、着色剤、分散剤、帯電防止剤、導電性フィ
ラー、抗菌性、難燃性付与剤、無機系充填剤等があげら
れる。耐熱安定剤としては、特に限定はされず、ポリカ
ーボネートに使用可能なものが使用できる。例えば、リ
ン系安定剤、フェノール系安定剤、イオウ系安定剤、エ
ポキシ系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤が使用でき
る。
高濃度に含有される添加剤としては、耐熱安定剤、耐候
剤、離型剤、着色剤、分散剤、帯電防止剤、導電性フィ
ラー、抗菌性、難燃性付与剤、無機系充填剤等があげら
れる。耐熱安定剤としては、特に限定はされず、ポリカ
ーボネートに使用可能なものが使用できる。例えば、リ
ン系安定剤、フェノール系安定剤、イオウ系安定剤、エ
ポキシ系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤が使用でき
る。
【0032】リン系安定剤としては、リン酸類、亜リン
酸エステル類、ホスフィン酸エステル類、リン酸エステ
ル類、ホスホン酸エステル類が挙げられる。具体的に
は、例えばリン酸類としては、リン酸、亜リン酸、次亜
リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、下記構造式(7)で
示されるホスフィン酸類、構造式(8)で示されるホス
ホン酸類等が挙げられる。
酸エステル類、ホスフィン酸エステル類、リン酸エステ
ル類、ホスホン酸エステル類が挙げられる。具体的に
は、例えばリン酸類としては、リン酸、亜リン酸、次亜
リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、下記構造式(7)で
示されるホスフィン酸類、構造式(8)で示されるホス
ホン酸類等が挙げられる。
【0033】
【化7】 (式中、R11はエチル基、ブチル基、オクチル基、シク
ロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、トリ
デシル基、ラウリル基、ベンタエリスリトール基、ステ
アリル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の
アリール基、又はトリル基、P−t−ブチルフェニル
基、パラノニルフェニル基、ジノニルフェニル基等のア
ルキルアリール基を示す。)
ロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、トリ
デシル基、ラウリル基、ベンタエリスリトール基、ステ
アリル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の
アリール基、又はトリル基、P−t−ブチルフェニル
基、パラノニルフェニル基、ジノニルフェニル基等のア
ルキルアリール基を示す。)
【0034】これらの具体例としては、フェニルホスホ
ン酸が挙げられる。これらの化合物は単独で使用しても
良いし、混合物で使用しても良い。亜リン酸エステル類
としては、亜リン酸トリエステル、亜リン酸ジエステ
ル、亜リン酸モノエステルが挙げられ、下記構造式
(9)、(10)、(11)、(12)で表される。
ン酸が挙げられる。これらの化合物は単独で使用しても
良いし、混合物で使用しても良い。亜リン酸エステル類
としては、亜リン酸トリエステル、亜リン酸ジエステ
ル、亜リン酸モノエステルが挙げられ、下記構造式
(9)、(10)、(11)、(12)で表される。
【0035】
【化8】 (式中、R12、R13、R14、R15、R16、R18、R19、
R20、R21、R22、R23は化合物内で同一であっても異
なっていても良く、水素、エチル基、ブチル基、オクチ
ル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、デシ
ル基、トリデシル基、ラウリル基、ペンタエリスリトー
ル基、ステアリル基等のアルキル基、フェニル基、ナフ
チル基等のアリール基、又はトリル基、P−t−ブチル
フェニル基、2、4−ジ−t−ブチルフェニル基、2、
6−ジ−t−ブチルフェニル基、パラノニルフェニル
基、ジノニルフェニル基等のアルキルアリール基を示
し、R17、R24はアルキレン基、アリレン基、又はアリ
ールアルキレン基を示す。)
R20、R21、R22、R23は化合物内で同一であっても異
なっていても良く、水素、エチル基、ブチル基、オクチ
ル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、デシ
ル基、トリデシル基、ラウリル基、ペンタエリスリトー
ル基、ステアリル基等のアルキル基、フェニル基、ナフ
チル基等のアリール基、又はトリル基、P−t−ブチル
フェニル基、2、4−ジ−t−ブチルフェニル基、2、
6−ジ−t−ブチルフェニル基、パラノニルフェニル
基、ジノニルフェニル基等のアルキルアリール基を示
し、R17、R24はアルキレン基、アリレン基、又はアリ
ールアルキレン基を示す。)
【0036】これらの具体例としては、例えば亜リン酸
トリエステルでは、トリス(2、4−ジ−t−ブチルフ
ェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホス
ファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、
トリフェニルホスファイト、テトラフェニルジプロピレ
ングリコールホスファイト、テトラ(トリデシル)4、
4’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ビ
ス(トリデシル)ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ビス(2、4−ジ−t−ブチルフェニル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2、6−
ジ−t−ブチル4メチルフェニル)ペンタエツスリトー
ルジホスファイト、ジステアリル、ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、水添ビスフェノールA・ペンタエリ
スリトールホスファイトポリマー、テトラフェニルテト
ラ(トリデジル)ペンタエリスリトールテトラホスファ
イトが挙げられる。
トリエステルでは、トリス(2、4−ジ−t−ブチルフ
ェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホス
ファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、
トリフェニルホスファイト、テトラフェニルジプロピレ
ングリコールホスファイト、テトラ(トリデシル)4、
4’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ビ
ス(トリデシル)ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ビス(2、4−ジ−t−ブチルフェニル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2、6−
ジ−t−ブチル4メチルフェニル)ペンタエツスリトー
ルジホスファイト、ジステアリル、ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、水添ビスフェノールA・ペンタエリ
スリトールホスファイトポリマー、テトラフェニルテト
ラ(トリデジル)ペンタエリスリトールテトラホスファ
イトが挙げられる。
【0037】これらの中で、2、4−ジ−t−ブチルフ
ェニル基、2、6−ジ−t−ブチルフェニル基を持つも
のが特に好ましく、具体例としてはトリス(2、4−ジ
−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ビス(2、4−
ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホス
ファイト、ビス(2、6−ジ−t−ブチル4メタルフェ
ニル)ペンタエリスリトールジホスファイトが挙げられ
る。
ェニル基、2、6−ジ−t−ブチルフェニル基を持つも
のが特に好ましく、具体例としてはトリス(2、4−ジ
−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ビス(2、4−
ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホス
ファイト、ビス(2、6−ジ−t−ブチル4メタルフェ
ニル)ペンタエリスリトールジホスファイトが挙げられ
る。
【0038】亜リン酸ジエステルの好ましい具体例とし
ては、芳香族亜リン酸ジエステルが好ましく、例えばジ
フェニルハイドロゲンホスファイト、ビス(ノニルフェ
ニル)ハイドロゲンホスファイト、ビス(2、4−ジ−
t−ブチルフェニル)ハイドロゲンホスファイト、ジク
レジルハイドロゲンホスファイト、(ビス(p−t−ブ
チルフェニル)ハイドロゲンホスファイト、ビス(p−
ヘキシルフェニル)ハイドロゲンホスファイト等が挙げ
られる。
ては、芳香族亜リン酸ジエステルが好ましく、例えばジ
フェニルハイドロゲンホスファイト、ビス(ノニルフェ
ニル)ハイドロゲンホスファイト、ビス(2、4−ジ−
t−ブチルフェニル)ハイドロゲンホスファイト、ジク
レジルハイドロゲンホスファイト、(ビス(p−t−ブ
チルフェニル)ハイドロゲンホスファイト、ビス(p−
ヘキシルフェニル)ハイドロゲンホスファイト等が挙げ
られる。
【0039】亜リン酸モノエステルの好ましい具体例と
しては、フェニルジハイドロゲンホスファイト、ノニル
フェニルジハイドロゲンホスファイト、2、4−ジ−t
−ブチルフェニルジハイドロゲンホスファイト等が挙げ
られる。これらの化合物は単独で使用しても良いし、混
合物で使用しても良い。ホスフィン酸エステル類として
は、ホスフィン酸ジエステル、ホスフィン酸モノエステ
ルが挙げられ、下記構造式(13)、(14)で表され
る。
しては、フェニルジハイドロゲンホスファイト、ノニル
フェニルジハイドロゲンホスファイト、2、4−ジ−t
−ブチルフェニルジハイドロゲンホスファイト等が挙げ
られる。これらの化合物は単独で使用しても良いし、混
合物で使用しても良い。ホスフィン酸エステル類として
は、ホスフィン酸ジエステル、ホスフィン酸モノエステ
ルが挙げられ、下記構造式(13)、(14)で表され
る。
【0040】
【化9】 (式中、R25はエチル基、ブチル基、オクチル基、シク
ロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、トリ
デシル基、ラウリル基、ベンタエリスリトール基、ステ
アリル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の
アリール基、又はトリル基、P−t−ブチルフェニル
基、2、4−ジ−t−ブチルフェニル基、2、6−ジ−
t−ブチルフェニル基、パラノニルフェニル基、ジノニ
ルフェニル基等のアルキルアリール基を示し、R26、R
27、R28、R29、R31、R32は化合物内で同一であって
も異なっていても良く、水素、エチル基、ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、
デシル基、トリデシル基、ラウリル基、ペンタエリスリ
トール基、ステアリル基等のアルキル基、フェニル基、
ナフチル基等のアリール基、又はトリル基、P−t−ブ
チルフェニル基、2−4−ジt−ブチルフェニル基、
2、6−ジ−t−ブチルフェニル基、パラノニルフェニ
ル基、ジノニルフェニル基等のアルキルアリール基を示
し、R30はアルキレン基、アリレン基、又はアリールア
ルキレン基を示す。)
ロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、トリ
デシル基、ラウリル基、ベンタエリスリトール基、ステ
アリル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の
アリール基、又はトリル基、P−t−ブチルフェニル
基、2、4−ジ−t−ブチルフェニル基、2、6−ジ−
t−ブチルフェニル基、パラノニルフェニル基、ジノニ
ルフェニル基等のアルキルアリール基を示し、R26、R
27、R28、R29、R31、R32は化合物内で同一であって
も異なっていても良く、水素、エチル基、ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、
デシル基、トリデシル基、ラウリル基、ペンタエリスリ
トール基、ステアリル基等のアルキル基、フェニル基、
ナフチル基等のアリール基、又はトリル基、P−t−ブ
チルフェニル基、2−4−ジt−ブチルフェニル基、
2、6−ジ−t−ブチルフェニル基、パラノニルフェニ
ル基、ジノニルフェニル基等のアルキルアリール基を示
し、R30はアルキレン基、アリレン基、又はアリールア
ルキレン基を示す。)
【0041】このような化合物の具体的な例としては、
4、4’−ビフェニレンジホスフィン酸テトラキス
(2、4−ジ−t−ブチルフェニル)が挙げられる。こ
れらの化合物は単独で使用しても良いし、混合物で使用
しても良い。リン酸エステル類としては、リン酸ジエス
テル、リン酸モノエステルが挙げられ、下記構造式(1
5)、(16)、(17)、(18)で表される。
4、4’−ビフェニレンジホスフィン酸テトラキス
(2、4−ジ−t−ブチルフェニル)が挙げられる。こ
れらの化合物は単独で使用しても良いし、混合物で使用
しても良い。リン酸エステル類としては、リン酸ジエス
テル、リン酸モノエステルが挙げられ、下記構造式(1
5)、(16)、(17)、(18)で表される。
【0042】
【化10】 (式中、R13、R14、R16、R17、R18、R19、R21、
R23、R24は前述と同一の基である。)
R23、R24は前述と同一の基である。)
【0043】これらの具体例としては、リン酸ジエステ
ル野具体例としては、例えばジフェニルハイドロゲンホ
スフェート、ビス(ノニルフェニル)ハイドロゲンホス
フェート、ビス(2、4−ジ−t−ブチルフェニル)ハ
イドロゲンホスフェート、ジクレジルハイドロゲンホス
フェート、(ビス(p−t−ブチルフェニル)ハイドロ
ゲンホスフェート、ビス(p−ヘキシルフェニル)ハイ
ドロゲンホスフェート等が挙げられる。
ル野具体例としては、例えばジフェニルハイドロゲンホ
スフェート、ビス(ノニルフェニル)ハイドロゲンホス
フェート、ビス(2、4−ジ−t−ブチルフェニル)ハ
イドロゲンホスフェート、ジクレジルハイドロゲンホス
フェート、(ビス(p−t−ブチルフェニル)ハイドロ
ゲンホスフェート、ビス(p−ヘキシルフェニル)ハイ
ドロゲンホスフェート等が挙げられる。
【0044】リン酸モノエステルの具体例としては、フ
ェニルジハイドロゲンホスフェート、ノニルフェニルジ
ハイドロゲンホスフェート、2、4−ジ−t−ブチルフ
ェニルジハイドロゲンホスフェート等が挙げられる。こ
れらの化合物は単独で使用しても良いし、混合物で使用
しても良い。ホスホン酸エステル類としては、ホスホン
酸モノエステルが挙げられ、下記構造式(19)、(2
0)で表される。
ェニルジハイドロゲンホスフェート、ノニルフェニルジ
ハイドロゲンホスフェート、2、4−ジ−t−ブチルフ
ェニルジハイドロゲンホスフェート等が挙げられる。こ
れらの化合物は単独で使用しても良いし、混合物で使用
しても良い。ホスホン酸エステル類としては、ホスホン
酸モノエステルが挙げられ、下記構造式(19)、(2
0)で表される。
【0045】
【化11】 (式中、R25、R27、R29、R30、R31、R32は前述と
同一基である。)
同一基である。)
【0046】フェノール系安定剤は、下記構造式(2
1)で示される化合物である。
1)で示される化合物である。
【化12】 (式中、R33は水素原子、水酸基、アルコキシル基又は
置換基を有していてもよい炭化水素残基を示し、R33は
同一でも異なっていても良い。但し、R33の内少なくと
も1つは置換基を有していてもよい炭化水素残基を示す
ものとする。)
置換基を有していてもよい炭化水素残基を示し、R33は
同一でも異なっていても良い。但し、R33の内少なくと
も1つは置換基を有していてもよい炭化水素残基を示す
ものとする。)
【0047】具体的には、2、6−ジ−t−ブチル−p
−クレゾール、2、6−ジ−t−ブチル−p−アニソー
ル、2、6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、
2、2’−メチレンビス(6−t−ブチル−p−クレゾ
ール)、2、2’−メチレンビス(4−エーテル6−t
−ブチル−p−フェノール)、4−4’−メチレンビス
(6−t−ブチル−p−クレゾール)、4、4’−ブチ
リデンビス(6−t−ブチル−m−クレゾール)、テト
ラキス〔メチレン−3−(3’、5’−ジ−t−ブチル
−4’−ヒドロキイシフェニル)プロビオネート〕メタ
ン、4、4’−チオビス(6−t−ブチル−m−クレゾ
ール)、ステアリル−β−(3、5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロビオネート、1、3、5
−トリメチル−2、4、6−トリス(3、5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1、1、
3−トリス(2−メチル−4−ヒチロキシ5−t−ブチ
ルフェニル)ブタン、トリエチレングリコールビス〔3
−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロビオネート〕等が挙げられる。
−クレゾール、2、6−ジ−t−ブチル−p−アニソー
ル、2、6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、
2、2’−メチレンビス(6−t−ブチル−p−クレゾ
ール)、2、2’−メチレンビス(4−エーテル6−t
−ブチル−p−フェノール)、4−4’−メチレンビス
(6−t−ブチル−p−クレゾール)、4、4’−ブチ
リデンビス(6−t−ブチル−m−クレゾール)、テト
ラキス〔メチレン−3−(3’、5’−ジ−t−ブチル
−4’−ヒドロキイシフェニル)プロビオネート〕メタ
ン、4、4’−チオビス(6−t−ブチル−m−クレゾ
ール)、ステアリル−β−(3、5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロビオネート、1、3、5
−トリメチル−2、4、6−トリス(3、5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1、1、
3−トリス(2−メチル−4−ヒチロキシ5−t−ブチ
ルフェニル)ブタン、トリエチレングリコールビス〔3
−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロビオネート〕等が挙げられる。
【0048】好ましいフェノール系安定剤としては、下
記構造式(22)で示される化合物である。
記構造式(22)で示される化合物である。
【化13】 (式中、R34はメチル基又はt−ブチル基、R35はt−
ブチル基を、Aは炭素中1〜30のb価の炭化水素又は
複素環残基を残し、aは1〜4の整数、bは1以上の整
数を示す。)
ブチル基を、Aは炭素中1〜30のb価の炭化水素又は
複素環残基を残し、aは1〜4の整数、bは1以上の整
数を示す。)
【0049】具体的には、テトラキス〔メチレン−3−
(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキイシフ
ェニル)プロビオネート〕メタン、ステアリル−β−
(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロビオネート、トリエチレングリコールビス〔3−
(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロビオネート〕等が挙げられる。更にP原子を含
んだフェノール系安定剤、例えば3、5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルホスフォネートジエチルエ
ステル、ビス(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸エチル)カルシウム等も挙げられ
る。これらのフェノール系安定剤は単独で用いても良い
し、混合物で用いてもよい。
(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキイシフ
ェニル)プロビオネート〕メタン、ステアリル−β−
(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロビオネート、トリエチレングリコールビス〔3−
(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロビオネート〕等が挙げられる。更にP原子を含
んだフェノール系安定剤、例えば3、5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルホスフォネートジエチルエ
ステル、ビス(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸エチル)カルシウム等も挙げられ
る。これらのフェノール系安定剤は単独で用いても良い
し、混合物で用いてもよい。
【0050】イオウ系安定剤としては、式:R36−SO
2 −R37で示されるスルフィン酸、式:R38−SO3 R
37(両式中、R36はR11と同一の基であり、R37はR12
と同一の基である。)で示されるスルホン酸及びそのエ
ステル類や、下記構造式(23)等で示されるチオエー
テル化合物がある。
2 −R37で示されるスルフィン酸、式:R38−SO3 R
37(両式中、R36はR11と同一の基であり、R37はR12
と同一の基である。)で示されるスルホン酸及びそのエ
ステル類や、下記構造式(23)等で示されるチオエー
テル化合物がある。
【0051】
【化14】 (式中、R38、R39はC12〜C18のアルキル基を示
す。)
す。)
【0052】これらの具体的な例としては、例えばベン
ゼンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸、及びこれら酸のメチル、エチル、ブチル、オ
クチル、フェニルエステルが挙げられる。また、ラウリ
ル−3、3’−チオジプロピオネート、ジトリデシル−
3、3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3、
3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3、3’
−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール(β−
ラウリルチオプロピオネート)等が挙げられる。これら
のイオウ系安定剤は単独で用いても良いし、混合物で用
いても良い。
ゼンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸、及びこれら酸のメチル、エチル、ブチル、オ
クチル、フェニルエステルが挙げられる。また、ラウリ
ル−3、3’−チオジプロピオネート、ジトリデシル−
3、3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3、
3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3、3’
−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール(β−
ラウリルチオプロピオネート)等が挙げられる。これら
のイオウ系安定剤は単独で用いても良いし、混合物で用
いても良い。
【0053】エポキシ安定剤としては、例えばエポキシ
化大豆油、エポキシ化アマニ油等の油脂類、フェニルグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、t−ブ
チルフェニルグリシジルエーテル、ビスフェノールAジ
グリシジルエーテル、テトラブロムビスフェノールAジ
グリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、
ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のグリシ
ジル化合物、3、4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
3、4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−
3−、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
2、3−エポキシクロヘキシルメチル−3、4−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、4−(3、4−エ
ポキシ−5−メチルシクロヘキシル)ブチル−3、4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3、4−エ
ポキシクロヘキシルエチレンオキシド、シクロヘキシル
メチル3、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、3、4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチ
ル−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス
エポキシシクロヘキシルアジペート、オクタデシル−
2、2’−ジメチル−3、4−エポキシクロヘキサンカ
ルボキシレート、N−ブチル−2、2’−ジメチル3、
4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、シクロ
ヘキシル−2−メチル−3、4−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート、N−ブチル−2−イソプロピル−
3、4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキ
シレート、オクタデシル−3、4−エポキシシクロヘキ
サンカルボキシレート、2−エチルヘキシル−3、4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、4、6−ジ
メチル2、3−エポキシシクロヘキシル−3、4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート、ジエチル−4、
5−エポキシ−シス−1、2−シクロヘキサンカルボキ
シレート、ジ−n−ブチル−3−t−ブチル−4、5−
エポキシ−シス−1、2−シクロヘキサンカルボキシレ
ート、3、4−ジメチル−1、2−エポキシシクロヘキ
サン、3、5−ジメチル−1、2−エポキシシクロヘキ
サン、3−メチル−5−t−ブチル−1、2−エポキシ
シクロヘキサン等のエポキシシクロヘキサン化合物、ビ
スエポキシジシクロペンタジエニルエーテル、ブタジエ
ンエポキシド、テトラフェニルエイレネボキシド、エポ
キシ化ポリブタジエン、4、5−エポキシ無水テトラヒ
ドロフタル酸、3−t−ブチル−4、5−エポキシ無水
テトラヒドロフタル酸等が挙げられる。これのエポキシ
系安定剤は単独で用いても良いし、混合物で用いても良
い。
化大豆油、エポキシ化アマニ油等の油脂類、フェニルグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、t−ブ
チルフェニルグリシジルエーテル、ビスフェノールAジ
グリシジルエーテル、テトラブロムビスフェノールAジ
グリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、
ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のグリシ
ジル化合物、3、4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
3、4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−
3−、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
2、3−エポキシクロヘキシルメチル−3、4−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、4−(3、4−エ
ポキシ−5−メチルシクロヘキシル)ブチル−3、4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3、4−エ
ポキシクロヘキシルエチレンオキシド、シクロヘキシル
メチル3、4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、3、4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチ
ル−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス
エポキシシクロヘキシルアジペート、オクタデシル−
2、2’−ジメチル−3、4−エポキシクロヘキサンカ
ルボキシレート、N−ブチル−2、2’−ジメチル3、
4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、シクロ
ヘキシル−2−メチル−3、4−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート、N−ブチル−2−イソプロピル−
3、4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキ
シレート、オクタデシル−3、4−エポキシシクロヘキ
サンカルボキシレート、2−エチルヘキシル−3、4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、4、6−ジ
メチル2、3−エポキシシクロヘキシル−3、4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート、ジエチル−4、
5−エポキシ−シス−1、2−シクロヘキサンカルボキ
シレート、ジ−n−ブチル−3−t−ブチル−4、5−
エポキシ−シス−1、2−シクロヘキサンカルボキシレ
ート、3、4−ジメチル−1、2−エポキシシクロヘキ
サン、3、5−ジメチル−1、2−エポキシシクロヘキ
サン、3−メチル−5−t−ブチル−1、2−エポキシ
シクロヘキサン等のエポキシシクロヘキサン化合物、ビ
スエポキシジシクロペンタジエニルエーテル、ブタジエ
ンエポキシド、テトラフェニルエイレネボキシド、エポ
キシ化ポリブタジエン、4、5−エポキシ無水テトラヒ
ドロフタル酸、3−t−ブチル−4、5−エポキシ無水
テトラヒドロフタル酸等が挙げられる。これのエポキシ
系安定剤は単独で用いても良いし、混合物で用いても良
い。
【0054】ヒンダードアミン系安定剤としては、ビス
(2、2、6、6−テトラメチル−4−ビペリジル)セ
パケート、ビス(1、2、2、6、6−ペンタメチル−
4−ビペリジル)セパケート、2−(3、5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシペンジル)−2−nブチルマロ
ン酸ビス(1、2、2、6、6−ペンタメチル−4−ペ
ペリジル)テトラキシ(2、2、6、6−テトラメチル
−4−ピペリジル)1、2、3、4−ブタンテトラカル
ボキシレート、1−〔2−{3−(3、5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}
エチル〕−4−{3−(3、5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}−2、2、
6、6−テトラメチルピペリジン、8−ベンジル−7、
7、9、9−テトラメチル−3−オクチル−1、2、3
−トリアザスピロ{4、5}ウンデカン−2、4−ジオ
ン、4−ベンゾイルオキシ−2、2、6、6−テトラメ
チルピペリジン等が挙げられる。これらは単独で用いて
も良いし、混合物で用いても良い。
(2、2、6、6−テトラメチル−4−ビペリジル)セ
パケート、ビス(1、2、2、6、6−ペンタメチル−
4−ビペリジル)セパケート、2−(3、5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシペンジル)−2−nブチルマロ
ン酸ビス(1、2、2、6、6−ペンタメチル−4−ペ
ペリジル)テトラキシ(2、2、6、6−テトラメチル
−4−ピペリジル)1、2、3、4−ブタンテトラカル
ボキシレート、1−〔2−{3−(3、5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}
エチル〕−4−{3−(3、5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}−2、2、
6、6−テトラメチルピペリジン、8−ベンジル−7、
7、9、9−テトラメチル−3−オクチル−1、2、3
−トリアザスピロ{4、5}ウンデカン−2、4−ジオ
ン、4−ベンゾイルオキシ−2、2、6、6−テトラメ
チルピペリジン等が挙げられる。これらは単独で用いて
も良いし、混合物で用いても良い。
【0055】これら耐熱安定剤は、単独で用いても良い
し組み合わせて用いても良い。これらの内、活性水素基
を有するリン系やイオウ系安定剤及びスルフィン酸もし
くはスルホン酸のエステル類が好ましく用いられる。活
性水素基を有するリン系安定剤の例としては、前述のリ
ン酸類、ホスフィン酸類、ホスホン酸類、亜リン酸ジエ
ステル類、リン酸モノエステル類、ホスフィン酸モノエ
ステル類、リン酸ジエステル類、リン酸モノエステル
類、ホスホン酸モノエステル類等が挙げられ、活性水素
基を有するイオウ系安定剤の例としては、スルフィン酸
類、スルホン酸類が挙げられる。これらの中でも活性水
素基を有するリン系安定剤が好ましく、特に亜リン酸ジ
エステル類、亜リン酸モノエステル類が黒ゴミ発生抑制
効果が大きくて好ましい。添加量は特に限定されない
が、一般にポリカーボネート100重量部に対して0.
0005〜0.22重量部の範囲で用いられる。亜リン
酸ジエステル類、亜リン酸モノエステル類においては、
0.0005〜0.015の範囲で用いられるのが好ま
しく、0.0005〜0.009重量部の範囲が特に好
ましい。
し組み合わせて用いても良い。これらの内、活性水素基
を有するリン系やイオウ系安定剤及びスルフィン酸もし
くはスルホン酸のエステル類が好ましく用いられる。活
性水素基を有するリン系安定剤の例としては、前述のリ
ン酸類、ホスフィン酸類、ホスホン酸類、亜リン酸ジエ
ステル類、リン酸モノエステル類、ホスフィン酸モノエ
ステル類、リン酸ジエステル類、リン酸モノエステル
類、ホスホン酸モノエステル類等が挙げられ、活性水素
基を有するイオウ系安定剤の例としては、スルフィン酸
類、スルホン酸類が挙げられる。これらの中でも活性水
素基を有するリン系安定剤が好ましく、特に亜リン酸ジ
エステル類、亜リン酸モノエステル類が黒ゴミ発生抑制
効果が大きくて好ましい。添加量は特に限定されない
が、一般にポリカーボネート100重量部に対して0.
0005〜0.22重量部の範囲で用いられる。亜リン
酸ジエステル類、亜リン酸モノエステル類においては、
0.0005〜0.015の範囲で用いられるのが好ま
しく、0.0005〜0.009重量部の範囲が特に好
ましい。
【0056】また、耐熱安定剤を組み合わせて用いる場
合は自由に組み合わせが可能であるが、上記活性水素基
を有するリン系やイオウ系安定剤及びスルフィン酸もし
くはスルホン酸のエステル類の中から選択される一種以
上の安定剤と、他のリン系安定剤、フェノール系安定
剤、イオウ系安定剤、エポキシ系安定剤、ヒンダードア
ミン系安定剤等の中から選択される一種以上の安定剤と
を組み合わせるのが好ましい。中でも活性水素基を有す
るリン系やイオウ系安定剤及びスルフィン酸もしくはス
ルホン酸のエステル類の中から選択される一種以上の安
定剤と亜リン酸トリエステル類、ホスフィン酸ジエステ
ル類、フェノール系安定剤の中から選択される一種以上
の安定剤とを組み合わせるのが特に好ましく、更に、亜
リン酸ジエステル類、亜リン酸モノエステル類から選択
される一種以上の安定剤と亜リン酸トリエステル類、ホ
スフィン酸ジエステル類、フェノール系安定剤の中から
選択される一種以上の安定剤とを組み合わせるのが特に
好ましい。
合は自由に組み合わせが可能であるが、上記活性水素基
を有するリン系やイオウ系安定剤及びスルフィン酸もし
くはスルホン酸のエステル類の中から選択される一種以
上の安定剤と、他のリン系安定剤、フェノール系安定
剤、イオウ系安定剤、エポキシ系安定剤、ヒンダードア
ミン系安定剤等の中から選択される一種以上の安定剤と
を組み合わせるのが好ましい。中でも活性水素基を有す
るリン系やイオウ系安定剤及びスルフィン酸もしくはス
ルホン酸のエステル類の中から選択される一種以上の安
定剤と亜リン酸トリエステル類、ホスフィン酸ジエステ
ル類、フェノール系安定剤の中から選択される一種以上
の安定剤とを組み合わせるのが特に好ましく、更に、亜
リン酸ジエステル類、亜リン酸モノエステル類から選択
される一種以上の安定剤と亜リン酸トリエステル類、ホ
スフィン酸ジエステル類、フェノール系安定剤の中から
選択される一種以上の安定剤とを組み合わせるのが特に
好ましい。
【0057】これらの安定剤との併用により、ポリカー
ボネート樹脂組成物の性能として要求されるリサイクル
成形時の着色、長期耐熱老化性が改善される。これら安
定剤の添加量は特に限定されていないが、ポリカーボネ
ート100重量部に対して、活性水素基を有するリン系
やイオウ系安定剤及びスルフィン酸もしくはスルホン酸
のエステル類の中から選択される一種以上の安定剤は、
一般に0.0005〜0.015重量部の範囲にあり、
好ましくは0.0005〜0.009の範囲にあり、併
用する安定剤は一般に0.0005〜0.1重量部の範
囲であり、好ましくは0.0005〜0.07重量部、
更に好ましくは0.001〜0.05重量部である。
ボネート樹脂組成物の性能として要求されるリサイクル
成形時の着色、長期耐熱老化性が改善される。これら安
定剤の添加量は特に限定されていないが、ポリカーボネ
ート100重量部に対して、活性水素基を有するリン系
やイオウ系安定剤及びスルフィン酸もしくはスルホン酸
のエステル類の中から選択される一種以上の安定剤は、
一般に0.0005〜0.015重量部の範囲にあり、
好ましくは0.0005〜0.009の範囲にあり、併
用する安定剤は一般に0.0005〜0.1重量部の範
囲であり、好ましくは0.0005〜0.07重量部、
更に好ましくは0.001〜0.05重量部である。
【0058】耐候剤としては、紫外線吸収剤が中心的役
割を果たすが、さらに光安定化剤(HALS)或いは他
の添加剤と併用して使用することも可能である。このよ
うな紫外線吸収剤としては、ベンゾエート系、ベンゾト
リアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート誘導体
などが知られており、具体的には2、4−ジ−t−ブチ
ルフェニル−3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンゾエート、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチル
−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’ヒドロキ
シ−3’、5’−ジ−t−ブチル−フェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(2’ヒドロキシ−3’−t−ブチル
−5’−メチル−フェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t
−ブチル−フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’、5’−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾ
ール、2、4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2
−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン
酸、フェニルサリシレート、P−t−ブチルフェニルサ
リシレート等挙げられる。
割を果たすが、さらに光安定化剤(HALS)或いは他
の添加剤と併用して使用することも可能である。このよ
うな紫外線吸収剤としては、ベンゾエート系、ベンゾト
リアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート誘導体
などが知られており、具体的には2、4−ジ−t−ブチ
ルフェニル−3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンゾエート、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチル
−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’ヒドロキ
シ−3’、5’−ジ−t−ブチル−フェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(2’ヒドロキシ−3’−t−ブチル
−5’−メチル−フェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジ−t
−ブチル−フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’、5’−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾ
ール、2、4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2
−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン
酸、フェニルサリシレート、P−t−ブチルフェニルサ
リシレート等挙げられる。
【0059】離型剤としては、パラフィン、ポリエチレ
ンワックス、シリコンオイル、ステアリン酸アミドエチ
レンビスステアロアミド、ブチルステアレート、ペンタ
エリスリトールテトラステアレート等から選ぶことがで
きる。ポリカーボネートの着色剤としては成形加工温度
が高いことを考慮して、通常は顔料が用いられるが、例
えば、カーボンブラック、酸化チタン、酸化クロム、弁
柄、群青、亜鉛 、カドミウム系顔料、コバルト系顔
料、その他焼成顔料等の無機顔料、フタロシアニン系顔
料、ペリレン系顔料、アンスラキノン系顔料、キナクリ
ドン系顔料、イソインドリノン系顔料等の有機顔料、炭
酸カルシウム、硫酸バリウム、タルタ、クレー、シリカ
等の体質顔料が挙げられ、なかでもカーボンブラック、
酸化チタン、弁柄、群青、コバルト系顔料、フタロシア
ニン系顔料が好ましく使用される。
ンワックス、シリコンオイル、ステアリン酸アミドエチ
レンビスステアロアミド、ブチルステアレート、ペンタ
エリスリトールテトラステアレート等から選ぶことがで
きる。ポリカーボネートの着色剤としては成形加工温度
が高いことを考慮して、通常は顔料が用いられるが、例
えば、カーボンブラック、酸化チタン、酸化クロム、弁
柄、群青、亜鉛 、カドミウム系顔料、コバルト系顔
料、その他焼成顔料等の無機顔料、フタロシアニン系顔
料、ペリレン系顔料、アンスラキノン系顔料、キナクリ
ドン系顔料、イソインドリノン系顔料等の有機顔料、炭
酸カルシウム、硫酸バリウム、タルタ、クレー、シリカ
等の体質顔料が挙げられ、なかでもカーボンブラック、
酸化チタン、弁柄、群青、コバルト系顔料、フタロシア
ニン系顔料が好ましく使用される。
【0060】また、上記着色剤は分散剤、例えばステア
リン酸亜鉛、ワックス、ステアリン酸アマイド、エチレ
ンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシ
ステアリン酸アマイド、モンタン酸エステル部分ケン化
物、ヒドロキシステアリン酸アマイド、ポリエチレンワ
ックス、ヒドロキシステアリン酸トリグリセリド等と併
用して用いることができる。
リン酸亜鉛、ワックス、ステアリン酸アマイド、エチレ
ンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシ
ステアリン酸アマイド、モンタン酸エステル部分ケン化
物、ヒドロキシステアリン酸アマイド、ポリエチレンワ
ックス、ヒドロキシステアリン酸トリグリセリド等と併
用して用いることができる。
【0061】帯電防止剤としてはアニオン系、ノニオン
系が中心であるが、グリセリン脂肪酸モノエステル、芳
香族スルホン酸、芳香族ホスホン酸、および芳香族リン
酸部分エステルのアルカリ(土類)金属塩、リン酸ジエ
ステル(末端封鎖PEG、PPG、PEG−PPG)、
硫酸エステル(末端封鎖PEG、PPG)のアルカリ
(土類)金属塩、グリセリン脂肪酸モノエステル、アク
リレート又はスチレンをグラフトしたポリアルキレンエ
ーテル、ラジカル生成剤で改変のポリアルキレンエーテ
ル、脂肪族スルホン酸または芳香族スルホン酸のアルカ
リ金属塩とグリセリン脂肪族エステルの混合物、スルホ
ン酸ホスホニウム塩、グリセリン脂肪酸マレイン酸エス
テル、ジグリセリン脂肪酸マレイン酸エステル、ジグリ
セリン脂肪酸エステル、スルホン酸ホスホニウム塩とホ
ウ酸またはホウ酸エステルの混合物、ポリアミド及びポ
リオキシアルキレンセグメント含有ポリアミドエラスト
マー等が使用される。
系が中心であるが、グリセリン脂肪酸モノエステル、芳
香族スルホン酸、芳香族ホスホン酸、および芳香族リン
酸部分エステルのアルカリ(土類)金属塩、リン酸ジエ
ステル(末端封鎖PEG、PPG、PEG−PPG)、
硫酸エステル(末端封鎖PEG、PPG)のアルカリ
(土類)金属塩、グリセリン脂肪酸モノエステル、アク
リレート又はスチレンをグラフトしたポリアルキレンエ
ーテル、ラジカル生成剤で改変のポリアルキレンエーテ
ル、脂肪族スルホン酸または芳香族スルホン酸のアルカ
リ金属塩とグリセリン脂肪族エステルの混合物、スルホ
ン酸ホスホニウム塩、グリセリン脂肪酸マレイン酸エス
テル、ジグリセリン脂肪酸マレイン酸エステル、ジグリ
セリン脂肪酸エステル、スルホン酸ホスホニウム塩とホ
ウ酸またはホウ酸エステルの混合物、ポリアミド及びポ
リオキシアルキレンセグメント含有ポリアミドエラスト
マー等が使用される。
【0062】そのほか、カーボンブラック等の導電性フ
ィラー、銀系抗菌剤、ベンズイミダゾール系防カビ剤、
リン系難燃剤、ガラス繊維、ガラスフレーク等の既に公
知の無機系充填剤が添加剤として挙げられる。他の高分
子重合体としては、ポリスチレン、AS樹脂、ABS樹
脂等のスチレン系樹脂、ポリエステル樹脂(PET、P
BT)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、
ポリ4−メチルペンテン、エチレン・プロピレンコポリ
マー、EPDM等のポリオレフィン系樹脂、アクリル樹
脂、ナイロン6又はナイロン66等のポリアミド樹脂、
ホスゲン法ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエー
テル樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー等が挙げら
れる。また(B)の添加量はA/B(重量比)=1/9
9〜80/20の範囲である。
ィラー、銀系抗菌剤、ベンズイミダゾール系防カビ剤、
リン系難燃剤、ガラス繊維、ガラスフレーク等の既に公
知の無機系充填剤が添加剤として挙げられる。他の高分
子重合体としては、ポリスチレン、AS樹脂、ABS樹
脂等のスチレン系樹脂、ポリエステル樹脂(PET、P
BT)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、
ポリ4−メチルペンテン、エチレン・プロピレンコポリ
マー、EPDM等のポリオレフィン系樹脂、アクリル樹
脂、ナイロン6又はナイロン66等のポリアミド樹脂、
ホスゲン法ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエー
テル樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー等が挙げら
れる。また(B)の添加量はA/B(重量比)=1/9
9〜80/20の範囲である。
【0063】前出の各種添加剤をポリカーボネートに混
合する方法としては、従来から公知の方法で行うことが
でき、特に限定されない。例えば、各成分をヘンシェル
ミキサー、スーパーミキサー、タンブラーミキサー、リ
ボンブレンダー等で均一に混合した後、単軸押出機や二
軸押出機、バンバリーミキサー等で溶融混練する方法
や、溶融状態のポリカーボネートに混合槽、スタチック
ミキサー、単軸押出機、二軸又は多軸押出機等を用いて
添加剤を混合する方法が一例として可能である。このよ
うにして得られた(A)と(B)との混合方法は、典型
的な形態としてはペレットブレンドと呼ばれるものであ
り、添加剤の分級が妨げられ、含有量のコントロールの
点でも優れたものである。
合する方法としては、従来から公知の方法で行うことが
でき、特に限定されない。例えば、各成分をヘンシェル
ミキサー、スーパーミキサー、タンブラーミキサー、リ
ボンブレンダー等で均一に混合した後、単軸押出機や二
軸押出機、バンバリーミキサー等で溶融混練する方法
や、溶融状態のポリカーボネートに混合槽、スタチック
ミキサー、単軸押出機、二軸又は多軸押出機等を用いて
添加剤を混合する方法が一例として可能である。このよ
うにして得られた(A)と(B)との混合方法は、典型
的な形態としてはペレットブレンドと呼ばれるものであ
り、添加剤の分級が妨げられ、含有量のコントロールの
点でも優れたものである。
【0064】
【実施例】以下に、実施例及び比較例を用いて本発明を
更に詳細に説明する。各項目の評価は、以下の方法で測
定した。 (イ)アルカリ金属及びアルカリ土類金属含有量 ポリカーボネートを酸素プラズマアッシュアーにて低温
灰化後、フレームレス原子吸光法で測定を行った。 (ロ)重量平均分子量 ゲルパーミエーション クロマトグラフィーにて測定し
た。 カラム:TSK−GEL(東洋曹達社製)、溶媒:TH
F。 (ハ)ヒドロキシ基末端比率 NMR測定により求めた。 (ニ)実験に用いたポリカーボネート(表1)
更に詳細に説明する。各項目の評価は、以下の方法で測
定した。 (イ)アルカリ金属及びアルカリ土類金属含有量 ポリカーボネートを酸素プラズマアッシュアーにて低温
灰化後、フレームレス原子吸光法で測定を行った。 (ロ)重量平均分子量 ゲルパーミエーション クロマトグラフィーにて測定し
た。 カラム:TSK−GEL(東洋曹達社製)、溶媒:TH
F。 (ハ)ヒドロキシ基末端比率 NMR測定により求めた。 (ニ)実験に用いたポリカーボネート(表1)
【0065】A−1はビスフェノールA、ジフェニール
カーボネート(対ビスフェノールAモル比1.10)及
び触媒としてビスフェノールAのジナトリウム塩(対ビ
スフェノールAモル比3×10-8)を撹拌槽型反応器3
基とワイヤー付き多孔板型反応器2基からなる連続重合
装置に仕込み、段階的に重合温度と減圧度を上げ、最高
重合温度250℃で反応を完結させた。得られたポリカ
ーボネートは透明でヒバロキシ末端比率は4%、また重
量平均分子量は22000であり、ナトリウム含有量は
5ppbであった。
カーボネート(対ビスフェノールAモル比1.10)及
び触媒としてビスフェノールAのジナトリウム塩(対ビ
スフェノールAモル比3×10-8)を撹拌槽型反応器3
基とワイヤー付き多孔板型反応器2基からなる連続重合
装置に仕込み、段階的に重合温度と減圧度を上げ、最高
重合温度250℃で反応を完結させた。得られたポリカ
ーボネートは透明でヒバロキシ末端比率は4%、また重
量平均分子量は22000であり、ナトリウム含有量は
5ppbであった。
【0066】A−3、4、5はビスフェノールAのジナ
トリウム塩の使用量(対ビスフェノールAモル比)をそ
れぞれ8×10-8、5×10-6、3×10-7とすること
以外は同様な方法で重合を行い、表1に示すポリカーボ
ネートを得た。A−2は撹拌槽型反応器で重合せしめた
重量平均分子量が8000のポリカーボネートプレポリ
マーをアセトンで結晶化させた後、窒素による流動槽型
固相重合器を用いて最高温度220℃で固相重合を行っ
て得たもので分子量等は表1に示すとおりである。B−
1、2、3はビスフェノールAのジナトリウム塩、ホス
ゲン及びフェノールモノナトリウム塩(分子量調節剤)
を用い、いわゆるホスゲン法で合成したもので分子量等
は表1に示すとおりである。
トリウム塩の使用量(対ビスフェノールAモル比)をそ
れぞれ8×10-8、5×10-6、3×10-7とすること
以外は同様な方法で重合を行い、表1に示すポリカーボ
ネートを得た。A−2は撹拌槽型反応器で重合せしめた
重量平均分子量が8000のポリカーボネートプレポリ
マーをアセトンで結晶化させた後、窒素による流動槽型
固相重合器を用いて最高温度220℃で固相重合を行っ
て得たもので分子量等は表1に示すとおりである。B−
1、2、3はビスフェノールAのジナトリウム塩、ホス
ゲン及びフェノールモノナトリウム塩(分子量調節剤)
を用い、いわゆるホスゲン法で合成したもので分子量等
は表1に示すとおりである。
【0067】
【表1】
【0068】(実施例1)重合体A−1;10重量部に
カーボンブラック0.2重量部を単軸押出機で溶融混練
して得た重合体ペレットと重合体B−1;90重量部の
ペレットブレンドを射出成形機(日本製鋼所J100
E)により射出成形し、ボックス状成形品(厚さ1m
m)を得た。この成形品は、目視による色ムラは無く色
調は良好であった。
カーボンブラック0.2重量部を単軸押出機で溶融混練
して得た重合体ペレットと重合体B−1;90重量部の
ペレットブレンドを射出成形機(日本製鋼所J100
E)により射出成形し、ボックス状成形品(厚さ1m
m)を得た。この成形品は、目視による色ムラは無く色
調は良好であった。
【0069】(比較例1)カーボンブラックを予め重合
体A−1に溶融混練することなく単純ブレンドし(添加
剤が重合体に完全に含有されていない。)、更に重合体
B−1とブレンドする以外は実施例1と同じ方法で得た
ボックス状成形品は色ムラが有り、色調も不良であっ
た。
体A−1に溶融混練することなく単純ブレンドし(添加
剤が重合体に完全に含有されていない。)、更に重合体
B−1とブレンドする以外は実施例1と同じ方法で得た
ボックス状成形品は色ムラが有り、色調も不良であっ
た。
【0070】(実施例2)実施例1においてカーボンブ
ラック0.2部を溶融混練する代りに酸化チタン2部を
重合体A−1の表面にコーティングする以外は同様な方
法でボックス状成形品を得たが、このものも色ムラは無
く色調は良好であった。
ラック0.2部を溶融混練する代りに酸化チタン2部を
重合体A−1の表面にコーティングする以外は同様な方
法でボックス状成形品を得たが、このものも色ムラは無
く色調は良好であった。
【0071】(比較例2)比較例1と同様に、酸化チタ
ンを予め重合体A−1;20重量部に溶融混練すること
なく単純ブレンドし、更に重合体B−1;80重量部と
ブレンドする以外は実施例1と同じ方法でボックス状成
形品を得たが、その外観は色ムラが有り、色調も不良で
あった。
ンを予め重合体A−1;20重量部に溶融混練すること
なく単純ブレンドし、更に重合体B−1;80重量部と
ブレンドする以外は実施例1と同じ方法でボックス状成
形品を得たが、その外観は色ムラが有り、色調も不良で
あった。
【0072】(比較例3)重合体A−3;10重量部の
表面にフタロシアンブルー0.2部を表面コーティング
したものに重合体B−1;90重量部をペレットブレン
ドしたものを実施例1と同様に成形した。得られたボッ
クス状成形品の表面は色ムラは無いものの色調は不良で
あった。
表面にフタロシアンブルー0.2部を表面コーティング
したものに重合体B−1;90重量部をペレットブレン
ドしたものを実施例1と同様に成形した。得られたボッ
クス状成形品の表面は色ムラは無いものの色調は不良で
あった。
【0073】(比較例4)実施例1において、重合体A
−4;40重量部、重合体B−1;60重量部を用いる
以外は同じ方法でボックス状成形品を得たが、このもの
の外観は色調が不良であった。
−4;40重量部、重合体B−1;60重量部を用いる
以外は同じ方法でボックス状成形品を得たが、このもの
の外観は色調が不良であった。
【0074】(比較例5)実施例1において、重合体A
−5;40重量部、重合体B−3;60重量部を用いる
以外は同じ方法でボックス状成形品を得たが、このもの
の外観は色調が不良であった。
−5;40重量部、重合体B−3;60重量部を用いる
以外は同じ方法でボックス状成形品を得たが、このもの
の外観は色調が不良であった。
【0075】(比較例6)フェロシアンブルー0.2重
量部をA−3;10重量部の重合時に添加したものと重
合体B−3;90重量部とブレンドして比較例3と同様
な方法で得たボックス状成形品は色ムラは無いものの、
色調は良好と言えるものではなかった。以上の結果は表
2に示す。
量部をA−3;10重量部の重合時に添加したものと重
合体B−3;90重量部とブレンドして比較例3と同様
な方法で得たボックス状成形品は色ムラは無いものの、
色調は良好と言えるものではなかった。以上の結果は表
2に示す。
【0076】
【表2】
【0077】(実施例3−8)表3に示すように重合体
A−1を20〜50重量部とし、成分B;80〜50重
量部として各々ナイロン6〔宇部ナイロン1013B
(宇部興産)〕、PBT〔プラナックBT−1000−
S01(大日本インキ化学)〕、変性PPE〔ザイロン
500H(旭化成工業)〕、PC(B−3)とABS
〔スタイラック191F(旭化成工業)〕との1/1ブ
レンド物、PMMA〔デルペット980N(旭化成工
業)〕、PC(B−1)/スチレン系熱可塑性エラスト
マー〔タフテックM1943(旭化成工業)〕の9/1
ブレンド物とする以外は実施例1と同じ方法でボックス
状成形品を得たがこれらは色調も良好であった。得られ
た結果を表3に示す。
A−1を20〜50重量部とし、成分B;80〜50重
量部として各々ナイロン6〔宇部ナイロン1013B
(宇部興産)〕、PBT〔プラナックBT−1000−
S01(大日本インキ化学)〕、変性PPE〔ザイロン
500H(旭化成工業)〕、PC(B−3)とABS
〔スタイラック191F(旭化成工業)〕との1/1ブ
レンド物、PMMA〔デルペット980N(旭化成工
業)〕、PC(B−1)/スチレン系熱可塑性エラスト
マー〔タフテックM1943(旭化成工業)〕の9/1
ブレンド物とする以外は実施例1と同じ方法でボックス
状成形品を得たがこれらは色調も良好であった。得られ
た結果を表3に示す。
【0078】
【表3】
【0079】(比較例7−12)実施例3−8における
重合体A−1の代わりに重合体A−4を用いる以外は実
施例3−8と同様な方法でボックス状成形品を得た。こ
れらの外観を調べたところ色調はいずれも不良であっ
た。得られた結果を表4に示す。
重合体A−1の代わりに重合体A−4を用いる以外は実
施例3−8と同様な方法でボックス状成形品を得た。こ
れらの外観を調べたところ色調はいずれも不良であっ
た。得られた結果を表4に示す。
【0080】
【表4】
【0081】(実施例9)実施例1において、カーボン
ブラック0.2部の代わりにケッチェンブラックEC6
10JD(ライオン)8重量部を用いる以外は同様な方
法でボックス状成形品を得た。この成形品の表面抵抗の
バラツキは小さく良好な導電性を示すものであった。
ブラック0.2部の代わりにケッチェンブラックEC6
10JD(ライオン)8重量部を用いる以外は同様な方
法でボックス状成形品を得た。この成形品の表面抵抗の
バラツキは小さく良好な導電性を示すものであった。
【0082】(比較例13)比較例1において、カーボ
ンブラック0.2部の代わりにケッチェンブラックEC
610JD;8重量部を用いる以外は同様な方法でボッ
クス状成形品を得たが、この成形品の表面抵抗のバラツ
キが大きく導電性が良好とはいえないものであった。
ンブラック0.2部の代わりにケッチェンブラックEC
610JD;8重量部を用いる以外は同様な方法でボッ
クス状成形品を得たが、この成形品の表面抵抗のバラツ
キが大きく導電性が良好とはいえないものであった。
【0083】(実施例10)カーボンブラック0.2部
をヘキストワックスOP(ヘキスト社製)0.5重量部
を用いる以外は実施例1と同様な方法でボックス状成形
品を得たが、ボックス状成形品の成形時の可塑化時間の
バラツキは小さく安定な成形性を示した。
をヘキストワックスOP(ヘキスト社製)0.5重量部
を用いる以外は実施例1と同様な方法でボックス状成形
品を得たが、ボックス状成形品の成形時の可塑化時間の
バラツキは小さく安定な成形性を示した。
【0084】(比較例14)カーボンブラック0.2部
をヘキストワックスOP(ヘキスト社製)0.5重量部
を用いる以外は比較例1と同様な方法でボックス状成形
品を得たが、ボックス状成形品の成形時の可塑化時間の
バラツキが大きく、成形性は安定しているとはいえなか
った。 以上の結果は表5に示す。
をヘキストワックスOP(ヘキスト社製)0.5重量部
を用いる以外は比較例1と同様な方法でボックス状成形
品を得たが、ボックス状成形品の成形時の可塑化時間の
バラツキが大きく、成形性は安定しているとはいえなか
った。 以上の結果は表5に示す。
【0085】
【表5】
Claims (3)
- 【請求項1】 (A)芳香族ジドロキシ化合物および炭
酸ジエステルを必須成分としてエステル交換法により製
造し、(a)アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属
を1〜800ppbを含み、かつ(b)末端ヒドロキシ
基が全末端基に対し1〜60%であり、(c)重量平均
分子量が5,000〜40,000のポリカーボネート
であり、更に添加剤を含有するポリカーボネート、およ
び(B)他の高分子重合体を、A/B(重量比)=1/
99〜80/20の範囲で混合してなることを特徴とす
る樹脂組成物。 - 【請求項2】 (B)他の高分子重合体がスチレン系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポ
リオレフィン、ポリカーボネート、ポリフェニレンエー
テルおよびエラストマーの群から選ばれる1種又は2種
以上であることを特徴とする請求項1記載の樹脂組成
物。 - 【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の樹脂組成物
を成形してなる成形体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26803795A JPH0987501A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | 添加剤含有樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26803795A JPH0987501A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | 添加剤含有樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0987501A true JPH0987501A (ja) | 1997-03-31 |
Family
ID=17453001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26803795A Pending JPH0987501A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | 添加剤含有樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0987501A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000009582A1 (de) * | 1998-08-13 | 2000-02-24 | Bayer Aktiengesellschaft | Hochreine polycarbonate und verfahren zu deren herstellung |
JP2001226576A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-21 | Asahi Kasei Corp | ポリカーボネート組成物 |
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1995
- 1995-09-22 JP JP26803795A patent/JPH0987501A/ja active Pending
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