JPH0981917A - 薄膜磁気ヘッドスライダ - Google Patents
薄膜磁気ヘッドスライダInfo
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- JPH0981917A JPH0981917A JP23157695A JP23157695A JPH0981917A JP H0981917 A JPH0981917 A JP H0981917A JP 23157695 A JP23157695 A JP 23157695A JP 23157695 A JP23157695 A JP 23157695A JP H0981917 A JPH0981917 A JP H0981917A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 記録媒体に対向する空気ベアリング面を有
し、該空気ベアリング面に直交する側面に磁気抵抗効果
素子層とその下側及び上側のシールド層とを備える磁気
抵抗効果型ヘッドが配され、前記磁気抵抗効果素子層及
びシールド層の断面が前記空気ベアリング面に露出した
薄膜磁気ヘッドスライダにおいて、前記磁気抵抗効果素
子のストライプ高を正確に制御する。 【解決手段】 前記下側のシールド層上で前記上側のシ
ールド層に覆われない位置に、前記磁気抵抗効果素子層
と同時に形成され、前記空気ベアリング面の研摩による
前記磁気抵抗効果素子層のストライプ高の変化を検知す
るためのマーカー層が配されていることを特徴とする。
し、該空気ベアリング面に直交する側面に磁気抵抗効果
素子層とその下側及び上側のシールド層とを備える磁気
抵抗効果型ヘッドが配され、前記磁気抵抗効果素子層及
びシールド層の断面が前記空気ベアリング面に露出した
薄膜磁気ヘッドスライダにおいて、前記磁気抵抗効果素
子のストライプ高を正確に制御する。 【解決手段】 前記下側のシールド層上で前記上側のシ
ールド層に覆われない位置に、前記磁気抵抗効果素子層
と同時に形成され、前記空気ベアリング面の研摩による
前記磁気抵抗効果素子層のストライプ高の変化を検知す
るためのマーカー層が配されていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクド
ライブ等の磁気記録装置に使用される薄膜磁気ヘッドス
ライダに関するものである。
ライブ等の磁気記録装置に使用される薄膜磁気ヘッドス
ライダに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】薄膜磁気ヘッドの電磁変換効率を最適化
するためには、スロート高の正確な制御が求められる。
するためには、スロート高の正確な制御が求められる。
【０００３】薄膜磁気ヘッドの記録媒体対向面研摩によ
るスロート高の変化量を検知するための一手段として、
電気的研摩案内抵抗器を用いる技術が特公平７−１０４
９５号公報に記載されている。
るスロート高の変化量を検知するための一手段として、
電気的研摩案内抵抗器を用いる技術が特公平７−１０４
９５号公報に記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
電気的研摩案内抵抗器を用いる技術では、抵抗器を構成
する薄膜の膜厚のバラツキ等により、スロート高の絶対
値を正確に検知できないという問題がある。
電気的研摩案内抵抗器を用いる技術では、抵抗器を構成
する薄膜の膜厚のバラツキ等により、スロート高の絶対
値を正確に検知できないという問題がある。
【０００５】また、前記電気的研摩案内抵抗器を用いる
技術では、複数の薄膜磁気ヘッド素子を並べたブロック
の両端に抵抗器を配し、該ブロックを強制的に歪ませな
がら研摩するので、ブロックの反り、うねり等により、
抵抗器と各磁気ヘッド素子との研摩量が正確に一致しな
いという問題がある。
技術では、複数の薄膜磁気ヘッド素子を並べたブロック
の両端に抵抗器を配し、該ブロックを強制的に歪ませな
がら研摩するので、ブロックの反り、うねり等により、
抵抗器と各磁気ヘッド素子との研摩量が正確に一致しな
いという問題がある。
【０００６】さらに、前記ブロックを各磁気ヘッド素子
ごとにスライスした後で、記録媒体対向面のクラウン形
状、ツウィスト形状、キャンバー形状等を整えるための
仕上げ研摩を行う際には、前記電気的研摩案内抵抗器を
用いることができないという問題もある。
ごとにスライスした後で、記録媒体対向面のクラウン形
状、ツウィスト形状、キャンバー形状等を整えるための
仕上げ研摩を行う際には、前記電気的研摩案内抵抗器を
用いることができないという問題もある。
【０００７】本発明は、記録媒体に対向する空気ベアリ
ング面を有し、該空気ベアリング面に直交する側面に磁
気抵抗効果素子層とその下側及び上側のシールド層とを
備える磁気抵抗効果型ヘッドが配され、前記磁気抵抗効
果素子層及びシールド層の断面が前記空気ベアリング面
に露出した磁気ヘッドスライダにおいて、前記磁気抵抗
効果素子のストライプ高を正確に制御するための薄膜磁
気ヘッドスライダの構成を明らかにするものである。
ング面を有し、該空気ベアリング面に直交する側面に磁
気抵抗効果素子層とその下側及び上側のシールド層とを
備える磁気抵抗効果型ヘッドが配され、前記磁気抵抗効
果素子層及びシールド層の断面が前記空気ベアリング面
に露出した磁気ヘッドスライダにおいて、前記磁気抵抗
効果素子のストライプ高を正確に制御するための薄膜磁
気ヘッドスライダの構成を明らかにするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明による薄膜磁気ヘ
ッドスライダは、記録媒体に対向する空気ベアリング面
を有し、該空気ベアリング面に直交する側面に磁気抵抗
効果素子層とその下側及び上側のシールド層とを備える
磁気抵抗効果型ヘッドが配され、前記磁気抵抗効果素子
層とシールド層の断面が前記空気ベアリング面に露出し
た磁気ヘッドスライダにおいて、前記下側のシールド層
上で前記上側のシールド層に覆われない位置に、前記磁
気抵抗効果素子層と同時に形成され、前記空気ベアリン
グ面の研摩による前記磁気抵抗効果素子層のストライプ
高の変化を検知するためのマーカー層が配されているこ
とを特徴とするものである。
ッドスライダは、記録媒体に対向する空気ベアリング面
を有し、該空気ベアリング面に直交する側面に磁気抵抗
効果素子層とその下側及び上側のシールド層とを備える
磁気抵抗効果型ヘッドが配され、前記磁気抵抗効果素子
層とシールド層の断面が前記空気ベアリング面に露出し
た磁気ヘッドスライダにおいて、前記下側のシールド層
上で前記上側のシールド層に覆われない位置に、前記磁
気抵抗効果素子層と同時に形成され、前記空気ベアリン
グ面の研摩による前記磁気抵抗効果素子層のストライプ
高の変化を検知するためのマーカー層が配されているこ
とを特徴とするものである。
【０００９】上記本発明の構成によれば、マーカー層を
磁気抵抗効果素子層と同時に形成するので、マーカー層
と磁気抵抗効果素子層との相対配置にバラツキが生じな
い。
磁気抵抗効果素子層と同時に形成するので、マーカー層
と磁気抵抗効果素子層との相対配置にバラツキが生じな
い。
【００１０】また、磁気抵抗素子層に近接した下部シー
ルド層上にマーカー層を形成するので、マーカー層と磁
気抵抗効果素子層の研摩量に差が生じにくい。
ルド層上にマーカー層を形成するので、マーカー層と磁
気抵抗効果素子層の研摩量に差が生じにくい。
【００１１】さらに、スライダ完成品の空気ベアリング
面の端部に残る位置にマーカー層を形成するので、記録
媒体対向面の仕上げ研摩の終了時点においても、磁気抵
抗効果素子層のストライプ高を検知することができる。
面の端部に残る位置にマーカー層を形成するので、記録
媒体対向面の仕上げ研摩の終了時点においても、磁気抵
抗効果素子層のストライプ高を検知することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
【００１３】本発明実施例による薄膜磁気ヘッドスライ
ダの外観を、図４に示す。
ダの外観を、図４に示す。
【００１４】この薄膜磁気ヘッドスライダは、スライダ
基体１の記録媒体（図示せず）に対向する部分に空気ベ
アリング面１９を有し、該空気ベアリング面に直交する
側面に信号再生用の磁気抵抗効果型ヘッド１８及び信号
記録用の誘導型薄膜磁気ヘッド１７が配されたものであ
る。
基体１の記録媒体（図示せず）に対向する部分に空気ベ
アリング面１９を有し、該空気ベアリング面に直交する
側面に信号再生用の磁気抵抗効果型ヘッド１８及び信号
記録用の誘導型薄膜磁気ヘッド１７が配されたものであ
る。
【００１５】前記薄膜磁気ヘッドスライダの空気ベアリ
ング面（すなわち記録媒体対向面）の研摩が未完の状態
における前記磁気抵抗効果型ヘッドの記録媒体対向面要
部正視図を図１の（ａ）に、薄膜パターン形成面要部透
視図を図１の（ｂ）に示す。
ング面（すなわち記録媒体対向面）の研摩が未完の状態
における前記磁気抵抗効果型ヘッドの記録媒体対向面要
部正視図を図１の（ａ）に、薄膜パターン形成面要部透
視図を図１の（ｂ）に示す。
【００１６】この磁気抵抗効果型ヘッドは、磁気抵抗効
果素子層３とその下側及び上側のシールド層２１、２２
を備え、前記磁気抵抗効果素子層とシールド層の断面が
前記空気ベアリング面に露出した所謂シールド型の磁気
抵抗効果型ヘッドであって、前記下側のシールド層上で
前記上側のシールド層に覆われない位置に、前記磁気抵
抗効果素子層と同時に形成され、前記空気ベアリング面
の研摩による前記磁気抵抗効果素子層のストライプ高の
変化を検知するための第１のマーカー層５１、５２、５
３が配され、前記下側のシールド層上で前記上側のシー
ルド層に覆われる位置に、同じく前記磁気抵抗効果素子
層と同時に形成され、前記空気ベアリング面の研摩によ
る前記磁気抵抗効果素子層のストライプ高の変化を検知
するための第２のマーカー層６１、６２、６３が配さ
れ、前記下側のシールド層の外側の位置に、同じく前記
磁気抵抗効果素子層と同時に形成され、前記空気ベアリ
ング面の研摩による前記磁気抵抗効果素子層のストライ
プ高の変化を検知するための第３のマーカー層７１、７
２、７３が配されたものである。なお、図１において４
は磁気抵抗効果素子層に通電するための電極層であり、
磁気抵抗効果素子層と上下のシールド層との間には絶縁
層（図示せず）が介在している。
果素子層３とその下側及び上側のシールド層２１、２２
を備え、前記磁気抵抗効果素子層とシールド層の断面が
前記空気ベアリング面に露出した所謂シールド型の磁気
抵抗効果型ヘッドであって、前記下側のシールド層上で
前記上側のシールド層に覆われない位置に、前記磁気抵
抗効果素子層と同時に形成され、前記空気ベアリング面
の研摩による前記磁気抵抗効果素子層のストライプ高の
変化を検知するための第１のマーカー層５１、５２、５
３が配され、前記下側のシールド層上で前記上側のシー
ルド層に覆われる位置に、同じく前記磁気抵抗効果素子
層と同時に形成され、前記空気ベアリング面の研摩によ
る前記磁気抵抗効果素子層のストライプ高の変化を検知
するための第２のマーカー層６１、６２、６３が配さ
れ、前記下側のシールド層の外側の位置に、同じく前記
磁気抵抗効果素子層と同時に形成され、前記空気ベアリ
ング面の研摩による前記磁気抵抗効果素子層のストライ
プ高の変化を検知するための第３のマーカー層７１、７
２、７３が配されたものである。なお、図１において４
は磁気抵抗効果素子層に通電するための電極層であり、
磁気抵抗効果素子層と上下のシールド層との間には絶縁
層（図示せず）が介在している。
【００１７】図１の(ｂ)に符号ｈ０で示したラインは、
磁気抵抗効果素子３のストライプ高がゼロとなるライン
に相当し、第１のマーカー層５１、５２、５３は、その
下側のエッジと前記ストライプ高ゼロラインとの間の距
離をそれぞれ異ならせて配置されており、第２のマーカ
ー層６１、６２、６３も、その下側のエッジと前記スト
ライプ高ゼロラインとの間の距離をそれぞれ異ならせて
配置されており、第３のマーカー層７１、７２、７３
も、その下側のエッジと前記ストライプ高ゼロラインと
の間の距離をそれぞれ異ならせて配置されている。
磁気抵抗効果素子３のストライプ高がゼロとなるライン
に相当し、第１のマーカー層５１、５２、５３は、その
下側のエッジと前記ストライプ高ゼロラインとの間の距
離をそれぞれ異ならせて配置されており、第２のマーカ
ー層６１、６２、６３も、その下側のエッジと前記スト
ライプ高ゼロラインとの間の距離をそれぞれ異ならせて
配置されており、第３のマーカー層７１、７２、７３
も、その下側のエッジと前記ストライプ高ゼロラインと
の間の距離をそれぞれ異ならせて配置されている。
【００１８】前記マーカー層は、スライダ基体となる基
板上に下地層、下部シールド層及び下部絶縁層を形成し
た後、磁気抵抗効果素子層と同時に成膜、エッチングす
ることにより形成される。従って、磁気抵抗効果素子層
とマーカー層との相対配置は、エッチング用レジストパ
ターンを形成するための１枚のフォトマスク上での両者
の相対配置がそのまま正確に転写されたものとなる。
板上に下地層、下部シールド層及び下部絶縁層を形成し
た後、磁気抵抗効果素子層と同時に成膜、エッチングす
ることにより形成される。従って、磁気抵抗効果素子層
とマーカー層との相対配置は、エッチング用レジストパ
ターンを形成するための１枚のフォトマスク上での両者
の相対配置がそのまま正確に転写されたものとなる。
【００１９】前記マーカー層の各パターンは、空気ベア
リング面の研摩が進行して磁気抵抗効果型ヘッドのスト
ライプ高がゼロに近づくに従い、該パターンの下側エッ
ジと前記ストライプ高ゼロのラインとの間の距離が離れ
たものから順に、消滅していく。そこで、各マーカーパ
ターンの有無を空気ベアリング面側から観察することに
より、磁気抵抗効果素子のストライプ高が検知される。
リング面の研摩が進行して磁気抵抗効果型ヘッドのスト
ライプ高がゼロに近づくに従い、該パターンの下側エッ
ジと前記ストライプ高ゼロのラインとの間の距離が離れ
たものから順に、消滅していく。そこで、各マーカーパ
ターンの有無を空気ベアリング面側から観察することに
より、磁気抵抗効果素子のストライプ高が検知される。
【００２０】ここで、前記第２のマーカー層は上下のシ
ールド層に挟まれて観察しにくく、前記第３のマーカー
層は磁気抵抗効果素子層と同一平面に形成されないので
磁気抵抗効果素子層との相対配置に誤差が生じやすいた
め、前記第１のマーカー層が最も実用的である。
ールド層に挟まれて観察しにくく、前記第３のマーカー
層は磁気抵抗効果素子層と同一平面に形成されないので
磁気抵抗効果素子層との相対配置に誤差が生じやすいた
め、前記第１のマーカー層が最も実用的である。
【００２１】以上の実施例では、マーカー層の各パター
ンが所定のストライプ高に対応する位置で順番に消滅し
ていくパターン配置を採用したが、図２に示すように、
第１のマーカー層５１、５２、５３、第２のマーカー層
６１、６２、６３、第３のマーカー層７１、７２、７３
の各パターンが所定のストライプ高に対応する位置で順
番に出現していくパターン配置を採用してもよい。
ンが所定のストライプ高に対応する位置で順番に消滅し
ていくパターン配置を採用したが、図２に示すように、
第１のマーカー層５１、５２、５３、第２のマーカー層
６１、６２、６３、第３のマーカー層７１、７２、７３
の各パターンが所定のストライプ高に対応する位置で順
番に出現していくパターン配置を採用してもよい。
【００２２】ただしこの場合には、図２の（ｂ）に示す
マーカーパターンの上側エッジと磁気抵抗効果素子層の
下側エッジとの間の距離を検出することになるため、エ
ッチングの異方性（例えば上側エッジの方が下側エッジ
よりも僅かにエッチングされやすいこと等）の影響によ
り、前記距離の絶対値に僅かな誤差が生じることがあ
る。また、マーカーパターンが消滅していくパターン配
置の方が研摩終了時に残るパターンの数が少なくなり、
マーカーパターンを配置する際の設計自由度が大きくな
るとともに残存パターン数の読み取りも容易となるの
で、本発明の効果を最大限に引き出すためには、マーカ
ーパターンが消滅していくパターン配置の方が好まし
い。
マーカーパターンの上側エッジと磁気抵抗効果素子層の
下側エッジとの間の距離を検出することになるため、エ
ッチングの異方性（例えば上側エッジの方が下側エッジ
よりも僅かにエッチングされやすいこと等）の影響によ
り、前記距離の絶対値に僅かな誤差が生じることがあ
る。また、マーカーパターンが消滅していくパターン配
置の方が研摩終了時に残るパターンの数が少なくなり、
マーカーパターンを配置する際の設計自由度が大きくな
るとともに残存パターン数の読み取りも容易となるの
で、本発明の効果を最大限に引き出すためには、マーカ
ーパターンが消滅していくパターン配置の方が好まし
い。
【００２３】また、図３に示すように、ストライプ高ゼ
ロのラインからの距離に応じて第１のマーカー層５１、
第２のマーカー層６１、第３のマーカー層７１の各パタ
ーン幅が所定の割合で減少、または増加するパターン形
状（例えば三角形状）を採用してもよいが、前述の如き
エッチングの異方性や、パターン幅測長の手間、誤差等
を考慮すれば、前記図１に示したマーカ層のパターン形
状及び配置が最適である。
ロのラインからの距離に応じて第１のマーカー層５１、
第２のマーカー層６１、第３のマーカー層７１の各パタ
ーン幅が所定の割合で減少、または増加するパターン形
状（例えば三角形状）を採用してもよいが、前述の如き
エッチングの異方性や、パターン幅測長の手間、誤差等
を考慮すれば、前記図１に示したマーカ層のパターン形
状及び配置が最適である。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、磁気抵抗効果型ヘッド
を備える薄膜磁気ヘッドスライダの空気ベアリング面研
摩の最終段階においても、磁気抵抗効果型ヘッドのスト
ライプ高を正確かつ容易に検知することが可能となり、
該薄膜磁気ヘッドスライダの特性が安定化するとともに
製造歩留まりも向上する。
を備える薄膜磁気ヘッドスライダの空気ベアリング面研
摩の最終段階においても、磁気抵抗効果型ヘッドのスト
ライプ高を正確かつ容易に検知することが可能となり、
該薄膜磁気ヘッドスライダの特性が安定化するとともに
製造歩留まりも向上する。
【図１】本発明第１実施例による薄膜磁気ヘッドスライ
ダの（ａ）記録媒体対向面要部正視図及び（ｂ）薄膜パ
ターン形成面要部透視図。
ダの（ａ）記録媒体対向面要部正視図及び（ｂ）薄膜パ
ターン形成面要部透視図。
【図２】本発明第２実施例による薄膜磁気ヘッドスライ
ダの（ａ）記録媒体対向面要部正視図及び（ｂ）薄膜パ
ターン形成面要部透視図。
ダの（ａ）記録媒体対向面要部正視図及び（ｂ）薄膜パ
ターン形成面要部透視図。
【図３】本発明第３実施例による薄膜磁気ヘッドスライ
ダの（ａ）記録媒体対向面要部正視図及び（ｂ）薄膜パ
ターン形成面要部透視図。
ダの（ａ）記録媒体対向面要部正視図及び（ｂ）薄膜パ
ターン形成面要部透視図。
【図４】本発明実施例による薄膜磁気ヘッドスライダの
外観斜視図。
外観斜視図。
１ スライダ基体 １７ 誘導型薄膜磁気ヘッド １８ 磁気抵抗効果型ヘッド １９ 空気ベアリング面 ２１ 下側シールド層 ２２ 上側シールド層 ３ 磁気抵抗効果素子層 ４ 電極層 ５１、５２、５３ 第１のマーカー層 ６１、６２、６３ 第２のマーカー層 ７１、７２、７３ 第３のマーカー層 ｈ０ ストライプ高ゼロライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷口 佳伸 大阪府守口市京阪本通２丁目５番５号 三 洋電機株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 記録媒体に対向する空気ベアリング面を
有し、該空気ベアリング面に直交する側面に磁気抵抗効
果素子層とその下側及び上側のシールド層とを備える磁
気抵抗効果型ヘッドが配され、前記磁気抵抗効果素子層
及びシールド層の断面が前記空気ベアリング面に露出し
た薄膜磁気ヘッドスライダにおいて、 前記下側のシールド層上で前記上側のシールド層に覆わ
れない位置に、前記磁気抵抗効果素子層と同時に形成さ
れ、前記空気ベアリング面の研摩による前記磁気抵抗効
果素子層のストライプ高の変化を検知するための第１の
マーカー層が配されていることを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッドスライダ。 - 【請求項２】 前記下側のシールド層上で前記上側のシ
ールド層に覆われる位置に、前記磁気抵抗効果素子層と
同時に形成され、前記空気ベアリング面の研摩による前
記磁気抵抗効果素子層のストライプ高の変化を検知する
ための第２のマーカー層が配されていることを特徴とす
る請求項１記載の薄膜磁気ヘッドスライダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23157695A JPH0981917A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 薄膜磁気ヘッドスライダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23157695A JPH0981917A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 薄膜磁気ヘッドスライダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0981917A true JPH0981917A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=16925690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23157695A Pending JPH0981917A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 薄膜磁気ヘッドスライダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0981917A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7206172B2 (en) | 2004-02-20 | 2007-04-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Electrical lapping guide embedded in a shield of a magnetic head |
-
1995
- 1995-09-08 JP JP23157695A patent/JPH0981917A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7206172B2 (en) | 2004-02-20 | 2007-04-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Electrical lapping guide embedded in a shield of a magnetic head |
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