JPH0979861A - 光ファイバジャイロ及び光集積回路 - Google Patents

光ファイバジャイロ及び光集積回路

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JPH0979861A
JPH0979861A JP23698495A JP23698495A JPH0979861A JP H0979861 A JPH0979861 A JP H0979861A JP 23698495 A JP23698495 A JP 23698495A JP 23698495 A JP23698495 A JP 23698495A JP H0979861 A JPH0979861 A JP H0979861A
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JP
Japan
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optical fiber
optical
integrated circuit
quarter
light
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Application number
JP23698495A
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English (en)
Inventor
Shigeru Nakamura
茂 中村
Takeshi Hojo
武 北條
Kuniyoshi Watanabe
邦芳 渡邉
Takemori Masujima
健守 益嶋
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Tokimec Inc
Original Assignee
Tokimec Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 デポラライザの機能を有する光集積回路を含
む光ファイバジャイロを提供することを目的とする。 【解決手段】 光源と光集積回路と光ファイバループと
受光器とを有する光ファイバジャイロにおいて、光集積
回路の導波路と光ファイバループの端部の間に四分の一
波長板を配置し、四分の一波長板の主軸を導波路の主軸
に対して45°傾斜させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光ファイバジャイロ
及び斯かる光ファイバジャイロに使用される光集積回路
に関する。
【0002】
【従来の技術】光ファイバジャイロは光のサグナック効
果(サニャック効果)を利用して角速度を計測するよう
に構成されており、高い信頼性を有し装置を小型化する
ことができる利点がある。光ファイバジャイロのうち、
干渉型光ファイバジャイロと称する形式のものがある。
これは複数回巻かれた光ファイバループよりなる1本の
長い光路を互いに反対方向に光を伝播させ斯かる2つの
伝播光の位相差より角速度を求めるように構成されてい
る。
【0003】図7は干渉型のうち位相変調方式の光ファ
イバジャイロの例を示す。光ファイバジャイロは、半導
体レーザ、発光ダイオード等の光源101と入射光を電
流に変換する受光器102と1本の光ファイバを複数回
巻いて形成された光ファイバループ103と偏光子10
4と光ファイバを伝播する光を合成し又は分岐するカプ
ラ105、106と偏光を無偏光化するためのデポララ
イザ111とを有する。
【0004】光源101より出力された光線は第1のカ
プラ105及び偏光子104を経由して第2のカプラ1
06に導かれる。第2のカプラ106によって光線は2
つに分岐され、光ファイバループ103を互いに反対方
向に伝播する。一方は、デポラライザ111を経由して
光ファイバループ103を右周りに伝播し、他方は左周
りに伝播する。
【0005】光ファイバループ103内を互いに反対方
向に伝播した光は第2のカプラ106によって合成さ
れ、干渉光が生成される。斯かる干渉光は、再び偏光子
104及び第1のカプラ105を経由して受光器102
に導かれ、それによって検出される。
【0006】光ファイバループ103に角速度Ωが加わ
ると、サグナック効果によって、光ファイバループ10
3内を互いに反対方向に伝播する2つの光に位相差Δφ
が生ずる。斯かる位相差Δφは角速度Ωに比例し、次の
式で表される。
【0007】
【数1】Δφ=(2πLD/λC)Ω
【0008】ここに、Ωは光ファイバループ103の中
心軸線周りの角速度、Dは光ファイバループ103のル
ープ直径、Lは光ファイバループ103の長さ、λは光
源101から出力される光線の波長、Cは光速を表す。
【0009】光ファイバジャイロは、更に、電流・電圧
変換器107と位相変調器108と信号発生器109と
同期検波器110とを有する。受光器102より出力さ
れた電流は電流・電圧変換器107によって電圧に変換
され電圧信号として出力される。
【0010】位相変調器108は光ファイバループ10
3の一端に配置されており、信号発生器109から供給
された基準信号によって作動される。位相変調器108
によって光ファイバループ103内を互いに反対方向に
伝播する2つの光は位相変調される。右周りの伝播光は
光ファイバループ103の入口で位相変調され、左周り
の伝播光は光ファイバループ103の出口で位相変調さ
れる。信号発生器109から供給される信号の角周波数
をωP とすれば、電流・電圧変換器107の出力電圧V
は、
【0011】
【数2】V=K[1+cosΔφ・{J0 (z)−2J
2 (z)cos2ωP t+・・}−sinΔφ・{2J
1 (z)cosωP t−・・・}]
【0012】となる。ここで、zは位相変調度、J0
1 、J2 、・・・はベッセル関数、Kは比例定数、t
は時間である。
【0013】同期検波器110には信号発生器109か
ら角周波数ωP の信号が供給され、斯かる基準信号によ
って出力電圧Vの角周波数nωP の成分のうち角周波数
ωPの成分が同期検波され、sinΔφに比例する出力
2KJ1 (z)sinΔφが出力される。これより、位
相差Δφを求めて、数1の式より角速度Ωが求められ
る。
【0014】次に、偏光子104及びデポラライザ(偏
光解消器)111の機能について説明する。偏光子10
4及びデポラライザ111を有する光ファイバジャイロ
の例は、例えば特開平5−5624号に記載されてお
り、詳細は、斯かる公報を参照されたい。光源101よ
り出力される光は互いに直交する偏光面を有し強度が等
しい2つの偏光、TE偏光及びTM偏光を含む。以下
に、TE偏光及びTM偏光をx偏光及びy偏光とを呼ぶ
こととする。
【0015】x偏光及びy偏光は光ファイバループ10
3において伝播速度が僅かに異なり、それに起因して干
渉光の位相差Δφに誤差が生ずる。従って光ファイバジ
ャイロでは、高い測定精度を得るために、偏光子104
を設け、単一の偏光面を有する偏光、例えばx偏光が使
用される。
【0016】しかしながら、x偏光の如き、直線偏光で
あっても、長尺の光ファイバループ103を伝播する
と、伝播中に偏波状態が変化し偏光方向に直角な偏光成
分が生ずる。例えば、x偏光が光ファイバループ103
を伝播するとy偏光が生成される。従って、カプラ10
6によって得られる干渉光には、互いに偏光方向が直交
するx偏光及びy偏光が含まれる。斯かる2つの偏光の
伝播速度の差に起因して干渉光の位相差Δφに誤差が生
ずる。
【0017】デポラライザ111は、互いに直交する偏
光面を有する2つの偏光又は単一の偏光面を有する1つ
の偏光を入力して、強度が等しく且つ位相差が大きい、
即ち、互いに干渉性がない2つの偏光を生成する。
【0018】デポラライザ111は光ファイバループ1
03の一端に設けられている。右周りの伝播光は光ファ
イバループ103の入口でデポラライザ111によって
無偏光化され、左周りの伝播光は光ファイバループ10
3の出口でデポラライザ111によって無偏光化され
る。
【0019】例えば、偏光子104によってx偏光が生
成され、第2のカプラ106によって2つに分岐される
ものと仮定する。一方のx偏光は光ファイバループ10
3の入口でデポラライザ111によって無偏光化され、
互いに干渉性がなく且つ直交する強度が等しい2つの偏
光を生成する。斯かる2つの偏光は光ファイバループ1
03を右周りに伝播して第2のカプラ105に導かれ
る。他方のx偏光は光ファイバループ103を左周りに
伝播してから出口でデポラライザ111によって無偏光
化され、互いに干渉性がなく且つ直交する強度が等しい
2つの偏光を生成する。
【0020】光ファイバループ103を右周りに伝播す
る無偏光化された2つの偏光と左周りに伝播するx偏光
は、伝播中に直交する偏光成分を生成するが、最終的に
は無偏光となる。斯かる伝播光は第2のカプラ106に
よって合波され、干渉光が得られる。しかしながら、斯
かる干渉光の強度信号には、y偏光及び伝播中に生成し
た偏光成分に起因した誤差は生じない。
【0021】図8を参照して従来のデポラライザ111
の構成及び機能を説明する。ここではリヨー(LYO
T)型デポラライザ111を説明する。リヨー型デポラ
ライザ111の例は、例えば特開昭62−223614
号に記載されており、詳細は斯かる公報を参照された
い。リヨー型デポラライザ111は、典型的には2本の
偏波面保存ファイバ111A、111Bを接続すること
によって構成されている。偏波面保存ファイバは伝播す
る偏光の偏光面を主軸(偏波面保存軸)に一致した状態
で保持するように機能する。
【0022】一方の偏波面保存ファイバ111Bの長さ
2 は、他方の偏波面保存ファイバ111Aの長さL1
の2倍より大きい。即ち、L2 >2L1 である。また一
方の偏波面保存ファイバ111Bの主軸y2 、x2 は他
方の偏波面保存ファイバ111Aの主軸y1 、x1 に対
して45°傾斜するように接続されている。
【0023】光ファイバループ103が偏波面保存ファ
イバによって構成されている場合には、一方の偏波面保
存ファイバ111Bは光ファイバループ103の端部で
あってよく、第2のカプラ106に接続された光ファイ
バが偏波面保存ファイバによって構成されている場合に
は、他方の偏波面保存ファイバ111Aは第2のカプラ
106に接続された光ファイバであってよい。
【0024】第1の偏波面保存ファイバ111Aの端部
より、例えば主軸x1 、y1 方向の2つの偏光面を有す
る偏光又は主軸x1 方向の単一の偏光面を有する直線偏
光が入射されたと仮定する。斯かる偏光は第2の偏波面
保存ファイバ111Bを伝播し、互いに直交する主軸x
2 、y2 方向の偏光面を有する2つの偏光が生成され
る。
【0025】第2の偏波面保存ファイバ111Bと第1
の偏波面保存ファイバ111Aの長さの差ΔL=L2
1 は十分大きく、従って2つの偏光が第2の偏波面保
存ファイバ111Bを伝播する間に十分大きな光路差が
生ずる。こうして、第2の偏波面保存ファイバ111B
からは、強度が等しく且つ互いに干渉しないように十分
大きい光路差を有する2つの偏光成分を有する光が得ら
れる。即ち、第1の偏波面保存ファイバ111Aに入射
された偏光は無偏光化される。
【0026】
【発明が解決しようとする課題】図8に示したように、
リヨー(LYOT)型デポラライザ111は、2つの偏
波面保存ファイバ111A、111Bを主軸が互いに他
に対して45°回転した状態で融着接続することによっ
て形成されている。2つの主軸の間の回転角度は正確に
45°でなければならない。リヨー(LYOT)型デポ
ラライザ111は、高い製造精度が要求され且つ温度変
化等の外乱に敏感であるという欠点があった。
【0027】また、リヨー(LYOT)型デポラライザ
111は、2つの偏波面保存ファイバ111A、111
Bの融着接続部を保護する部材の寸法が比較的大きいた
め、光ファイバジャイロの小型化の妨げとなり、また光
集積回路の使用に適していなかった。
【0028】本発明は、斯かる点に鑑み、外乱の影響を
受けることがない且つ小型化が可能な光ファイバジャイ
ロを提供することを目的とする。
【0029】本発明は、斯かる点に鑑み、リヨー(LY
OT)型デポラライザ111を使用することなく、デポ
ラライザ機能を組み込んだ光集積回路を提供することを
目的とする。
【0030】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、例えば
図1及び図2に示すように、光源と2つの光を分岐し且
つ合成する光分岐手段と光ファイバループと受光器とを
有し、上記光分岐手段は上記光源からの光を2つに分岐
して上記光ファイバループの両端に供給し上記光ファイ
バループを互いに反対方向に伝播した光を合成して干渉
光を生成し、該干渉光は上記受光器によって検出される
ように構成された光ファイバジャイロにおいて、上記光
ファイバループはシグルモード光ファイバによって形成
され、上記光ファイバループの両端又は一端に四分の一
波長板が配置され、該四分の一波長板の光軸は入射する
偏光の光軸に対して45°傾斜して配置されている。
【0031】本発明によれば、光ファイバジャイロにお
いて、上記四分の一波長板の光路方向の厚さは上記光源
のコヒーレンス長より大きいことを特徴とする。
【0032】本発明によれば、上記光分岐手段は光集積
回路に形成された導波路よりなるY分岐を含むことを特
徴とする。本発明によれば、上記光分岐手段は光集積回
路に形成された導波路よりなる2つのY分岐を含むこと
を特徴とする。本発明によれば、上記光集積回路に偏光
子が集積されていることを特徴とする。本発明によれ
ば、上記光集積回路はプロトン交換法によって形成され
ていることを特徴とする。
【0033】本発明によれば、光ファイバジャイロにお
いて、上記四分の一波長板は上記集積回路と上記光ファ
イバループを接続する接続部材によって支持されている
ことを特徴とする。
【0034】本発明によれば、光ファイバジャイロにお
いて、上記接続部材は珪素(Si)板に形成されたV溝
に上記光ファイバループの端部を支持するように構成さ
れていることを特徴とする。上記四分の一波長板は上記
接続部材に形成された溝に挿入されて支持されているこ
とを特徴とする。
【0035】本発明によれば、光ファイバジャイロにお
いて、上記四分の一波長板は光路に垂直な面に対して傾
斜して配置されていることを特徴とする。本発明によれ
ば、光ファイバジャイロにおいて、上記光源からの光の
スペクトルは広域スペクトルであることを特徴とする。
【0036】本発明によれば、基板とその上面に沿って
形成された導波路とを有する光集積回路において、上記
導波路の光路に四分の一波長板が設けられ、該四分の一
波長板の主軸は上記導波路の主軸に対して45°傾斜し
ていることを特徴とする。
【0037】本発明によれば、光集積回路において、上
記四分の一波長板は珪素(Si)よりなる光ファイバ保
持部材によって支持されていることを特徴とする。
【0038】本発明によれば、光集積回路において、上
記導波路はY分岐を形成しており、該Y分岐の各分岐に
沿って位相変調器が形成されていることを特徴とする。
本発明によれば、光集積回路において、上記導波路に偏
光子が形成されていることを特徴とする。
【0039】本発明によれば、光源と受光器と光集積回
路と光ファイバループと上記光集積回路と光ファイバル
ープの間に配置された四分の一波長板とを有する光ファ
イバジャイロの製造方法において、珪素(Si)板の上
面にV溝を形成することと、該V溝に上記光ファイバル
ープの端部の光ファイバを装着することと、上記V溝内
に配置された光ファイバを切断するように上記珪素(S
i)板に横断方向の溝を形成することと、該横断方向の
溝に四分の一波長板を挿入することと、を含む。
【0040】本発明によれば、光ファイバジャイロの製
造方法において、上記横断方向の溝はダイシング技術に
よって形成することを特徴とする。
【0041】本発明によると、四分の一波長板によって
リヨー(LYOT)型デポラライザと同様な無偏光化の
機能が提供される。
【0042】光集積回路の導波路を伝播した偏光は四分
の一波長板に伝播し、互いに直交する2つの偏光面を有
する偏光が生成される。斯かる2つの偏光成分は、四分
の一波長板を伝播する間に十分大きな位相差を生じる。
こうして、互いに干渉性が無い2つの偏光成分が生成さ
れる。
【0043】
【発明の実施の形態】以下に図1〜図6を参照して本発
明の実施例について説明する。図1に本発明による光集
積回路及びそれを使用した光ファイバジャイロの第1の
例を示す。本例の光ファイバジャイロは、光源101及
び受光器102と光集積回路10と接続部材116と接
続部材116に支持された四分の一波長板25と光ファ
イバループ103とを有し、更に、電流電圧変換器10
7、信号発生器109及び同期検波器110を有する。
【0044】本例の光ファイバジャイロは、図7の従来
の光ファイバジャイロと比較して、偏光子104、2つ
のカプラ105、106、位相変調器108の代わりに
光集積回路10が使用され、リヨー型デポラライザ11
1の代わりに接続部材116に支持された四分の一波長
板25が使用されている点が異なり、それ以外は従来の
光ファイバジャイロの構成と同様であってよい。
【0045】本例によると、四分の一波長板25はリヨ
ー型デポラライザ111と同様に互いに直交する2つの
偏光面を有するX偏光及びY偏光を含む直線偏光を無偏
光化する機能を有する。四分の一波長板25の機能の詳
細は後に説明する。
【0046】本例によると、光集積回路10は2つのY
分岐15、16と第2のY分岐16の2つの分岐16
A、16Bに沿って形成された位相変調器18、18’
とを有する。2つのY分岐15、16及びその各々の分
岐15A、15B、16A、16Bは基板11の上面に
形成された導波路よりなる。斯かる位相変調器18、1
8’は第2のY分岐16の2つの分岐16A、16Bの
一方又は両方に設けてよい。
【0047】第1のY分岐15の一方の分岐15Aの先
端には光源101が配置され、第1のY分岐15の他方
の分岐15Bの先端には受光器103が配置されてい
る。光源101及び受光器103は第1のY分岐15の
各分岐15A、15Bの先端、即ち、基板11の端面よ
り隔置されてよく又は適当な方法によって接合されてよ
い。
【0048】本例によると、光集積回路10と光ファイ
バループ103の間に接続部材116が設けられてお
り、斯かる接続部材116は第2のY分岐16の分岐1
6A、16Bと光ファイバループ103の両端の光ファ
イバ113、113を接続するように機能する。
【0049】本例によると、光ファイバループ103の
両端の光ファイバ131、131を横断するように四分
の一波長板25が設けられている。斯かる四分の一波長
板25は接続部材116によって支持されている。四分
の一波長板25は2つの光ファイバ131、131の一
方又は両方に設けられてよい。
【0050】図2を参照して本発明による光ファイバジ
ャイロ及び光集積回路の第2の例を説明する。本例の光
ファイバジャイロは、光源101及び受光器102と1
つのカプラ105と光集積回路30と2つの接続部材1
15及び116と第2の接続部材116に支持された四
分の一波長板25と光ファイバループ103とを有し、
更に、電流電圧変換器107、信号発生器109及び同
期検波器110を有する。
【0051】本例の光ファイバジャイロは、図7の従来
の光ファイバジャイロと比較して、偏光子104、位相
変調器108の代わりに2つの接続部材115及び11
6と光集積回路30が使用され、リヨー型デポラライザ
111の代わりに四分の一波長板25が使用されている
点が異なり、それ以外は従来の光ファイバジャイロの構
成と同様であってよい。
【0052】本例によると、光集積回路30は基板31
の上面に形成されたY分岐36と斯かるY分岐36の分
岐36A、36Bに沿って形成された位相変調器38、
38’とを有する。斯かる位相変調器38、38’は2
つの分岐、即ち、導波路36A、36Bの一方又は両方
に設けてよい。
【0053】光集積回路30の両側にはそれぞれ接続部
材115、116が設けられている。第1の接続部材1
15はカプラ105より延在する光ファイバ131をY
分岐36の導波路に接続し、第2の接続部材116はY
分岐36の分岐36A、36Bをそれぞれ光ファイバル
ープ103の両端の光ファイバ131、131に接続す
るように機能する。
【0054】図1に示した本発明の第1の例と同様に、
光ファイバループ103の両端の光ファイバ131、1
31を横断するように四分の一波長板25が設けられて
いる。斯かる四分の一波長板25は第2の接続部材11
6によって支持されている。四分の一波長板25は2つ
の光ファイバ131、131の一方又は両方に設けられ
てよい。
【0055】図1に示した光集積回路10及び図2に示
した光集積回路30は周知の適当な方法によって製造さ
れてよい。例えば、Y分岐15、16、36及びその各
分岐15A、15B、16A、16B、36A、36B
を構成する導波路、位相変調器18、38等、はフォト
リソグラフィ技術を使用して製造されてよい。基板1
1、31として例えばニオブ酸リチウム(LiNb
3 )又はタンタル酸リチウム(LiTaO3 )が使用
される。導波路の形成方法には熱拡散法、プロトン拡散
法等がある。
【0056】本例によると、光集積回路10、30は好
ましくは偏光分離機能を有する。プロトン交換型の光集
積回路では導波路が偏光子の機能を果たすので偏光子を
特に設ける必要はない。しかしながら、チタン拡散型の
光集積回路では導波路が偏光子の機能を有することはな
いから、光集積回路に偏光子を形成する必要がある。斯
かる偏光子は金属装荷型に形成されてよい。
【0057】本例の光集積回路10、30は好ましくは
プロトン交換型であり、従って、図1及び図2に示すよ
うに、偏光子が設けられていない。しかしながら、本例
の光集積回路10、30をチタン拡散型とし、偏光子を
別個に設けてもよい。斯かる場合、図1に示す例では、
偏光子14(破線にて示す。)は光集積回路10に形成
され、2つのY分岐15、16の間に設けられる。図3
に示す例では、偏光子14(破線にて示す。)はY分岐
36の導波路に形成してもよい。
【0058】本例によると光集積回路10、30に形成
されたY分岐15、16、36及びその分岐15A、1
5B、16A、16B、36A、36Bはシングルモー
ド導波路であり、光ファイバループ103、131、1
31はシングルモード光ファイバである。また、光源1
01としてスーパールミネッセントダイオード(SL
D)が使用されてよく、光源からの光のスペクトルは広
域スペクトルである。
【0059】図3を参照して四分の一波長板25の配置
及び機能を詳細に説明する。光集積回路10、30のY
分岐16、36の一方の分岐、即ち、導波路16B、3
6Bの部分とそれに接続された光ファイバループ103
の一端の光ファイバ131の部分を示し、接続部材11
6は省略されている。導波路16B、36Bの主軸をO
x、Oyとする。図示のように四分の一波長板25の結
晶軸C−Cは導波路16Bの主軸Ox、Oyに対して4
5°回転傾斜している。
【0060】四分の一波長板25は周知のように、互い
に直交する2つの偏光面を有する偏光の間に1/4波長
の光路差を生じさせる。また、主軸に対して45°傾斜
した直線偏光が入射すると透過光は円偏光となる。従っ
て、四分の一波長板25によってリヨー型デポラライザ
と同様な無偏光化の機能が提供される。
【0061】四分の一波長板は適当な厚さの複屈折板よ
りなり、斯かる複屈折板としてルチル(TiO2 )、水
晶、方解石(結晶)等が使用される。複屈折板の厚さは
入射した2つの直線偏光の間に1/4波長、詳細には
(2n+1)/4波長の光路差が生ずるように設定され
る。光源のコヒーレンス長(可干渉距離)より大きい光
路差を生じさせることによって、2つの直交する偏光は
互いに独立となり、出射光は無偏光化されることができ
る。
【0062】本例によると、四分の一波長板25の厚さ
は光源のコヒーレンス長(可干渉距離)の3〜4倍であ
る。例えば、30μm程度のコヒーレンス長を有するス
ーパールミネッセントダイオード(SLD)を光源10
1として用い、ルチル板を四分の一波長板として用いる
場合、その厚さを0.3mm程度とすることによって、
2つの互いに直交する直線偏光の間の光路差を(2n+
1)/4とすることができる。
【0063】図4及び図5を参照して接続部材、即ち、
支持部材116に支持された四分の一波長板25の配置
位置を説明する。図4A及び図5Aは接続部材116を
含む部分の平面構成、図4B及び図5Bはその側面構成
を示す。図4に示す例では、四分の一波長板25は光フ
ァイバ131に対して垂直に配置され、図5に示す例で
は、四分の一波長板25は光ファイバ131に垂直な面
に対して傾斜して配置されている。図5の例のように、
四分の一波長板25を傾斜して配置することによって、
光の反射に起因する損失を減少させることができる。
【0064】図6を参照して、四分の一波長板25を接
続部材、即ち、支持部材116に配置する方法を説明す
る。図6Aに示すように、支持部材116の上面にV溝
120を形成する。支持部材116は珪素(Si)によ
って形成してよい。図6Bに示すように、光ファイバ1
31を斯かるV溝120に配置して固定する。光ファイ
バ131は適当な接着剤によって固定されてよい。図6
Cに示すように、光ファイバ131を横断するように溝
122を形成する。即ち、溝122を形成するとき同時
に光ファイバ131は切断される。
【0065】斯かる溝122は、半導体の製造工程にて
使用されるダイシング技術によって形成してよい。半導
体の製造工程では、ウエハを切断してチップを形成する
ときダイシング用カッタが使用される。斯かるダイシン
グ用カッタによって図6Cに示す如き溝122が形成さ
れてよい。
【0066】最後に図6Dに示すように、溝122に四
分の一波長板25が挿入され、固定される。溝122及
び四分の一波長板25は、図4に示した例のように、光
ファイバ131に垂直に配置されてよく、図5に示した
例のように、光ファイバ131に垂直な面に対して傾斜
して配置されてよい。尚、2つの光ファイバ131、1
31の両者に対して四分の一波長板25を配置する場合
には、溝122は2つのV溝120、120に対して形
成される。
【0067】以上本発明の実施例について詳細に説明し
てきたが、本発明は上述の実施例に限ることなく本発明
の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得るこ
とは当業者にとって容易に理解されよう。
【0068】
【発明の効果】本発明の光ファイバジャイロによると、
四分の一波長板によってデポラライザの機能が提供され
るから、装置を小型化することができる利点がある。
【0069】本発明の光ファイバジャイロによると、リ
ヨー型デポラライザの代わりに四分の一波長板を使用す
るから、製造工程を容易化できる利点がある。
【0070】本発明の光集積回路によると、ダイシング
技術を使用して四分の一波長板を挿入するための溝を形
成するから、正確に且つ容易に四分の一波長板を挿入し
光軸を整合させることができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ファイバジャイロの第1の例を示す
図である。
【図2】本発明の光ファイバジャイロの第2の例を示す
図である。
【図3】本発明の光ファイバジャイロの一部詳細を示す
図である。
【図4】四分の一波長板の配置状態を説明するための説
明図である。
【図5】四分の一波長板の配置状態を説明するための説
明図である。
【図6】四分の一波長板を組み立てる方法を説明するた
めの説明図である。
【図7】従来の光ファイバジャイロの例を示す図であ
る。
【図8】従来のリヨー型デポラライザの構成を示す図で
ある。
【符号の説明】
10 光集積回路 11 基板 14 偏光子 15、16 Y分岐 15A、15B Y分岐の分岐 16A、16B Y分岐の分岐 18、18’ 位相変調器 25 四分の一波長板 30 光集積回路 31 基板 36 Y分岐 36A、36B Y分岐の分岐(導波路) 38、38’ 位相変調器 101 光源 102 受光器 103 光ファイバループ 104 偏光子 105、106 カプラ 107 電流電圧変換器 108 位相変調器 109 信号発生器 110 同期検波器 111 リヨー型デポラライザ 131 光ファイバ 115 接続部材 116 接続部材、支持部材 120 V溝 122 溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 益嶋 健守 東京都大田区南蒲田2丁目16番46号 株式 会社トキメック内

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と2つの光を分岐し且つ合成する光
    分岐手段と光ファイバループと受光器とを有し、上記光
    分岐手段は上記光源からの光を2つに分岐して上記光フ
    ァイバループの両端に供給し上記光ファイバループを互
    いに反対方向に伝播した光を合成して干渉光を生成し、
    該干渉光は上記受光器によって検出されるように構成さ
    れた光ファイバジャイロにおいて、 上記光ファイバループはシグルモード光ファイバによっ
    て形成され、上記光ファイバループの両端又は一端に四
    分の一波長板が配置され、該四分の一波長板の光軸は入
    射する偏光の光軸に対して45°傾斜して配置されてい
    ることを特徴とする光ファイバジャイロ。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の光ファイバジャイロにお
    いて、 上記四分の一波長板の光路方向の厚さは上記光源のコヒ
    ーレンス長より大きいことを特徴とする光ファイバジャ
    イロ。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の光ファイバジャイ
    ロにおいて、 上記光分岐手段は光集積回路に形成された導波路よりな
    るY分岐を含むことを特徴とする光ファイバジャイロ。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の光ファイバジャイロにお
    いて、 上記光分岐手段は光集積回路に形成された導波路よりな
    る2つのY分岐を含むことを特徴とする光ファイバジャ
    イロ。
  5. 【請求項5】 請求項3又は4記載の光ファイバジャイ
    ロにおいて、 上記光集積回路に偏光子が集積されていることを特徴と
    する光ファイバジャイロ。
  6. 【請求項6】 請求項3又は4記載の光ファイバジャイ
    ロにおいて、 上記光集積回路はプロトン交換法によって形成されてい
    ることを特徴とする光ファイバジャイロ。
  7. 【請求項7】 請求項3、4、5又は6記載の光ファイ
    バジャイロにおいて、 上記四分の一波長板は上記集積回路と上記光ファイバル
    ープを接続する接続部材によって支持されていることを
    特徴とする光ファイバジャイロ。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の光ファイバジャイロにお
    いて、 上記接続部材は珪素(Si)板に形成されたV溝に上記
    光ファイバループの端部を支持するように構成されてい
    ることを特徴とする光ファイバジャイロ。
  9. 【請求項9】 請求項7又は8記載の光ファイバジャイ
    ロにおいて、 上記四分の一波長板は上記接続部材に形成された溝に挿
    入されて支持されていることを特徴とする光ファイバジ
    ャイロ。
  10. 【請求項10】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
    8又は9記載の光ファイバジャイロにおいて、上記四分
    の一波長板は光路に垂直な面に対して傾斜して配置され
    ていることを特徴とする光ファイバジャイロ。
  11. 【請求項11】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
    8、9又は10記載の光ファイバジャイロにおいて、上
    記光源からの光のスペクトルは広域スペクトルであるこ
    とを特徴とする光ファイバジャイロ。
  12. 【請求項12】 基板とその上面に沿って形成された導
    波路とを有する光集積回路において、 上記導波路の光路に四分の一波長板が設けられ、該四分
    の一波長板の主軸は上記導波路の主軸に対して45°傾
    斜していることを特徴とする光集積回路。
  13. 【請求項13】 請求項12記載の光集積回路におい
    て、上記四分の一波長板は珪素(Si)よりなる光ファ
    イバ保持部材によって支持されていることを特徴とする
    光集積回路
  14. 【請求項14】 請求項12又は13記載の光集積回路
    において、 上記導波路はY分岐を形成しており、該Y分岐の各分岐
    に沿って位相変調器が形成されていることを特徴とする
    光集積回路。
  15. 【請求項15】 請求項12、13又は14記載の光集
    積回路において、 上記導波路に偏光子が形成されていることを特徴とする
    光集積回路。
  16. 【請求項16】 光源と受光器と光集積回路と光ファイ
    バループと上記光集積回路と光ファイバループの間に配
    置された四分の一波長板とを有する光ファイバジャイロ
    の製造方法において、 珪素(Si)板の上面にV溝を形成することと、該V溝
    に上記光ファイバループの端部の光ファイバを装着する
    ことと、上記V溝内に配置された光ファイバを切断する
    ように上記珪素(Si)板に横断方向の溝を形成するこ
    とと、該横断方向の溝に四分の一波長板を挿入すること
    と、を含む光ファイバジャイロの製造方法。
  17. 【請求項17】 請求項16記載の光ファイバジャイロ
    の製造方法において、 上記横断方向の溝はダイシング技術によって形成するこ
    とを特徴とする光ファイバジャイロの製造方法。
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