JPH0975665A - 脱硝装置のアンモニア注入制御方法 - Google Patents
脱硝装置のアンモニア注入制御方法Info
- Publication number
- JPH0975665A JPH0975665A JP7232875A JP23287595A JPH0975665A JP H0975665 A JPH0975665 A JP H0975665A JP 7232875 A JP7232875 A JP 7232875A JP 23287595 A JP23287595 A JP 23287595A JP H0975665 A JPH0975665 A JP H0975665A
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- Japan
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- denitration
- exhaust gas
- load
- nox
- catalyst
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ボイラの負荷上昇時に排ガス中のリークＮＨ
3量を抑え、かつＮＯｘを低濃度に維持して高効率の脱
硝を実現する脱硝装置のアンモニア注入制御方法を提供
する。 【構成】 ボイラの負荷要求信号の先行信号１２を基
に、ボイラの排ガス浄化用の脱硝触媒３，ＮＨ3分解触
媒４を備えた脱硝装置１へ、排ガス中のＮＯｘに対して
１.０以上の高モル比でＮＨ3を通常注入するアンモニア
注入制御方法において、ボイラ負荷の上昇時はＮＨ3／
ＮＯｘモル比を通常より減少させるよう制御する。 【効果】 ＮＨ3／ＮＯｘモル比の減少により、排ガス
の低温時に既に触媒に吸着したＮＨ3が、負荷上昇に伴
う排ガス温度上昇で離脱しても、ＮＨ3出口濃度を低減
でき、かつＮＯｘ出口濃度を従来同様低レベルに保つこ
とができる。
3量を抑え、かつＮＯｘを低濃度に維持して高効率の脱
硝を実現する脱硝装置のアンモニア注入制御方法を提供
する。 【構成】 ボイラの負荷要求信号の先行信号１２を基
に、ボイラの排ガス浄化用の脱硝触媒３，ＮＨ3分解触
媒４を備えた脱硝装置１へ、排ガス中のＮＯｘに対して
１.０以上の高モル比でＮＨ3を通常注入するアンモニア
注入制御方法において、ボイラ負荷の上昇時はＮＨ3／
ＮＯｘモル比を通常より減少させるよう制御する。 【効果】 ＮＨ3／ＮＯｘモル比の減少により、排ガス
の低温時に既に触媒に吸着したＮＨ3が、負荷上昇に伴
う排ガス温度上昇で離脱しても、ＮＨ3出口濃度を低減
でき、かつＮＯｘ出口濃度を従来同様低レベルに保つこ
とができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、燃焼装置から排出され
る燃焼排ガス中のＮＯｘを低濃度（数ｐｐｍ以下）まで
低減し、かつリークアンモニアも低減するのに好適な脱
硝装置のアンモニア注入制御方法に関するものである。
る燃焼排ガス中のＮＯｘを低濃度（数ｐｐｍ以下）まで
低減し、かつリークアンモニアも低減するのに好適な脱
硝装置のアンモニア注入制御方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】発電所、各種工場、自動車などから排出
される排煙中のＮＯｘは光化学スモッグの原因物質であ
り、その効果的な除去方法として選択的接触還元による
排煙脱硝法が火力発電所を中心に幅広く用いられてい
る。近年、産業の発展からＮＯｘを含む排ガス量は増大
する傾向にあり、環境基準を遵守するために今後さらな
る低ＮＯｘ化が要求される趨勢にある。またＮＯｘの
他、燃焼排ガス中に含まれるＣＯも非常に低レベルにま
で抑えることが望まれており、それらを除去するための
触媒やプロセスの実現が重要な課題となっている。
される排煙中のＮＯｘは光化学スモッグの原因物質であ
り、その効果的な除去方法として選択的接触還元による
排煙脱硝法が火力発電所を中心に幅広く用いられてい
る。近年、産業の発展からＮＯｘを含む排ガス量は増大
する傾向にあり、環境基準を遵守するために今後さらな
る低ＮＯｘ化が要求される趨勢にある。またＮＯｘの
他、燃焼排ガス中に含まれるＣＯも非常に低レベルにま
で抑えることが望まれており、それらを除去するための
触媒やプロセスの実現が重要な課題となっている。
【０００３】特に排ガス浄化後の出口ＮＯｘを数ｐｐｍ
以下の、非常に低いレベルに抑える高効率脱硝を実現さ
せるためには、例えばボイラの排煙脱硝法に従来から使
用されている酸化チタン系の脱硝触媒を用いた場合は、 モル比１.０以上の運転に伴い未反応ＮＨ3が高濃度
で排出する、 通常、触媒層直前の排ガス流路域では局所的にＮＨ3
／ＮＯｘモル比が相違するため、モル比を１.０よりか
なり高い値（例えば１.２以上）とする必要があり、ま
すます未反応ＮＨ3の濃度が高くなる、 ＮＨ3／ＮＯｘモル比の局所的な相違をなくすために
は、ＮＨ3とＮＯｘの拡散混合を図ればよいが、そのた
めに長いダクトが必要となり、脱硝装置の巨大化をもた
らす、等の問題があり、超高効率脱硝を達成するのは困
難であった。
以下の、非常に低いレベルに抑える高効率脱硝を実現さ
せるためには、例えばボイラの排煙脱硝法に従来から使
用されている酸化チタン系の脱硝触媒を用いた場合は、 モル比１.０以上の運転に伴い未反応ＮＨ3が高濃度
で排出する、 通常、触媒層直前の排ガス流路域では局所的にＮＨ3
／ＮＯｘモル比が相違するため、モル比を１.０よりか
なり高い値（例えば１.２以上）とする必要があり、ま
すます未反応ＮＨ3の濃度が高くなる、 ＮＨ3／ＮＯｘモル比の局所的な相違をなくすために
は、ＮＨ3とＮＯｘの拡散混合を図ればよいが、そのた
めに長いダクトが必要となり、脱硝装置の巨大化をもた
らす、等の問題があり、超高効率脱硝を達成するのは困
難であった。
【０００４】特に未反応ＮＨ3の高濃度排出に関して
は、排ガス中にＳＯ3が含有される場合、未反応ＮＨ3と
ＳＯ3が反応して(ＮＨ4)2ＳＯ4や(ＮＨ4)ＨＳＯ4が生成
される。これらの生成物は、後流のエアヒーターなどの
熱交換器に付着し、排ガス流路の閉塞に伴う圧力損失の
増大を引き起すため、脱硝装置やボイラの運転に支障を
来す。またＬＮＧ焚き等におけるＳＯ3を含まない排ガ
スに対してもＮＨ3自体が臭気を伴うためＮＨ3の高濃度
排出には問題がある。これらの問題を解決するためには
未反応ＮＨ3の排出を抑えなければならない。例えば未
反応ＮＨ3の排出濃度を５ｐｐｍ以下に抑える事によ
り、これらの問題を解決する事ができる。
は、排ガス中にＳＯ3が含有される場合、未反応ＮＨ3と
ＳＯ3が反応して(ＮＨ4)2ＳＯ4や(ＮＨ4)ＨＳＯ4が生成
される。これらの生成物は、後流のエアヒーターなどの
熱交換器に付着し、排ガス流路の閉塞に伴う圧力損失の
増大を引き起すため、脱硝装置やボイラの運転に支障を
来す。またＬＮＧ焚き等におけるＳＯ3を含まない排ガ
スに対してもＮＨ3自体が臭気を伴うためＮＨ3の高濃度
排出には問題がある。これらの問題を解決するためには
未反応ＮＨ3の排出を抑えなければならない。例えば未
反応ＮＨ3の排出濃度を５ｐｐｍ以下に抑える事によ
り、これらの問題を解決する事ができる。
【０００５】この未反応ＮＨ3の高濃度排出を抑制する
ために、図５に示すように、ＮＨ3の分解機能と脱硝機
能を合わせ持つ触媒を使用する方法が提案されている。
（特開平６−３１９９５１） また、ＮＨ3注入制御は、ＮＨ3／ＮＯｘモル一定制御の
場合、ＮＨ3注入量を、ＮＨ3注入量(kg/h)＝乾きガス量
(kg/h)×入口ＮＯｘ濃度(ppm)×１０~6×モル比(-)とし
て制御するが、ボイラ負荷変化時においては、これに、
ボイラ負荷要求信号をＮＨ3注入制御の先行信号とし、
負荷要求信号の微分値に比例したＮＨ3注入量を加え、
制御しているものもある。
ために、図５に示すように、ＮＨ3の分解機能と脱硝機
能を合わせ持つ触媒を使用する方法が提案されている。
（特開平６−３１９９５１） また、ＮＨ3注入制御は、ＮＨ3／ＮＯｘモル一定制御の
場合、ＮＨ3注入量を、ＮＨ3注入量(kg/h)＝乾きガス量
(kg/h)×入口ＮＯｘ濃度(ppm)×１０~6×モル比(-)とし
て制御するが、ボイラ負荷変化時においては、これに、
ボイラ負荷要求信号をＮＨ3注入制御の先行信号とし、
負荷要求信号の微分値に比例したＮＨ3注入量を加え、
制御しているものもある。
【０００６】図６に示す従来技術のＮＨ3注入制御装置
の概略系統図を用いて制御方法を説明する。脱硝装置１
には脱硝触媒３、ＮＨ3分解機能を有する脱硝触媒４が
順次に排ガス流れ方向に充填されている。制御装置の入
力端子７より負荷指令信号８を入力し、微分器９、整流
回路１０、比例演算器１１を通り微分先行信号１２が求
められる。この微分先行信号１２を乾きガス量、入口Ｎ
Ｏｘ濃度、モル比より求められるＮＨ3注入量に加えた
ＮＨ3注入量によって、ＮＨ3注入制御弁６をコントロー
ルしＮＨ3量を制御する。
の概略系統図を用いて制御方法を説明する。脱硝装置１
には脱硝触媒３、ＮＨ3分解機能を有する脱硝触媒４が
順次に排ガス流れ方向に充填されている。制御装置の入
力端子７より負荷指令信号８を入力し、微分器９、整流
回路１０、比例演算器１１を通り微分先行信号１２が求
められる。この微分先行信号１２を乾きガス量、入口Ｎ
Ｏｘ濃度、モル比より求められるＮＨ3注入量に加えた
ＮＨ3注入量によって、ＮＨ3注入制御弁６をコントロー
ルしＮＨ3量を制御する。
【０００７】従来技術では、負荷変化に対応するため、
負荷指令信号８の微分値に比例した微分先行信号１２の
値によりＮＨ3注入量を決定している。
負荷指令信号８の微分値に比例した微分先行信号１２の
値によりＮＨ3注入量を決定している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】脱硝反応器内に脱硝機
能を持つ触媒と、脱硝機能とＮＨ3酸化機能を合わせ持
つ触媒とを充填し、ＮＨ3／ＮＯｘモル比１．０以上の
高モル比で運転する高効率の脱硝装置では、ＮＨ3／Ｎ
Ｏｘモル比一定制御の場合や、これに加え負荷変化時に
ボイラ負荷要求信号により負荷要求に比例したＮＨ3注
入量を決定している場合、負荷上昇時に一時的にリーク
ＮＨ3が増加するという現象が見られる。
能を持つ触媒と、脱硝機能とＮＨ3酸化機能を合わせ持
つ触媒とを充填し、ＮＨ3／ＮＯｘモル比１．０以上の
高モル比で運転する高効率の脱硝装置では、ＮＨ3／Ｎ
Ｏｘモル比一定制御の場合や、これに加え負荷変化時に
ボイラ負荷要求信号により負荷要求に比例したＮＨ3注
入量を決定している場合、負荷上昇時に一時的にリーク
ＮＨ3が増加するという現象が見られる。
【０００９】この原因は、低温で触媒に吸着したＮＨ3
が、負荷上昇に伴う温度上昇により離脱するが、モル比
１．０以上の高モル比であるため、ＮＨ3吸着量がＮＯ
ｘ濃度に比べ多く、負荷上昇に伴うＮＯｘの増加を考慮
してもなおＮＨ3の離脱量が多く、一気に反応器出口へ
排出されてしまうためである。
が、負荷上昇に伴う温度上昇により離脱するが、モル比
１．０以上の高モル比であるため、ＮＨ3吸着量がＮＯ
ｘ濃度に比べ多く、負荷上昇に伴うＮＯｘの増加を考慮
してもなおＮＨ3の離脱量が多く、一気に反応器出口へ
排出されてしまうためである。
【００１０】この様にＮＨ3／ＮＯｘモル比１.０以上の
高モル比で運転する高効率の脱硝装置では、負荷上昇時
にＮＨ3が高濃度で排出するという問題が発生してい
る。
高モル比で運転する高効率の脱硝装置では、負荷上昇時
にＮＨ3が高濃度で排出するという問題が発生してい
る。
【００１１】本発明の目的は、負荷上昇時でのリークＮ
Ｈ3の排出を抑え、かつＮＯｘを低濃度に維持する超高
効率脱硝を実現する事にある。
Ｈ3の排出を抑え、かつＮＯｘを低濃度に維持する超高
効率脱硝を実現する事にある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の脱硝装置のアンモニア注入制御方法は、燃
焼炉の負荷の要求信号値に対応して、この燃焼炉からの
排ガスを浄化する触媒を備えた脱硝装置へ、排ガス中の
ＮＯｘに対して１.０以上の高モル比でＮＨ3を通常注入
する方法において、燃焼炉の負荷上昇に合わせてＮＨ3
注入モル比を通常より減少させて、リークＮＨ3の排出
を抑制するＮＨ3注入制御を行うものである。
に、本発明の脱硝装置のアンモニア注入制御方法は、燃
焼炉の負荷の要求信号値に対応して、この燃焼炉からの
排ガスを浄化する触媒を備えた脱硝装置へ、排ガス中の
ＮＯｘに対して１.０以上の高モル比でＮＨ3を通常注入
する方法において、燃焼炉の負荷上昇に合わせてＮＨ3
注入モル比を通常より減少させて、リークＮＨ3の排出
を抑制するＮＨ3注入制御を行うものである。
【００１３】そしてこのアンモニア注入制御方法は、排
ガスの流れ方向に第１の脱硝触媒とこの第１の脱硝触媒
に続いてＮＨ3酸化機能を有する第２の脱硝触媒とを有
する脱硝装置に適用することが好ましい。
ガスの流れ方向に第１の脱硝触媒とこの第１の脱硝触媒
に続いてＮＨ3酸化機能を有する第２の脱硝触媒とを有
する脱硝装置に適用することが好ましい。
【００１４】
【作用】燃焼炉の負荷上昇時にＮＨ3注入量を減少させ
てＮＨ3／ＮＯｘモル比を低下させる事により、低負荷
の排ガス低温時に触媒に吸着したＮＨ3が、負荷上昇に
より排ガス温度が上がるため離脱することによるＮＨ3
過剰を防ぎ、反応器出口でのリークＮＨ3を低減し、か
つ出口ＮＯｘも従来制御と同様の非常に低いレベルに抑
制し脱硝装置としての性能を高める事が出来る。
てＮＨ3／ＮＯｘモル比を低下させる事により、低負荷
の排ガス低温時に触媒に吸着したＮＨ3が、負荷上昇に
より排ガス温度が上がるため離脱することによるＮＨ3
過剰を防ぎ、反応器出口でのリークＮＨ3を低減し、か
つ出口ＮＯｘも従来制御と同様の非常に低いレベルに抑
制し脱硝装置としての性能を高める事が出来る。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明の一実施例を示すＮＨ3注入制御装
置の概略系統図である。このＮＨ3注入制御装置は、脱
硝装置に供給するＮＨ3量を制御する。脱硝装置１には
脱硝触媒３とＮＨ3分解機能を有する脱硝触媒４が順次
に排ガス流れ方向に充填されており、一方、制御系で
は、入力端子７より燃焼炉としてのボイラの負荷指令信
号８が入力され、微分器９、整流回路１０、比例演算器
１１を通り、そして微分先行信号１２が求まる。この微
分先行信号１２によって、ＮＨ3注入制御弁６をコント
ロールしてＮＨ3量を制御し、そしてＮＨ3は触媒３，４
の上流側に設けたＮＨ3注入ノズルから供給する。本実
施例のＮＨ3注入制御装置においては、比例演算器１１
により負荷指令信号８の微分値がプラスとなる負荷上昇
の場合のみ、微分先行信号１２はマイナスとなるよう制
御し、負荷上昇時のＮＨ3注入量を抑制する。これによ
り、負荷上昇時のＮＨ3の過剰注入が無くなり、負荷上
昇時に起きるリークＮＨ3の一時的な増加を防ぐ事が出
来る。
する。図１は本発明の一実施例を示すＮＨ3注入制御装
置の概略系統図である。このＮＨ3注入制御装置は、脱
硝装置に供給するＮＨ3量を制御する。脱硝装置１には
脱硝触媒３とＮＨ3分解機能を有する脱硝触媒４が順次
に排ガス流れ方向に充填されており、一方、制御系で
は、入力端子７より燃焼炉としてのボイラの負荷指令信
号８が入力され、微分器９、整流回路１０、比例演算器
１１を通り、そして微分先行信号１２が求まる。この微
分先行信号１２によって、ＮＨ3注入制御弁６をコント
ロールしてＮＨ3量を制御し、そしてＮＨ3は触媒３，４
の上流側に設けたＮＨ3注入ノズルから供給する。本実
施例のＮＨ3注入制御装置においては、比例演算器１１
により負荷指令信号８の微分値がプラスとなる負荷上昇
の場合のみ、微分先行信号１２はマイナスとなるよう制
御し、負荷上昇時のＮＨ3注入量を抑制する。これによ
り、負荷上昇時のＮＨ3の過剰注入が無くなり、負荷上
昇時に起きるリークＮＨ3の一時的な増加を防ぐ事が出
来る。
【００１６】以下、本発明の効果を確認するため、図２
に示す水平流型試験装置に、それぞれ４５０ｍｍ角で長
さ５００ｍｍの脱硝触媒３を４ユニット、ＮＨ3分解性
能を有する脱硝触媒４を３ユニット、脱硝触媒３を３ユ
ニット、排ガス流れ方向に順次並べて設置し、５０％〜
１００％の負荷変動を想定し、通常モル比１.３の運転
で試験を行った。
に示す水平流型試験装置に、それぞれ４５０ｍｍ角で長
さ５００ｍｍの脱硝触媒３を４ユニット、ＮＨ3分解性
能を有する脱硝触媒４を３ユニット、脱硝触媒３を３ユ
ニット、排ガス流れ方向に順次並べて設置し、５０％〜
１００％の負荷変動を想定し、通常モル比１.３の運転
で試験を行った。
【００１７】図３に、本発明の実施例のＮＨ3注入量制
御での負荷変化に伴う入口ＮＯｘ、ＮＨ3注入量、出口
ＮＯｘ、リークＮＨ3の挙動を示す。また、比較のた
め、図４に従来技術のＮＨ3注入量制御での負荷変化に
伴う入口ＮＯｘ、ＮＨ3注入量、出口ＮＯｘ、リークＮ
Ｈ3の挙動を示す。
御での負荷変化に伴う入口ＮＯｘ、ＮＨ3注入量、出口
ＮＯｘ、リークＮＨ3の挙動を示す。また、比較のた
め、図４に従来技術のＮＨ3注入量制御での負荷変化に
伴う入口ＮＯｘ、ＮＨ3注入量、出口ＮＯｘ、リークＮ
Ｈ3の挙動を示す。
【００１８】高効率脱硝での目標値の一例の、出口ＮＯ
ｘ：２ｐｐｍ以下、リークＮＨ3：５ｐｐｍ以下を基準
に２つのグラフを比較してみる。従来の制御方法では、
図４に示すように、負荷上昇時にリークＮＨ3が一時的
に増加し５ｐｐｍを超えている。一方、本発明の制御方
法では、図３に示すように、負荷上昇時に注入ＮＨ3量
を抑える制御が行われ、リークＮＨ3の一時的増加を防
ぎ、リークＮＨ3量は常に５ｐｐｍ以下をキープし、出
口ＮＯｘも２ｐｐｍ以下を保っている。
ｘ：２ｐｐｍ以下、リークＮＨ3：５ｐｐｍ以下を基準
に２つのグラフを比較してみる。従来の制御方法では、
図４に示すように、負荷上昇時にリークＮＨ3が一時的
に増加し５ｐｐｍを超えている。一方、本発明の制御方
法では、図３に示すように、負荷上昇時に注入ＮＨ3量
を抑える制御が行われ、リークＮＨ3の一時的増加を防
ぎ、リークＮＨ3量は常に５ｐｐｍ以下をキープし、出
口ＮＯｘも２ｐｐｍ以下を保っている。
【００１９】したがって、負荷変化時においても出口Ｎ
Ｏｘ、リークＮＨ3を目標値以下に抑えることが可能と
なり脱硝装置の性能を向上することが出来る。
Ｏｘ、リークＮＨ3を目標値以下に抑えることが可能と
なり脱硝装置の性能を向上することが出来る。
【００２０】また本発明は、高効率の脱硝装置のみなら
ず、リークＮＨ3は５ｐｐｍより幾らか高くはなるが、
従来用いている脱硝触媒のみを充填した脱硝装置におい
てもリークＮＨ3の一時的増加の抑制に効果が有る。
ず、リークＮＨ3は５ｐｐｍより幾らか高くはなるが、
従来用いている脱硝触媒のみを充填した脱硝装置におい
てもリークＮＨ3の一時的増加の抑制に効果が有る。
【００２１】なお本発明は、図２に示すような、脱硝触
媒３＋ＮＨ3分解機能を有する脱硝触媒４の触媒層構成
に限るものでなく、脱硝触媒３＋ＮＨ3分解機能を有す
る脱硝触媒４＋脱硝触媒３の構成でもよい。
媒３＋ＮＨ3分解機能を有する脱硝触媒４の触媒層構成
に限るものでなく、脱硝触媒３＋ＮＨ3分解機能を有す
る脱硝触媒４＋脱硝触媒３の構成でもよい。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、脱硝装置のアンモニア
注入制御方法は、燃焼炉の負荷の上昇時には、通常運転
時のＮＨ3／ＮＯｘモル比１.０以上より減少させてＮＨ
3を供給する方法とするので、低負荷の排ガス低温時に
触媒に吸着したＮＨ3が、負荷上昇に伴う排ガス温度に
より離脱しても、反応器出口でのリークＮＨ3を低レベ
ルに抑えることができ、かつ出口ＮＯｘも従来制御と同
様に低レベルに維持できる効果がある。
注入制御方法は、燃焼炉の負荷の上昇時には、通常運転
時のＮＨ3／ＮＯｘモル比１.０以上より減少させてＮＨ
3を供給する方法とするので、低負荷の排ガス低温時に
触媒に吸着したＮＨ3が、負荷上昇に伴う排ガス温度に
より離脱しても、反応器出口でのリークＮＨ3を低レベ
ルに抑えることができ、かつ出口ＮＯｘも従来制御と同
様に低レベルに維持できる効果がある。
【図１】本発明のアンモニア注入制御法を用いる脱硝装
置の一実施例を示す図である。
置の一実施例を示す図である。
【図２】本発明の効果を確認する為の水平流型試験装置
を示す図である。
を示す図である。
【図３】本発明のアンモニア注入制御法による負荷変化
試験結果を示すグラフである。
試験結果を示すグラフである。
【図４】従来のアンモニア注入制御法での負荷変化試験
結果を示すグラフである。
結果を示すグラフである。
【図５】従来の脱硝装置における触媒の組合わせを示す
図である。
図である。
【図６】従来技術でのアンモニア注入制御法を示す図で
ある。
ある。
【符号の説明】 １ 脱硝装置 ２ 排ガスダクト ３ 脱硝触媒 ４ ＮＨ3分解機能を有する脱硝触媒 ５ ＮＨ3注入ノズル ６ ＮＨ3注入制御弁 ７ 端子 ８ 負荷指令信号 ９ 微分器 １０ 整流回路 １１ 比例演算器 １２ 微分先行信号
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米田 吉輝 大阪府大阪市北区中之島３丁目３番22号 関西電力株式会社内 (72)発明者 西川 鉄太 大阪府大阪市北区中之島３丁目３番22号 関西電力株式会社内 (72)発明者 向井 正人 広島県呉市宝町６番９号 バブコック日立 株式会社呉工場内 (72)発明者 森井 政治 広島県呉市宝町５番３号 バブ日立エンジ ニアリング株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 燃焼炉の負荷要求信号の大きさに対応し
て、該燃焼炉からの排ガスを浄化する触媒を備えた脱硝
装置へ該排ガス中のＮＯｘに対して１.０以上の高モル
比でＮＨ3を通常注入するアンモニア注入制御方法にお
いて、前記負荷の上昇時に前記モル比を通常より減少さ
せることを特徴とする脱硝装置のアンモニア注入制御方
法。 - 【請求項２】 前記脱硝装置は、前記排ガスの流れ方向
に第１の脱硝触媒と該第１の脱硝触媒に続いてＮＨ3酸
化機能を有する第２の脱硝触媒とを有することを特徴と
する請求項１記載の脱硝装置のアンモニア注入制御方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7232875A JPH0975665A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 脱硝装置のアンモニア注入制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7232875A JPH0975665A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 脱硝装置のアンモニア注入制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0975665A true JPH0975665A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=16946209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7232875A Pending JPH0975665A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 脱硝装置のアンモニア注入制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0975665A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005265234A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Babcock Hitachi Kk | アンモニア含有排ガス処理装置および方法 |
| JP2009545437A (ja) * | 2006-08-01 | 2009-12-24 | コーメテック， インコーポレイテッド | 排ガス処理のための組成物および方法 |
-
1995
- 1995-09-11 JP JP7232875A patent/JPH0975665A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005265234A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Babcock Hitachi Kk | アンモニア含有排ガス処理装置および方法 |
| JP2009545437A (ja) * | 2006-08-01 | 2009-12-24 | コーメテック， インコーポレイテッド | 排ガス処理のための組成物および方法 |
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