JPH097232A

JPH097232A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH097232A
Application number: JP7154242A
Authority: JP
Inventors: Masatoshi Yanagimachi; 昌俊柳町; Sumio Hirose; 純夫広瀬; Yoshiteru Taniguchi; 義輝谷口; Hideki Umehara; 英樹梅原
Original assignee: Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority date: 1995-06-21
Filing date: 1995-06-21
Publication date: 1997-01-10

Abstract

(57)【要約】【構成】半価幅が０．４μｍ以上０．７μｍ以下であ
り、深さが２８０ｎｍより大きく４００ｎｍ以下である
プリピットと、半価幅が０．３μｍ以上０．６μｍ以下
であり、深さが１７０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であるプ
リグルーブからなるウォブリング・トラックが略正弦曲
線状に形成された円盤状基板の上に、色素層からなる記
録層、反射層がこの順に設けられている光記録媒体にお
いて、該ウォブリング・トラックの該プリピット部にお
ける振幅が１０６ｎｍより大きく２００ｎｍ以下であ
り、該ウォブリング・トラックのプリグルーブ部の振幅
が２５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることを特徴とする光
記録媒体。【効果】オレンジブック（ＣＤ−Ｒ）規格を満足する
良好な信号特性を有するハイブリッドディスクを提供す
ることが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光による情報の
記録及び再生が可能な光記録媒体であって、特に基板上
に設けられたプリピット部及びプリグルーブ部からなる
ウォブリング・トラックを有する光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体とし
てコンパクトディスク（以下、ＣＤと略す）規格に対応
した追記または記録可能なＣＤ（ＣＤ−Ｒ）が提案され
ている［例えば、日経エレクトロニクス、Ｎｏ．４６
５，Ｐ．１０７，１９８９年１月２３日号］。この光記
録媒体は図１に示すように基板１上に記録層２、反射層
３、保護層４をこの順に形成されるものである。この光
記録媒体の記録層に半導体レーザー等のレーザー光を高
パワーで照射すると、記録層が物理的あるいは化学的変
化を起こし、ピットの形で情報が記録される。かくして
形成されたピットに低パワーのレーザー光を照射し、反
射光を検出することによりピットの情報を再生すること
ができる。このような光記録媒体の記録再生には一般に
波長７７０〜８３０ｎｍの近赤外半導体レーザーが用い
られており、レッドブック（ＣＤ）やイエローブック
（ＣＤ−ＲＯＭ）、オレンジブック（ＣＤ−Ｒ）等の規
格に準拠しているため、ＣＤプレーヤーやＣＤ−ＲＯＭ
プレーヤーと互換性を有するという特徴を有する。

【０００３】市販のＣＤ−Ｒに用いられている色素とし
ては大きく分けて、フタロシアニン色素とシアニン色素
がある。これらの色素は媒体の信号特性に重要な光学特
性に違いがあることが知られている。即ち、市販のＣＤ
プレーヤーなどに使われている再生用レーザー光の波長
７７０〜８３０ｎｍにおける色素の屈折率が、フタロシ
アニン色素では、２．０〜２．３に対して、シアニン色
素は、２．８〜２．９であり、フタロシアニン色素の方
が０．５〜０．９も小さい。色素の屈折率は媒体設計上
最も重要なパラメーターであり、特に反射率や信号の変
調度に影響することから２つの色素では媒体設計におけ
る最適条件（例えば、基板のピット及びグルーブ形状、
色素の塗膜形状）が大きく異なってくる。即ち、シアニ
ン色素はフタロシアニン色素より屈折率が大きいために
反射率が高く、ピットやグルーブの深さを浅くすること
ができることから基板を成形し易いといった利点があ
る。一方、フタロシアニン色素はシアニン色素に比べ
て、光や熱、湿度などに対する耐久性が優れていること
と高速記録特性が優れていることから記録時間の短縮が
可能であるといった利点を有している。

【０００４】上記ＣＤ−Ｒはレーザービームを案内する
ために、予め渦巻状のプリピット及びプリグルーブから
なるトラックが基板表面に形成されている。このような
プリピット及びプリグルーブは基板を射出成形すること
により作製される。このようなプリピット及びプリグル
ーブのトラックに略正弦曲線状のウォブリングを施し、
且つ、その際にウォブリングの周期を絶対時間のデータ
として用いたり、あるいはウォブリング周期を周波数変
調することによりディスク上の絶対アドレスの検出を可
能とした光ディスクは公知である。（特開平１−３１７
２３９号）。

【０００５】ウォブリングされたプリピット及びプリグ
ルーブから得られるウォブリング振幅は、例えば、トラ
ックピッチが１．６μｍの時に±３０ｎｍ程度とされて
おり、ウォブリング周期は光ヘッドが直接応答しないよ
うな、例えば空間周波数（基本周波数）が２２．０５ｋ
Ｈｚとなるように設定されている。

【０００６】最近、上記ＣＤやＣＤ−ＲＯＭなどの再生
専用領域（ＲＯＭ領域）と上記ＣＤ−Ｒなどの追記また
は記録可能な領域（ＲＡＭ領域）とを組み合わせた光記
録媒体が提案されている。この光記録媒体はＣＤ−Ｒの
規格であるオレンジブックではハイブリッドディスクと
称しており、ＲＯＭ領域には音楽用ＣＤやＣＤ−ＲＯＭ
のように基板上にプリピットが設けられており、ＲＡＭ
領域にはＣＤ−Ｒのように基板上にプリグルーブが形成
されているのが特徴である。オレンジブック規格ではア
ドレスの管理をプリピットだけでなくプリグルーブ部も
利用して行うためにこれらのトラックを周波数変調した
ウォブリングを施すことにより内周からの絶対時間の管
理を行うようにされている。ウォブリング振幅は一般に
は±３０ｎｍ程度とされている。このような光記録媒体
はプリピット部とプリグルーブ部のウォブリング振幅が
同じで、プリグルーブのトラックのウォブリングＲＦ再
生信号（再生キャリア信号）の変調度が最適になるよう
に設計される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにプリピット部とプリグルーブ部のウォブリング振
幅を同じにした従来の方法では、トラックピッチが１．
６μｍでプリピット及びプリグルーブを±３０ｎｍでウ
ォブリングしたときのＲＦ再生信号のＣ／Ｎが、プリピ
ット部の方がプリグルーブ部よりも低い値になる。これ
は、連続してレーザーを案内するプリグルーブに対し
て、断続的に情報を記録しているプリピットの方が、ウ
ォブリングＲＦ再生信号の再生時にノイズになり易いた
め、ノイズレベルが上昇することにより、Ｃ／Ｎが低下
すると考えられている。このような観点からＣ／Ｎの向
上を目的とした提案がされている。

【０００８】即ち、特開平４−２４３０１９号によると
プリグルーブ部よりもプリピット部のウォブリング振幅
を大きくすることにより、プリピット部の再生信号のキ
ャリヤレベルを上げ、Ｃ／Ｎを向上させている。即ち、
ウォブリング・プリピットの振幅とウォブリング・プリ
グルーブの振幅の差は１０ｎｍ以上、好ましくは１６〜
３６ｎｍの範囲にあり、プリピットの振幅としては６６
〜１０６ｎｍの範囲にあり、プリグルーブの振幅として
は４０〜８０ｎｍの範囲にあるようにしている。また、
このプリピット及びプリグルーブの形状としては、プリ
ピットの半価幅は０．４５〜０．６５μｍ、深さが９０
〜２８０ｎｍの範囲にあり、プリグルーブの半価幅は
０．４０〜０．６０μｍの範囲にあり、深さが３０〜１
９０ｎｍの範囲にあるようにしている。

【０００９】ところが、我々の検討によるとこのような
再生信号のノイズレベルは、実はプリピットの形状に依
存していることがわかった。即ち、プリピットの深さが
１２００〜１３００Ａでは−６０ｄＢであるのに対し
て、さらに２８００〜３０００Ａと深くなると、ノイズ
レベルは−５０ｄＢと高くなり、特開平４−２４３０１
９号に従って媒体を作製しても良好なＣ／Ｎで信号を再
生することができない場合が生じることを見出した。

【００１０】また、我々はノイズレベルが上昇した分だ
けプリピットのウォブリング振幅を大きくしてキャリヤ
ーレベルを上げて、Ｃ／Ｎを得ることも考えられるが、
このような方法で上記ハイブリッドディスクを作製した
場合、プリピットのウォブリング振幅が大きいためにピ
ット列が大きくうねることになり、光ヘッドはこのうね
りに追従できないため、再生信号の時間軸方向のゆらぎ
（ジッターという）が大きくなり、再生時にエラーにな
るという問題が生じることもわかった。ハイブリッドデ
ィスクの場合、信号のジッターはオレンジブック規格で
定められており、３５ｎｓ以下でなければならない。ジ
ッターが３５ｎｓを越えると再生信号の読み取りエラー
が多発し、最悪の場合再生不能になることがある。

【００１１】本発明の目的は、ウォブリング・トラック
にプリピット及びプリグルーブが形成された円盤状の基
板上に、色素層からなる記録層、反射層、保護層がこの
順に設けられているハイブリッドディスクにおいて、プ
リピット部とプリグルーブ部のウォブリング再生信号の
Ｃ／Ｎ（ＷＣＮＲａ）が良好で読み取りエラーが小さ
く、且つ、プリピット及び記録後のプリグルーブのジッ
ター特性の良好な記録再生特性を有する光記録媒体を提
供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を提案する
に至った。即ち、この問題は以下の発明によって解決さ
れる。（１）半価幅が０．４μｍ以上０．７μｍ以下であり、
深さが２８０ｎｍより大きく４００ｎｍ以下であるプリ
ピットと、半価幅が０．３μｍ以上０．６μｍ以下であ
り、深さが１７０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であるプリグ
ルーブからなるウォブリング・トラックが略正弦曲線状
に形成された円盤状基板の上に、色素層からなる記録
層、反射層がこの順に設けられている光記録媒体におい
て、該ウォブリング・トラックの該プリピット部におけ
る振幅が１０６ｎｍより大きく２００ｎｍ以下であり、
該ウォブリング・トラックのプリグルーブ部の振幅が２
５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることを特徴とする光記録
媒体であり、また、（２）色素層がフタロシアニン色素
よりなる（１）記載の光記録媒体であり、また、（３）
反射層がＡｕを主成分とする金属からなる（１）または
（２）記載の光記録媒体に関するものである。

【００１３】本発明に従えば、プリピット部とプリグル
ーブ部のウォブリング再生信号のＣ／Ｎが均一で、且
つ、オレンジブック規格を満足する良好なジッター特性
を有するハイブリッドディスクを提供することが可能と
なる。

【００１４】本発明の具体的構成について以下に説明す
る。本発明の光記録媒体は渦巻状のプリピット部とプリ
グルーブ部からなる周波数変調されたウォブリング・ト
ラックを形成した基板上に記録層及び反射層がこの順に
形成された構造を有している。

【００１５】本発明の上記光記録媒体は内周側基板上に
記録信号としてプリピットが形成された再生専用のＲＯ
Ｍ領域、そして外周側基板上にプリグルーブからなる追
記可能なＲＡＭ領域が設けられていることが好ましい。
ＲＯＭ領域とＲＡＭ領域は必要に応じて２つ以上設けて
もよく、ＲＯＭ領域が外周側にＲＡＭ領域が内周側にあ
ってもよい。プリピット及びプリグルーブからなるウォ
ブリング・トラックは周波数変調信号を示すようにウォ
ブリングされており、内周から絶対時間の管理を行うよ
うにしている。

【００１６】本発明におけるプリピット部及びプリグル
ーブ部のウォブリング振幅は特定の条件を満足すること
が要請される。即ち、プリグルーブのウォブリング振幅
は好ましくは２５ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲にあり、
且つ、プリピットのウォブリング振幅は１０６より大き
く２００ｎｍ以下の範囲にある。さらに好ましくはプリ
グルーブのウォブリング振幅が２８〜３５ｎｍであり、
且つ、プリピットのウォブリング振幅が１０７〜１５０
ｎｍの範囲にある。

【００１７】プリピットのウォブリング振幅が１０６ｎ
ｍよりあまり小さくなると再生信号のＣ／Ｎが小さすぎ
て、絶対時間のデータの読み取りエラーが生じ易くな
り、最悪の場合、読み取り不能になる恐れがある。ま
た、プリピットのウォブル振幅が２００ｎｍよりあまり
大きくなると、例えば３００ｎｍとなるとピット列のう
ねりが大きいことにより再生信号のジッターが大きくな
り、データの読み取りエラーが発生し、最悪の場合、信
号再生不能になる恐れがある。プリグルーブのウォブリ
ング振幅は２５〜４７ｎｍである。これよりあまり小さ
いと、再生時アドレス時間が読めなくなる。一方、これ
よりあまり大なると、ジッターが増大して仕舞う。

【００１８】本発明におけるプリピット及びプリグルー
ブは、特定の形状を有するものである。即ち、プリピッ
トの半価幅（ピット深さの１／２の深さにおけるピット
の幅）は０．４〜０．７μｍ、好ましくは０．４５〜
０．６５μｍ、特に好ましくは０．５〜０．６μｍであ
り、プリピットの深さが２８０ｎｍより大きく４００ｎ
ｍ以下であり、好ましくは２８５〜３５０ｎｍ、特に好
ましくは２９０〜３２０ｎｍである。プリピットの半価
幅や深さが上記範囲外であると変調度やサーボ信号が小
さくなり、オレンジブック規格を満足できないことがあ
る。

【００１９】また、プリグルーブの半価幅（ピット深さ
の１／２の深さにおけるピットの幅）は０．３〜０．６
μｍ、好ましくは０．４〜０．６μｍ、特に好ましくは
０．４５〜０．５５μｍであり、プリグルーブの深さは
１７０〜２５０ｎｍであり、好ましくは１８０〜２３０
ｎｍ、特に好ましくは１９０〜２２０ｎｍである。プリ
グルーブの半価幅や深さが上記範囲外であるとプリピッ
トと同様に変調度やサーボ信号が小さくなり、オレンジ
ブック規格を満足できない場合がある。

【００２０】上記プリピットの断面形状は略台形である
ことが望ましい。これは上記プリグルーブより深くなる
ためレジスト膜厚でプリピットの深さの設定が可能であ
り、スタンパー製造が容易なことによる。一方、上記プ
リグルーブの断面形状は略Ｖ字形であることが望まし
い。これはプリグルーブが深溝であるとオレンジブック
規格を満足する反射率が得られないため、プリピットの
深さよりも浅くする必要がある。そのため、スタンパー
製造上、プリグルーブ形状は略Ｖ字形であることが好ま
しいのである。

【００２１】基板の材質としては、基本的には記録光及
び再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカー
ボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メチ
ル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂
等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。こ
れらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成
形される。透明性や基板成形性などを考慮するとポリカ
ーボネート樹脂が最も適している。

【００２２】次に基板の上に色素層からなる記録層を形
成する。その厚みは特に限定するものではないが、通常
１０〜２００ｎｍである。本発明における記録層はプリ
ピット部及びプリグルーブ部において特定の形状を有す
ることが好ましい。以下に図１を用いて詳しく説明す
る。

【００２３】図１においてプラスチックからなる基板１
の表面に色素からなる色素層（記録層）２が形成され、
色素層２の上に金属からなる反射層３、さらに反射層３
の上に保護層４が形成されている。基板１上にはプリグ
ルーブ５及びプリピット６が形成されている。色素層２
は好ましくは色素を有機溶剤に溶解して調製した色素塗
布溶液をスピンコーティング法により塗布し乾燥するこ
とにより形成されたものである。前述したように色素溶
液を塗布する方法を用いるとプリグルーブ５及びプリピ
ット６に色素が埋まるために、プリピット６のピット底
部７の色素層２の膜厚ｔ_pは基板１のプリピット間部８
の色素層２の膜厚ｔ_plよりも大きくなっている。プリピ
ットの深さをｄ_pとすると反射層３と色素層２の界面に
おけるプリピットの深さδ_pは、以下のように表され
る。 δ_p＝ｄ_p＋ｔ_pl−ｔ_p プリピット底部７とプリピット間部８での光路長の差
（Ｌ_p）は、以下の式で表される。Ｌ_p＝ｎ_sｄ_p＋ｎ_d（ｔ_pl−ｔ_p）＝ｎ_sｄ_p＋ｎ_d（δ_p−ｄ_p）但し、ｎ_sは基板１の屈折率であり、ｎ_dは色素層２の
屈折率である。

【００２４】通常、色素層の屈折率（ｎ_d）は基板の屈
折率（ｎ_s）より大きく、プリピットの深さ（ｄ_p）が
従来のものよりも深くなるため、プリピット底部７とプ
リピット間部８での光路長の差（Ｌ_p）は大きくなる。

【００２５】本発明における光記録媒体では、プリピッ
ト底部７とプリピット間部８での光路長の差（Ｌ_p）
は、０．２０λ以上０．４０λ以下、好ましくは０．２
５λ以上０．３５λ以下になるように構成されているこ
とが好ましい。Ｌ_pが０．２０λ未満ではピット底部と
ピット間部の光路長差が小さすぎ、また、Ｌ_pが０．４
０λを越えると逆にピット底部とピット間部の光路長差
が大きすぎて、変調度が小さくなりオレンジブック（Ｃ
Ｄ−Ｒ）規格を満足する良好な信号特性が得られない。

【００２６】一方、プリグルーブ底部９とプリグルーブ
間部１０での光路長の差（Ｌ_g）は以下の式で表され
る。Ｌ_g＝ｎ_sｄ_g＋ｎ_d（ｔ_gl−ｔ_g）＝ｎ_sｄ_g＋ｎ_d（δ_g−ｄ_g）但し、ｄ_gはプリグルーブの深さ、δ_gは反射層３と色
素層２の界面におけるプリグルーブの深さ（δ_g＝ｄ_g
＋ｔ_gl−ｔ_g）、ｔ_glはプリグルーブ間部１０での色素
層２の膜厚、ｔ_gはプリグルーブ底部９での色素層２の
膜厚である。

【００２７】本発明における光記録媒体では、プリグル
ーブ底部９とプリグルーブ間部１０での光路長の差（Ｌ
_g）は、０．１５λ以下、好ましくは０．１０λ以下小
さくなるように構成されている。Ｌ_gが０．１５λを越
えると光路長が大きすぎて、反射率が低下し、オレンジ
ブック（ＣＤ−Ｒ）規格を満足することができない場合
がある。

【００２８】本発明における記録層は、フタロシアニン
色素、特に置換基を有し、中心に金属原子をもつ有機溶
媒に可溶なフタロシアニン色素を用いることが好まし
い。この置換基としては、水素や塩素、臭素、ヨウ素等
のハロゲン、置換または無置換のアルキル基、アリール
基、不飽和アルキル基、アルコキシル基、アリールオキ
シ基、不飽和アルコキシル基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、不飽和アルキルチオ基、カルボン酸エステル
基、カルボン酸アミド基、シリル基、アミノ基等が挙げ
られる。

【００２９】前記置換基のより具体的な例としては、ア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ネ
オペンチル基、イソアミル基、２−メチルブチル基、ｎ
−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペン
チル基、４−メチルペンチル基、２−エチルブチル基、
ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘ
キシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、３−エチルペンチル基、ｎ
−オクチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプ
チル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル
基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、ｎ
−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基等の一級ア
ルキル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、１−エ
チルプロピル基、１−メチルブチル基、１，２−ジメチ
ルプロピル基、１−メチルヘプチル基、１−エチルブチ
ル基、１，３−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブ
チル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、１−メチ
ルヘキシル基、１−エチルヘプチル基、１−プロピルブ
チル基、１−イソプロピル−２−メチルプロピル基、１
−エチル−２−メチルブチル基、１−プロピル−２−メ
チルプロピル基、１−メチルヘプチル基、１−エチルヘ
キシル基、１−プロピルペンチル基、１−イソプロピル
ペンチル基、１−イソプロピル−２−メチルブチル基、
１−イソプロピル−３−メチルブチル基、１−メチルオ
クチル基、１−エチルヘプチル基、１−プロピルヘキシ
ル基、１−イソブチル−３−メチルブチル基等の二級ア
ルキル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル
基、ｔｅｒｔ−アミノ基、ｔｅｒｔ−オクチル基等の三
級アルキル基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘ
キシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ
−ブチルシクロヘキシル基、４−（２−エチルヘキシ
ル）シクロヘキシル基、ボルニル基、イソブルニル基、
アダマンタン基等のシクロアルキル基等が、アリール基
としては、フェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェ
ニル基、ノニルフェニル基、ナフチル基、ブチルナフチ
ル基、ノニルナフチル基等が、また、不飽和アルキル基
としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘ
キセン基、オクテン基、ドデセン基、シクロヘキセン
基、ブチルヘキセン基等が挙げられる。

【００３０】また、これらのアルキル基、アリール基、
不飽和アルキル基はヒドロキシル基やハロゲン基等で置
換されてもよく、また、酸素、硫黄、窒素等の原子を介
して前記アルキル基、アリール基で置換されても良い。
酸素を介して置換されているアルキル基やアリール基と
しては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シメチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、エ
トキシエトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキ
シプロピル基、エトキシプロピル基、メトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基、ポリオキシエチレン基、ポリ
オキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基等が、硫黄
を介して置換されているアルキル基やアリール基として
はメチルチオエチル基、エチルチオエチル基、エチルチ
オプロピル基、フェニルチオエチル基、メチルチオフェ
ニル基、ブチルチオフェニル基等が、窒素を介して置換
されているアルキル基やアリール基としてはジメチルア
ミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジエチルアミ
ノプロピル基、ジメチルアミノフェニル基、ジブチルア
ミノフェニル基等が好ましいものとして挙げられる。

【００３１】一方、フタロシアニン色素の中心金属とし
ては、２価の金属が好ましく、具体的には、Ｃａ、Ｍ
ｇ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｐ
ｔ、Ｃｄ、Ｒｕ等が好ましいものとして挙げられる。ま
た、上記フタロシアニン色素は必要に応じて、２種類以
上のフタロシアニン色素を混合して用いてもよく、さら
に光吸収剤や燃焼促進剤、消光剤、紫外線吸収剤、接着
剤、樹脂バインダー等の添加剤を混合あるいは置換基と
して導入してもよい。

【００３２】光吸収剤は、記録光の波長に吸収があり、
フタロシアニン色素膜の感度を高めるためのものであ
り、有機色素が望ましい。例えば、ナフタロシアニン系
色素、ポルフィリン系色素、アゾ系色素、ペンタメチン
シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ピリリウム系
色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、ナ
フトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェ
ノール系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン
系色素、インダンスレン系色素、インジゴ系色素、チオ
インジゴ系色素、メロシアニン系色素、チアジン系色
素、アクリジン系色素、オキサジン系色素などがよく用
いられているが、中でもナフタロシアニン系色素、は吸
収波長領域の面から特に望ましい。これらの色素は、さ
らに複数混合して用いることも可能である。

【００３３】燃焼促進剤の例としては、金属系アンチノ
ッキング剤である四エチル鉛、四メチル鉛などの鉛系化
合物やシマントレン（Ｍｎ（Ｃ₅Ｈ₅）（ＣＯ）₃）な
どのＭｎ系化合物、また、メタロセン化合物である鉄ビ
スシクロペンタジエニル錯体（フェロセン）をはじめ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｚｒ、Ｌｕ、Ｔａ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｓｃ、Ｙなど
のビスシクロペンタジエニル金属錯体を挙げられる。中
でもフェロセン、ルテノセン、オスモセン、ニッケロセ
ン、チタノセン及びそれらの誘導体は良好な燃焼促進効
果がある。鉄系金属化合物としては、メタロセンの他に
ギ酸鉄、シュウ酸鉄、ラウリル酸鉄、ナフテン酸鉄、ス
テアリン酸鉄、酪酸鉄などの有機酸鉄化合物、アセチル
アセトナート鉄錯体、フェナントロリン鉄錯体、ビスピ
リジン鉄錯体、エチレンジアミン鉄錯体、エチレンジア
ミン四酢酸鉄錯体、ジエチレントリアミン鉄錯体、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル鉄錯体、ジホスフィ
ノ鉄錯体、ジメチルグリオキシマート鉄錯体などのキレ
ート鉄錯体、カルボニル鉄錯体、シアノ鉄錯体、アンミ
ン鉄錯体などの鉄錯体、塩化第一、第二鉄、臭化第一、
第二鉄などのハロゲン化鉄、あるいは、硝酸鉄、硫酸鉄
などの無機鉄塩類、さらには、酸化鉄などが挙げられ
る。ここで用いる鉄系金属化合物は有機溶剤に可溶で、
且つ、耐湿熱性及び耐光性の良好なものが望ましい。特
にアセチルアセトナート鉄錯体や鉄カルボニル錯体など
は良好な溶解性が得られるという点で非常に好ましい。
上記燃焼促進剤は、必要に応じて置換基を導入したり、
複数混合したり、バインダー等の添加物質を加えてもよ
い。

【００３４】これらの色素はスピンコート法やキャスト
法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法、真空蒸着法等
によって基板上に成膜される。本発明において、ピット
部及びグルーブ部において特定の形状の色素膜を形成す
るためにはスピンコート法が最も適している。スピンコ
ート法においては色素を溶解あるいは分散させた塗布溶
液を用いるが、この際溶媒は基板にダメージを与えない
ものを選ぶことが好ましい。例えば、ｎ−ヘキサン、ｎ
−オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロ
ヘキサン、プロピルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘ
キサン、ジエチルシクロヘキサン等の環状炭化水素系溶
媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等
の芳香族炭化水素系溶媒、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロメタン、２，２，３，３−テトラフロロ−１−
プロパノール等のハロゲン化炭化水素系溶媒、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノー
ル、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系
溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソ
ルブ系溶媒、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケ
トン系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等の
エステル系溶媒などが挙げられる。これらの有機溶剤は
単独でも、あるいは２種類以上混合して用いてもよいの
である。

【００３５】フタロシアニン系色素を使っての色素膜の
形成においては、上記塗布溶媒の中では、ｎ−オクタ
ン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンな
ど、沸点が１２０〜１４０℃程度の有機溶媒を単独で用
いたり、あるいはこれらにジオキサンやキシレン、トル
エン、プロピルシクロヘキサンなどを体積比率で０．１
〜１０％程度混合した塗布溶剤がよく用いられる。

【００３６】好ましい塗布条件としては、例えば、温度
２４℃±１℃の環境下で最初に低速回転（１００〜１０
００ｒｐｍ）で１〜１０秒間色素溶液を塗布した後、直
ちに高速回転（２０００〜５０００ｒｐｍ）で１０〜６
０秒間乾燥すると均一な色素層（記録層）が形成でき
る。また、必要に応じて記録層は１層だけでなく複数の
色素を多層形成させることもできる。

【００３７】次に色素層からなる記録層の上に反射層を
形成する。厚みは特に限定するものではないが通常５０
〜３００ｎｍ、好ましくは１００〜１５０ｎｍ程度であ
る。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十
分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、
Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｃｒ及びＰｄの金属を単独あ
るいは合金にして用いることが可能である。このなかで
もＡｕやＡｌは反射率が高く反射層の材料として適して
いる。これ以外でも下記のものを含んでいてもよい。例
えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、
Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ
などの金属及び半金属を挙げることができる。また、Ａ
ｕを主成分としているものは反射率の高い反射層が容易
に得られるため好適である。ここで主成分というのは含
有率が５０％以上のものをいう。金属以外の材料で低屈
折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形
成し、反射層として用いることも可能である。

【００３８】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタリング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げら
れる。中でもスパッタリング法は、最もよく用いられて
いる手法である。また、反射率を高めるためや密着性を
よくするために記録層と反射層の間に反射増幅層や接着
層などの中間層を設けることもできる。

【００３９】中間層に用いられる材料としては再生光の
波長で屈折率が大きいものが望ましい。例えば、無機材
料としては、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＡｌＮ、ＺｎＳ、ＺｎＳとＳ
ｉＯ ₂の混合物、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｅＯ₂、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｓ₃などがあり、これらの材料を単独で
あるいは複数混合して用いてもよい。有機材料として
は、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロ
シアニン系色素、ポルフィリン系色素、アゾ系色素、ス
クアリリウム系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウ
ム系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、
アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、トリ
フェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダンス
レン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メ
ロシアニン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色
素、オキサジン系色素などの色素やポリスチレン、ポリ
酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸
エステル、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルピロリ
ドン、ポリパラヒドロキシスチレンなどの高分子化合物
が挙げられる。

【００４０】さらに、反射層の上に適当な厚みの保護層
を形成させることもできる。保護層の材料としては反射
層を外力から保護するものであれば特に限定しない。有
機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬
化性樹脂等を挙げることができる。ＵＶ硬化性樹脂が好
ましい。又、無機物質としては、ＳｉＯ₂、Ｓｉ
₃Ｎ ₄、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂等が挙げられる。熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液
を塗布し、乾燥することによって形成することができ
る。ＵＶ硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に
溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、Ｕ
Ｖ光を照射して硬化させることによって形成することが
できる。ＵＶ硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンア
クリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアク
リレートなどのアクリレート樹脂を用いることができ
る。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良
いし、１層だけでなく多層膜にして用いてもいっこうに
差し支えない。

【００４１】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、このなかで
もスピンコート法が好ましい。このようにして作製され
た光記録媒体はオレンジブック（ＣＤ−Ｒ）規格を満足
する信号特性が得られ、従来より市販されているＣＤプ
レーヤーやＣＤ−ＲＯＭプレーヤーでも良好に再生する
ことが可能となる。

【００４２】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。〔実施例１〕直径４６ｍｍ〜８０ｍｍの領域にトラック
ピッチ１．６μｍ、ウォブリング・プリピット（半価幅
（Ｗ_p）：０．５０μｍ、深さ（ｄ_p）：３００ｎｍ、
振幅：１０７ｎｍ）が形成され、直径８０ｍｍ〜１１８
ｍｍの領域にトラックピッチ１．６μｍ、ウォブリング
・グルーブ（半価幅（Ｗ_g）：０．３５μｍ、深さ（ｄ
_g）：２１０ｎｍ、ウォブリング振幅：３０ｎｍ）が形
成された円盤状のポリカーボネート基板（外径１２０ｍ
ｍ、厚さ１．２ｍｍ、屈折率（ｎ_s）１．５８）を用い
た。

【００４３】一方、式（１），〔化１〕に示されるフタ
ロシアニン色素( 式中、Ｘ＝４である )０．２５ｇをエ
チルシクロヘキサンに３％ｏ−キシレンを添加した塗布
溶媒１０ｍｌに溶解し、色素溶液を調製した。

【００４４】

【化１】この色素溶液を上記基板上にスピンコート法により、基
板の回転数７５０ｒｐｍで５秒間塗布した後、回転数３
０００ｒｐｍで１０秒間乾燥して、色素層からなる記録
層を形成した後、７０℃で２時間加熱乾燥し残留溶媒を
除去した。このときの色素膜の屈折率（ｎ_d）は２．２
０であった。このときの色素の平均膜厚は約１００ｎｍ
であった。

【００４５】この色素層の上にバルザース社製スパッタ
装置（ＣＤＩ−９００）を用いてＡｕをスパッタし、厚
さ１００ｎｍの反射層を形成した。スパッタガスには、
アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワ
ー２．５ｋＷ、スパッタガス圧１．０×１０^-2Ｔｏｒｒ
で行った。さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂ＳＤ−１
７（大日本インキ化学工業製）をスピンコートした後、
紫外線照射して厚さ６μｍの保護層を形成した。

【００４６】作製したサンプルのグルーブ部を市販のＣ
Ｄライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用い
て、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、７８０ｎｍ赤色半
導体レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光デ
ィスク評価装置ＤＤＵ−１０００を用いて、信号を再生
し、デジタルオシロスコープにより反射率と１１Ｔ信号
の変調度を測定し、ＫＥＮＷＯＯＤ製ＣＤデコーダーを
用いて、エラー率を測定した。また、ヒューレット−パ
ッカード社製タイム・インターバル・アナライザー（Ｔ
ＩＡ）を用いてジッター測定を行った。

【００４７】また、トラッキングエラー信号をスペクト
ラム・アナライザーに入力して、ウォブリング・プリピ
ット及びプリグルーブのＣ／Ｎ（Ｃ：キャリヤーレベ
ル、Ｎ：ノイズレベル）を測定し、ＷＣＮＲａ（＝Ｃ−
Ｎ）を算出した。また、ＫＥＮＷＯＯＤ製ＡＴＩＰデコ
ーダーを用いて、絶対時間の読み取りエラー率（ＡＴＥ
Ｒ）を測定した。

【００４８】〔実施例２〕実施例１においてプレピット
のウォブリング振幅を２００ｎｍにし、プリグルーブの
幅を０．３μｍ、深さを１７０ｎｍにすること以外は同
様にして、媒体を作製した。

【００４９】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００５０】〔実施例３〕実施例１においてプレピット
の深さを２８５ｎｍにし、プリグルーブの幅を０．３３
μｍ、深さを１９０ｎｍにすること以外は同様にして、
媒体を作製し、信号特性評価を行った。

【００５１】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００５２】〔実施例４〕実施例１においてプレピット
の深さを３２０ｎｍにし、ウォブリング振幅を１４９ｎ
ｍにし、プリグルーブの幅を０．３８μｍ、深さを２２
０ｎｍにすること以外は同様にして、媒体を作製し、信
号特性評価を行った。

【００５３】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００５４】〔実施例５〕実施例１においてプレピット
の幅を０．７μｍ、深さを３００ｎｍにし、ウォブリン
グ振幅を１０７ｎｍにし、プリグルーブの幅を０．４０
μｍ、深さを２１０ｎｍ、ウォブリング振幅を４０ｎｍ
にすること以外は同様にして、媒体を作製し、信号特性
評価を行った。

【００５５】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００５６】〔実施例６〕実施例５においてプレピット
のウォブリング振幅を１５０ｎｍにし、プリグルーブの
幅を０．５０μｍ、深さを２００ｎｍ、ウォブリング振
幅を３０ｎｍにすること以外は同様にして、媒体を作製
し、信号特性評価を行った。

【００５７】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００５８】〔比較例１〕実施例１においてプレピット
の深さを２８０ｎｍにし、ウォブリング振幅を２２０ｎ
ｍにし、プリグルーブのウォブリング振幅を２０ｎｍに
すること以外は同様にして、媒体を作製し、信号特性評
価を行った。

【００５９】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００６０】〔比較例２〕実施例１においてプレピット
の幅を０．６μｍ、深さを１１０ｎｍ、ウォブリング振
幅を４５ｎｍにし、プリグルーブの幅を０．５５μｍ、
深さを８０ｎｍ、ウォブリング振幅を６０ｎｍにするこ
と以外は同様にして、媒体を作製し、信号特性評価を行
った。

【００６１】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００６２】〔比較例３〕実施例１においてプレピット
の幅を０．６０μｍ、深さを１１０ｎｍ、ウォブリング
振幅を１１０ｎｍにし、プリグルーブの幅を０．４０μ
ｍ、深さを３０ｎｍ、ウォブリング振幅を６０ｎｍにす
ること以外は同様にして、媒体を作製し、信号特性評価
を行った。

【００６３】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００６４】〔比較例４〕実施例１においてプレピット
の深さを２８０ｎｍ、ウォブリング振幅を１０６ｎｍに
し、プリグルーブの幅を０．４０μｍ、深さを２００ｎ
ｍ、ウォブリング振幅を６０ｎｍにすること以外は同様
にして、媒体を作製し、信号特性評価を行った。

【００６５】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００６６】〔比較例５〕実施例１においてプレピット
の深さを２８０ｎｍ、ウォブリング振幅を５０ｎｍに
し、プリグルーブの幅を０．４８μｍ、深さを２５０ｎ
ｍ、ウォブリング振幅を３０ｎｍにすること以外は同様
にして、媒体を作製し、信号特性評価を行った。

【００６７】作製したサンプルのプリグルーブ部を市販
のＣＤライター（フィリップス社製ＣＤＤ５２１）を用
いて、ＥＦＭ信号を記録した。記録後、実施例１と同様
の方法で、プリピット及び記録後のプリグルーブ部の反
射率と１１Ｔ信号の変調度、エラー率、ジッター、ウォ
ブリング・プリピット及びプリグルーブ部の再生信号の
Ｃ／Ｎ及びＷＣＮＲａ、ＡＴＥＲを測定した。

【００６８】これらの結果を表１にまとめた。

【００６９】

【表１】

【００７０】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、半価幅が
０．４μｍ以上０．７μｍ以下であり、深さが２８０ｎ
ｍより大きく４００ｎｍ以下であるプリピットと半価幅
が０．３μｍ以上０．６μｍ以下であり、深さが１７０
ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であるプリグルーブからなるウ
ォブリング・トラックが略正弦曲線状に形成された円盤
状基板の上に、記録層たる色素層、反射層、好ましくは
保護層がこの順に設けられたハイブリッドディスクにお
いて、ウォブリング・トラックのプリピット部における
振幅を１０６ｎｍより大きく２００ｎｍ以下にし、ウォ
ブリング・プリグルーブの振幅を２５ｎｍ以上４０ｎｍ
以下にすることによって、記録特性、特にジッター特性
が良好で、且つ、ウォブリング信号の絶対時間の読み取
りエラーのないハイブリッドディスクを提供することが
可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】光記録媒体の断面構造図

【符号の説明】

１基板２記録層３反射層４保護層５プリグルーブ６プリピット７プリピット底部８プリピット間部９プリグルーブ底部１０プリグルーブ間部ｄ_p プリピットの深さｔ_p プリピット底部上の色素膜厚ｔ_pl プリピット間部上の色素膜厚 δ_p 反射層３と色素層２の界面におけるプリピットの
深さｄ_g プリグルーブの深さｔ_g プリグルーブ底部上の色素膜厚ｔ_gl プリグルーブ間部上の色素膜厚 δ_g 反射層３と色素層２の界面におけるプリグルーブ
の深さ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者梅原英樹神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地三井東圧化学株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】半価幅が０．４μｍ以上０．７μｍ以下
であり、深さが２８０ｎｍより大きく４００ｎｍ以下で
あるプリピットと、半価幅が０．３μｍ以上０．６μｍ
以下であり、深さが１７０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であ
るプリグルーブからなるウォブリング・トラックが略正
弦曲線状に形成された円盤状基板の上に、色素層からな
る記録層、反射層がこの順に設けられている光記録媒体
において、該ウォブリング・トラックの該プリピット部
における振幅が１０６ｎｍより大きく２００ｎｍ以下で
あり、該ウォブリング・トラックのプリグルーブ部の振
幅が２５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることを特徴とする
光記録媒体。
【請求項２】色素層がフタロシアニン色素よりなる請
求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】反射層がＡｕを主成分とする金属からな
る請求項１又は２に記載の光記録媒体。