JPH0968601A - 被膜を備えた光学物品およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】耐環境性が大きく、透明にすることが可能であ
り、干渉縞の発生を抑制する作用のある被膜を、気相成
長法により、連続した工程で形成するための被膜つき物
品の製造方法を提供する。 【課題解決手段】合成樹脂基材と、前記基材上に形成さ
れ、Ｓｉ系および／またはＴｉ系化合物の少なくとも一
方を含み、厚さ方向に向かって屈折率が変化している、
ＣＶＤ法により形成された変性層と、前記変性層上に形
成され、前記変性層よりも相対的に厚い膜厚を有し、か
つ、屈折率が一定であり、ＳｉおよびＯを有する、ＣＶ
Ｄ法により形成されたハードコート層と、前記ハードコ
ート層上に真空蒸着法により形成された無機酸化物から
なる反射防止膜とを有する光学物品。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、耐擦傷性向上のための
硬化層を表面に備えた物品の製造方法に係わり、特に、
ＣＲＴディスプレー、光学用レンズ、液晶表示素子など
の光学的物品の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】眼鏡用プラスチックレンズ等の光学物品
の耐擦傷性を向上させるために、ハードコートと呼ばれ
る被膜を表面に形成する技術が知られている。この被膜
を形成するために、従来、シランカップリング剤に対象
物を浸漬する浸漬表面処理（ディッピング）技術が用い
られている。この浸漬表面処理技術は、対象物の素材が
合成樹脂である場合、耐熱性の点などから非常に有効な
技術であることが知られている。

【０００３】しかしながら、浸漬表面処理技術において
は、被膜の材質が異なると、浸漬剤の組成も異なる。こ
のため、例えば、プラスチックレンズにハードコートを
形成する場合には、新たな高屈折率レンズが開発される
のに伴い、これに対応可能な屈折率のハードコートを形
成するための浸漬剤を開発しなければならない。そのた
め、浸漬剤の開発費用の負担が重くなってきている。

【０００４】また、プラスチックレンズの場合、レンズ
の屈折率ごとに用いる浸漬剤が異なるため、浸漬表面処
理用の装置等の設備を、屈折率ごとに、複数台設置しな
ければならない。このため、設備の減価償却費が毎年増
大する傾向にある。

【０００５】さらに、最近では特注品のプラスチックレ
ンズを受注する傾向がある。特に、眼鏡レンズの場合、
１ペア（２枚）で受注し、そのまま製造工場の一貫製造
ラインを流れる工程などが検討されている。この場合、
特注品がどのような屈折率であってもハードコートを形
成できるようにするためには、常に全屈折率分の浸漬表
面処理装置ラインを設置しておく必要があり、生産効率
が悪くなる欠点を有している。

【０００６】また、従来の浸漬表面処理法でハードコー
トを形成する場合、コートする前の表面処理として、ア
ルカリ溶液に浸すというような表面の活性化処理等が不
可欠である。しかしながら、最近、環境問題などからこ
れらに使用される廃液処理等の問題が起こり始めてい
る。

【０００７】さらにまた、従来の被膜の製造工程では縮
合硬化工程が必須であり、この工程に数時間要するた
め、納期の短縮化を計る上で非常に重要な改善上の課題
となっている。

【０００８】また、複数の被膜を積層する必要のある対
象物の場合、これらの被膜を全て浸漬表面処理法で形成
すると、高価な浸漬剤が何種類も必要になり、製造コス
トに見合わなくなるという問題も生じている。

【０００９】そこで、浸漬表面処理法を用いずに被膜を
形成する技術として、プラズマＣＶＤによって被膜を製
造する技術が、特開平５ー１４０３５６に開示されてい
る。この技術は、車両などに使われる透明樹脂製窓に、
密着性及び表面硬度を向上させるための表面硬化膜を形
成するために、プラズマＣＶＤによってシリコン含有膜
（ＳｉＯ_x膜）を形成するものである。

【００１０】また、複数層の被膜を形成するために、ヨ
ーロッパ特許ＥＰ−２０３７３０号においては、光学部
品基材上に有機ケイ素化合物を浸漬表面処理法により形
成し、その上に反射防止膜を形成し、さらにその上に有
機物硬化性物質（撥水性コート）を形成させるものが提
案されている。

【００１１】また、特開昭６２−２４７３０２号公報で
は、無機物の反射防止コート膜上に、シラザン化合物を
形成させ、撥水性を持たせ表面を改質させる技術が開示
されている。

【００１２】また、眼鏡プラスチックレンズの場合に
は、プラスチックレンズを保護するためのハードコート
と呼ばれる有機シリコーン被膜を浸漬表面処理法（ディ
ッピング法）によって形成した後、反射防止膜を真空蒸
着法により形成する方法を用いることにより、浸漬剤の
種類を減らして製造コストを減らす方法も知られてい
る。

【００１３】一方、最近では、眼鏡用プラスチックレン
ズに対しては、耐久性の向上が要求されてきている。特
に、プラスチックレンズの素材の高屈折率化に伴い、耐
久性の中でも、機械的耐久性、すなわち、耐温水性、耐
熱性、耐酸性、耐擦傷性に対する要求が大きい。また、
干渉縞防止等の美的外観の向上も望まれている。

【００１４】また、特開平７−５６００１号および特開
平７−５６００２号公報には、プラスチックレンズのハ
ードコート層の屈折率を、膜厚方向について変化させる
ことにより、干渉縞の発生を抑制することが開示されて
いる。このために、ハードコート層を高屈折率材料と低
屈折率材料とを混合した材料で形成し、膜厚方向につい
て混合割合を変化させることにより、屈折率を変化させ
ている。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開平５−１４０３５６号公報に記載されている方法で
形成された被膜は、耐温水性が低く、眼鏡用プラスチッ
クレンズ等の耐温水性が要求される対象物には使用でき
ない。具体的には、この方法で形成された被膜は、８０
℃、１０分の温水浸漬テストにおいて、膜が剥離してし
まう。

【００１６】また、ＥＰ−２０３７３０号等のように、
浸漬表面処理法と、他の気相成長方法とを組み合わせて
複数層の被膜を形成する方法は、浸漬表面処理法により
形成する被膜の硬化時間が非常に長時間必要である。ま
た、次の反射防止膜の形成工程へ移るために、一度大気
に晒される状態が避けられず、一貫した工程を連続して
行うことが困難である。

【００１７】また、特開平７−５６００１号および特開
平７−５６００２号公報記載の技術においては、ハード
コート層の屈折率を変化させることにより、干渉縞の発
生を抑制することは可能であるが、この層を、プラスチ
ックレンズを保護するためのハードコート層として実際
に作用させるためには、硬い膜にする必要がある。その
ために、ハードコート層は、通常、厚い膜（通常３μｍ
以上）に形成される。

【００１８】しかしながら、前記の開示された技術にお
いて、プラズマ中に発生する金属および酸素などの各正
負イオンからなる空間電荷を平衡状態に保つためには、
それらの各正負イオンの安定した制御が必要であるが、
実際にはこの制御を長い時間にわたり行なうと、基板側
に発生するバイアス電圧が不安定になりやすい。そのた
め、プラズマによる放電が継続あるいは中断される現象
が伴い、形成される薄膜内部の原子組成比が不均一にな
り、ハードコート層内の酸素結合状態の欠損が生じる。
これにより、形成される酸化物膜が低級酸化物を含むよ
うになり、ハードコート層自体が吸収を生じ着色してし
まう。したがって、特開平７−５６００１号および特開
平７−５６００２号公報記載の技術で、実際にハードコ
ート層を形成すると、ハードコート層が着色してしまい
実用上問題等が生じる。この着色は、ハードコート層の
機械的耐久性を向上させるために、膜厚を大きくするほ
ど顕著になる。

【００１９】よって、眼鏡等の透明なプラスチックレン
ズに、特開平７−５６００１号および特開平７−５６０
０２号公報記載の技術を実施することは、実際には非常
に困難である。

【００２０】また、本発明者は、特開平７−５６００１
号および特開平７−５６００２号のように、プラスチッ
ク基材表面にＣＶＤ法によりハードコート層を形成し、
ハードコート層の屈折率を膜厚方向について変化させる
ことを試みた。しかし、この場合、ハードコート層に吸
収が生じてしまうという問題点が生じた。また、ハード
コード層を形成するにあたり、ハードコート層の屈折率
が徐々に変化するように膜を形成することが困難であっ
た。つまり、ハードコート層の屈折率にむらが生じてし
まうような状態になり、不安定な屈折率の変化状態にな
る問題点が発生した。さらに、このむらの部分の耐久性
が落ち、脆くなってしまうこともわかった。

【００２１】また、最近、特に眼鏡レンズの分野におい
て、レンズに対する使用者の要求が多様化するととも
に、基材の屈折率も多様化し、各々の基材に適応する膜
を形成する必要性が生じてきている。そのため、前記問
題点のあるハードコート層上に形成する反射防止膜に適
応する反射防止膜の材料、構成、膜厚、製造方法などを
検討しなければ、多様化する使用者の要求に適応できな
くなってきた。

【００２２】本発明は、上記問題点を解決し、耐環境性
が大きく、透明にすることが可能であり、干渉縞の発生
を抑制する作用のある被膜を備えた物品と、このような
被膜を、気相成長法により連続した工程で形成すること
ができる製造方法を提供することを目的とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】本発明者は、様々な屈折
率を有するプラスチック基材表面に、ハードコート層を
形成し、レンズの耐久性を向上させながら、前記屈折率
を徐々に変化させることの困難さを克服し、かつ、反射
防止効果の優れた光学物品を得ることを試みた。

【００２４】その結果、ハードコート層の耐久性と膜厚
との関係を見直すことにした。つまり、十分な耐久性の
保持のために、従来３μｍ以上の膜厚でハードコート層
を形成していたが、屈折率を徐々に変化させるには、こ
の膜厚は厚すぎることが判った。しかし、屈折率を徐々
に変化させやすいように、ハードコート層の膜厚を薄く
し過ぎると、本来の耐久性という面が劣ってしまうこと
も判明した。

【００２５】そして、本発明者は、ハードコート層の耐
久性を保持しつつ、吸収の起こらないハードコート層を
簡単に形成し、かつ、反射防止効果も優れた光学物品を
得ることを目的とした。

【００２６】上記目的を達成するために、本発明によれ
ば、合成樹脂基材と、前記基材上に形成され、Ｓｉ系お
よび／またはＴｉ系化合物の少なくとも一方を含み、厚
さ方向に向かって屈折率が変化している、ＣＶＤ法によ
り形成された変性層と、前記変性層上に形成され、前記
変性層よりも相対的に厚い膜厚を有し、かつ、屈折率が
一定であり、ＳｉおよびＯを有する、ＣＶＤ法により形
成されたハードコート層と、前記ハードコート層上に真
空蒸着法により形成された無機酸化物からなる反射防止
膜とを有することを特徴とする光学物品が提供される。

【００２７】反射防止膜は、例えば、基材側から順に積
層された第１、第２、第３、第４の層からなり、第１お
よび第３の層は、酸化チタンを含み、第２および第４の
層は、酸化珪素を含む構成にすることが可能である。

【００２８】このとき、層の幾何的膜厚と、その層の屈
折率との積を、その層の光学的膜厚とした場合に、前記
第１および第２の層の光学的膜厚は、それぞれ、０．０
５×λ以上０．１５×λ以下であり、第３の層の光学的
膜厚は、０．３６×λ以上０．４９×λ以下であり、第
４の層の光学的膜厚は、０．１５×λ以上０．３５×λ
以下であることが望ましい。但し、λは、本発明の被膜
を備えた物品に入射する光の中心波長であり、本発明で
は、４５０以上５５０以下の任意の値とする。

【００２９】また、さらには、第１および第３の層は、
ＴｉＯ₂からなり、第２および第４の層は、ＳｉＯ₂から
なることが望ましい。

【００３０】また、変性層は、厚さ方向について屈折率
を変化させ、ハードコート層は、厚さ方向について屈折
率を一定にする構成にすることができる。また、変性層
を、ハードコート層より膜厚が厚い構成にすることもで
きる。

【００３１】また、上記目的を達成するために、本発明
によれば、被膜を備えた光学物品の製造方法であって、
透明基材を用意し、Ｓｉを含む有機化合物ガスおよびＴ
ｉを含む有機化合物ガスの少なくとも一方を用い、プラ
ズマを用いた化学気相成長法により、前記基材上に変性
層を形成する第１工程と、Ｓｉを含む有機化合物ガスと
酸素ガスとの混合ガスを用い、プラズマを用いた化学気
相成長法により、前記変性層よりも相対的に厚い膜厚を
有するハードコート層を前記変性層上に形成する第２工
程と、真空蒸着法により多層膜からなる反射防止膜を形
成する第３工程を有する光学物品の製造方法が提供され
る。

【００３２】本発明では、基体として、ポリカーボネイ
ト、ポリメチルメタクリレートおよびその共重合体、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネイト（ピッツバ
ークプレート ガラス社製 ＣＲ−３９）の重合体、ポ
リエステル、不飽和ポリエステル、アクリロニトリルー
スチレン共重合体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポキ
シ樹脂、ハロゲン（但し、フッ素を除く）および水酸基
を含有するモノまたはジ（メタ）アクリレートとイソシ
アネート化合物との重合体またはその共重合体等から任
意に選択された材料からなる基体を用いることができ
る。ポリエステルのなかでは、特にポリエチレンテレフ
タレートが好ましく使用される。

【００３３】また、これらの中で特に好ましくは、ジエ
チレングリコールビスアリルカーボネイトの重合体、ポ
リウレタン、および、ハロゲン（但し、フッ素を除く）
および水酸基を含有するモノまたはジ（メタ）アクリレ
ートとイソシアネート化合物と重合体またはその共重合
体のうちのいずれかからなる基体が使用できる。

【００３４】本発明の製造方法において、第１および第
２の工程において用いられるＳｉを含む有機化合物とし
ては、テトラエトキシシラン Ｓｉ(ＯＣ₂Ｈ₅)₄、ジメ
トキシジメチルシラン (ＣＨ₃)₂Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₂、メチ
ルトリメトキシシラン ＣＨ₃Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₃、テトラ
メトキシシラン Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₄、エチルトリメトキシ
シラン Ｃ₂Ｈ₅Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₃、ジエトキシジメチルシ
ラン (Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂Ｓｉ(ＣＨ₃)₂、メチルトリエトキシ
シラン ＣＨ₃Ｓｉ(ＯＣ₂Ｈ₅)₃等が好適に用いられる。

【００３５】また、本発明の製造方法において、第１の
工程において用いられるＴｉを含む有機化合物として
は、テトラメトキシチタン Ｔｉ(ＯＣＨ₃)₄、テトラエ
トキシチタン Ｔｉ(ＯＣ₂Ｈ₅)₄、テトラ-i-プロポキシ
チタン Ｔｉ(Ｏ-i-Ｃ₃Ｈ₇)₄、テトラ-n-プロポキシチ
タン Ｔｉ(Ｏ-n-Ｃ₃Ｈ₇)₄、テトラ-n-ブトキシチタン
Ｔｉ(Ｏ-n-Ｃ₄Ｈ₉)₄、テトラ-i-ブトキシチタン Ｔｉ
(Ｏ-i-Ｃ₄Ｈ₉)₄、テトラ-sec-ブトキシチタン Ｔｉ(Ｏ
-sec-Ｃ₄Ｈ₉)₄、テトラ-t-ブトキシチタン Ｔｉ(Ｏ-t-
Ｃ₄Ｈ₉)₄、テトラジエチルアミノチタン Ｔｉ(Ｎ(Ｃ₂
Ｈ₅)₂)₄等が好適に用いられる。

【００３６】これらのＳｉを含む有機化合物およびＴｉ
を含む有機化合物は、その一種類を単独で用いても良
く、また、二種類以上を併用してもよい。

【００３７】また、本発明において使用されるプラズマ
を用いた化学気相成長（ＣＶＤ）法は、原料ガスに熱エ
ネルギー及び電気的エネルギーを与えることにより放電
させ、そのプラズマ雰囲気中の非熱平衡状態において反
応を促進させ、基体上に薄膜を堆積させる方法であり、
通常使われてるものには平行平板電極型、容量結合型ま
たは誘導結合型等がある。特に本発明においては、基体
の主平面に平行に電界と磁界とをかけるプラズマ促進Ｃ
ＶＤ（ＰＥＣＶＤ）法により形成することが好適であ
る。

【００３８】というのは、電界と平行に磁界を印加する
ことにより、対向する電極の間には磁界による電場が起
こり、プラズマ中のイオンは基板ホルダー側に加速され
る。また、この磁界による電場により、プラズマ密度が
均一化され、基板へのイオン損傷および温度上昇などが
抑制できる。従って、特にプラスチックレンズのような
透明な基体材料に薄膜を形成させる場合や、イオン損傷
により側鎖基が破断されやすい材料や耐熱性の低い材料
からなる基体を用いる場合、基体の損傷が少ないため、
磁界をかけるプラズマ促進ＣＶＤが非常に有効である。

【００３９】

【作用】上述のように、本発明では、基材の上に、変性
層と、ハードコート層と、反射防止膜とを備える。ハー
ドコート層は、ＳｉおよびＯを含む膜の組成と組織が耐
環境性に優れていることに加え、その組成から厚膜を容
易に形成できるため、基体を保護する。また、変性層
は、ハードコート層と基材との密着性を向上させるとと
もに、ハードコート層に加わる衝撃を吸収することによ
り、被膜全体の耐環境性を向上させる。反射防止膜は、
干渉縞が発生するのを抑制し、美的外観に優れた物品が
得られる。

【００４０】変性層は、Ｓｉの量および／またはＴｉの
量を、膜厚方向について変化させることにより、膜厚方
向について、容易に屈折率を変化させることができる。
これにより、基体と被膜との屈折率の差による干渉縞の
発生を防ぐことができる。

【００４１】また、ハードコート層は、その組成から酸
素量を調節することにより、膜厚が厚い場合にも容易に
透明になるので、透明なハードコートが形成できる。ま
た、変性層は、基材を保護するハードコート層ではない
ため、膜厚が薄くてもよく、変性層が有色のＴｉを含む
場合にも、薄くすることにより、透明にできる。反射防
止膜は、光学的条件を満たす薄膜にすることができるた
め、反射防止膜も、透明にできる。このように、本発明
の基材上に形成される各層を、透明にすることができ
る。したがって、眼鏡用プラスチックレンズ用の被膜を
形成するために本発明の方法を好適に用いることができ
る。

【００４２】また、変性層、ハードコート層は、いずれ
も気相成長法で形成することができるため、複数層から
なる被膜を連続した工程で形成することができる。

【００４３】本願発明の変性層とは、基材表面上に形成
され、基材側から膜厚方向に徐々に屈折率が変化してい
る層であり、変性層内の物質の組成比が変化しているも
のである。またさらに、変性層を設けることにより、耐
衝撃性が向上することも確認されているが、これは、従
来のハードコート層の膜厚が３μｍ以上であったために
ハードコート層の残留内部応力が高くなっていいたもの
を、本願発明のような変性層を基材とハードコート層と
の間に設けることにより、ハードコート層に残留する内
部応力を低くすることが可能である。従って、内部応力
を低くできるため、耐温水性、耐熱性等によって、引き
起こされるクラックなどが回避できる効果がある。

【００４４】つまり、変性層は、ハードコート層の内部
応力の低下によるクラックの抑制、および、耐衝撃性を
向上させることができる層とも言える。さらにまた、基
材との密着力が向上するため、耐熱性等で起こる界面破
壊を防止できるのである。また、耐衝撃性の向上は、変
性層内の原子密度の変化により内部応力あるいは音響イ
ンピーダンス等が変化することにも起因していると思わ
れるが定かではない。

【００４５】尚、変性層を形成する前に、基材表面を酸
素プラズマにより活性化処理することにより、ハードコ
ート層の膜厚を従来のもののように厚くしても、耐衝撃
性を向上させることが可能である。

【００４６】また、本願発明のハードコート層の屈折率
は、一定であり、従来のように、３μｍ弱の膜厚を有す
るハードコート層の屈折率を変化させる必要がない。こ
のため、従来のように、ハードコート層の屈折率を徐々
に変化させた場合に生じていた膜形成時の制御性困難や
膜厚むらおよび吸収等の発生というような問題点を生じ
ることがない。

【００４７】

【実施例】以下、本発明の一実施例として、眼鏡用プラ
スチックレンズについて説明する。

【００４８】（実施例１）まず、本発明の第１の実施例
として、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層
と、第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射
防止膜とからなる被膜を備えたプラスチックレンズを製
造する方法について説明する。

【００４９】基体のプラスチックレンズは、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート（ピッツバーク プ
レート ガラス社製 ＣＲ−３９）の重合体からなって
いる。

【００５０】この基体上に、バルツェルス（Ｂａｌｚｅ
ｒｓ）社製ＰＥＣＶＤ装置と真空蒸着装置とを用いて、
上述の構成の被膜を形成する。ＰＥＣＶＤ装置の真空室
と真空蒸着装置の真空室とは、ロードロック室で連結さ
れている。ロードロック室は、基体を、ＰＥＣＶＤ装置
の真空室から真空蒸着室の真空室へ真空を保った状態で
移動させるための空間である。

【００５１】ＰＥＣＶＤ装置は、真空室外に電磁コイル
を備えている。電磁コイルは、真空室内に配置された一
対の電極の間の空間に、電界と平行な方向に磁界をかけ
るように配置されている。電極間の空間には、カローセ
ルタイプの基体ホルダーが、基体の主平面を電界の向き
と平行に保持するように配置されている。

【００５２】蒸着装置は、電子ビームによって蒸着源を
加熱する構成である。

【００５３】まず、準備工程として、基体のレンズを超
音波洗浄機に通して洗浄し、ＰＥＣＶＤ装置の真空室内
の基体ホルダーに設置する。その後、真空室内を２．７
×１０~⁴Ｐａまで排気する。

【００５４】つぎに、変性層を形成する工程について説
明する。

【００５５】真空室に接続されたメチルトリエトキシシ
ランの入った容器を加熱することにより、メチルトリエ
トキシランを気化させ、メチルトリエトキシランガスを
流量１００ＳＣＣＭで真空室内に流す。真空室の圧力が
０．７Ｐａになったら、真空室外の電磁石コイルに５Ａ
の電流を流して、電極間に磁場をかけ、同時に、カソー
ドに高周波出力２ＫＷを３分間印加する。これにより、
電極間にプラズマが発生する。磁場は、低気圧アーク放
電を安定化させる。この間のメチルトリエトキシシラン
ガスの流量は、１００ＳＣＣＭである。その後、カソー
ドの高周波出力を段階的に４０Ｗ／ｍｉｎの割合で徐々
に上げていき、１２分間で２．５ＫＷに達するように制
御する。この１２分間の間のメチルトリエトキシシラン
ガスの流量は、１８０ＳＣＣＭにして一定にしておく。

【００５６】この１２分間で、屈折率が、段階的に変化
した変性層が形成される。変性層は、その膜厚が、つぎ
の工程で形成する第１、第２、第３のハードコート層の
膜厚をあわせた厚さよりも薄くなるように、膜厚を制御
しながら形成する。本実施例では、１００ｎｍより大き
く、９００ｎｍよりも小さい範囲に入る特定の厚さに形
成した。

【００５７】つぎに、第１、第２、第３のハードコート
層を形成する工程について説明する。

【００５８】変性層を形成する工程に連続させて、酸素
ガスを真空室に５０ＳＣＣＭ流し、真空室圧力を０．５
Ｐａにして、メチルトリエトキシシランガスの流量１８
０ＳＣＣＭ、高周波出力２．５ＫＷ、電磁石コイル５Ａ
で、２０分間、第１のハードコート層を形成する。

【００５９】その後、酸素ガス流量を１００ＳＣＣＭに
増加し、真空室圧力を０．８Ｐａにすると同時に、カソ
ードの高周波出力を３ＫＷに変え、メチルトリエトキシ
シランガスの流量１８０ＳＣＣＭ、電磁石コイル５Ａの
ままで、さらに２０分間、第２のハードコート層を形成
する。

【００６０】最後に、酸素ガス流量を２００ＳＣＣＭに
増加して流し、真空室圧力をそのまま１．０Ｐａに保持
するように排気系のコンダクタンスをバリアブルオリフ
ィスにより調整し、メチルトリエトキシシランガスの流
量１８０ＳＣＣＭ、電磁石コイル５Ａ、カソードの高周
波出力３ＫＷのままで、さらに第３のハードコート層を
形成する。

【００６１】第１、第２、第３のハードコート層は、こ
れらの膜厚をあわせたものが、変性層の膜厚よりも厚く
なるように、膜厚を制御した。本実施例では、０．４μ
ｍより大きく、５μｍよりも小さい範囲に入り、しか
も、変性層の膜厚よりも厚くなるように、膜厚を制御し
た。

【００６２】これらの工程で、基体のレンズの両面に、
変性層、第１、第２、第３のハードコート層からなる被
膜が形成される。

【００６３】つぎに上述の被膜の形成された基体レンズ
を、基体ホルダーごとロードロック室に移動して、基体
レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方向に向く
ように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室へ基体レ
ンズを送る。

【００６４】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源の方を向いた基体レンズ面の第３のハード
コート層の上に、下記４層から成る反射防止膜を下記蒸
着条件により形成する。但し、蒸着源として、第１層目
と第３層目は、ＴｉＯ_x（０＜ｘ＜２）を用い、第２層
目と第４層目は、ＳｉＯ₂を用いる。

【００６５】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａは、オングストロームを表す） 第１層目 二酸化チタン １１４Ａ（幾何的膜厚） ０．０４９λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ３８０Ａ（幾何的膜厚） ０．１６０５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化チタン １１６７Ａ（幾何的膜厚） ０．５λ （光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 ８７１Ａ（幾何的膜厚） ０．２４４λ （光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝５２５ｎｍ
であり、第１層目と第３層目の二酸化チタンの屈折率
は、２．２５、第２層目と第４層目の二酸化珪素の屈折
率は、１．４７である。

【００６６】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【００６７】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【００６８】（実施例２）つぎに、本発明の第２の実施
例として、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層
と、第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射
防止膜とからなる被膜が形成されたプラスチックレンズ
を製造する方法について説明する。

【００６９】本実施例では、基体としてポリウレタン系
重合体からなるレンズを用いた。ＰＥＣＶＤ装置は、第
１の実施例と同じ装置を用いた。また、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層の膜厚は、第１の実施
例と同じにした。

【００７０】まず、準備工程として、基体レンズを超音
波洗浄機に通して洗浄し、ＰＥＣＶＤ装置の真空室内の
カソード電極とアノード電極との間のカローセルタイプ
の基板ホルダーに設置し、２．７×１０~⁴Ｐａまで排気
する。

【００７１】つぎに、変性層を形成する工程について説
明する。

【００７２】真空室に接続されたメチルトリエトキシシ
ランの入った容器を加熱することにより、メチルトリエ
トキシランを気化させ、メチルトリエトキシランガスを
流量３５ＳＣＣＭで真空室内に流す。同時に、真空室に
接続されたジメトキシジメチルシランの入った容器を加
熱することにより、ジメトキシジメチルシランを気化さ
せ、ジメトキシジメチルシランガスを流量１４８ＳＣＣ
Ｍで真空室内に流す。真空室の圧力が、０．５Ｐａなっ
たら、ガスの流量を保持したまま、真空室外の電磁石コ
イルに５Ａの電流を流して、電極間に磁場をかける。そ
して、メチルトリエトキシシランガスの流量を、１分間
当たり１１０ＳＣＣＭの割合で徐々に増加させ、同時
に、ジメトキシジメチルシランガスの流量を、１分間当
たり９８．７ＳＣＣＭの割合で徐々に減少させながら、
カソードに高周波出力２ＫＷを１．５分間印加し、１．
５分間で変性層を形成させる。

【００７３】第１、第２、第３のハードコート層を形成
する工程について説明する。

【００７４】さらに続いて、メチルトリエトキシシラン
のガスを流量２００ＳＣＣＭと酸素ガスを流量５０ＳＣ
ＣＭ流し、真空室の圧力が１．０Ｐａになって流量が安
定したところで、外部電磁石コイルに５Ａの電流を流す
と同時に、カソードに高周波出力２．５ＫＷを１７分間
印加して第１のハードコート層を形成する。

【００７５】さらに、酸素ガスの流量を１００ＳＣＣＭ
に増加して、真空室の圧力が２．０Ｐａになるように排
気系のコンダクタンスをバリアブルオリフィスにより調
整し、カソードの高周波出力を３ＫＷに上げて、メチル
トリエトキシシランガスの流量２００ＳＣＣＭ、外部電
磁石コイル５Ａで、引き続き１７分間、第２のハードコ
ート層を形成する。

【００７６】最後に、酸素ガスの流量を２００ＳＣＣＭ
に増加して、真空室の圧力２．０Ｐａ、カソードの高周
波出力３ＫＷ、メチルトリエトキシシランガスの流量２
００ＳＣＣＭ、外部電磁石コイル５Ａで、１７分間、第
３のハードコート層を形成する。

【００７７】つぎに上述の被膜の形成された基体レンズ
を、基体ホルダーごとロードロック室に移動して、基体
レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方向に向く
ように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室へ基体レ
ンズを送る。

【００７８】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源の方を向いた基体レンズ面の第３のハード
コート層の上に、下記４層から成る反射防止膜を下記蒸
着条件により形成する。但し、蒸着源として、第１層目
と第３層目は、ＴｉＯ_x（０＜ｘ＜２）を用い、第２層
目と第４層目は、ＳｉＯ₂を用いる。

【００７９】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａは、オングストロームを表す） 第１層目 二酸化チタン １３０Ａ（幾何的膜厚） ０．０５５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ３３３Ａ（幾何的膜厚） ０．０９１５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化チタン １１８９Ａ（幾何的膜厚） ０．５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 ８８０Ａ（幾何的膜厚） ０．２４２λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝５２５ｎｍ
であり、第１層目と第３層目の二酸化チタンの屈折率
は、２．２５、第２層目と第４層目の二酸化珪素の屈折
率は、１．４７である。

【００８０】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【００８１】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【００８２】（実施例３）第３の実施例のプラスチック
レンズは、基体のプラスチックレンズの表面に、変性
層、第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射
防止膜とからなる被膜を順に備えている。この製造方法
について、説明する。変性層、第１、第２、第３のハー
ドコート層の膜厚は、第１の実施例と同じにした。

【００８３】まず、準備工程として、ポリウレタン系レ
ンズを超音波洗浄機に通して洗浄後、Ｂａｌｚｅｒｓ社
製ＰＥＣＶＤ装置の真空室に設置し、２．７×１０~⁴Ｐ
ａまで排気する。

【００８４】つぎに、変性層を形成する工程を行う。

【００８５】ジメチルジエトキシランのガスを流量１１
ＳＣＣＭで、テトライソプロポキシチタンのガスを流量
９ＳＣＣＭで真空室内に流した。真空室の圧力が２．９
Ｐａになったら、真空室外の電磁石コイルに２．６Ａの
電流を流して、電極間に磁場をかけ、同時に、カソード
に高周波出力０．６ＫＷを４５秒間印加する。この４５
秒間に、テトライソプロポキシチタンガスの流量を１分
間当たり９ＳＣＣＭの割合で徐々に増加させ、同時に、
ジメチルジエトキシシランガスの流量を１分間当たり１
１ＳＣＣＭの割合で徐々に減少させる。この４５秒間
で、変性層を形成させる。

【００８６】さらに続いて、ジメチルジエトキシシラン
のガスを流量１００ＳＣＣＭで、酸素ガスを流量３５Ｓ
ＣＣＭで流し、真空室の圧力が２．９Ｐａになって流量
が安定したところで、外部電磁石コイルに２．６Ａの電
流を流すと同時に、カソードに高周波出力０．８ＫＷを
２５分間印加して、第１のハードコート層を形成する。

【００８７】さらに、酸素ガスの流量を７０ＳＣＣＭに
増加して、真空室の圧力が２．９Ｐａになるように排気
系のコンダクタンスをバリアブルオリフィスにより調整
し、カソードの高周波出力を１ＫＷに上げて、ジメチル
ジエトキシシランガスの流量１００ＳＣＣＭ、外部電磁
石コイル２．６Ａで、引き続き２５分間、第２のハード
コート層を形成する。

【００８８】最後に、酸素ガスの流量を１４０ＳＣＣＭ
に増加して、他の条件は保持したまま２５分間、第３の
ハードコート層を形成する。

【００８９】つぎに上述の被膜の形成された基体レンズ
を、基体ホルダーごとロードロック室に移動して、基体
レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方向に向く
ように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室へ基体レ
ンズを送る。

【００９０】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源の方を向いた基体レンズ面の第３のハード
コート層の上に、下記４層から成る反射防止膜を下記蒸
着条件により形成する。但し、蒸着源として、第１層目
と第３層目は、ＴｉＯ_x（０＜ｘ＜２）を用い、第２層
目と第４層目は、ＳｉＯ₂を用いる。

【００９１】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａは、オングストロームを表す） 第１層目 二酸化チタン １３０Ａ（幾何的膜厚） ０．０５５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ３３３Ａ（幾何的膜厚） ０．０９１５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化チタン １１８９Ａ（幾何的膜厚） ０．５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 ８８０Ａ（幾何的膜厚） ０．２４２λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝５２５ｎｍ
であり、第１層目と第３層目の二酸化チタンの屈折率
は、２．２５、第２層目と第４層目の二酸化珪素の屈折
率は、１．４７である。

【００９２】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【００９３】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【００９４】（実施例４）本発明の第４実施例として、
基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第１、
第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜とか
らなる被膜を備えたプラスチックレンズを製造する方法
について説明する。

【００９５】基体のプラスチックレンズは、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート（ピッツバーク プ
レート ガラス社製 ＣＲ−３９）の重合体からなって
いる。

【００９６】この基体上に、バルツェルス（Ｂａｌｚｅ
ｒｓ）社製ＰＥＣＶＤ装置と真空蒸着装置とを用いて、
上述の構成の被膜を形成する。ＰＥＣＶＤ装置の真空室
と真空蒸着装置の真空室とは、ロードロック室で連結さ
れている。ロードロック室は、基体を、ＰＥＣＶＤ装置
の真空室から真空蒸着室の真空室へ真空を保った状態で
移動させるための空間である。

【００９７】ＰＥＣＶＤ装置は、真空室外に電磁コイル
を備えている。電磁コイルは、真空室内に配置された一
対の電極の間の空間に、電界と平行な方向に磁界をかけ
るように配置されている。電極間の空間には、カローセ
ルタイプの基体ホルダーが、基体の主平面を電界の向き
と平行に保持するように配置されている。

【００９８】蒸着装置は、電子ビームによって蒸着源を
加熱する構成である。

【００９９】まず、準備工程として、基体のレンズを超
音波洗浄機に通して洗浄し、ＰＥＣＶＤ装置の真空室内
の基体ホルダーに設置する。その後、真空室内を２．７
×１０~⁴Ｐａまで排気する。

【０１００】つぎに、変性層を形成する工程について説
明する。

【０１０１】真空室に接続されたメチルトリエトキシシ
ランの入った容器を加熱することにより、メチルトリエ
トキシランを気化させ、メチルトリエトキシランガスを
流量１００ＳＣＣＭで真空室内に流す。真空室の圧力が
０．７Ｐａになったら、真空室外の電磁石コイルに５Ａ
の電流を流して、電極間に磁場をかけ、同時に、カソー
ドに高周波出力２ＫＷを３分間印加する。これにより、
電極間にプラズマが発生する。磁場は、低気圧アーク放
電を安定化させる。この間のメチルトリエトキシシラン
ガスの流量は、１００ＳＣＣＭである。その後、カソー
ドの高周波出力を段階的に４０Ｗ／ｍｉｎの割合で徐々
に上げていき、１２分間で２．５ＫＷに達するように制
御する。この１２分間の間のメチルトリエトキシシラン
ガスの流量は、１８０ＳＣＣＭにして一定にしておく。

【０１０２】この１２分間で、屈折率が、徐々に変化し
た変性層が形成される。変性層は、その膜厚が、つぎの
工程で形成する第１、第２、第３のハードコート層の膜
厚をあわせた厚さよりも薄くなるように、膜厚を制御し
ながら形成する。本実施例では、１００ｎｍより大き
く、９００ｎｍよりも小さい範囲に入る特定の厚さに形
成した。

【０１０３】つぎに、第１、第２、第３のハードコート
層を形成する工程について説明する。

【０１０４】変性層を形成する工程に連続させて、酸素
ガスを真空室に５０ＳＣＣＭ流し、真空室圧力を０．５
Ｐａにして、メチルトリエトキシシランガスの流量１８
０ＳＣＣＭ、高周波出力２．５ＫＷ、電磁石コイル５Ａ
で、２０分間、第１のハードコート層を形成する。

【０１０５】その後、酸素ガス流量を１００ＳＣＣＭに
増加し、真空室圧力を０．８Ｐａにすると同時に、カソ
ードの高周波出力を３ＫＷに変え、メチルトリエトキシ
シランガスの流量１８０ＳＣＣＭ、電磁石コイル５Ａの
ままで、さらに２０分間、第２のハードコート層を形成
する。

【０１０６】最後に、酸素ガス流量を２００ＳＣＣＭに
増加して流し、真空室圧力をそのまま１．０Ｐａに保持
するように排気系のコンダクタンスをバリアブルオリフ
ィスにより調整し、メチルトリエトキシシランガスの流
量１８０ＳＣＣＭ、電磁石コイル５Ａ、カソードの高周
波出力３ＫＷのままで、さらに第３のハードコート層を
形成する。

【０１０７】第１、第２、第３のハードコート層は、こ
れらの膜厚をあわせたものが、変性層の膜厚よりも厚く
なるように、膜厚を制御した。本実施例では、０．４μ
ｍより大きく、５μｍよりも小さい範囲に入り、しか
も、変性層の膜厚よりも厚くなるように、膜厚を制御し
た。

【０１０８】これらの工程で、基体のレンズの両面に、
変性層、第１、第２、第３のハードコート層からなる被
膜が形成される。

【０１０９】つぎに上述の被膜の形成された基体レンズ
を、基体ホルダーごとロードロック室に移動して、基体
レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方向に向く
ように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室へ基体レ
ンズを送る。

【０１１０】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源の方を向いた基体レンズ面の第３のハード
コート層の上に、下記４層から成る反射防止膜を下記蒸
着条件により形成する。但し、蒸着源として、第１層目
は、ＺｒＯ₂（９４％）とＳｃ₂Ｏ₃（６％）との混合物
の焼結体を用い、第２層目と第４層目は、ＳｉＯ₂を用
い、第３層目は、ＴｉＯ_x（０＜ｘ＜２）を用いる。基
体温度は常温である。

【０１１１】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａは、オングストロームを表す） 第１層目 二酸化ジルコニウム（９４％）と三酸化二スカンジウム（６％）と の混合物のアモルファス ２１３Ａ（幾何的膜厚） ０．００８λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ２８９Ａ（幾何的膜厚） ０．０８１λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化チタン １１７７Ａ（幾何的膜厚） ０．５０λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 ８６８Ａ（幾何的膜厚） ０．２４３λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝５２５ｎｍ
であり、第１層目の二酸化ジルコニウム（９４％）と三
酸化二スカンジウム（６％）との混合物の屈折率は、
１．９７、第２層目と第４層目の二酸化珪素の屈折率
は、１．４７、第３層目の二酸化チタンの屈折率は、
２．２３である。

【０１１２】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０１１３】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【０１１４】（実施例５）つぎに、本発明の第５の実施
例として、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層
と、第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射
防止膜とからなる被膜が形成されたプラスチックレンズ
を製造する方法について説明する。

【０１１５】本実施例では、基体としてポリウレタン系
重合体からなるレンズを用いた。ＰＥＣＶＤ装置は、第
４の実施例と同じ装置を用いた。また、変性層、およ
び、第１、第２、第３のハードコート層の膜厚は、第４
の実施例と同じにした。

【０１１６】まず、準備工程として、基体レンズを超音
波洗浄機に通して洗浄し、ＰＥＣＶＤ装置の真空室内の
カソード電極とアノード電極との間のカローセルタイプ
の基板ホルダーに設置し、２．７×１０~⁴Ｐａまで排気
する。

【０１１７】つぎに、変性層を形成する工程について説
明する。

【０１１８】真空室に接続されたメチルトリエトキシシ
ランの入った容器を加熱することにより、メチルトリエ
トキシランを気化させ、メチルトリエトキシランガスを
流量３５ＳＣＣＭで真空室内に流す。同時に、真空室に
接続されたジメトキジメチルシランの入った容器を加熱
することにより、ジメトキシジメチルシランを気化さ
せ、ジメトキシジメチルシランガスを流量１４８ＳＣＣ
Ｍで真空室内に流す。真空室の圧力が、０．５Ｐａなっ
たら、ガスの流量を保持したまま、真空室外の電磁石コ
イルに５Ａの電流を流して、電極間に磁場をかける。そ
して、メチルトリエトキシシランガスの流量を、１分間
当たり１１０ＳＣＣＭの割合で徐々に増加させ、同時
に、ジメトキシジメチルシランガスの流量を、１分間当
たり９８．７ＳＣＣＭの割合で徐々に減少させながら、
カソードに高周波出力２ＫＷを１．５分間印加し、１．
５分間で変性層を形成させる。

【０１１９】第１、第２、第３のハードコート層を形成
する工程について説明する。

【０１２０】さらに続いて、メチルトリエトキシシラン
のガスを流量２００ＳＣＣＭと酸素ガスを流量５０ＳＣ
ＣＭ流し、真空室の圧力が１．０Ｐａになって流量が安
定したところで、外部電磁石コイルに５Ａの電流を流す
と同時に、カソードに高周波出力２．５ＫＷを１７分間
印加して第１のハードコート層を形成した。

【０１２１】さらに、酸素ガスの流量を１００ＳＣＣＭ
に増加して、真空室の圧力が２．０Ｐａになるように排
気系のコンダクタンスをバリアブルオリフィスにより調
整し、カソードの高周波出力を３ＫＷに上げて、メチル
トリエトキシシランガスの流量２００ＳＣＣＭ、外部電
磁石コイル５Ａで、引き続き１７分間、第２のハードコ
ート層を形成した。

【０１２２】最後に、酸素ガスの流量を２００ＳＣＣＭ
に増加して、真空室の圧力２．０Ｐａ、カソードの高周
波出力３ＫＷ、メチルトリエトキシシランガスの流量２
００ＳＣＣＭ、外部電磁石コイル５Ａで、１７分間、第
３のハードコート層を形成した。

【０１２３】つぎに上述の被膜の形成された基体レンズ
を、基体ホルダーごとロードロック室に移動して、基体
レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方向に向く
ように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室へ基体レ
ンズを送る。

【０１２４】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源の方を向いた基体レンズ面の第３のハード
コート層の上に、下記４層から成る反射防止膜を下記蒸
着条件により形成する。但し、蒸着源として、第１層目
は、ＺｒＯ₂（９４％）とＳｃ₂Ｏ₃（６％）との混合物
の焼結体を用い、第２層目と第４層目は、ＳｉＯ₂を用
い、第３層目は、ＴｉＯ_x（０＜ｘ＜２）を用いる。基
体温度は常温である。

【０１２５】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａは、オングストロームを表す） 第１層目 二酸化ジルコニウム（９４％）と三酸化二スカンジウム（６％）と の混合物のアモルファス ２１３Ａ（幾何的膜厚） ０．００８λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ２８９Ａ（幾何的膜厚） ０．０８１λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化チタン １１７７Ａ（幾何的膜厚） ０．５０λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 ８６８Ａ（幾何的膜厚） ０．２４３λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝５２５ｎｍ
であり、第１層目の二酸化ジルコニウム（９４％）と三
酸化二スカンジウム（６％）との混合物の屈折率は、
１．９７、第２層目と第４層目の二酸化珪素の屈折率
は、１．４７、第３層目の二酸化チタンの屈折率は、
２．２３である。

【０１２６】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０１２７】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【０１２８】（実施例６）第６の実施例のプラスチック
レンズは、基体のプラスチックレンズの表面に、変性
層、第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射
防止膜とからなる被膜を順に備えている。この製造方法
について、説明する。変性層、および、第１、第２、第
３のハードコート層の膜厚は、第４の実施例と同じにし
た。

【０１２９】まず、準備工程として、ポリウレタン系レ
ンズを超音波洗浄機に通して洗浄後、Ｂａｌｚｅｒｓ社
製ＰＥＣＶＤ装置の真空室に設置し、２．７×１０~⁴Ｐ
ａまで排気する。

【０１３０】つぎに、変性層を形成する工程を行う。

【０１３１】ジメチルジエトキシランのガスを流量１１
ＳＣＣＭで、テトライソプロポキシチタンのガスを流量
９ＳＣＣＭで真空室内に流した。真空室の圧力が２．９
Ｐａになったら、真空室外の電磁石コイルに２．６Ａの
電流を流して、電極間に磁場をかけ、同時に、カソード
に高周波出力０．６ＫＷを４５秒間印加する。この４５
秒間に、テトライソプロポキシチタンガスの流量を１分
間当たり９ＳＣＣＭの割合で徐々に増加させ、同時に、
ジメチルジエトキシシランガスの流量を１分間当たり１
１ＳＣＣＭの割合で徐々に減少させる。この４５秒間
で、変性層を形成させる。

【０１３２】さらに続いて、ジメチルジエトキシシラン
のガスを流量１００ＳＣＣＭで、酸素ガスを流量３５Ｓ
ＣＣＭで流し、真空室の圧力が２．９Ｐａになって流量
が安定したところで、外部電磁石コイルに２．６Ａの電
流を流すと同時に、カソードに高周波出力０．８ＫＷを
２５分間印加して、第１のハードコート層を形成する。

【０１３３】さらに、酸素ガスの流量を７０ＳＣＣＭに
増加して、真空室の圧力が２．９Ｐａになるように排気
系のコンダクタンスをバリアブルオリフィスにより調整
し、カソードの高周波出力を１ＫＷに上げて、ジメチル
ジエトキシシランガスの流量１００ＳＣＣＭ、外部電磁
石コイル２．６Ａで、引き続き２５分間、第２のハード
コート層を形成する。

【０１３４】最後に、酸素ガスの流量を１４０ＳＣＣＭ
に増加して、他の条件は保持したまま２５分間、第３の
ハードコート層を形成する。

【０１３５】つぎに上述の被膜の形成された基体レンズ
を、基体ホルダーごとロードロック室に移動して、基体
レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方向に向く
ように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室へ基体レ
ンズを送る。

【０１３６】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源の方を向いた基体レンズ面の第３のハード
コート層の上に、下記４層から成る反射防止膜を下記蒸
着条件により形成する。但し、蒸着源として、第１層目
は、ＺｒＯ₂（９４％）とＳｃ₂Ｏ₃（６％）との混合物
の焼結体を用い、第２層目と第４層目は、ＳｉＯ₂を用
い、第３層目は、ＴｉＯ_x（０＜ｘ＜２）を用いる。基
体温度は常温である。

【０１３７】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａは、オングストロームを表す） 第１層目 二酸化ジルコニウム（９４％）と三酸化二スカンジウム（６％）と の混合物のアモルファス ２１３Ａ（幾何的膜厚） ０．００８λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化珪素 ２８９Ａ（幾何的膜厚） ０．０８１λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化チタン １１７７Ａ（幾何的膜厚） ０．５０λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第４層目 二酸化珪素 ８６８Ａ（幾何的膜厚） ０．２４３λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝５２５ｎｍ
であり、第１層目の二酸化ジルコニウム（９４％）と三
酸化二スカンジウム（６％）との混合物の屈折率は、
１．９７、第２層目と第４層目の二酸化珪素の屈折率
は、１．４７、第３層目の二酸化チタンの屈折率は、
２．２３である。

【０１３８】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０１３９】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【０１４０】（比較例１）つぎに、第１の比較例とし
て、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜
とからなる被膜を備えたプラスチックレンズを製造する
方法について説明する。

【０１４１】本比較例の被膜を備えたプラスチックレン
ズは、基体の材質、変性層と第１、第２、第３のハード
コート層との膜厚、変性層と第１、第２、第３のハード
コート層との製造方法が第１の実施例と同じであるが、
反射防止膜の材質、構成が第１の実施例とは異なってい
る。

【０１４２】本比較例では、第３のハードコート層を形
成した後、第１の実施例と同じく、真空蒸着装置に基体
を移動させ、１．３×１０~³ Ｐａまで排気した後、電
子ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜の各層を下記蒸
着条件により形成した。但し、蒸着源としては、第１層
目は、Ｙ₂Ｏ_x（０＜ｘ＜３）を用い、第２層目は、Ｔｉ
Ｏ_x（０＜ｘ＜２）を用い、第３層目は、ＳｉＯ₂を用い
る。

【０１４３】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａはオングストロームを表す） 第１層目 三酸化二イットリウム ４６５Ａ（幾何的膜厚） ０．２１０λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化チタン ９１１Ａ（幾何的膜厚） ０．５０λ （光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化珪素 ７９５Ａ（幾何的膜厚） ０．２８５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝４１０ｎｍ
であり、第１層目の三酸化二イットリウムの屈折率は、
１．８５、第２層目の二酸化チタンの屈折率は、２．２
５、第３層目の二酸化珪素の屈折率は、１．４７であ
る。

【０１４４】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０１４５】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、３層
からなる反射防止膜を備えた比較例のプラスチックレン
ズが製造できる。

【０１４６】（比較例２）つぎに、第２の比較例とし
て、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜
とからなる被膜を備えたプラスチックレンズを製造する
方法について説明する。

【０１４７】本比較例の被膜を備えたプラスチックレン
ズは、基体の材質、変性層と第１、第２、第３のハード
コート層との膜厚、変性層と第１、第２、第３のハード
コート層との製造方法が、第２の実施例と同じである
が、反射防止膜の材質、構成が第２の実施例とは異なっ
ている。

【０１４８】本比較例では、第３のハードコート層を形
成した後、第１の実施例と同じく、真空蒸着装置に基体
を移動させ、１．３×１０~³ Ｐａまで排気した後、電
子ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜の各層を下記蒸
着条件により形成した。但し、蒸着源としては、第１層
目は、Ｙ₂Ｏ_x（０＜ｘ＜３）を用い、第２層目は、Ｔｉ
Ｏ_x（０＜ｘ＜２）を用い、第３層目は、ＳｉＯ₂を用い
る。

【０１４９】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａはオングストロームを表す） 第１層目 三酸化二イットリウム ４６５Ａ（幾何的膜厚） ０．２１０λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化チタン ９１１Ａ（幾何的膜厚） ０．５０λ （光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化珪素 ７９５Ａ（幾何的膜厚） ０．２８５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝４１０ｎｍ
であり、第１層目の三酸化二イットリウムの屈折率は、
１．８５、第２層目の二酸化チタンの屈折率は、２．２
５、第３層目の二酸化珪素の屈折率は、１．４７であ
る。

【０１５０】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０１５１】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、３層
からなる反射防止膜を備えた比較例のプラスチックレン
ズが製造できる。

【０１５２】（比較例３）つぎに、第３の比較例とし
て、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜
とからなる被膜を備えたプラスチックレンズを製造する
方法について説明する。

【０１５３】本比較例の被膜を備えたプラスチックレン
ズは、基体の材質、変性層および第１、第２、第３のハ
ードコート層の製造方法、ならびに、変性層および第
１、第２、第３のハードコート層の膜厚が第４の実施例
と同じであるが、反射防止膜の材質、構成が第４の実施
例とは異なっている。

【０１５４】本比較例では、第３のハードコート層を形
成した後、第４の実施例と同じく、真空蒸着装置に基体
を移動させ、１．３×１０~³ Ｐａまで排気した後、電
子ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜の各層を下記蒸
着条件により形成した。但し、蒸着源としては、第１層
目は、Ｙ₂Ｏ_x（０＜ｘ＜３）を用い、第２層目は、Ｔｉ
Ｏ_x（０＜ｘ＜２）を用い、第３層目は、ＳｉＯ₂を用い
る。

【０１５５】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａはオングストロームを表す） 第１層目 三酸化二イットリウム ４６５Ａ（幾何的膜厚） ０．２１０λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化チタン ９１１Ａ（幾何的膜厚） ０．５０λ （光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化珪素 ７９５Ａ（幾何的膜厚） ０．２８５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝４１０ｎｍ
であり、第１層目の三酸化二イットリウムの屈折率は、
１．８５、第２層目の二酸化チタンの屈折率は、２．２
５、第３層目の二酸化珪素の屈折率は、１．４７であ
る。

【０１５６】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０１５７】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、３層
からなる反射防止膜を備えた比較例のプラスチックレン
ズが製造できる。

【０１５８】（比較例４）つぎに、第４の比較例とし
て、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜
とからなる被膜を備えたプラスチックレンズを製造する
方法について説明する。

【０１５９】本比較例の被膜を備えたプラスチックレン
ズは、基体の材質、変性層および第１、第２、第３のハ
ードコート層の製造方法、ならびに、変性層および第
１、第２、第３のハードコート層の膜厚が第５の実施例
と同じであるが、反射防止膜の材質、構成が第５の実施
例とは異なっている。

【０１６０】本比較例では、第３のハードコート層を形
成した後、第４の実施例と同じく、真空蒸着装置に基体
を移動させ、１．３×１０~³ Ｐａまで排気した後、電
子ビーム加熱蒸着法により、反射防止膜の各層を下記蒸
着条件により形成した。但し、蒸着源としては、第１層
目は、Ｙ₂Ｏ_x（０＜ｘ＜３）を用い、第２層目は、Ｔｉ
Ｏ_x（０＜ｘ＜２）を用い、第３層目は、ＳｉＯ₂を用い
る。

【０１６１】 真空蒸着諸条件 （但し、Ａはオングストロームを表す） 第１層目 三酸化二イットリウム ４６５Ａ（幾何的膜厚） ０．２１０λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 ４×１０~³Ｐａ（Ｏ₂雰囲気） 第２層目 二酸化チタン ９１１Ａ（幾何的膜厚） ０．５０λ （光学的膜厚） 蒸着時圧力 ５×１０~³Ｐａ 第３層目 二酸化珪素 ７９５Ａ（幾何的膜厚） ０．２８５λ（光学的膜厚） 蒸着時圧力 １×１０~³Ｐａ 但し、上述の光学的膜厚は、その層の屈折率と幾何的膜
厚との積で定義される。また、中心波長λ＝４１０ｎｍ
であり、第１層目の三酸化二イットリウムの屈折率は、
１．８５、第２層目の二酸化チタンの屈折率は、２．２
５、第３層目の二酸化珪素の屈折率は、１．４７であ
る。

【０１６２】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０１６３】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、３層
からなる反射防止膜を備えた第４の比較例のプラスチッ
クレンズが製造できる。

【０１６４】つぎに、上述の実施例１〜６および比較例
１〜４で得られた眼鏡用プラスチックレンズの試料につ
いて、機械的耐久性を評価した。下記に評価内容を示
す。

【０１６５】評価項目 １）密着性 ＪＩＳ Ｄ−２０２に準じて、試料表面に、１ｍｍ間隔
の切り込みを縦横にいれ、セロハンテープ（ニチバン製
商品名 セロテープ）をこの切り込みの上に貼り付
け、４ｋｇの力でこのテープをはがし、膜はがれが生じ
るかどうかを調べる。

【０１６６】２）耐擦傷性 （ａ）粗さ＃００００のスチールウールを荷重６００ｇ
で試料に押しつけ、１５秒間に３０回往復させた後、試
料表面の傷の有無を調べる。

【０１６７】（ｂ）砂消しゴム（ライオン製 商品名
砂消しゴムＥＲ−５０２）を荷重５００ｇで試料に押し
つけ、１５秒間に３０往復させた後、試料表面の傷の有
無を調べる。

【０１６８】３）耐温水 恒温槽の８０℃の市水に１０分間浸漬した後、試料表面
の膜に変化があるかどうかを調べる。

【０１６９】４）耐熱性 エアー・オーブンの１００℃の大気中に５分間放置した
後、試料表面の膜に変化があるかどうかを調べる。

【０１７０】５）耐アルカリ性 水酸化ナトリウム水溶液（ＰＨ１１）に６時間浸漬した
後、試料表面の膜に変化があるかどうかを調べる。

【０１７１】６）耐酸性 硝酸水溶液（ＰＨ１）に６時間浸漬した後、試料表面の
膜に変化があるかどうかを調べる。

【０１７２】上述の評価項目について、実施例および比
較例の評価結果を、表１にまとめて示す。

【０１７３】

【表１】

【０１７４】表１からわかるように、上述の実施例１〜
６の全ての試料は、密着性、耐擦傷性、耐温水性、耐熱
性、耐酸性の項目において、比較例１〜４の試料よりも
耐久性が優れている。また、耐アルカリ性において、比
較例と同等の耐久性を示している。

【０１７５】つぎに、本発明の実施例７〜１２の眼鏡用
プラスチックレンズについて説明する。

【０１７６】（実施例７）まず、本発明の第７の実施例
として、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層
と、第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射
防止膜とからなる被膜を備えたプラスチックレンズを製
造する方法について説明する。

【０１７７】基体のプラスチックレンズは、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート（ピッツバーク プ
レート ガラス社製 ＣＲ−３９）の重合体からなって
いる。

【０１７８】この基体上に、バルツェルス（Ｂａｌｚｅ
ｒｓ）社製ＰＥＣＶＤ装置と、イオン源を備えた真空蒸
着装置とを用いて、上述の構成の被膜を形成する。ＰＥ
ＣＶＤ装置の真空室と真空蒸着装置の真空室とは、ロー
ドロック室で連結されている。ロードロック室は、基体
を、ＰＥＣＶＤ装置の真空室から真空蒸着室の真空室へ
真空を保った状態で移動させるための空間である。

【０１７９】ＰＥＣＶＤ装置は、真空室外に電磁コイル
を備えている。電磁コイルは、真空室内に配置された一
対の電極の間の空間に、電界と平行な方向に磁界をかけ
るように配置されている。電極間の空間には、カローセ
ルタイプの基体ホルダーが、基体の主平面を電界の向き
と平行に保持するように配置されている。

【０１８０】蒸着装置は、電子ビームによって蒸着源を
加熱する構成である。

【０１８１】まず、準備工程として、基体のレンズを超
音波洗浄機に通して洗浄し、ＰＥＣＶＤ装置の真空室内
の基体ホルダーに設置する。その後、真空室内を２．７
×１０~⁴Ｐａまで排気する。

【０１８２】つぎに、変性層を形成する工程について説
明する。

【０１８３】真空室に接続されたメチルトリエトキシシ
ランの入った容器を加熱することにより、メチルトリエ
トキシランを気化させ、メチルトリエトキシランガスを
流量１００ＳＣＣＭで真空室内に流す。真空室の圧力が
０．７Ｐａになったら、真空室外の電磁石コイルに５Ａ
の電流を流して、電極間に磁場をかけ、同時に、カソー
ドに高周波出力２ＫＷを３分間印加する。これにより、
電極間にプラズマが発生する。磁場は、低気圧アーク放
電を安定化させる。この間のメチルトリエトキシシラン
ガスの流量は、１００ＳＣＣＭである。その後、カソー
ドの高周波出力を段階的に４０Ｗ／ｍｉｎの割合で徐々
に上げていき、１２分間で２．５ＫＷに達するように制
御する。この１２分間の間のメチルトリエトキシシラン
ガスの流量は、１８０ＳＣＣＭにして一定にしておく。

【０１８４】この１２分間で、屈折率が、段階的に変化
した変性層が形成される。変性層は、その膜厚が、つぎ
の工程で形成する第１、第２、第３のハードコート層の
膜厚をあわせた厚さよりも薄くなるように、膜厚を制御
しながら形成する。本実施例では、１００ｎｍより大き
く、９００ｎｍよりも小さい範囲に入る特定の厚さに形
成した。

【０１８５】つぎに、第１、第２、第３のハードコート
層を形成する工程について説明する。

【０１８６】変性層を形成する工程に連続させて、酸素
ガスを真空室に５０ＳＣＣＭ流し、真空室圧力を０．５
Ｐａにして、メチルトリエトキシシランガスの流量１８
０ＳＣＣＭ、高周波出力２．５ＫＷ、電磁石コイル５Ａ
で、２０分間、第１のハードコート層を形成する。

【０１８７】その後、酸素ガス流量を１００ＳＣＣＭに
増加し、真空室圧力を０．８Ｐａにすると同時に、カソ
ードの高周波出力を３ＫＷに変え、メチルトリエトキシ
シランガスの流量１８０ＳＣＣＭ、電磁石コイル５Ａの
ままで、さらに２０分間、第２のハードコート層を形成
する。

【０１８８】最後に、酸素ガス流量を２００ＳＣＣＭに
増加して流し、真空室圧力をそのまま１．０Ｐａに保持
するように排気系のコンダクタンスをバリアブルオリフ
ィスにより調整し、メチルトリエトキシシランガスの流
量１８０ＳＣＣＭ、電磁石コイル５Ａ、カソードの高周
波出力３ＫＷのままで、さらに第３のハードコート層を
形成する。

【０１８９】第１、第２、第３のハードコート層は、こ
れらの膜厚をあわせたものが、変性層の膜厚よりも厚く
なるように、膜厚を制御した。本実施例では、０．４μ
ｍより大きく、５μｍよりも小さい範囲に入り、しか
も、変性層の膜厚よりも厚くなるように、膜厚を制御し
た。

【０１９０】これらの工程で、基体のレンズの両面に、
変性層、第１、第２、第３のハードコート層からなる被
膜が形成される。

【０１９１】つぎに、ハードコート層の上に、Ａｌ₂Ｏ₃
層、ＺｒＯ₂層、ＺｒＯ₂層、ＳｉＯ₂層の４層からなる
反射防止膜を形成する工程について説明する。

【０１９２】上述のハードコート層までが形成された基
体レンズを、基体ホルダーごとロードロック室に移動し
て、基体レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方
向に向くように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室
へ基体レンズを送る。

【０１９３】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源Ａｌ₂Ｏ₃を加熱蒸発させて、蒸着源の方を
向いた基体レンズ面のハードコート層の上に、Ａｌ₂Ｏ₃
層を形成する。この時、Ａｌ₂Ｏ₃層の光学的膜厚ｎｄ
が、ｎｄ＝λ／４を満たすように、光学的膜厚計により
幾何的膜厚をモニターしながら形成する。但し、光学的
膜厚ｎｄは、この層の屈折率ｎと、幾何的膜厚ｄとの積
で定義される。λは、この眼鏡用プラスチックレンズに
入射する光の設計上の中心波長であり、本実施例では、
λ＝５１０ｎｍである。

【０１９４】つぎに、真空蒸着装置の真空を破ることな
く、蒸着源をＺｒＯ₂にする。そして、真空室内に、酸
素ガスを６．６×１０~²Ｐａまで導入し、イオン源のシ
ャッタを閉じた状態で、イオン源を動作させ、酸素のイ
オンビームをイオン電流密度１６μＡ／ｃｍ²（ビーム
電圧１０００ｅＶ）の条件で引き出し、安定させる。イ
オンビームの照射方向は、基体の方向である。同時に、
蒸着源のシャッタを閉じた状態で、電子ビーム加熱によ
り、蒸着源のＺｒＯ₂を予備加熱状態にして安定させ
る。

【０１９５】イオン源と蒸着源の双方が安定したら、両
者のシャッタを同時に開いて、Ａｌ₂Ｏ₃層の上に、Ｚｒ
Ｏ₂層を形成する。この時、光学的膜厚計により幾何的
膜厚をモニターしながら形成し、光学的膜厚ｎｄがｎｄ
＝λ／４になったら、イオン源と蒸着源の両者のシャッ
タを閉じる。

【０１９６】つづけて、イオン源のイオン電流密度を７
６μＡ／ｃｍ²（ビーム電圧１５００ｅＶ）に上昇さ
せ、再度、イオン源と蒸着源の双方のシャッタを開い
て、光学的膜厚ｎｄがｎｄ＝λ／４の厚さになるよう
に、ＺｒＯ₂層を形成する。

【０１９７】つぎに、真空蒸着装置の真空を破ることな
く、蒸着源をＳｉＯ₂に替える。そして、蒸着源のシャ
ッタを閉じたまま、電子ビームにより、蒸着源を予備加
熱状態にする。同時に、イオン源のイオン電流密度を７
６μＡ／ｃｍ²（ビーム電圧１５００ｅＶ）に上昇さ
せ、イオン源と蒸着源の両方のシャッタを開いて、Ｓｉ
Ｏ₂層を、光学的膜厚ｎｄ＝λ／４になるように形成し
た。

【０１９８】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０１９９】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【０２００】（実施例８）つぎに、本発明の第８の実施
例として、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層
と、第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射
防止膜とからなる被膜が形成されたプラスチックレンズ
を製造する方法について説明する。

【０２０１】本実施例では、基体としてポリウレタン系
重合体からなるレンズを用いた。ＰＥＣＶＤ装置、およ
び、イオン源を備えた真空蒸着装置は、第１の実施例と
同じ装置を用いた。また、変性層、および、第１、第
２、第３のハードコート層の膜厚は、第７の実施例と同
じにした。

【０２０２】まず、準備工程として、基体レンズを超音
波洗浄機に通して洗浄し、ＰＥＣＶＤ装置の真空室内の
カソード電極とアノード電極との間のカローセルタイプ
の基板ホルダーに設置し、２．７×１０~⁴Ｐａまで排気
する。

【０２０３】つぎに、変性層を形成する工程について説
明する。

【０２０４】真空室に接続されたメチルトリエトキシシ
ランの入った容器を加熱することにより、メチルトリエ
トキシランを気化させ、メチルトリエトキシランガスを
流量３５ＳＣＣＭで真空室内に流す。同時に、真空室に
接続されたジメトキシジメチルシランの入った容器を加
熱することにより、ジメトキシジメチルシランを気化さ
せ、ジメトキシジメチルシランガスを流量１４８ＳＣＣ
Ｍで真空室内に流す。真空室の圧力が、０．５Ｐａなっ
たら、ガスの流量を保持したまま、真空室外の電磁石コ
イルに５Ａの電流を流して、電極間に磁場をかける。そ
して、メチルトリエトキシシランガスの流量を、１分間
当たり１１０ＳＣＣＭの割合で徐々に増加させ、同時
に、ジメトキシジメチルシランガスの流量を、１分間当
たり９８．７ＳＣＣＭの割合で徐々に減少させながら、
カソードに高周波出力２ＫＷを１．５分間印加し、１．
５分間で変性層を形成させる。

【０２０５】第１、第２、第３のハードコート層を形成
する工程について説明する。

【０２０６】さらに続いて、メチルトリエトキシシラン
のガスを流量２００ＳＣＣＭと酸素ガスを流量５０ＳＣ
ＣＭ流し、真空室の圧力が１．０Ｐａになって流量が安
定したところで、外部電磁石コイルに５Ａの電流を流す
と同時に、カソードに高周波出力２．５ＫＷを１７分間
印加して第１のハードコート層を形成する。

【０２０７】さらに、酸素ガスの流量を１００ＳＣＣＭ
に増加して、真空室の圧力が２．０Ｐａになるように排
気系のコンダクタンスをバリアブルオリフィスにより調
整し、カソードの高周波出力を３ＫＷに上げて、メチル
トリエトキシシランガスの流量２００ＳＣＣＭ、外部電
磁石コイル５Ａで、引き続き１７分間、第２のハードコ
ート層を形成する。

【０２０８】最後に、酸素ガスの流量を２００ＳＣＣＭ
に増加して、真空室の圧力２．０Ｐａ、カソードの高周
波出力３ＫＷ、メチルトリエトキシシランガスの流量２
００ＳＣＣＭ、外部電磁石コイル５Ａで、１７分間、第
３のハードコート層を形成する。

【０２０９】これらの工程で、基体のレンズの両面に、
変性層、第１、第２、第３のハードコート層からなる被
膜が形成される。

【０２１０】つぎに、ハードコート層の上に、Ａｌ₂Ｏ₃
層、ＺｒＯ₂層、ＺｒＯ₂層、ＳｉＯ ₂層の４層からなる
反射防止膜を形成する工程について説明する。

【０２１１】上述のハードコート層までが形成された基
体レンズを、基体ホルダーごとロードロック室に移動し
て、基体レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方
向に向くように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室
へ基体レンズを送る。

【０２１２】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源Ａｌ₂Ｏ₃を加熱蒸発させて、蒸着源の方を
向いた基体レンズ面のハードコート層の上に、Ａｌ₂Ｏ₃
層を形成する。この時、Ａｌ₂Ｏ₃層の光学的膜厚ｎｄ
が、ｎｄ＝λ／４を満たすように、光学的膜厚計により
幾何的膜厚をモニターしながら形成する。但し、光学的
膜厚ｎｄは、この層の屈折率ｎと、幾何的膜厚ｄとの積
で定義される。λは、この眼鏡用プラスチックレンズに
入射する光の設計上の中心波長であり、本実施例では、
λ＝５１０ｎｍである。

【０２１３】つぎに、真空蒸着装置の真空を破ることな
く、蒸着源をＺｒＯ₂にする。そして、真空室内に、酸
素ガスを６．６×１０~²Ｐａまで導入し、イオン源のシ
ャッタを閉じた状態で、イオン源を動作させ、酸素のイ
オンビームをイオン電流密度１６μＡ／ｃｍ²（ビーム
電圧１０００ｅＶ）の条件で引き出し、安定させる。イ
オンビームの照射方向は、基体の方向である。同時に、
蒸着源のシャッタを閉じた状態で、電子ビーム加熱によ
り、蒸着源のＺｒＯ₂を予備加熱状態にして安定させ
る。

【０２１４】イオン源と蒸着源の双方が安定したら、両
者のシャッタを同時に開いて、Ａｌ₂Ｏ₃層の上に、Ｚｒ
Ｏ₂層を形成する。この時、光学的膜厚計により幾何的
膜厚をモニターしながら形成し、光学的膜厚ｎｄがｎｄ
＝λ／４になったら、イオン源と蒸着源の両者のシャッ
タを閉じる。

【０２１５】つづけて、イオン源のイオン電流密度を７
６μＡ／ｃｍ²（ビーム電圧１５００ｅＶ）に上昇さ
せ、再度、イオン源と蒸着源の双方のシャッタを開い
て、光学的膜厚ｎｄがｎｄ＝λ／４の厚さになるよう
に、ＺｒＯ₂層を形成する。

【０２１６】つぎに、真空蒸着装置の真空を破ることな
く、蒸着源をＳｉＯ₂に替える。そして、蒸着源のシャ
ッタを閉じたまま、電子ビームにより、蒸着源を予備加
熱状態にする。同時に、イオン源のイオン電流密度を７
６μＡ／ｃｍ²（ビーム電圧１５００ｅＶ）に上昇さ
せ、イオン源と蒸着源の両方のシャッタを開いて、Ｓｉ
Ｏ₂層を、光学的膜厚ｎｄ＝λ／４になるように形成し
た。

【０２１７】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０２１８】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【０２１９】（実施例９）第９の実施例のプラスチック
レンズは、基体のプラスチックレンズの表面に、変性
層、第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射
防止膜とからなる被膜を順に備えている。この製造方法
について、説明する。変性層、および、第１、第２、第
３のハードコート層の膜厚は、第７の実施例と同じにし
た。

【０２２０】まず、準備工程として、ポリウレタン系レ
ンズを超音波洗浄機に通して洗浄後、Ｂａｌｚｅｒｓ社
製ＰＥＣＶＤ装置の真空室に設置し、２．７×１０~⁴Ｐ
ａまで排気する。

【０２２１】つぎに、変性層を形成する工程を行う。

【０２２２】ジメチルジエトキシランのガスを流量１１
ＳＣＣＭで、テトライソプロポキシチタンのガスを流量
９ＳＣＣＭで真空室内に流した。真空室の圧力が２．９
Ｐａになったら、真空室外の電磁石コイルに２．６Ａの
電流を流して、電極間に磁場をかけ、同時に、カソード
に高周波出力０．６ＫＷを４５秒間印加する。この４５
秒間に、テトライソプロポキシチタンガスの流量を１分
間当たり９ＳＣＣＭの割合で徐々に増加させ、同時に、
ジメチルジエトキシシランガスの流量を１分間当たり１
１ＳＣＣＭの割合で徐々に減少させる。この４５秒間
で、変性層を形成させる。

【０２２３】さらに続いて、ジメチルジエトキシシラン
のガスを流量１００ＳＣＣＭで、酸素ガスを流量３５Ｓ
ＣＣＭで流し、真空室の圧力が２．９Ｐａになって流量
が安定したところで、外部電磁石コイルに２．６Ａの電
流を流すと同時に、カソードに高周波出力０．８ＫＷを
２５分間印加して、第１のハードコート層を形成する。

【０２２４】さらに、酸素ガスの流量を７０ＳＣＣＭに
増加して、真空室の圧力が２．９Ｐａになるように排気
系のコンダクタンスをバリアブルオリフィスにより調整
し、カソードの高周波出力を１ＫＷに上げて、ジメチル
ジエトキシシランガスの流量１００ＳＣＣＭ、外部電磁
石コイル２．６Ａで、引き続き２５分間、第２のハード
コート層を形成する。

【０２２５】最後に、酸素ガスの流量を１４０ＳＣＣＭ
に増加して、他の条件は保持したまま２５分間、第３の
ハードコート層を形成する。

【０２２６】つぎに、ハードコート層の上に、Ａｌ₂Ｏ₃
層、ＺｒＯ₂層、ＺｒＯ₂層、ＳｉＯ₂層の４層からなる
反射防止膜を形成する工程について説明する。

【０２２７】上述のハードコート層までが形成された基
体レンズを、基体ホルダーごとロードロック室に移動し
て、基体レンズの一方の面が真空蒸着装置の蒸着源の方
向に向くように、基体レンズの向きを変え、真空蒸着室
へ基体レンズを送る。

【０２２８】そして、真空蒸着装置の真空室を１．３×
１０~³ Ｐａまで排気した後、電子ビーム加熱蒸着法に
より、蒸着源Ａｌ₂Ｏ₃を加熱蒸発させて、蒸着源の方を
向いた基体レンズ面のハードコート層の上に、Ａｌ₂Ｏ₃
層を形成する。この時、Ａｌ₂Ｏ₃層の光学的膜厚ｎｄ
が、ｎｄ＝λ／４を満たすように、光学的膜厚計により
幾何的膜厚をモニターしながら形成する。但し、光学的
膜厚ｎｄは、この層の屈折率ｎと、幾何的膜厚ｄとの積
で定義される。λは、この眼鏡用プラスチックレンズに
入射する光の設計上の中心波長であり、本実施例では、
λ＝５１０ｎｍである。

【０２２９】つぎに、真空蒸着装置の真空を破ることな
く、蒸着源をＺｒＯ₂にする。そして、真空室内に、酸
素ガスを６．６×１０~²Ｐａまで導入し、イオン源のシ
ャッタを閉じた状態で、イオン源を動作させ、酸素のイ
オンビームをイオン電流密度１６μＡ／ｃｍ²（ビーム
電圧１０００ｅＶ）の条件で引き出し、安定させる。イ
オンビームの照射方向は、基体の方向である。同時に、
蒸着源のシャッタを閉じた状態で、電子ビーム加熱によ
り、蒸着源のＺｒＯ₂を予備加熱状態にして安定させ
る。

【０２３０】イオン源と蒸着源の双方が安定したら、両
者のシャッタを同時に開いて、Ａｌ₂Ｏ₃層の上に、Ｚｒ
Ｏ₂層を形成する。この時、光学的膜厚計により幾何的
膜厚をモニターしながら形成し、光学的膜厚ｎｄがｎｄ
＝λ／４になったら、イオン源と蒸着源の両者のシャッ
タを閉じる。

【０２３１】つづけて、イオン源のイオン電流密度を７
６μＡ／ｃｍ²（ビーム電圧１５００ｅＶ）に上昇さ
せ、再度、イオン源と蒸着源の双方のシャッタを開い
て、光学的膜厚ｎｄがｎｄ＝λ／４の厚さになるよう
に、ＺｒＯ₂層を形成する。

【０２３２】つぎに、真空蒸着装置の真空を破ることな
く、蒸着源をＳｉＯ₂に替える。そして、蒸着源のシャ
ッタを閉じたまま、電子ビームにより、蒸着源を予備加
熱状態にする。同時に、イオン源のイオン電流密度を７
６μＡ／ｃｍ²（ビーム電圧１５００ｅＶ）に上昇さ
せ、イオン源と蒸着源の両方のシャッタを開いて、Ｓｉ
Ｏ₂層を、光学的膜厚ｎｄ＝λ／４になるように形成し
た。

【０２３３】これにより、基体レンズの片方の面に反射
防止膜を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダーに付
随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発源の
方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件により、反
射防止膜を形成する。

【０２３４】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜を備えたプラスチックレンズが製造でき
る。

【０２３５】（実施例１０）本発明の第１０の実施例と
して、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、
第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止
膜と、撥水性コート層とからなる被膜を備えたプラスチ
ックレンズを製造する方法について説明する。

【０２３６】製造に用いる装置は、ＰＥＣＶＤ装置と、
イオン源を備えた真空蒸着装置と、抵抗加熱用の真空蒸
着装置とをロードロック室で連結したものである。

【０２３７】まず、第７の実施例と同じ基体上に、第７
の実施例と同じ工程で、変性層、ハードコート層、反射
防止膜まで製造した被膜つきプラスチックレンズを、ロ
ードロック室に基体ホルダーごと移動させ、さらに、抵
抗加熱用の真空蒸着装置に移動させる。抵抗加熱ボート
には、セラミックに含浸させたシラザン化合物を設置し
ておく。そして、抵抗加熱用の真空蒸着装置の真空室を
１．３×１０~³Ｐａまで排気し、抵抗加熱ボートに電流
を流し、シラザン化合物を加熱蒸発させて、反射防止膜
の上に、５０〜１００オングストロームの膜厚の撥水性
コート層を形成させる。

【０２３８】これにより、基体レンズの片方の面に撥水
性コート層を形成させた後、今度はレンズ基板ホルダー
に付随する基体面反転機構により、もう一方の面を蒸発
源の方向に向かせ、再び、上述と同様の蒸着条件によ
り、撥水性コート層を形成する。

【０２３９】これらの工程により、基体レンズの両面
に、変性層、第１、第２、第３のハードコート層、多層
の反射防止膜、撥水性コート層を備えたプラスチックレ
ンズが製造できる。

【０２４０】（実施例１１）本発明の第１１の実施例と
して、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、
第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止
膜と、撥水性コート層とからなる被膜を備えたプラスチ
ックレンズを製造する方法について説明する。

【０２４１】基体の材質、変性層、ハードコート層、反
射防止膜を製造する工程、ならびに、製造に用いる装置
は、第８の実施例と同じである。

【０２４２】そして、反射防止膜の上に、第１０の実施
例と同じ工程で、撥水性コート層を形成する。

【０２４３】（実施例１２）本発明の第１２の実施例と
して、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、
第１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止
膜と、撥水性コート層とからなる被膜を備えたプラスチ
ックレンズを製造する方法について説明する。

【０２４４】基体の材質、変性層、ハードコート層、反
射防止膜を製造する工程、ならびに、製造に用いる装置
は、第９の実施例と同じである。

【０２４５】そして、反射防止膜の上に、第１０の実施
例と同じ工程で、撥水性防止コート層を形成する。

【０２４６】（比較例５）つぎに、第５の比較例とし
て、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜
とからなる被膜を備えたプラスチックレンズを製造する
方法について説明する。

【０２４７】本比較例の被膜を備えたプラスチックレン
ズは、基体の材質、変性層および第１、第２、第３のハ
ードコート層の膜厚、ならびに、変性層および第１、第
２、第３のハードコート層の製造方法が第７の実施例と
同じであるが、反射防止膜の製造方法が第７の実施例と
は異なっている。

【０２４８】本比較例では、第３のハードコート層を形
成した後、第７の実施例と同じく、真空蒸着装置に基体
を移動させ、１．３×１０~³ Ｐａまで排気した後、
１．３×１０~³〜１．３×１０~²Ｐａの範囲で圧力を制
御して、電子ビーム加熱蒸着法により、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｚｒ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂の順に反射防止膜の各層を形成
した。但し、各層の光学的膜厚ｎｄが、ｎｄ＝λ／４
（λ＝５１０ｎｍ）となるように、膜厚を制御した。同
様に、基体レンズのもう一方の面にも、反射防止膜を形
成した。

【０２４９】（比較例６）つぎに、第６の比較例とし
て、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜
とからなる被膜を備えたプラスチックレンズを製造する
方法について説明する。

【０２５０】本比較例の被膜を備えたプラスチックレン
ズは、基体の材質、変性層および第１、第２、第３のハ
ードコート層の膜厚、ならびに、変性層および第１、第
２、第３のハードコート層の製造方法が第８の実施例と
同じであるが、反射防止膜の製造方法が第８の実施例と
は異なっている。

【０２５１】本比較例では、第３のハードコート層を形
成した後、第７の実施例と同じく、真空蒸着装置に基体
を移動させ、１．３×１０~³ Ｐａまで排気した後、
１．３×１０~³〜１．３×１０~²Ｐａの範囲で圧力を制
御して、電子ビーム加熱蒸着法により、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｚｒ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂の順に反射防止膜の各層を形成
した。但し、各層の光学的膜厚ｎｄが、ｎｄ＝λ／４
（λ＝５１０ｎｍ）となるように、膜厚を制御した。同
様に、基体レンズのもう一方の面にも、反射防止膜を形
成した。

【０２５２】（比較例７）本発明の第７の比較例とし
て、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜
と、撥水性コート層とからなる被膜を備えたプラスチッ
クレンズを製造する方法について説明する。

【０２５３】まず、第７の実施例と同じ基体上に、第７
の実施例と同じ工程で、変性層、ハードコート層まで形
成し、さらに、反射防止膜を第７の比較例と同じ工程で
形成する。

【０２５４】そして、反射防止膜の上に、第１０の実施
例と同じ工程で、基体レンズの両面に、撥水性コート層
を形成する。

【０２５５】（比較例８）本発明の第８の比較例とし
て、基体のプラスチックレンズの表面に、変性層と、第
１、第２、第３のハードコート層と、多層の反射防止膜
と、撥水性コート層とからなる被膜を備えたプラスチッ
クレンズを製造する方法について説明する。

【０２５６】まず、第８の実施例と同じ基体上に、第８
の実施例と同じ工程で、変性層、ハードコート層まで形
成し、さらに、反射防止膜を第６の比較例と同じ工程で
形成する。

【０２５７】さらに、反射防止膜の上に、第７の比較例
と同じ工程で、撥水性防止コート層を形成する。

【０２５８】つぎに、上述の実施例７〜１２および比較
例５〜８で得られた眼鏡用プラスチックレンズの試料に
ついて、機械的耐久性を評価した。下記に評価内容を示
す。

【０２５９】評価項目 １）密着性 ２）耐擦傷性 ３）耐温水性 ４）耐熱性 ６）耐酸性 これらの評価条件は、すでに述べたので説明を省略す
る。

【０２６０】７）落砂テスト 試料の上部１ｍの点から、粗さ＃８０の炭化珪素（カー
ボランダム社製 商品名カーボランダム）を１１５ｇ／
分の速度で合計２ｋｇ落下させる。この落砂の前後で試
料の透過率（波長５５０ｎｍ）を測定し、落砂前の透過
率を落砂後の透過率で除した値をヘーズ値として示し
た。

【０２６１】上述の評価項目について、実施例および比
較例の評価結果を、表２にまとめて示す。

【０２６２】

【表２】

【０２６３】表２からわかるように、上述の実施例７〜
１２の全ての試料は、密着性、耐擦傷性、耐温水性、耐
熱性、耐酸性、落砂テストの項目において、比較例５〜
８の試料よりも耐久性が優れている。また、耐アルカリ
性において、比較例５〜８と同等の耐久性を示す。

【０２６４】本実施例１〜１２の被膜が耐久性に優れて
いるのは、つぎのようなことに起因すると考えられる。

【０２６５】本実施例では、基材の屈折率と被膜の屈折
率との差により干渉縞が発生するのを防ぐために、屈折
率を膜厚方向に徐々に変化させる層を、変性層として、
ハードコート層とは別に設けている。これにより、ハー
ドコート層の屈折率を徐々に変化させる必要がなくな
り、ハードコート層は、耐久性というハードコート層本
来の機能を高めることを追及することが可能になった。

【０２６６】本実施例のハードコート層は、アルコキシ
シラン化合物と酸素ガスとの混合ガスを用いたＰＥＣＶ
Ｄにより、混合ガスの圧力を０．５〜１２Ｐａの範囲に
制御する条件で形成されている。この条件で形成するこ
とにより、本実施例のハードコート層の組成と組織その
ものが耐久性に優れたものにすることが可能になった。
これに加え、本実施例のハードコート層は、屈折率を徐
々に変化させる必要がないため、着色しやすい高屈折率
材料を含む必要がなく、酸素量の調節により容易に透明
にできる。よって、膜厚を厚くしても着色しないため、
ハードコート層の膜厚を厚くすることができ、この厚さ
により、さらに高い機械的耐久性と耐薬品性とが得られ
ている。

【０２６７】変性層は、高屈折率材料と低屈折率材料と
を用い、形成時の高周波出力またはガス流量を徐々に変
化させることにより、膜厚方向の低屈折率材料と高屈折
率材料との比を連続的に変化させ、屈折率を徐々に変化
させている。本実施例の製造方法では、変性層の屈折率
が、基体の屈折率および第１のハードコート層の屈折率
と連続するように、高周波出力またはガス流量を設定す
ることができる。このような変性層を基体と第１のハー
ドコート層との間に配置することにより、外部から光が
入射した際に干渉縞が発生するのを防止することができ
る。

【０２６８】このとき、本実施例の変性層は、ハードコ
ート層とは別に、ハードコート層より基体側に設けられ
ているため、変性層自体には、耐久性が要求されない。
よって、本実施例の変性層は、着色しやすい高屈折率材
料のＴｉの酸化物を含んでいるが、膜厚が薄いため、容
易に透明にできる。

【０２６９】さらに、本実施例の変性層は、ハードコー
ト層と基体との間に配置され、両者との密着性がよいた
め、ハードコート層と基体との密着性を向上させてい
る。さらに、本実施例の変性層は、ハードコート層に加
わる衝撃を吸収する作用をしていると考えられ、被膜の
機械的耐久性を高めている。

【０２７０】また、本実施例の反射防止膜は、膜構成、
膜組成、膜組織自体が、機械的耐久性、耐薬品性に優れ
ており、ハードコート層との密着性も高い。また、本実
施例の反射防止膜は、各層の光学的膜厚を、第１および
第２の層の光学的膜厚が、それぞれ、０．０５×λ以上
０．１５×λ以下であり、第３の層の光学的膜厚が、
０．３６×λ以上０．４９×λ以下であり、第４の層の
光学的膜厚は、０．１５×λ以上０．３５×λ以下であ
るように設定しているため、効果的に干渉縞の発生を抑
制することができる。

【０２７１】特に、本実施例４、５、６の反射防止膜
は、第１層を二酸化ジルコニウム９４％と三酸化二スカ
ンジウム６％との混合物のアモルファスにより形成して
いる。二酸化ジルコニウムと三酸化二スカンジウムは、
三酸化二スカンジウムを６％以上含むことにより、アモ
ルファスになる。二酸化ジルコニウムと三酸化二スカン
ジウムとの混合物のアモルファスは、結晶化した二酸化
ジルコニウムよりも耐酸性、耐アルカリ性等の化学的安
定性に優れている。したがって、実施例４、５、６の反
射防止膜は、特に耐久性に優れている。

【０２７２】また、本実施例７〜１２の反射防止膜は、
Ａｌ₂Ｏ₃層、ＺｒＯ₂層、ＺｒＯ₂層、ＳｉＯ₂層からな
るが、この反射防止膜もまた、耐久性に優れている。と
いうのは、本実施例では、Ａｌ₂Ｏ₃層を真空蒸着法で形
成し、ＺｒＯ₂層およびＳｉＯ₂層は、イオンビームを用
いた蒸着法で形成しているが、従来では、Ａｌ₂Ｏ₃層、
ＺｒＯ₂層、ＺｒＯ₂層、ＳｉＯ₂層を積層した膜を形成
する場合には、イオンビームを用いた蒸着法によって、
全ての層を形成し、製造効率を高める。しかしながら、
本実施例では、Ａｌ₂Ｏ₃層を形成する際には、イオンビ
ームを用いない真空蒸着法で形成することにより、イオ
ンビームを用いた蒸着法で形成した場合よりも耐酸性等
の耐久性に優れた膜が得ている。一方、ＺｒＯ₂層およ
びＳｉＯ₂層は、イオンビームを用いた蒸着法で形成す
ることにより、真空蒸着法で形成した場合よりも耐久性
に優れた膜を得ることができる。したがって、本実施例
７〜１２の反射防止膜は、特に耐久性に優れている。

【０２７３】また、本実施例７〜１２では、反射防止膜
の第３層のＺｒＯ₂層の形成時に照射されるイオンビー
ムのエネルギーを、第２層のＺｒＯ₂層の形成時に照射
されるイオンビームのエネルギーよりも大きくしている
ため、第３層の原子の充填密度は、第２層よりも大きく
なっている。このため、第２層と第３層とは、同じ組成
であるが、原子の充填密度が異なるため、屈折率が異な
る。このように、屈折率が異なる４層で、各層の光学的
膜厚がλ／４である反射防止膜は、対応できる光の波長
帯域が広く、効果的に干渉縞の発生を抑制することがで
きる。

【０２７４】上述してきたように、変性層、ハードコー
ト層、および、反射防止膜により構成される本実施例１
〜１２の被膜は、耐環境性に優れ、しかも、可視光に対
して透明であることがわかる。よって、本実施例の被膜
は、眼鏡用プラスチックレンズの被膜として用いた場
合、干渉縞が発生するのを防止し、美的外観の優れた眼
鏡用プラスチックレンズが得られる。

【０２７５】また、本実施例のプラスチックレンズの製
造方法は、ＰＥＣＶＤというドライプロセスのみで、変
性層、第１、第２、第３のハードコート層、反射防止膜
を連続して形成することができる。この製造方法は、工
程が非常に単純であり、しかも従来の湿式プロセスのよ
うに、廃液処理や、表面活性化処理や、縮合硬化工程等
が不要であるため、製造コストを低減することができ
る。また、環境汚染問題も解決できる。さらに、本実施
例の製造方法は、ガスの種類や真空容器内の圧力等の成
膜条件を変えるのみで、１台のＰＥＣＶＤ装置で、屈折
率等の膜性質を変化させた被膜を製造することができ
る。したがって、湿式プロセスのように予め溶液を準備
しておく必要はなく、１ロット２枚のレンズのような特
注レンズの製造を短い納期で行うことができる。

【０２７６】上述の実施例では、磁界によってプラズマ
密度を高めるＰＥＣＶＤ装置を用いたが、磁界を用いな
いプラズマＣＶＤ装置を用いることももちろん可能であ
る。

【０２７７】上述の実施例１、２、３では、反射防止膜
の第１層、第２層、第３層、第４層の組成をＴｉＯ₂、
ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｉＯ₂にすることにより、可視光
の透過率が高い反射防止膜を構成したが、反射防止膜の
可視光の透過率が低くてもよい場合、例えば、基体が色
付きレンズである場合や、赤外光を入射させる基体の被
膜として本実施例の構成を用いる場合には、ＴｉＯ_x、
ＳｉＯ_y、ＴｉＯ_x、ＳｉＯ_yにすることもできる。但
し、０＜ｘ＜２、０＜ｙ＜２である。

【０２７８】同様に、実施例４〜１２でも、反射防止膜
の各層の組成を酸素の割合が低い組成にすることもでき
る。

【０２７９】また、上述の各実施例で形成した反射防止
膜の上に、真空蒸着等の気相成長法により、フッ素や珪
素化合物からなる撥水性の薄膜を形成することもでき
る。また、反射防止膜の上に、ディッピングとよばれる
浸漬表面処理法により、湿式工程で、水ヤケ防止コート
等を形成することもできる。例えば、ディッピング用溶
液として、下記単位式で表される有機シラザン化合物を
好適に用いることができる。

【０２８０】Ｃ_pＦ_2p+1ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＮＨ）_1.5 （ここに、ｐは正の整数） また、上述の実施例において、ＰＥＣＶＤ装置で変性層
やハードコート層を形成する際のガスの流量は、それぞ
れの目的にあった流量を適宜に選択すればよいが、好ま
しくは、Ｓｉとアルコキシ基とを含む有機化合物のガス
の場合は８０〜２００ＳＣＣＭ、Ｔｉとアルコキシ基と
を含む有機化合物のガスの場合は３０〜２００ＳＣＣ
Ｍ、また、酸素ガスは５０〜２００ＳＣＣＭに設定し、
単独若しくは併用させて真空室へ流す。

【０２８１】また、この際の真空室内の圧力は、０．５
〜１２Ｐａの範囲で安定させることがのぞましい。この
圧力範囲に設定することにより、上述の評価項目につい
て、耐久性の優れた変性層やハードコート層が形成でき
る。

【０２８２】また、電極に印加するエネルギーとして
は、高周波２〜３．５ＫＷを印加することが望ましい。

【０２８３】また、屈折率変性層を形成する際に、ガス
導入時の流量あるいは高周波出力（ＲＦパワー）を連続
的に変化させることにより、同じ薄膜内部において連続
的に屈折率を変化させることが可能となる。これによ
り、変性層の屈折率を、基体側では、基体の屈折率に近
く、ハードコート層側では、ハードコート層の屈折率に
近くすることができる。

【０２８４】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、耐環境性が大きく、複数層からなる被膜を連続した
工程で形成することの可能であり、しかも、被膜によっ
て干渉縞が発生するのを抑止した被膜つき物品を製造す
ることができる。

【０２８５】

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】合成樹脂基材と、 前記基材上に形成され、Ｓｉ系および／またはＴｉ系化
   合物の少なくとも一方を含み、厚さ方向に向かって屈折
   率が変化している、ＣＶＤ法により形成された変性層
   と、 前記変性層上に形成され、前記変性層よりも相対的に厚
   い膜厚を有し、かつ、屈折率が一定であり、Ｓｉおよび
   Ｏを有する、ＣＶＤ法により形成されたハードコート層
   と、 前記ハードコート層上に真空蒸着法により形成された無
   機酸化物からなる反射防止膜とを有することを特徴とす
   る光学物品。
2. 【請求項２】請求項１において、前記反射防止膜は、前
   記基材側から順に積層された第１、第２、第３、第４の
   層からなり、 前記第１および第３の層は、酸化チタンを含み、 前記第２および第４の層は、酸化珪素を含むことを特徴
   とする光学物品。
3. 【請求項３】請求項２において、層の幾何的膜厚と、そ
   の層の屈折率との積を、その層の光学的膜厚とした場合
   に、 前記第３の膜の第１および第２の層の光学的膜厚は、そ
   れぞれ、０．０５×λ以上０．１５×λ以下であり、 第３の層の光学的膜厚は、０．３６×λ以上０．４９×
   λ以下であり、 第４の層の光学的膜厚は、０．１５×λ以上０．３５×
   λ以下である、 但し、λは、４５０以上５５０以下の任意の値とする、
   ことを特徴とする光学物品。
4. 【請求項４】請求項１において、前記反射防止膜は、前
   記基材側から順に積層された第１、第２、第３、第４の
   層からなり、 前記第１の層は、酸化ジルコニウムを含み、 前記第２および第４の層は、酸化珪素を含み、 前記第３の層は、酸化チタンを含むことを特徴とする光
   学物品。
5. 【請求項５】請求項４において、層の幾何的膜厚と、そ
   の層の屈折率との積を、その層の光学的膜厚とした場合
   に、 前記第３の膜の第１および第２の層の光学的膜厚は、そ
   れぞれ、０．０５×λ以上０．１５×λ以下であり、 第３の層の光学的膜厚は、０．３６×λ以上０．４９×
   λ以下であり、 第４の層の光学的膜厚は、０．１５×λ以上０．３５×
   λ以下である、 但し、λは、４５０以上５５０以下の任意の値とする、
   ことを特徴とする光学物品。
6. 【請求項６】請求項１において、前記反射防止膜は、前
   記基材側から順に積層された第１、第２、第３、第４の
   層からなり、 前記第１の層は、酸化アルミニウムを含み、 前記第２および第３の層は、酸化ジルコニウムを含み、 前記第４の層は、酸化珪素を含むことを特徴とする光学
   物品。
7. 【請求項７】請求項６において、層の幾何的膜厚と、そ
   の層の屈折率との積を、その層の光学的膜厚とした場合
   に、 前記第３の膜の第１、第２、第３、第４の層の光学的膜
   厚は、それぞれ、λ／４である、 但し、λは、前記被膜に入射する光の中心波長する、こ
   とを特徴とする光学物品。
8. 【請求項８】請求項１において、前記反射防止膜は、前
   記基材側から順に積層された第１、第２、第３、第４の
   層からなり、 前記第１および第３の層は、酸化ジルコニウムを含み、 前記第２および第４の層は、酸化珪素を含むことを特徴
   とする光学物品。
9. 【請求項９】透明基材を用意し、Ｓｉを含む有機化合物
   ガスおよびＴｉを含む有機化合物ガスの少なくとも一方
   を用い、プラズマを用いた化学気相成長法により、前記
   基材上に変性層を形成する第１工程と、 Ｓｉを含む有機化合物ガスと酸素ガスとの混合ガスを用
   い、プラズマを用いた化学気相成長法により、前記変性
   層よりも相対的に厚い膜厚を有するハードコート層を前
   記変性層上に形成する第２工程と、 真空蒸着法により多層膜からなる反射防止膜を形成する
   第３工程を有する光学物品の製造方法。
10. 【請求項１０】請求項９の前記プラズマを用いた化学気
    相成長法において、プラズマに供給するエネルギーを徐
    々に増加または減少させることを特徴とする光学物品の
    製造方法。
11. 【請求項１１】請求項９または１０の前記第１工程にお
    いて、前記ガスの流量を徐々に各々増加および減少させ
    ることを特徴とする光学物品の製造方法。
12. 【請求項１２】透明基材を用意し、Ｓｉを含む有機化合
    物ガスおよびＴｉを含む有機化合物ガスの少なくとも一
    方を用い、プラズマを用いた化学気相成長法により、前
    記基材上に変性層を形成する第１工程と、 Ｓｉを含む有機化合物ガスと酸素ガスとの混合ガスを用
    い、プラズマを用いた化学気相成長法により、前記変性
    層よりも相対的に厚い膜厚を有するハードコート層を前
    記変性層上に形成する第２工程と、 真空蒸着法により酸化アルミニウムからなる第１の反射
    防止層を形成する第３工程と、 イオンビームアシスト法により、酸化ジルコニウムから
    なる第２および第３の反射防止層、ならびに、酸化珪素
    からなる第４の反射防止層を形成する第４工程とを有す
    ることを特徴とする光学物品の製造方法。
13. 【請求項１３】請求項１２において、前記第１、第２、
    第３、第４の反射防止層を形成するとき、各層の幾何的
    膜厚と、その層の屈折率との積を、その層の光学的膜厚
    とした場合に、前記反射防止膜の各層の光学的膜厚が、
    それぞれλ／４となるように形成する、但し、λは、前
    記反射防止膜に入射する光の中心波長であることを特徴
    とする光学物品の製造方法。