JPH0964482A - レーザビーム発生装置 - Google Patents
レーザビーム発生装置Info
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- JPH0964482A JPH0964482A JP7236075A JP23607595A JPH0964482A JP H0964482 A JPH0964482 A JP H0964482A JP 7236075 A JP7236075 A JP 7236075A JP 23607595 A JP23607595 A JP 23607595A JP H0964482 A JPH0964482 A JP H0964482A
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- circuit board
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体レーザを搭載する回路基板にコリメー
タレンズを直接実装することで部品コストを低減する。 【解決手段】 半導体レーザ２を搭載する回路基板１に
コリメータレンズ取付孔１ａを設け、これに、コリメー
タレンズ３と一体である足３ａを挿入して接着剤４を充
填することで、コリメータレンズ３を回路基板１に直接
実装する。鏡筒等を省略することで組立部品点数を削減
し、鏡筒内の反射光等による外乱を低減する。
タレンズを直接実装することで部品コストを低減する。 【解決手段】 半導体レーザ２を搭載する回路基板１に
コリメータレンズ取付孔１ａを設け、これに、コリメー
タレンズ３と一体である足３ａを挿入して接着剤４を充
填することで、コリメータレンズ３を回路基板１に直接
実装する。鏡筒等を省略することで組立部品点数を削減
し、鏡筒内の反射光等による外乱を低減する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームプリ
ンタ、レーザファクシミリ等に用いられる光偏向走査装
置や、半導体レーザを利用する光ディスクのピックアッ
プユニット等に用いられるレーザビーム発生装置に関す
るものである。
ンタ、レーザファクシミリ等に用いられる光偏向走査装
置や、半導体レーザを利用する光ディスクのピックアッ
プユニット等に用いられるレーザビーム発生装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザビームプリンタ、レーザファクシ
ミリ等に用いられる光偏向走査装置のレーザビーム発生
装置や、半導体レーザを利用する光ディスクのピックア
ップユニット等の光源部は、半導体レーザから発生され
たレーザ光を平行化して所定の断面形状のレーザビーム
を得るためにコリメータレンズ等を必要とし、他方、半
導体レーザはその回路基板と結合され、ユニット化され
ている。
ミリ等に用いられる光偏向走査装置のレーザビーム発生
装置や、半導体レーザを利用する光ディスクのピックア
ップユニット等の光源部は、半導体レーザから発生され
たレーザ光を平行化して所定の断面形状のレーザビーム
を得るためにコリメータレンズ等を必要とし、他方、半
導体レーザはその回路基板と結合され、ユニット化され
ている。
【０００３】図４は、光偏向走査装置の一般的な構成を
説明するもので、光源ユニット１００から発生されたレ
ーザ光Ｌ0 はシリンドリカルレンズ１０２を経て回転多
面鏡１０３に照射され、これによって走査偏向され、結
像レンズ系１０４を経て図示しない感光ドラムの表面に
結像される。感光ドラムに結像するレーザビームは、回
転多面鏡１０３の回転による主走査および感光ドラムの
回転による副走査によって静電潜像を形成する。シリン
ドリカルレンズ１０２は平行化されたレーザビームを回
転多面鏡１０３の反射面に線状に集光し、また、結像レ
ンズ系１０４は、球面レンズ１０４ａとトーリックレン
ズ１０４ｂを有し、いわゆるｆθ機能によって前記静電
潜像の歪を補正する。光源ユニット１００、回転多面鏡
１０３、結像レンズ系１０４等は筐体１０５に取付けら
れ、筐体１０５の上部開口は図示しないふたによって閉
塞される。
説明するもので、光源ユニット１００から発生されたレ
ーザ光Ｌ0 はシリンドリカルレンズ１０２を経て回転多
面鏡１０３に照射され、これによって走査偏向され、結
像レンズ系１０４を経て図示しない感光ドラムの表面に
結像される。感光ドラムに結像するレーザビームは、回
転多面鏡１０３の回転による主走査および感光ドラムの
回転による副走査によって静電潜像を形成する。シリン
ドリカルレンズ１０２は平行化されたレーザビームを回
転多面鏡１０３の反射面に線状に集光し、また、結像レ
ンズ系１０４は、球面レンズ１０４ａとトーリックレン
ズ１０４ｂを有し、いわゆるｆθ機能によって前記静電
潜像の歪を補正する。光源ユニット１００、回転多面鏡
１０３、結像レンズ系１０４等は筐体１０５に取付けら
れ、筐体１０５の上部開口は図示しないふたによって閉
塞される。
【０００４】図５は、光源ユニット１００の内部を示す
もので、中心穴２０１ａを有する板状の支持体２０１
と、支持体２０１の表面にビス止めされた回路基板２０
２と、支持体２０１の中心穴２０１ａに装着された半導
体レーザ２０３と、支持体２０１の回路基板２０２を装
着した表面と反対側の表面にビス止めされた鏡筒ホルダ
２０４と、鏡筒ホルダ２０４の筒状部分２０４ａに嵌入
された鏡筒２０５と、その内側に保持されたコリメータ
レンズ２０６からなる。半導体レーザ２０３は円板状の
基部２０３ａを有し、半導体レーザ２０３の組付けは、
基部２０３ａを支持体２０１の中心穴２０１ａに圧入す
ることで行なわれる。
もので、中心穴２０１ａを有する板状の支持体２０１
と、支持体２０１の表面にビス止めされた回路基板２０
２と、支持体２０１の中心穴２０１ａに装着された半導
体レーザ２０３と、支持体２０１の回路基板２０２を装
着した表面と反対側の表面にビス止めされた鏡筒ホルダ
２０４と、鏡筒ホルダ２０４の筒状部分２０４ａに嵌入
された鏡筒２０５と、その内側に保持されたコリメータ
レンズ２０６からなる。半導体レーザ２０３は円板状の
基部２０３ａを有し、半導体レーザ２０３の組付けは、
基部２０３ａを支持体２０１の中心穴２０１ａに圧入す
ることで行なわれる。
【０００５】半導体レーザ２０３は、回路基板２０２を
貫通するリードピン２０３ｂを有し、これらによって回
路基板２０２上の図示しないレーザ駆動回路等に接続さ
れている。また、鏡筒ホルダ２０４を支持体２０１にビ
ス止めするビスは、支持体２０１および回路基板２０２
にそれぞれ設けられた図示しない貫通孔を貫通して鏡筒
ホルダ２０４の図示しないねじ穴に螺着されるもので、
前記貫通孔は前記ビスの外径より大きな内径を有する。
貫通するリードピン２０３ｂを有し、これらによって回
路基板２０２上の図示しないレーザ駆動回路等に接続さ
れている。また、鏡筒ホルダ２０４を支持体２０１にビ
ス止めするビスは、支持体２０１および回路基板２０２
にそれぞれ設けられた図示しない貫通孔を貫通して鏡筒
ホルダ２０４の図示しないねじ穴に螺着されるもので、
前記貫通孔は前記ビスの外径より大きな内径を有する。
【０００６】鏡筒ホルダ２０４を支持体２０１に組付け
るに際しては、ビスを緩めた状態で鏡筒ホルダ２０４を
前記貫通孔の許す範囲で支持体２０１の表面に沿って移
動させ、鏡筒ホルダ２０４に保持されたコリメータレン
ズ２０６の光軸と支持体２０１に固着された半導体レー
ザ２０３の光軸を一致させる光軸合わせを行なったうえ
で、前記ビスを締付ける。続いて、鏡筒ホルダ２０４の
筒状部分２０４ａに対して鏡筒２０５を軸方向へ摺動さ
せてコリメータレンズ２０６の焦点合わせを行なったの
ちに、鏡筒ホルダ２０４の筒状部分２０４ａに設けられ
た図示しない孔から該筒状部分２０４ａと鏡筒２０５の
間に接着剤を導入し、これを硬化させて鏡筒ホルダ２０
４と鏡筒２０５を一体化する。
るに際しては、ビスを緩めた状態で鏡筒ホルダ２０４を
前記貫通孔の許す範囲で支持体２０１の表面に沿って移
動させ、鏡筒ホルダ２０４に保持されたコリメータレン
ズ２０６の光軸と支持体２０１に固着された半導体レー
ザ２０３の光軸を一致させる光軸合わせを行なったうえ
で、前記ビスを締付ける。続いて、鏡筒ホルダ２０４の
筒状部分２０４ａに対して鏡筒２０５を軸方向へ摺動さ
せてコリメータレンズ２０６の焦点合わせを行なったの
ちに、鏡筒ホルダ２０４の筒状部分２０４ａに設けられ
た図示しない孔から該筒状部分２０４ａと鏡筒２０５の
間に接着剤を導入し、これを硬化させて鏡筒ホルダ２０
４と鏡筒２０５を一体化する。
【０００７】また、半導体レーザ２０３のレーザチップ
は、円板状の基部２０３ａと一体であるステムの先端に
保持され、また、基部２０３ａと前記ステムの間には、
レーザチップから発生されるレーザ光の光量をモニタす
るためのフォトダイオードが保持され、これらは金属キ
ャップ２０３ｃによって覆われている。なお、フォトダ
イオードは、レーザチップとともにリードピン２０３ｂ
によって前述のレーザ駆動回路に接続され、フォトダイ
オードの出力は、レーザチップの発光量を自動的に所定
の値に維持する自動光量制御のために用いられる。
は、円板状の基部２０３ａと一体であるステムの先端に
保持され、また、基部２０３ａと前記ステムの間には、
レーザチップから発生されるレーザ光の光量をモニタす
るためのフォトダイオードが保持され、これらは金属キ
ャップ２０３ｃによって覆われている。なお、フォトダ
イオードは、レーザチップとともにリードピン２０３ｂ
によって前述のレーザ駆動回路に接続され、フォトダイ
オードの出力は、レーザチップの発光量を自動的に所定
の値に維持する自動光量制御のために用いられる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、半導体レーザとコリメ
ータレンズをユニット化したうえで光偏向走査装置の筐
体に組付けるものであるため、半導体レーザとコリメー
タレンズをユニット化するために数多くの部品を必要と
し、これが部品コストの上昇と生産性の低下を招き光偏
向走査装置の製造コストを著しく上昇させる。加えて、
コリメータレンズを保持する鏡筒内でレーザ光が反射す
るのを回避できず、この反射光が半導体レーザのフォト
ダイオード（光量検出器）に外乱となって侵入し、前述
の自動光量制御の信頼性を低下させるという未解決の課
題がある。
の技術によれば、前述のように、半導体レーザとコリメ
ータレンズをユニット化したうえで光偏向走査装置の筐
体に組付けるものであるため、半導体レーザとコリメー
タレンズをユニット化するために数多くの部品を必要と
し、これが部品コストの上昇と生産性の低下を招き光偏
向走査装置の製造コストを著しく上昇させる。加えて、
コリメータレンズを保持する鏡筒内でレーザ光が反射す
るのを回避できず、この反射光が半導体レーザのフォト
ダイオード（光量検出器）に外乱となって侵入し、前述
の自動光量制御の信頼性を低下させるという未解決の課
題がある。
【０００９】本発明は、上記従来の技術の有する問題点
に鑑みてなされたものであって、レーザビーム発生装置
等の組立部品点数を大幅に削減できるうえに、半導体レ
ーザの光量を制御するためのフォトダイオード等に侵入
する外乱を低減して安定したレーザビームを得ることの
できるレーザビーム発生装置を提供することを目的とす
るものである。
に鑑みてなされたものであって、レーザビーム発生装置
等の組立部品点数を大幅に削減できるうえに、半導体レ
ーザの光量を制御するためのフォトダイオード等に侵入
する外乱を低減して安定したレーザビームを得ることの
できるレーザビーム発生装置を提供することを目的とす
るものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のレーザビーム発生装置は、半導体レーザと
その駆動回路を搭載した回路基板と、前記半導体レーザ
から発生されるレーザ光を平行化して平行光束からなる
レーザビームを得るためのコリメータレンズを有し、該
コリメータレンズが、これと一体的に設けられた少なく
とも１本の足によって前記回路基板に直接実装されてい
ることを特徴とする。
め、本発明のレーザビーム発生装置は、半導体レーザと
その駆動回路を搭載した回路基板と、前記半導体レーザ
から発生されるレーザ光を平行化して平行光束からなる
レーザビームを得るためのコリメータレンズを有し、該
コリメータレンズが、これと一体的に設けられた少なく
とも１本の足によって前記回路基板に直接実装されてい
ることを特徴とする。
【００１１】回路基板に、コリメータレンズの足を所定
の範囲内で三次元方向に移動自在に係合させるコリメー
タレンズ取付孔が設けられているとよい。
の範囲内で三次元方向に移動自在に係合させるコリメー
タレンズ取付孔が設けられているとよい。
【００１２】コリメータレンズの足が、回路基板のコリ
メータレンズ取付孔に充填された接着剤によって前記回
路基板に接着されているとよい。
メータレンズ取付孔に充填された接着剤によって前記回
路基板に接着されているとよい。
【００１３】接着剤が、紫外線硬化型の接着剤であるの
が望ましい。
が望ましい。
【００１４】コリメータレンズの周辺部分と足が、線膨
張係数の異なる材料によって作られているとよい。
張係数の異なる材料によって作られているとよい。
【００１５】コリメータレンズの周辺部分の引込量Ｄ1
と足の長さＤ2 の間に以下の関係が成立するとよい。
と足の長さＤ2 の間に以下の関係が成立するとよい。
【００１６】Ｅ1 Ｄ1 ＝Ｅ2 Ｄ2 ここで、Ｅ1 ：コリメータレンズの周辺部分の線膨張係
数 Ｅ2 ：足の線膨張係数
数 Ｅ2 ：足の線膨張係数
【００１７】
【作用】上記装置によれば、コリメータレンズがこれと
一体である足によって回路基板に直接立体的に実装され
ているため、半導体レーザにコリメータレンズを組付け
てユニット化する場合に比べて鏡筒や鏡筒ホルダ等の組
付け部品を全く必要とせず、従って、全体の組立部品点
数を大幅に削減できる。
一体である足によって回路基板に直接立体的に実装され
ているため、半導体レーザにコリメータレンズを組付け
てユニット化する場合に比べて鏡筒や鏡筒ホルダ等の組
付け部品を全く必要とせず、従って、全体の組立部品点
数を大幅に削減できる。
【００１８】鏡筒等が不要であるため、鏡筒内でレーザ
光が反射して半導体レーザのフォトダイオード等に外乱
となって侵入するおそれがない。これによって、半導体
レーザの光量制御の信頼性等を大きく改善できる。
光が反射して半導体レーザのフォトダイオード等に外乱
となって侵入するおそれがない。これによって、半導体
レーザの光量制御の信頼性等を大きく改善できる。
【００１９】その結果、極めて安価でしかも安定したレ
ーザビームを発生するレーザビーム発生装置を実現でき
る。このようなレーザービーム発生装置を用いること
で、光偏向走査装置等の高性能化と低価格化に大きく貢
献できる。
ーザビームを発生するレーザビーム発生装置を実現でき
る。このようなレーザービーム発生装置を用いること
で、光偏向走査装置等の高性能化と低価格化に大きく貢
献できる。
【００２０】コリメータレンズの周辺部分と足が、線膨
張係数の異なる材料によって作られており、コリメータ
レンズの周辺部分の引込量Ｄ1 と足の長さＤ2 の間に前
述の関係が成立すれば、熱歪に起因するコリメータレン
ズの焦点ぼけをレーザビーム発生装置内で相殺し、温度
が変化しても光学特性が劣化するおそれのない極めて高
性能なレーザビーム発生装置を実現できる。
張係数の異なる材料によって作られており、コリメータ
レンズの周辺部分の引込量Ｄ1 と足の長さＤ2 の間に前
述の関係が成立すれば、熱歪に起因するコリメータレン
ズの焦点ぼけをレーザビーム発生装置内で相殺し、温度
が変化しても光学特性が劣化するおそれのない極めて高
性能なレーザビーム発生装置を実現できる。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００２２】図１は一実施例によるレーザビーム発生装
置Ｅ1 を示すもので、（ａ）はその一部分を断面で示す
一部断面立面図、（ｂ）はコリメータレンズを回路基板
に組付ける前の状態で示す斜視図である。レーザビーム
発生装置Ｅ1 は、レーザ駆動回路を搭載した回路基板１
と、これに実装された半導体レーザ２と、半導体レーザ
２から発生されるレーザ光を平行光に整形して平行光束
からなるレーザビームを得るためのコリメータレンズ３
を有し、コリメータレンズ３は、これと一体的に設けら
れた３本の足３ａを備えており、各足３ａを回路基板１
のコリメータレンズ取付孔１ａに挿入して接着剤４を充
填することで回路基板１に実装される。コリメータレン
ズ３がプラスチック製であれば、足３ａはコリメータレ
ンズ３と一体成形される。
置Ｅ1 を示すもので、（ａ）はその一部分を断面で示す
一部断面立面図、（ｂ）はコリメータレンズを回路基板
に組付ける前の状態で示す斜視図である。レーザビーム
発生装置Ｅ1 は、レーザ駆動回路を搭載した回路基板１
と、これに実装された半導体レーザ２と、半導体レーザ
２から発生されるレーザ光を平行光に整形して平行光束
からなるレーザビームを得るためのコリメータレンズ３
を有し、コリメータレンズ３は、これと一体的に設けら
れた３本の足３ａを備えており、各足３ａを回路基板１
のコリメータレンズ取付孔１ａに挿入して接着剤４を充
填することで回路基板１に実装される。コリメータレン
ズ３がプラスチック製であれば、足３ａはコリメータレ
ンズ３と一体成形される。
【００２３】また、半導体レーザ２は３本のリードピン
２ａを有し、これらは、回路基板１の半導体レーザ取付
穴を貫通して反対側に突出し、前述のレーザ駆動回路に
電気接続される。半導体レーザ２内には、図示しないフ
ォトダイオード（光量検出器）が内蔵されており、これ
によって半導体レーザ２の発光量をモニタし、レーザ駆
動回路の出力を制御するように構成されている。
２ａを有し、これらは、回路基板１の半導体レーザ取付
穴を貫通して反対側に突出し、前述のレーザ駆動回路に
電気接続される。半導体レーザ２内には、図示しないフ
ォトダイオード（光量検出器）が内蔵されており、これ
によって半導体レーザ２の発光量をモニタし、レーザ駆
動回路の出力を制御するように構成されている。
【００２４】回路基板１のコリメータレンズ取付孔１ａ
は、コリメータレンズ３の各足３ａを三次元方向に移動
自在に遊合させる。すなわち、コリメータレンズ３の各
足３ａをコリメータレンズ取付孔１ａに差込んだ状態
で、回路基板１の表面（ＸＹ平面）に沿って所定の範囲
内で任意の位置に移動できるように設定される。コリメ
ータレンズ３の組付けに際しては、後述する光軸合わせ
（ＸＹ方向の位置決め）と焦点合わせ（Ｚ方向の位置決
め）のうえで接着剤４を充填してコリメータレンズ３を
回路基板１に固定する。
は、コリメータレンズ３の各足３ａを三次元方向に移動
自在に遊合させる。すなわち、コリメータレンズ３の各
足３ａをコリメータレンズ取付孔１ａに差込んだ状態
で、回路基板１の表面（ＸＹ平面）に沿って所定の範囲
内で任意の位置に移動できるように設定される。コリメ
ータレンズ３の組付けに際しては、後述する光軸合わせ
（ＸＹ方向の位置決め）と焦点合わせ（Ｚ方向の位置決
め）のうえで接着剤４を充填してコリメータレンズ３を
回路基板１に固定する。
【００２５】図２はレーザビーム発生装置Ｅ1 を用いる
光偏向走査装置を示す斜視図であって、レーザビーム発
生装置Ｅ1 は光偏向走査装置の筐体１０の側壁に装着さ
れる。筐体１０内には、レーザビーム発生装置Ｅ1 から
発生されたレーザビームＬ1を回転多面鏡１１に向かっ
て線状に集光するシリンドリカルレンズ１２と、回転多
面鏡１１によって偏向走査されたレーザビームを図示し
ない感光体の表面に結像させる結像レンズ系１３等が配
設され、シリンドリカルレンズ１２は、結像レンズ系１
３を介して前記感光体の表面と共役関係にあり、いわゆ
る倒れ補正機能を有するものである。また、結像レンズ
系１３は、球面レンズ１３ａおよびトーリックレンズ１
３ｂからなり、感光体の表面に結像するレーザビームを
等速度走査光に変換する役目をする。
光偏向走査装置を示す斜視図であって、レーザビーム発
生装置Ｅ1 は光偏向走査装置の筐体１０の側壁に装着さ
れる。筐体１０内には、レーザビーム発生装置Ｅ1 から
発生されたレーザビームＬ1を回転多面鏡１１に向かっ
て線状に集光するシリンドリカルレンズ１２と、回転多
面鏡１１によって偏向走査されたレーザビームを図示し
ない感光体の表面に結像させる結像レンズ系１３等が配
設され、シリンドリカルレンズ１２は、結像レンズ系１
３を介して前記感光体の表面と共役関係にあり、いわゆ
る倒れ補正機能を有するものである。また、結像レンズ
系１３は、球面レンズ１３ａおよびトーリックレンズ１
３ｂからなり、感光体の表面に結像するレーザビームを
等速度走査光に変換する役目をする。
【００２６】レーザビーム発生装置Ｅ1 から発生された
レーザビームＬ1 は回転多面鏡１１の回転によってその
回転軸に垂直な平面内で偏向走査され、結像レンズ系１
３によって感光体の表面に結像し、従来例と同様に静電
潜像を形成する。
レーザビームＬ1 は回転多面鏡１１の回転によってその
回転軸に垂直な平面内で偏向走査され、結像レンズ系１
３によって感光体の表面に結像し、従来例と同様に静電
潜像を形成する。
【００２７】次に、レーザビーム発生装置Ｅ1 の組立工
程を説明する。まず、リードピン２ａを回路基板１の部
品フットランドに半田付けすることで半導体レーザ２を
固定し、続いて、コリメータレンズ３の各足３ａを回路
基板１のコリメータレンズ取付孔１ａに差込み、この状
態で半導体レーザ２を発光させてコリメータレンズ３の
光軸が半導体レーザ２の発光軸と一致するようにコリメ
ータレンズ３をＸＹ方向に移動させ、コリメータレンズ
３の光軸合わせを行なう。さらに、コリメータレンズ３
をＺ方向（光軸方向）に移動させて、コリメータレンズ
３を通ったレーザビームが平行光になるように焦点合わ
せを行なう。
程を説明する。まず、リードピン２ａを回路基板１の部
品フットランドに半田付けすることで半導体レーザ２を
固定し、続いて、コリメータレンズ３の各足３ａを回路
基板１のコリメータレンズ取付孔１ａに差込み、この状
態で半導体レーザ２を発光させてコリメータレンズ３の
光軸が半導体レーザ２の発光軸と一致するようにコリメ
ータレンズ３をＸＹ方向に移動させ、コリメータレンズ
３の光軸合わせを行なう。さらに、コリメータレンズ３
をＺ方向（光軸方向）に移動させて、コリメータレンズ
３を通ったレーザビームが平行光になるように焦点合わ
せを行なう。
【００２８】このようにして、コリメータレンズの光軸
合わせと焦点合わせを完了したら、コリメータレンズ取
付孔１ａに紫外線硬化型の接着剤４を充填して紫外線を
照射し、接着剤４を硬化させる。
合わせと焦点合わせを完了したら、コリメータレンズ取
付孔１ａに紫外線硬化型の接着剤４を充填して紫外線を
照射し、接着剤４を硬化させる。
【００２９】半導体レーザ２とコリメータレンズ３を組
付けた回路基板１を光偏向走査装置の筐体１０に固定
し、半導体レーザ２を発光させながらシリンドリカルレ
ンズ１２を光軸方向へ移動し、シリンドリカルレンズ１
２の焦点位置が回転多面鏡１１の反射面に一致するよう
に調整したうえで、接着等の公知の方法でシリンドリカ
ルレンズ１２を筐体１０に固定する。
付けた回路基板１を光偏向走査装置の筐体１０に固定
し、半導体レーザ２を発光させながらシリンドリカルレ
ンズ１２を光軸方向へ移動し、シリンドリカルレンズ１
２の焦点位置が回転多面鏡１１の反射面に一致するよう
に調整したうえで、接着等の公知の方法でシリンドリカ
ルレンズ１２を筐体１０に固定する。
【００３０】本実施例によれば、コリメータレンズがこ
れと一体である足を回路基板に直接固定することで半導
体レーザとユニット化されるものであるため、コリメー
タレンズと半導体レーザをユニット化するための部品を
全く必要としない。その結果、レーザビーム発生装置の
部品コストを大幅に低減し、光偏向走査装置等の低価格
化に大きく役立つ。また、コリメータレンズと半導体レ
ーザの間に鏡筒等がないため、これらの反射光によって
半導体レーザの光量検出器の信頼性が低下するおそれが
ない。従って半導体レーザの出力制御等を正確に行な
い、レーザビームの光量安定化等に大きく貢献できる。
れと一体である足を回路基板に直接固定することで半導
体レーザとユニット化されるものであるため、コリメー
タレンズと半導体レーザをユニット化するための部品を
全く必要としない。その結果、レーザビーム発生装置の
部品コストを大幅に低減し、光偏向走査装置等の低価格
化に大きく役立つ。また、コリメータレンズと半導体レ
ーザの間に鏡筒等がないため、これらの反射光によって
半導体レーザの光量検出器の信頼性が低下するおそれが
ない。従って半導体レーザの出力制御等を正確に行な
い、レーザビームの光量安定化等に大きく貢献できる。
【００３１】このようなレーザビーム発生装置を用いる
ことで、光偏向走査装置等の高性能化と低価格化を促進
し、画像形成装置等を大幅に改良できる。
ことで、光偏向走査装置等の高性能化と低価格化を促進
し、画像形成装置等を大幅に改良できる。
【００３２】図３は一変形例を示すもので、これは、コ
リメータレンズ２３およびその周辺部分２３ｂと足２３
ａを線膨張係数の異なる材料によって構成したものであ
る。コリメータレンズ２３とその周辺部分２３ｂおよび
足２３ａがプラスチック製である場合には、公知の２色
成形によってこれらすべてが一体成形される。
リメータレンズ２３およびその周辺部分２３ｂと足２３
ａを線膨張係数の異なる材料によって構成したものであ
る。コリメータレンズ２３とその周辺部分２３ｂおよび
足２３ａがプラスチック製である場合には、公知の２色
成形によってこれらすべてが一体成形される。
【００３３】コリメータレンズ２３の周辺部分２３ｂを
半導体レーザ２の発光方向と逆向きに突出させ、その引
込量Ｄ1 と足２３ａの長さＤ2 との間に以下の関係が成
立するように構成すれば、熱膨張によって発生するコリ
メータレンズ２３の焦点ぼけを内部で相殺し、温度変化
によって光学特性が劣化するおそれのないレーザビーム
発生装置を得ることができる。
半導体レーザ２の発光方向と逆向きに突出させ、その引
込量Ｄ1 と足２３ａの長さＤ2 との間に以下の関係が成
立するように構成すれば、熱膨張によって発生するコリ
メータレンズ２３の焦点ぼけを内部で相殺し、温度変化
によって光学特性が劣化するおそれのないレーザビーム
発生装置を得ることができる。
【００３４】Ｅ1 Ｄ1 ＝Ｅ2 Ｄ2 ここで、Ｅ1 ：コリメータレンズ２３の周辺部分２３ｂ
の線膨張係数 Ｅ2 ：足２３ａの線膨張係数 本変形例によるレーザビーム発生装置は、光偏向走査装
置の光学性能を安定化するのに極めて大きく役立つもの
である。
の線膨張係数 Ｅ2 ：足２３ａの線膨張係数 本変形例によるレーザビーム発生装置は、光偏向走査装
置の光学性能を安定化するのに極めて大きく役立つもの
である。
【００３５】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
で、次に記載するような効果を奏する。
【００３６】光偏向走査装置等の組立部品点数を大幅に
削減できるうえに、半導体レーザの光量制御等の信頼性
を向上させることができる。これによって、レーザビー
ム発生装置の製造コストを低減し、かつ、その光学特性
を大きく改善できる。このようなレーザビーム発生装置
を用いることで光偏向走査装置等の高性能化と低価格化
に大きく貢献できる。
削減できるうえに、半導体レーザの光量制御等の信頼性
を向上させることができる。これによって、レーザビー
ム発生装置の製造コストを低減し、かつ、その光学特性
を大きく改善できる。このようなレーザビーム発生装置
を用いることで光偏向走査装置等の高性能化と低価格化
に大きく貢献できる。
【図１】一実施例によるレーザビーム発生装置を示すも
ので、（ａ）はその一部分を断面で示す一部断面立面
図、（ｂ）はコリメータレンズを回路基板に組付ける前
の状態で示す斜視図である。
ので、（ａ）はその一部分を断面で示す一部断面立面
図、（ｂ）はコリメータレンズを回路基板に組付ける前
の状態で示す斜視図である。
【図２】図１のレーザビーム発生装置を用いた光偏向走
査装置を示す斜視図である。
査装置を示す斜視図である。
【図３】一変形例を示す図１と同様の一部断面立面図で
ある。
ある。
【図４】従来例によるレーザビーム発生装置を用いた光
偏向走査装置を示す斜視図である。
偏向走査装置を示す斜視図である。
【図５】従来例によるレーザビーム発生装置を示す斜視
図である。
図である。
１ 回路基板 １ａ， コリメータレンズ取付孔 ２ 半導体レーザ ３，２３ コリメータレンズ ３ａ，２３ａ 足
Claims (7)
- 【請求項１】 半導体レーザとその駆動回路を搭載した
回路基板と、前記半導体レーザから発生されるレーザ光
を平行化して平行光束からなるレーザビームを得るため
のコリメータレンズを有し、該コリメータレンズが、こ
れと一体的に設けられた少なくとも１本の足によって前
記回路基板に直接実装されていることを特徴とするレー
ザビーム発生装置。 - 【請求項２】 回路基板に、コリメータレンズの足を所
定の範囲内で三次元方向に移動自在に係合させるコリメ
ータレンズ取付孔が設けられていることを特徴とする請
求項１記載のレーザビーム発生装置。 - 【請求項３】 コリメータレンズの足が、回路基板のコ
リメータレンズ取付孔に充填された接着剤によって前記
回路基板に接着されていることを特徴とする請求項２記
載のレーザビーム発生装置。 - 【請求項４】 接着剤が、紫外線硬化型の接着剤である
ことを特徴とする請求項３記載のレーザビーム発生装
置。 - 【請求項５】 コリメータレンズの周辺部分と足が、線
膨張係数の異なる材料によって作られていることを特徴
とする請求項１ないし４いずれか１項記載のレーザビー
ム発生装置。 - 【請求項６】 コリメータレンズの周辺部分と足が、線
膨張係数の異なる材料によって２色成形されていること
を特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載のレー
ザビーム発生装置。 - 【請求項７】 コリメータレンズの周辺部分の引込量Ｄ
1 と足の長さＤ2 の間に以下の関係が成立することを特
徴とする請求項５または６記載のレーザビーム発生装
置。 Ｅ1 Ｄ1 ＝Ｅ2 Ｄ2 ここで、Ｅ1 ：コリメータレンズの周辺部分の線膨張係
数 Ｅ2 ：足の線膨張係数
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7236075A JPH0964482A (ja) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | レーザビーム発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7236075A JPH0964482A (ja) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | レーザビーム発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0964482A true JPH0964482A (ja) | 1997-03-07 |
Family
ID=16995354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7236075A Pending JPH0964482A (ja) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | レーザビーム発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0964482A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100313361B1 (ko) * | 1999-12-24 | 2001-11-07 | 이형도 | 광 주사장치의 레이저 다이오드 모듈 |
| JP2002166598A (ja) * | 2000-04-13 | 2002-06-11 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源装置及び光走査装置 |
| CN100443948C (zh) * | 2005-06-23 | 2008-12-17 | 三星电子株式会社 | 光扫描单元及具有该光扫描单元的成像装置 |
| JP2015227936A (ja) * | 2014-05-30 | 2015-12-17 | 株式会社東芝 | 画像形成装置 |
-
1995
- 1995-08-22 JP JP7236075A patent/JPH0964482A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100313361B1 (ko) * | 1999-12-24 | 2001-11-07 | 이형도 | 광 주사장치의 레이저 다이오드 모듈 |
| JP2002166598A (ja) * | 2000-04-13 | 2002-06-11 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源装置及び光走査装置 |
| CN100443948C (zh) * | 2005-06-23 | 2008-12-17 | 三星电子株式会社 | 光扫描单元及具有该光扫描单元的成像装置 |
| JP2015227936A (ja) * | 2014-05-30 | 2015-12-17 | 株式会社東芝 | 画像形成装置 |
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