JPH0959255A

JPH0959255A - ナフタレン誘導体、その製法及びその合成中間体

Info

Publication number: JPH0959255A
Application number: JP15276196A
Authority: JP
Inventors: Tatsuzo Ukita; 辰三浮田; Ichiro Ikezawa; 一郎池沢; Shinsuke Yamagata; 伸介山縣
Original assignee: Tanabe Seiyaku Co Ltd
Current assignee: Tanabe Seiyaku Co Ltd
Priority date: 1995-06-15
Filing date: 1996-06-14
Publication date: 1997-03-04
Anticipated expiration: 2016-06-14
Also published as: JP3033090B2

Abstract

(57)【要約】【課題】優れた気管支収縮抑制作用を示すため、喘息の
予防・治療剤として有用であるナフタレン誘導体を提供
するものである。【解決手段】一般式〔Ｉ〕【化４０】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³及びＲ⁴のい
ずれか一方が、保護されていてもよい水酸基置換メチル
基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されてい
てもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ⁵及
びＲ⁶は同一又は異なって、水素原子、置換されていて
もよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル
基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あるい
は互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに置換
されていてもよい複素環式基を形成していることを表
す。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許
容し得る塩。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は抗喘息作用を有する
新規ナフタレン誘導体及びその合成中間体に関する。

【０００２】

【従来の技術】１位に含窒素複素６員環式基を有するナ
フタレン誘導体としては、１−（５−メチル−２（１
Ｈ）−ピリドン−３−イル）ナフタレンが公知であるが
〔ブレチン・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエティー・オ
ブ・ジャパン（ＢＵＬＬＥＴＩＮＯＦＴＨＥＣＨＥ
ＭＩＣＡＬＳＯＣＩＥＴＹＯＦＪＡＰＡＮ），Ｖ
ｏｌ．４１，１６５−１６７（１９６８）〕、この化合
物は薬理活性を含めいかなる用途も知られていない。ま
た、特開平５−２２９９８７号公報には、１−［Ｎ−
（２−メトキシエチル）−２（１Ｈ）−ピリドン−４−
イル］−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−
ジエトキシナフタレン等の化合物に抗喘息作用があるこ
とが記載されているが、本願の目的化合物の如きナフタ
レン骨格の１位置換基上のピリジン環が非置換又は置換
アミノ基で置換された化合物は記載されていない。

【０００３】一方、細胞内セカンドメッセンジャーであ
るｃＡＭＰやｃＧＭＰは、ホスホジエステラーゼ（ＰＤ
Ｅ）により分解され不活性化する。ＰＤＥは生体内の組
織に広く分布し、ＰＤＥ阻害剤は該ＰＤＥを阻害するこ
とにより細胞内のｃＡＭＰやｃＧＭＰの濃度を上昇さ
せ、種々の薬理作用を有することが知られている。

【０００４】例えば、血管平滑筋や気管支平滑筋におい
ては弛緩作用、心臓においては陽性変力及び変時作用を
引き起こす。又、中枢においてはｃＡＭＰ増加に伴う中
枢機能の調整、即ち抗うつ作用、記憶・学習機能を改善
する。その他に血小板においては凝集抑制、炎症細胞に
おいては活性化抑制作用を、又脂肪細胞においては脂肪
分解作用を示す〔Ｃ．Ｄ．Ｎｉｃｈｏｌｓｏｎｅｔ
ａｌ．，ＴｒｅｎｄｓｉｎＰｈａｒｍａｃｏｌ．，１
２，１９（１９９１）〕。

【０００５】従って、ＰＤＥを阻害する薬剤は種々の疾
病、即ち、気管支喘息、血栓症、うつ病、脳血管閉塞後
の中枢機能低下症、脳血管痴呆症、アルツハイマー型痴
呆症、各種炎症、肥満症及び心不全などの治療薬として
有効であると考えられている。

【０００６】一方、従来から多数の抗喘息薬が知られて
いるが、既存の薬剤は、気管支収縮の抑制効果が充分で
なく或いは心臓等に対する副作用との分離が充分でない
等の難点があり、さらに新たな薬剤の開発が求められて
いる。

【０００７】テオフィリンは代表的なＰＤＥ阻害剤とし
て従来より喘息症の治療に用いられてきた。しかし本薬
剤のＰＤＥ阻害作用が非特異的なために、気管支平滑筋
弛緩作用以外に強心作用や中枢作用を有し、その為副作
用が常に問題とされている。そこでＰＤＥのアイソザイ
ムの中でも、特に気管支平滑筋及び炎症細胞に多く存在
するＩＶ型に対して特異的に阻害作用を有する薬剤の開
発が望まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた気管
支収縮抑制作用及び／又は選択的ホスホジエステラーゼ
ＩＶ（ＰＤＥＩＶ）阻害作用を有し、抗喘息薬として
有用な新規ナフタレン誘導体を提供するものである。ま
た、本発明は、このような新規ナフタレン誘導体の製法
及びその合成中間体をも提供するものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は一般式〔Ｉ〕

【００１０】

【化１９】

【００１１】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって
水素原子又は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³
及びＲ⁴はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基
置換メチル基であり、他方が水素原子、低級アルキル基
又は保護されていてもよい水酸基置換メチル基であるこ
とを表し、Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なって、水素原
子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されて
いてもよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ
基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒
素原子とともに置換されていてもよい複素環式基を形成
していることを表す。）で示される新規ナフタレン誘導
体及びその薬理的に許容し得る塩を提供するものであ
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はそ
の塩は、強い気管支収縮抑制作用を有し喘息の予防・治
療剤として有用な医薬化合物である。例えば当該目的物
〔Ｉ〕は、抗原誘発気管支収縮抑制効果がテオフィリン
より強力である等、気管支収縮の抑制効果が強く、かつ
心臓等に対する副作用を示さないという特長を有する。

【００１３】本発明の目的化合物〔Ｉ〕におけるＲ⁵及
びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素原子ととも
に形成される複素環式基としては、当該窒素原子以外に
さらに窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるヘ
テロ原子を含有していてもよい単環式、双環式又は三環
式複素環式基があげられる。

【００１４】このような複素環式基としては、ピリジル
基、キノリル基、イソキノリル基、シクロペンタ〔ｂ〕
ピリジル基、ピロ〔２，３−ｂ〕ピリジル基、イミダゾ
〔４，５−ｂ〕ピリジル基、ピリド〔２，３−ｄ〕チア
ゾリル基、ピリド〔２，３−ｄ〕オキサゾリル基、ナフ
チリジニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キ
ナゾリニル基、インドリル基、ピリダジニル基、アゼピ
ニル基、アゼチジル基、イソインドリル基、ピロリル
基、ベンゾアゼピニル基、フェナントリジニル基、ベン
ゾチアジニル基、ベンゾイミダゾリニル基、ピラジニル
基、モルホリノ基が挙げられ、これらの複素環式基は部
分的もしくは全て水素化されていてもよい。

【００１５】本発明の目的化合物〔Ｉ〕におけるＲ⁵及
び／又はＲ⁶の低級アルキル基及びフェニル基上の置換
しうる基としては、水酸基、モノもしくはジヒドロキシ
低級アルキル基等が挙げられる。

【００１６】アミノ基の保護基としてはアミノ基の保護
基となりうるものであればよく、低級アルカノイルアミ
ノ基、フェニル低級アルコキシカルボニル基等が挙げら
れる。

【００１７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕において、Ｒ¹
及び／又はＲ²が保護された水酸基である場合、当該水
酸基の保護基としては、薬理的に許容し得る水酸基の保
護基であればいかなるものであってもよい。例えば、置
換基を有していてもよい低級アルカノイル基、置換基を
有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
いシクロアルキル基等をあげることができる。好ましく
は、アルキル基とりわけ低級アルキル基があげられる。

【００１８】また、本発明の目的化合物〔Ｉ〕におい
て、Ｒ³及び／又はＲ⁴が保護された水酸基置換メチル
基である場合、当該水酸基の保護基としては、薬理的に
許容し得る水酸基の保護基であればいかなるものであっ
てもよい。この様な保護基の具体例としては、生体内で
加水分解によって分解し、かつ有害な副生成物を生じな
いもの、例えば、置換基を有していてもよい低級アルカ
ノイル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換
基を有していてもよい低級アルコキシカルボニル基、置
換基を有していてもよいシクロアルキル基等をあげるこ
とができる。

【００１９】ここで、置換基を有していてもよい低級ア
ルカノイル基としては、保護されていてもよいアミノ
基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、水
酸基及び低級アルコキシ基から選ばれる１〜２個の基で
置換されていてもよい低級アルカノイル基が挙げられ、
置換基を有していてもよいアルキル基としては、低級ア
ルコキシカルボニル基、低級アルコキシ基、アリール基
及び低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基から
選ばれる基で置換されていてもよいアルキル基が挙げら
れる。ここで、アリール基としては、フェニル基、低級
アルコキシフェニル基、ナフチル基等があげられる。

【００２０】さらに、低級アルカノイル基に置換しうる
保護されたアミノ基における保護基としては、アミノ基
の保護基となりうるものであればよく、例えば、アセチ
ル基、プロピオニル基等の低級アルカノイル基、低級ア
ルコキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル等
のフェニル低級アルコキシカルボニル基等のアシル基が
挙げられる。

【００２１】一方、上記複素環式基は、置換基を有して
いてもよく、かかる置換基としては、例えば、（１）低
級アルケニル基；（２）低級アルキニル基；（３）低級
アルキルチオ基；（４）シクロアルキル基；（５）トリ
フルオロメチル基；（６）シアノ基；（７）テトラゾリ
ル基；（８）ホルミル基；（９）アミノ基；（１０）モ
ルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ基、ピリ
ジル基、イミダゾリル基、ピペリジル基又はピロリジニ
ル基で低級アルキル基部分が置換されていてもよいモノ
−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；（１１）ピリジ
ル基；（１２）モルホリノ基；（１３）低級アルキル基
置換トリアゾリル基；（１４）ビス（ヒドロキシ低級ア
ルキル）アミノカルボニル基；（１５）ビス（トリ低級
アルキルシリルオキシ低級アルキル）アミノカルボニル
基；（１６）モルホリノカルボニル基；（１７）低級ア
ルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；（１８）ヒド
ロキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；
（１９）トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基
置換ピペラジニルカルボニル基；（２０）低級アルコキ
シカルボニル基；（２１）カルボキシル基；（２２）モ
ルホリノ基もしくはピリジル基で置換されていてもよい
低級アルキル基；（２３）ピペリジル基、ピリジル基、
水酸基又は低級アルコキシ基で置換されていてもよい低
級アルコキシ基；（２４）オキソ基；（２５）水酸基；
（２６）ピリミジニル基；（２７）ジ低級アルキルアミ
ノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル
基；（２８）ハロゲン原子；（２９）ニトロ基；（３
０）イミダゾリル基；及び（３１）低級アルキレンジオ
キシ基が挙げられる。これらの置換基は同一又は異なっ
て２個以上複素環式基上に置換していてもよい。

【００２２】置換された複素環式基のうちでも、少なく
ともオキソ基、水酸基又はアミノ基で置換された複素環
式基、とりわけ少なくともオキソ基で置換された複素環
式基が薬効上好ましい。少なくともオキソ基で置換され
た複素環式基は、部分構造式

【００２３】

【化２０】

【００２４】等があげられる。

【００２５】本発明の目的物〔Ｉ〕の具体例としては、
Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素原子
とともに複素環式基を形成しており、かつ複素環式基が
（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基置換アミノ
基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリジノ基又はピ
ロリジニル基で低級アルキル基部分が置換されていても
よいモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジ
ル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル
基；ビス（ヒドロキシ低級アルキル）アミノカルボニル
基；ビス（トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキ
ル）アミノカルボニル基；モルホリノカルボニル基；低
級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；ヒドロキ
シ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル基；トリ
低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基置換ピペラジ
ニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；カル
ボキシル基；低級アルキル基；水酸基もしくは低級アル
コキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及
び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ
基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キノリル基、（２）オキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基、
（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル
基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されていて
もよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で
置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置
換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、
（４）ピリジル基で置換されていてもよい低級アルキル
基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；
イミダゾリル基；ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン
原子で置換されていてもよいフェニル基；及び水酸基か
ら選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒ
ドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラ
ジニル基、（５）ハロゲン原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ニトロ基、ピリジル基及びイミダゾリル
基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又
はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピ
リジル基、（６）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジ
ヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基、（７）
オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ヘキサヒドロキノリ
ル基、（８）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒド
ロインドリル基、（９）オキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル
基、（１０）ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリ
ル基、（１１）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒ
ドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基、（１
２）低級アルキル基及び／又はオキソ基で置換されてい
てもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキソ
基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロベンゾイミダゾリ
ニル基、（１４）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジ
ヒドロフェナントリジニル基、（１５）低級アルキル基
で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基、（１
６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級アル
キレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１
８）モルホリノ基である化合物が挙げられる。

【００２６】オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キノリル基は具体的には、オキ
ソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又は
ヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリ
ル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロキノ
リル基、オキソ基置換テトラヒドロキノリル基、ヒドロ
キシ基置換ジヒドロキノリル基又はヒドロキシ基置換テ
トラヒドロキノリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基は
具体的には、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キノキサリニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基であり、より具
体的にはオキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、オキ
ソ基置換テトラヒドロキノキサリニル基、ヒドロキシ基
置換ジヒドロキノキサリニル基又はヒドロキシ基置換テ
トラヒドロキノキサリニル基；オキソ基（又はヒドロキ
シ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル
基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソ
キノリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はテトラ
ヒドロ）イソキノリル基であり、より具体的にはオキソ
基置換ジヒドロイソキノリル基、オキソ基置換テトラヒ
ドロイソキノリル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロイソキ
ノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロイソキノリ
ル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又
はテトラヒドロ）フタラジニル基は、オキソ基置換ジヒ
ドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基又はヒドロキ
シ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）フタラジニル基
であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロフタラジ
ニル基、オキソ基置換テトラヒドロフタラジニル基、ヒ
ドロキシ基置換ジヒドロフタラジニル基又はヒドロキシ
基置換テトラヒドロフタラジニル基；オキソ基（又はヒ
ドロキシ基）置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリジ
ル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピ
リジル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒ
ドロ）ピリジル基であり、より具体的にはオキソ基置換
ジヒドロピリジル基、オキソ基置換ヘキサヒドロピリジ
ル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロピリジル基又はヒドロ
キシ基置換ヘキサヒドロピリジル基；オキソ基（又はヒ
ドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチ
リジニル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）ナフチリジニル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基であり、より具
体的にはオキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、オキ
ソ基置換テトラヒドロナフチリジニル基、ヒドロキシ基
置換ジヒドロナフチリジニル基又はヒドロキシ基置換テ
トラヒドロナフチリジニル基；オキソ基（又はヒドロキ
シ基）置換ヘキサヒドロキノリル基は、オキソ基置換ヘ
キサヒドロキノリル基又はヒドロキシ基置換ヘキサヒド
ロキノリル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒ
ドロインドリル基は、オキソ基置換ジヒドロインドリル
基又はヒドロキシ基置換ジヒドロインドリル基；オキソ
基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）ベンゾアゼピニル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又
はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基又はヒドロキシ基
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基
であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロベンゾア
ゼピニル基、オキソ基置換テトラヒドロベンゾアゼピニ
ル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基又
はヒドロキシ基置換テトラヒドロベンゾアゼピニル基；
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基は、ジヒ
ドロイソキノリル基又はテトラヒドロイソキノリル基；
オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテト
ラヒドロ）ベンゾチアジニル基は、オキソ基置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル基又はヒドロ
キシ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジ
ニル基であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロベ
ンゾチアジニル基、オキソ基置換テトラヒドロベンゾチ
アジニル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロベンゾチアジニ
ル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロベンゾチアジニ
ル基；オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又
はテトラヒドロ）キナゾリニル基は、オキソ基置換ジヒ
ドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基又はヒドロキ
シ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基
であり、より具体的にはオキソ基置換ジヒドロキナゾリ
ニル基、オキソ基置換テトラヒドロキナゾリニル基、ヒ
ドロキシ基置換ジヒドロキナゾリニル基又はヒドロキシ
基置換テトラヒドロキナゾリニル基；オキソ基（又はヒ
ドロキシ基）置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基は、
オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又はヒド
ロキシ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基；オキソ
基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロフェナントリジニ
ル基は、オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基又
はヒドロキシ基置換ジヒドロフェナントリジニル基；オ
キソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラ
ヒドロ）ピロリル基は、オキソ基置換ジヒドロ（又はテ
トラヒドロ）ピロリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）ピロリル基であり、より具体的に
はオキソ基置換ジヒドロピロリル基、オキソ基置換テト
ラヒドロピロリル基、ヒドロキシ基置換ジヒドロピロリ
ル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロピロリル基を各
々示している。

【００２７】本発明の目的化合物〔Ｉ〕の具体例のう
ち、好ましい化合物としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末
端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素
環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒ
ドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ（又は
テトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基、（３）オキ
ソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル
基、（４）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）
フタラジニル基、（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘ
キサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基、（７）オキソ
基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オキソ基置換ジ
ヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換ジヒドロ（又
はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、（１０）ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル基、（１１）オキ
ソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニ
ル基、（１２）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キナゾリニル基、（１３）オキソ基置換ジヒドロベ
ンゾイミダゾリニル基、（１４）オキソ基置換ジヒドロ
フェナントリジニル基、（１５）オキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）ピロリル基、（１６）ヘキサヒド
ロキシピラジニル基、（１７）低級アルキレンジオキシ
基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホリノ
基である化合物が挙げられる。

【００２８】特に好ましい例としてはＲ⁵及びＲ⁶が互
いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに形成され
る複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテ
トラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒ
ドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサ
リニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロイソキノリル
基、（４）オキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、
（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリ
ジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル
基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、
（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキ
ソ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基、（１０）テトラ
ヒドロイソキノリル基、（１１）オキソ基置換テトラヒ
ドロベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキ
ソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オ
キソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オ
キソ基置換テトラヒドロピロリル基、（１６）ヘキサヒ
ドロキシピラジニル基、（１７）低級アルキレンジオキ
シ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホリ
ノ基である化合物が挙げられる。

【００２９】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、薬効上
好ましい化合物としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で
結合して隣接する窒素原子とともに形成される置換され
ていてもよい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノ
シクロアルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾ
リル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキ
ル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アル
キルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキ
ル基置換トリアゾリル基；低級アルキル基置換ピペラジ
ニルカルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級
アルキル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキ
シ基で置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ば
れる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換
テトラヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロ
キノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキ
ル基；ピペリジル基、ピリジル基又は低級アルコキシ基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロイソキノリル基、（４）ピリジル基置換低級アル
キル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル
基；イミダゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換
フェニル基から選ばれる基で置換されていてもよいオキ
ソ基置換ジヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキル
基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びイミダゾリル
基から選ばれる基で置換されているオキソ基置換ジヒド
ロピリジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジ
ニル基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、
（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキ
ソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（１０）低
級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキ
ソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル
基、（１１）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニ
ル基又は（１２）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジ
ニル基である化合物が挙げられる。

【００３０】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、より薬
効上好ましい化合物としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末
端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素
環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、イミダゾ
リル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキ
ル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アル
キルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキ
ル基置換トリアゾリル基；低級アルキル基；及び水酸基
もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級
アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオ
キソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基又
はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）オ
キソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、（３）モルホリ
ノ基置換低級アルキル基；ピペリジル基もしくは低級ア
ルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基；及び水
酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置
換ジヒドロイソキノリル基、（４）ピリジル基置換低級
アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリ
ル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されて
いてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、
（５）低級アルキル基、低級アルコキシ基、ピリジル基
及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオ
キソ基置換ジヒドロピリジル基、（６）オキソ基置換テ
トラヒドロベンゾチアジニル基又は（７）低級アルキル
基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基である化合
物が挙げられる。

【００３１】このうち、薬効上さらに好ましい化合物と
しては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する
窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モル
ホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリジノ
基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もしく
はジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ
基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；及び低級アル
コキシ基又は水酸基で置換されている低級アルコキシ基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロキノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキ
ノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピ
ペリジノ基もしくは低級アルコキシ基で置換されている
低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換さ
れていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、
（３）ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル
基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロフタラジニル基、（４）低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、ピリジル基及びイミダゾリル基から選ばれ
る基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル基
又は（５）低級アルキル基及びオキソ基で置換されてい
てもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キ
ナゾリニル基である化合物が挙げられる。

【００３２】このうち、薬効上とりわけ好ましい化合物
としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接す
る窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モ
ルホリノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリジ
ノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もし
くはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリ
ノ基；低級アルキル基置換トリアゾリル基；及び低級ア
ルコキシ基又は水酸基で置換されている低級アルコキシ
基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換
ジヒドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アル
キル基及びピペリジル基置換低級アルコキシ基から選ば
れる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイ
ソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基、
ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基及び低級
アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオ
キソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は（４）低級アル
キル基、低級アルコキシ基及びイミダゾリル基から選ば
れる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル
基である化合物が挙げられる。

【００３３】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のうち、他の薬
効上好ましい化合物としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末
端で結合して隣接する窒素原子とともに形成される複素
環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロアルキル基
置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又はピペリ
ジノ基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−も
しくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホ
リノ基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル
基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルキル基；水
酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換され
ていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換さ
れていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノ
リル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペ
リジノ基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換され
ている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されてい
てもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）
ピリジル基置換低級アルキル基；ピリミジニル基；低級
アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル基；及びジ低
級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置
換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル
基、（４）ピリジル基で置換されているオキソ基置換ジ
ヒドロピリジル基、（５）オキソ基置換ジヒドロナフチ
リジニル基、（６）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル
基、（７）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（８）
オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニル基、（９）
低級アルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオ
キソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル
基、（１０）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニ
ル基又は（１１）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジ
ニル基である化合物が挙げられる。

【００３４】このうち、薬効上より好ましい化合物とし
ては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒
素原子とともに形成される複素環式基が、（１）モルホ
リノ基、イミダゾリル基又はピリジル基で低級アルキル
基部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキ
ルアミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選
ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基
置換低級アルキル基；ピリジル基又は低級アルコキシ基
で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置
換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル
基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコ
キシ基；ピリジル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換
フェニル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置
換ジヒドロフタラジニル基又は（４）オキソ基置換ジヒ
ドロフェナントリジニル基である化合物が挙げられる。

【００３５】このうち、薬効上とりわけ好ましい化合物
としては、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接す
る窒素原子とともに形成される複素環式基が、（１）ピ
リジル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−
もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及
び低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよ
いオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル
基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピリジル
基又は低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキ
シ基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置
換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低級
アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；及びジ低
級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれる基で置
換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基又は
（４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基であ
る化合物が挙げられる。

【００３６】また、他の薬効上好ましい化合物として
は、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素
原子とともに形成される置換されていてもよい複素環式
基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル基又はピリジ
ル基で低級アルキル基部分が置換されているモノ−もし
くはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；及び低
級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよいオ
キソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノリル基、
（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；及び低級アル
コキシ基置換低級アルコキシ基から選ばれる基で置換さ
れているオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）
ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；及
びピリジル基から選ばれる基で置換されているオキソ基
置換ジヒドロフタラジニル基である化合物が挙げられ
る。

【００３７】更に、他の薬効上好ましい化合物として
は、Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣接する窒素
原子と共に形成される複素環式基が、式

【００３８】

【化２１】

【００３９】（但し、Ｒ⁹¹、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異
なって水素原子、水酸基、低級アルコシキシ基、ピリジ
ル基で置換されていてもよい低級アルキル基、ジ低級ア
ルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよ
いフェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基又はイミダ
ゾリル基を表す。）で示される基である化合物（以下、
化合物〔Ｉ−ａ〕と称する）が挙げられる。

【００４０】このうち、薬効上好ましい化合物として
は、Ｒ⁹¹、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異なって水素原子、
低級アルコシキシ基、ピリジル基置換低級アルキル基、
ジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基又はピリジル基
である化合物が挙げられる。

【００４１】本発明の目的化合物〔Ｉ〕のこれら薬効上
好ましい例のうち、Ｒ¹及びＲ²が同一又は異なって低
級アルコキシ基、Ｒ³及びＲ⁴が水酸基置換メチル基で
ある化合物が好ましい。

【００４２】本発明の目的化合物〔Ｉ〕には、不斉炭素
に基づく光学活性体が存在しうるが、本発明はこれらの
光学異性体及びその混合物のいずれをも含むものであ
る。

【００４３】本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、遊離の形で
も、また、薬理的に許容し得る塩の形でも医薬用途に使
用することができる。かかる薬理的に許容し得る塩とし
ては、例えば塩酸塩、硫酸塩又は臭化水素酸塩の如き無
機酸塩、酢酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩、メタンスル
ホン酸塩又はマレイン酸塩の如き有機酸塩などがあげら
れる。また、カルボキシル基等の置換基を有する場合に
は塩基性塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアル
カリ金属塩又はカルシウム塩の如きアルカリ土類金属
塩）としても用いることができる。

【００４４】従って、目的化合物〔Ｉ〕及びその塩は、
その分子内塩、付加物、溶媒和物あるいは水和物等をい
ずれも含むものと解釈されるべきである。

【００４５】本発明の目的化合物〔Ｉ〕もしくはその塩
は経口的にも非経口的にも投与することができ、また、
常法により例えば、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤、
注射剤、吸入剤のような適宜の医薬製剤として用いるこ
とができる。

【００４６】本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその薬理的
に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、体
重、状態によっても異なるが、通常、１日当り約０．０
０１〜１０ｍｇ／ｋｇ、とりわけ約０．００３〜３ｍｇ
／ｋｇ程度とするのが好ましい。

【００４７】本発明によれば、目的化合物〔Ｉ〕は、下
記〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕によって製造することができる。

【００４８】〔Ａ法〕本発明の目的化合物〔Ｉ〕は、一
般式〔ＩＩ〕

【００４９】

【化２２】

【００５０】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって
水素原子又は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³¹及びＲ
⁴¹はいずれか一方が、保護されていてもよい水酸基置換
メチル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護さ
れていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、
Ｘはハロゲン原子を表す。）で示される化合物と一般式
〔ＩＩＩ〕

【００５１】

【化２３】

【００５２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される含窒素化合物とを反応させ、Ｒ¹¹及び
／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又は
Ｒ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合は、所
望により当該水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるい
は選択的に当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又
は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位の
ヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば全
てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保
護して製造することができる。

【００５３】〔Ｂ法〕本発明の目的化合物のうち、一般
式

【００５４】

【化２４】

【００５５】（但し、Ｒ⁵¹及びＲ⁶¹は互いに末端で結合
して隣接する窒素原子とともに少なくともオキソ基で置
換された複素環式基を形成していることを表し、他の記
号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物は、
一般式〔ＩＶ〕

【００５６】

【化２５】

【００５７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物と一般式〔Ｖ〕

【００５８】

【化２６】

【００５９】（但し、Ｒ⁵²及びＲ⁶²は互いに末端で結合
して隣接する窒素原子とともに少なくともハロゲン原子
で置換された複素環式基を形成していることを表す。）
で示されるハロゲノ含窒素化合物とを反応させ、Ｒ¹¹及
び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又
はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基である場合は、
所望により当該水酸基の保護基の種類に応じ、全てある
いは選択的に当該保護基を除去し、要すれば６位及び／
又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位
のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さらに要すれば
全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシメチル部位を
保護して製造することができる。

【００６０】〔Ｃ法〕本発明の目的化合物のうち、一般
式

【００６１】

【化２７】

【００６２】（但し、Ｒ⁵³及びＲ⁶³は同一又は異なっ
て、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換
されていてもよいフェニル基又は保護されていてもよい
アミノ基を表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接
する窒素原子とともに還元反応に安定な置換されていて
もよい複素環式基を形成していることを表し、他の記号
は前記と同一意味を有する。）で示される化合物は、一
般式〔ＶＩ〕

【００６３】

【化２８】

【００６４】（但し、Ｒ⁷及びＲ⁸のいずれか一方が遊
離の又はエステル化されたカルボキシル基、他方が水素
原子、低級アルキル基、あるいは遊離の又はエステル化
されたカルボキシル基を表し、他の記号は前記と同一意
味を有する。）で示される化合物又はその分子内酸無水
物を還元反応に付し、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された
水酸基である場合は、所望により当該保護基を除去し、
要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは
２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護
し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒド
ロキシメチル部位を保護して製造することができる。

【００６５】これら〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕は以下のように
して実施することができる。

【００６６】〔Ａ法〕化合物〔ＩＩ〕と含窒素化合物
〔ＩＩＩ〕との反応は、塩基及び銅触媒の存在下、適当
な溶媒中で実施することができる。塩基としては、水素
化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属等を、銅触媒として
は、ヨウ化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、銅粉（０）、酸化
銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）等を好適に用いることができ
る。また、溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、トルエン、
キシレン等を適宜用いることができる。本反応は、８０
℃〜１６０℃、とりわけ１２０℃〜１５０℃で好適に進
行する。

【００６７】〔Ｂ法〕化合物〔ＩＶ〕とハロゲノ含窒素
化合物〔Ｖ〕との反応は、酸触媒の存在又は非存在下、
適当な溶媒中で実施することができる。酸触媒として
は、臭化水素、塩化水素、酢酸等を、溶媒としては、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、ジ、トリもしくはテトラク
ロロエタン等を適宜用いることができる。本反応は、８
０℃〜１６０℃、とりわけ１１０℃〜１５０℃で好適に
進行する。

【００６８】〔Ｃ法〕化合物〔ＶＩ〕又はその分子内酸
無水物の還元反応は、適当な還元剤を用い、溶媒中で実
施することができる。化合物〔ＶＩ〕において、エステ
ル化されたカルボキシル基は、還元反応によりヒドロキ
シメチル基に変換しうるものであればよく、例えば低級
アルコキシカルボニル基などがあげられる。還元剤とし
ては、Ｒ⁷及びＲ⁸の種類に応じ適宜選択すればよい。
例えば、Ｒ⁷及びＲ⁸がエステル化されたカルボキシル
基である場合には、金属水素化物、例えば、水素化リチ
ウムアルミニウム、水素化ビス（メトキシエトキシ）ア
ルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム等、と
りわけ水素化ホウ素ナトリウムを好適に使用することが
できる。この反応は適当な溶媒、例えばテトラヒドロフ
ラン、エーテルの如きエーテル系溶媒と低級アルカノー
ルとの混合溶媒中、加熱下で好適に実施することができ
る。一方、Ｒ⁷及び／又はＲ⁸が遊離のカルボキシル基
である場合には、例えば水素化リチウムアルミニウム等
を好適に使用することができる。さらに化合物〔ＶＩ〕
の分子内酸無水物はＲ⁷及びＲ⁸が遊離のカルボキシル
基である化合物〔ＶＩ〕を分子内脱水反応に付して調製
することができ、その還元反応は、Ｒ⁷及び／又はＲ⁸
が遊離のカルボキシル基である場合と同様の条件下に実
施することができる。これらの反応は適当な溶媒、例え
ばテトラヒドロフラン、エーテル、ジオキサンの如きエ
ーテル系溶媒中、冷却下で、好適に実施することができ
る。

【００６９】上記〔Ａ法〕及び〔Ｂ法〕においてＲ¹¹及
び／又はＲ²¹が保護された水酸基、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹
が保護された水酸基置換メチル基である場合、生成物か
らの当該保護基の除去は、保護基の種類に応じて、常法
に従って加水分解、酸処理、還元等の通常の方法で実施
することができる。さらに上記〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕にお
いて６位及び／又は７位ヒドロキシ部、２位及び／又は
３位ヒドロキシメチル部の保護は、常法に従い、各生成
物と基Ｒ¹及びＲ²、基Ｒ³及びＲ⁴の保護基に対応す
る低級アルカン酸又はシクロアルカン酸の酸無水物、酸
ハライド又は低級アルコキシカルボニル基で置換されて
いてもよい低級アルキルハライド又は保護されていても
よいカルボキシル基置換低級アルキルスルホネート等と
を縮合反応させて実施することができる。反応は、塩基
（トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジ
ン、水素化ナトリウム、ヘキサメチルホスホリックトリ
アミド等）の存在下、適当な溶媒（塩化メチレン、テト
ラヒドロフラン等）中又は無溶媒で好適に実施できる。
又、各生成物と基Ｒ¹及びＲ²、基Ｒ³及びＲ⁴の保護
基に対応する保護されていてもよいアミノ基置換低級ア
ルキルカルボン酸等とを反応させて実施することができ
る。反応は、縮合剤（ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、水溶性カルボジイミド誘導体）の存在下、適当な溶
媒（ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホル
ム）中好適に実施できる。この場合、３位のヒドロキシ
メチル部は、２位のヒドロキシメチル部よりも反応性が
高いため、生成物１モルに対し、低級アルカン酸の酸無
水物、酸ハライド又は低級アルキルハライドを等モル使
用すると、３位ヒドロキシメチル部のみが保護された目
的物が主に生成し、２モル以上使用すると、２位と３位
がともに保護された目的物を得ることができる。又、カ
ルボキシル基及び／又はアミノ基の保護基としては、慣
用のカルボキシル基及び／又はアミノ基の保護基を用い
ることができ、常法によって除去することができる。

【００７０】本発明の目的物〔Ｉ〕は、上記の如くして
得られる目的物を他の目的物へ相互変換することによっ
ても製造することができる。このような目的物間の相互
変換反応としては、その化合物が有する置換基の種類に
応じ、適宜選択すればよいが、例えば次の如く実施する
ことができる。

【００７１】化合物〔Ｉ−ａ〕は、一般式〔Ｉ〕におい
て、対応するＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がアミノ基で
ある化合物（以下、化合物〔Ｉ−ｂ〕と称する）又はそ
の塩と一般式〔ＶＩＩ〕

【００７２】

【化２９】

【００７３】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるカルボン酸誘導体又はその塩と反応さ
せることにより製造することができる。

【００７４】更に、一般式〔Ｉ−ａ〕においてＲ⁹¹が水
酸基である化合物〔Ｉ−ａ’〕は化合物〔Ｉ−ｂ〕又は
その塩と一般式〔ＶＩＩＩ〕

【００７５】

【化３０】

【００７６】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される酸無水物化合物と反応させることによ
り製造することができる。

【００７７】これら反応は適当な溶媒（例えば、低級ア
ルカノール、エチレングリコール、ジオキサン、トルエ
ン等）中で、実施することができ、１００〜１４０℃で
好適に進行する。

【００７８】なお、本発明の原料化合物〔ＩＩ〕は新規
化合物であり、例えば、一般式〔ＩＸ〕

【００７９】

【化３１】

【００８０】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンズアルデヒド化合物を、ハロゲン
（臭素等）で処理し、得られる６−ハロゲノベンズアル
デヒド化合物を、酸触媒（例えば、強酸性樹脂等）の存
在下オルトギ酸メチルと反応させ、次いで塩基（ｎ−ブ
チルリチウム等）の存在下一般式〔Ｘ〕

【００８１】

【化３２】

【００８２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるアルデヒド化合物と反応させ、さらに
生成物を一般式〔ＸＩ〕

【００８３】

【化３３】

【００８４】（但し、Ｒ⁷¹及びＲ⁸¹はいずれか一方がエ
ステル化されたカルボキシル基、他方が水素原子、低級
アルキル基又はエステル化されたカルボキシル基である
ことを表す。）で示されるオレフィン化合物と縮合反応
させて一般式〔ＸＩＩ〕

【００８５】

【化３４】

【００８６】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、これを還元剤（水素化ホ
ウ素アルカリ金属、水素化ビス（メトキシエトキシ）ア
ルミニウムナトリウム等）で還元して製造することがで
きる。

【００８７】また、原料化合物〔ＩＩ〕は、化合物
〔Ｘ〕に代えて一般式〔ＸＩＩＩ〕

【００８８】

【化３５】

【００８９】で示される化合物を用いて上記と同様にし
て化合物〔ＸＩＩ〕に対応する一般式〔ＸＩＶ〕

【００９０】

【化３６】

【００９１】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、これを酸化剤（メタクロ
ロ過安息香酸、カリウムパーオキシスルフェート（２Ｋ
ＨＳＯ₅・ＫＨＳＯ₄・Ｋ₂ＳＯ₄）、過酸化水素等）で酸
化して一般式〔ＸＶ〕

【００９２】

【化３７】

【００９３】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、これをハロゲン化剤（オ
キシ塩化リン、オキシ臭化リン等）で処理して化合物
〔ＸＩＩ〕とし、さらに還元剤（水素化ホウ素アルカリ
金属、水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナ
トリウム等）で還元して製造することもできる。

【００９４】また、一般式〔ＸＩＶ〕においてＲ⁷¹が
エステル化されたカルボキシル基であり、Ｒ⁸¹が水素
原子である化合物は、一般式〔ＸＩＩＩ〕で示される化
合物と、カルボキシル基が常用の保護基（例えば、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ベンジル基等）で保護されたアクリル
酸とを反応させ、更に生成物のカルボキシル基の保護基
を慣用の方法により、脱保護して得られる一般式

【００９５】

【化３８】

【００９６】で示される化合物を、更に一般式〔ＩＸ〕
で示されるベンズアルデヒド化合物を無水酢酸及び酢酸
ナトリウム、あるいは三酸化硫黄及びＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミドと反応させ、一般式〔ＸＶＩ〕

【００９７】

【化３９】

【００９８】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、これを酸触媒（例えば、
酢酸−塩酸混液、塩化アルミニウム等）で処理してナフ
タレン化合物に変換した後、ナフタレン環３位のカルボ
キシル基を慣用の方法によりエステル化して製造するこ
とができる。

【００９９】本発明の原料化合物〔ＩＶ〕は、例えば、
化合物〔ＸＩＶ〕を還元剤（例えば水素化ビス（メトキ
シエトキシ）アルミニウムナトリウム）で還元し、得ら
れた２，３−ビス（ヒドロキシメチル）化合物の水酸基
を保護したのちに酸化剤（例えばメタクロロ過安息香
酸）で酸化し、さらに所望により生成物から水酸基の保
護基を除去して製造することができる。

【０１００】さらに、化合物〔ＶＩ〕も新規化合物であ
り、例えば化合物〔ＸＩＩ〕と含窒素化合物〔ＩＩＩ〕
とを、化合物〔ＩＩ〕と含窒素化合物〔ＩＩＩ〕との反
応と同様の条件下に反応させることにより製造すること
ができる。また、化合物〔ＶＩ〕は、化合物〔ＸＶ〕と
ハロゲノ含窒素化合物〔Ｖ〕とを、化合物〔ＩＶ〕とハ
ロゲノ含窒素化合物〔Ｖ〕との反応と同様の条件下に反
応させることにより製造することもできる。

【０１０１】なお、本発明において、アルキル基として
は、炭素数１〜１６、とりわけ炭素数１〜８の直鎖状又
は分岐鎖状のものが挙げられ、低級アルキル基及び低級
アルコキシ基としては炭素数１〜６、とりわけ１〜４の
ものが挙げられる。又、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、低級アルキレンジオキシ基、低級アルカノイル
基としては炭素数２〜７、とりわけ２〜５の直鎖状又は
分岐鎖状のものが挙げられる。更に、シクロアルキル基
としては炭素数３〜８、とりわけ３〜６のものが挙げら
れる。ハロゲン原子としては、塩素、臭素、フッ素又は
ヨウ素が挙げられる。

【０１０２】

【実施例】以下に実施例を掲載して、本発明を更に詳細
に説明するが、これにより発明を限定するものではな
い。また、上記例示の方法で合成される化合物、並びに
同様の製法による本発明一般式〔Ｉ〕の化合物をまとめ
て下記第１〜１４表に具体的に示す。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】

【表２】

【０１０５】

【表３】

【０１０６】

【表４】

【０１０７】

【表５】

【０１０８】

【表６】

【０１０９】

【表７】

【０１１０】

【表８】

【０１１１】

【表９】

【０１１２】

【表１０】

【０１１３】

【表１１】

【０１１４】

【表１２】

【０１１５】

【表１３】

【０１１６】

【表１４】

【０１１７】

【表１５】

【０１１８】

【表１６】

【０１１９】

【表１７】

【０１２０】

【表１８】

【０１２１】

【表１９】

【０１２２】

【表２０】

【０１２３】

【表２１】

【０１２４】

【表２２】

【０１２５】

【表２３】

【０１２６】

【表２４】

【０１２７】

【表２５】

【０１２８】実施例１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレンのＮ−オキシド
３．５ｇ及び１−クロロイソキノリン１．２６ｇのメシ
チレン３０ｍｌ懸濁液を１５０〜１６０℃で加熱撹拌す
る。反応後溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及び炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取す
る。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロ
ホルム：アセトン＝３０：１）で精製して第１表記載の
１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリ
ン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセ
トキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン１．８
５ｇを得る。

【０１２９】ｍ．ｐ．９０−９３℃ 実施例２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
２．１３ｇ及び２−クロロキノリン１．６４ｇのジメチ
ルホルムアミド５ｍｌ懸濁液に塩化水素−ジオキサン溶
液を数滴注ぎ、１２０〜１３０℃で加熱撹拌する。反応
後溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及び炭酸水素ナト
リウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取する。得ら
れた塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し残渣を
得た。得られた残渣に、氷冷下にてピリジン５ｍｌ及び
無水酢酸１．０ｍｌを加え、室温にて２時間撹拌する。
反応後溶媒を留去し、残渣に酢酸エチル及び水を加え、
酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝５：１）で精製
して第１表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジ
ヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３
−ビス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン１．２０ｇを得る。

【０１３０】ｍ．ｐ．１８１−１８４℃ 実施例３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
３．５ｇ及び２−クロロ−５−ニトロピリジン１３．０
ｇのキシレン３０ｍｌ懸濁液に、臭化水素−酢酸溶液を
数滴注ぎ、１４０〜１５０℃で加熱撹拌する。反応後溶
媒を留去し、残渣にクロロホルム及び炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え、クロロホルム層を分取する。クロロホ
ルム層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：アセ
トン＝５０：１）で精製して第１表記載の１−〔２−
（２−オキソ−１，２−ジヒドロ−５−ニトロピリジン
−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセト
キシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．８３
ｇを得る。

【０１３１】ｍ．ｐ．８１−８４℃ 実施例４１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリ
ン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（アセ
トキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン１．８
４ｇのメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下にナトリウム
メトキシド０．５２ｇを加える。室温で２時間半撹拌
し、さらに氷冷下にナトリウムメトキシド０．１７ｇを
加え、室温で１時間撹拌する。反応混合物に氷冷下に酢
酸０．７４ｍｌを加え、溶媒を留去する。残渣に塩化メ
チレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチ
レン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶媒；クロロホルム：エタノール＝２５：１）で精製
して第１表記載の１−〔２−（１−オキソ−１，２−ジ
ヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキ
シナフタレン０．９５ｇを得る。

【０１３２】ｍ．ｐ．１３１−１３４℃ 実施例５１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロ−５−ニト
ロピリジン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビ
ス（アセトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ン１．８３ｇのメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下にナ
トリウムメトキシド０．７２ｇを加える。室温で１時間
撹拌する。反応混合物に氷冷下に酢酸０．８ｍｌを加
え、溶媒を留去する。残渣にクロロホルム及び炭酸水素
ナトリウム水溶液を加え、クロロホルム層を分取する。
クロロホルム層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホル
ム：アセトン＝３：１）で精製後、酢酸エチルにて結晶
化し第１表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジ
ヒドロ−５−ニトロピリジン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン０．８１ｇを得る。

【０１３３】ｍ．ｐ．２４８−２５１℃（分解）実施例６（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レン１５．０ｇのテトラヒドロフラン１５０ｍｌ懸濁液
に水素化ホウ素ナトリウム６．１６ｇを加え加熱還流す
る。該加熱還流下の混合物にメタノール６０ｍｌ及びテ
トラヒドロフラン６０ｍｌの混液を５時間かけて滴下す
る。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン及
び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を
分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去
し、残渣をイソプロピルエーテルで結晶化して１−（２
−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシ
メチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１１．８６ｇ
を得る。

【０１３４】ｍ．ｐ．１７７−１７９℃ （２）２−ヒドロキシキノキサリン２．９２ｇのジメチ
ルホルムアミド２０ｍｌ溶液を窒素雰囲気下氷冷し、６
０％水素化ナトリウム０．７８ｇを加え、室温で１５分
間撹拌する。ついで該混合物にヨウ化銅（Ｉ）４．１９
ｇを加え、１２０℃で１５分間撹拌する。該混合物を室
温に戻し、１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン２．０２ｇを加え、１２０℃で５時間撹拌する。
反応終了後酢酸エチル及びアンモニア水を加え、酢酸エ
チル層を分取する。酢酸エチル層をろ過後、洗浄、乾燥
し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：
１）で精製して第２表記載の１−〔２−（２−オキソ−
１，２−ジヒドロキノキサリン−１−イル）−４−ピリ
ジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−
ジメトキシナフタレン４５０ｍｇを得る。

【０１３５】ｍ．ｐ．１５８−１６５℃（分解）実施例７２−ヒドロキシ−４−〔２−（１−ピペリジノ）エチ
ル〕アミノキノリン３．２６ｇのジメチルホルムアミド
１０ｍｌ溶液を窒素雰囲気下氷冷し、６０％水素化ナト
リウム０．４８ｇを加え、室温で１５分間撹拌する。つ
いで該混合物にヨウ化銅（Ｉ）２．２９ｇを加え、１２
０℃で３０分間撹拌する。該混合物を室温に戻し、１−
（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン２．４３
ｇを加え、１２０℃で５時間撹拌する。反応終了後酢酸
エチル及びアンモニア水を加え、酢酸エチル層を分取す
る。酢酸エチル層をろ過後、洗浄、乾燥し、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：メタノール＝６：１）で精製後、塩
化水素−ジオキサン溶液を数滴注ぎ、結晶化させ、さら
に洗浄後乾燥させ、第２表記載の１−｛２−〔２−オキ
ソ−４−〔２−（１−ピペリジノ）エチル〕アミノ−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン・塩酸塩２１０ｍｇを得る。

【０１３６】ｍ．ｐ．＞２２０℃ 実施例８〜５７１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対
応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）もしく
は実施例７と同様に処理して第１〜２表記載の化合物を
得る。

【０１３７】実施例５８（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキ
シナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−
（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレン
を得る。

【０１３８】ｍ．ｐ．１５６−１５７℃ （２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例７
と同様に処理して第３表記載の１−｛２−〔４−（３−
ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕ピ
リジン−４−イル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩
を得る。

【０１３９】ｍ．ｐ．２１５−２１８℃（分解）（３）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕ピリジン−４−イル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−エトキシ−７
−メトキシナフタレン・硫酸塩ｍ．ｐ．＞２５０℃ （４）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕ピリジン−４−イル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−エトキシ−７
−メトキシナフタレン・メタンスルホン酸塩ｍ．ｐ．２０５−２１５℃（分解）実施例５９〜６０（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）ナフタレンを実施例６−
（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジ
ル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）ナフタレンを
得る。

【０１４０】ｍ．ｐ．１０８−１０９℃ （２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６
−（２）もしくは実施例７と同様に処理して第３表記載
の化合物を得る。

【０１４１】実施例６１〜６２（１）１−（２−ブロモ−５−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブ
ロモ−５−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１４２】ｍ．ｐ．１８５−１８６℃（分解）（２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６
−（２）もしくは実施例７と同様に処理して第４表記載
の化合物を得る。

【０１４３】実施例６３（１）１−（２−ブロモ−６−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レン７１５ｍｇのテトラヒドロフラン２０ｍｌ懸濁液に
水素化ホウ素リチウム１７４ｍｇを加え加熱還流する。
該加熱還流下の混合物にメタノール２．２ｍｌ及びテト
ラヒドロフラン１０ｍｌの混液を２時間かけて滴下す
る。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に酢酸エチル及び
水を加え、酢酸エチル層を分取する。酢酸エチル層を洗
浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１
５：１）で精製して１−（２−ブロモ−６−ピリジル）
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメト
キシナフタレン５０５ｍｇを得る。

【０１４４】ｍ．ｐ．１０７−１０８℃ （２）１−（２−ブロモ−６−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンと対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−（２）
と同様に処理して第５表記載の１−〔２−（２−オキソ
−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）ピリジン−６
−イル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１４５】ｍ．ｐ．１４２−１４３℃ 実施例６４１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンとフ
タルイミドのカリウム塩とを実施例６−（２）と同様に
処理して１−（２−フタルイミド−４−ピリジル）−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレンの加水分解物である第６表記載の１−（２
−アミノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシ
メチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１４６】ｍ．ｐ．９９−１０３℃ 実施例６５１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと２
−オキソベンゾオキサゾリジンとを実施例６−（２）と
同様に処理して１−〔２−（２−オキソベンゾオキサゾ
リジン−３−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
の加水分解物である第６表記載の１−〔２−（２−ヒド
ロキシフェニル）アミノ−４−ピリジル〕−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンを得る。

【０１４７】ｍ．ｐ．９０−９３℃ 実施例６６（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オ
キシド１．９９ｇのトルエン１０ｍｌ懸濁液に２−クロ
ロキノリン３．２７ｇを加える。ついで３０％臭化水素
−酢酸溶液５滴を加え１５時間加熱還流する。溶媒留去
後、残渣に水及び塩化メチレンを加え、ついで炭酸水素
ナトリウム水溶液を加えてｐＨ８に調整する。塩化メチ
レンで抽出後、洗浄、乾燥し、溶媒を留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホ
ルム：アセトン＝４：１）で精製して１−〔２−（２−
オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−
ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−
６，７−ジメトキシナフタレン２．６０ｇを得る。

【０１４８】ｍ．ｐ．＞２３０℃ （２）１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノ
リン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メ
トキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２
００ｍｇのテトラヒドロフラン懸濁液に、水素化ホウ素
ナトリウム３６ｍｇを加え加熱還流する。該加熱還流下
の混合物にメタノール０．３ｍｌを１時間かけて滴下す
る。該混合物を室温に戻し、水素化ホウ素ナトリウム３
６ｍｇを加え、加熱還流下にメタノール０．３ｍｌを１
時間かけて滴下する。反応終了後、反応混合物に塩化メ
チレン及び希塩酸を加え、塩化メチレン層を分取する。
塩化メチレン層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホル
ム：メタノール＝２０：１）で精製して第６表記載の１
−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１
−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシ
メチル）−６，７−ジメトキシナフタレン９０ｍｇを得
る。

【０１４９】ｍ．ｐ．＞２３０℃（酢酸エチルから再
結晶）実施例６７（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オ
キシドと４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピル〕ア
ミノ−２−クロロキノリンとを実施例６６−（１）と同
様に処理して下記第１５表記載の１−｛２−〔２−オキ
ソ−４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピル〕アミノ
−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−
ジメトキシナフタレンを得る。

【０１５０】ｍ．ｐ．１４２−１４８℃ （２）本品２．２ｇのテトラヒドロフラン懸濁液に、水
素化ホウ素ナトリウム６４０ｍｇを加え加熱還流する。
該加熱還流下の混合物にメタノール５．４ｍｌ及びテト
ラヒドロフラン６ｍｌの混液を２時間かけて滴下する。
該混合物を室温に戻し、水素化ホウ素ナトリウム４００
ｍｇを加え、加熱還流下にメタノール３．４ｍｌを０．
５時間かけて滴下する。反応終了後、反応混合物に氷冷
下、水酸化ナトリウム水溶液及び塩化メチレンを加え、
塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗浄、乾
燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝２：１）
で精製後、ジオキサン／メタノール溶液に溶解し、塩化
水素−ジオキサン溶液を０．２９ｍｌ加えて結晶化さ
せ、さらに洗浄後乾燥させ、第６表記載の１−｛２−
〔２−オキソ−４−〔３−（１−イミダゾリル）プロピ
ル〕アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−
４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩９０ｍｇを得
る。

【０１５１】ｍ．ｐ．＞２２０℃ 実施例６８〜７２（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシ（又はジエトキシ）
ナフタレンのＮ−オキシドと対応ハロゲノ含窒素化合物
〔Ｖ〕とを実施例６６−（１）と同様に処理して下記第
１５表記載の化合物を得る。

【０１５２】

【表２６】

【０１５３】（２）上記（１）で得られた生成物を実施
例６６−（２）と同様に処理して第６表記載の化合物を
得る。

【０１５４】実施例７３（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オ
キシドと２−クロロ−４−ベンジルオキシカルボニルメ
トキシキノリンとを実施例６６−（１）と同様に処理し
て１−〔２−（２−オキソ−４−ベンジルオキシカルボ
ニルメトキシ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）
−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１５５】ｍ．ｐ．１８６−１８９℃ （２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−
（２）と同様に処理して第６表記載の１−｛２−〔２−
オキソ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）−１，２−ジ
ヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレンを得る。

【０１５６】ｍ．ｐ．１００−１１０℃（分解）実施例７４（１）１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オ
キシドと２−クロロ−４−モルホリノカルボニルキノリ
ンとを実施例６６−（１）と同様に処理して１−〔２−
（２−オキソ−４−モルホリノカルボニル−１，２−ジ
ヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３
−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナ
フタレンを得る。

【０１５７】ｍ．ｐ．２４７−２４９℃ （２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−
（２）と同様に処理して第６表記載の１−｛２−〔２−
（１−ヒドロキシメチル−３−ヒドロキシプロピル）フ
ェニルアミノ〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒド
ロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得
る。

【０１５８】ｍ．ｐ．２０４−２０７℃ 実施例７５〜８１（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンと対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６−
（２）と同様に処理して下記第１６表記載の化合物を得
る。

【０１５９】

【表２７】

【０１６０】（２）上記（１）で得られた生成物を実施
例６６−（２）と同様に処理して第６〜７表記載の化合
物を得る。

【０１６１】実施例８２（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンと４−ヒドロキシキノリンとを実施例６−（２）と
同様に処理して１−〔２−（４−オキソ−１，４−ジヒ
ドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−
ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフ
タレンを得る。

【０１６２】ｍ．ｐ．２６４−２６６℃（分解）（２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−
（２）と同様に処理して第７表記載の１−〔２−（４−
ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１６３】ｍ．ｐ．９０−９４℃ 実施例８３（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンと５−メチル−２−オキソピロリジンとを実施例６
−（２）と同様に処理して１−〔２−（５−メチル−２
−オキソピロリジン−１−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメト
キシナフタレンを得る。

【０１６４】ｍ．ｐ．１８４−１８６℃ （２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−
（２）と同様に処理して第７表記載の１−〔２−（１−
メチル−４−ヒドロキシブチル）アミノ−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレンを得る。

【０１６５】ｍ．ｐ．５７−６１℃ 実施例８４（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンと２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノ
リンとを実施例６−（２）と同様に処理して１−〔２−
（２−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン
−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得
る。

【０１６６】ｍ．ｐ．２２９−２３３℃ （２）上記（１）で得られた生成物を実施例６６−
（２）と同様に処理して第７表記載の１−｛２−〔２−
（３−ヒドロキシプロピル）フェニル〕アミノ−４−ピ
リジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１６７】ｍ．ｐ．１５６−１５８℃ 実施例８５１−〔２−（２−オキソ−４−メトキシメトキシ−１，
２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレン１．３９ｇをジオキサン１０ｍｌ及びメタ
ノール５ｍｌの混液に溶解し、該溶液に２Ｎ塩酸２ｍｌ
を加える。この溶液を５０℃に加温し、７時間撹拌後、
溶媒を留去する。残渣にクロロホルム及び水を加え、ク
ロロホルム層を分取し、洗浄、乾燥後溶媒を留去する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；ク
ロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製して第７表
記載の１−〔２−（２−オキソ−４−ヒドロキシ−１，
２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレン０．７９ｇを得る。

【０１６８】ｍ．ｐ．１６０−１７０℃ 実施例８６１−〔２−（１−オキソ−５−メトキシメトキシ−１，
２−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレンを実施例８５と同様に処理して第７
表記載の１−〔２−（１−オキソ−５−ヒドロキシ−
１，２−ジヒドロキノリン−２−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレンを得る。

【０１６９】ｍ．ｐ．１３８−１４０℃ 実施例８７１−〔２−（２−オキソ−４−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−
ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，
７−ジメトキシナフタレン０．９６ｇを氷冷下に４Ｎの
塩化水素−ジオキサン溶液２５ｍｌに加え、室温で１晩
撹拌する。溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール：酢酸
＝９０：１０：３）で精製し、酢酸エチルで結晶化して
第７表記載の１−〔２−（２−オキソ−４−カルボキシ
−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン０．４１ｇを得る。

【０１７０】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例８８１−｛２−〔２−オキソ−４−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）アミノカルボニル−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン１．９ｇのテトラヒドロフラン２０
ｍｌ溶液に、氷冷下にフッ化テトラブチルアンモニウム
のテトラヒドロフラン溶液（１．０Ｍ）２．８ｍｌを加
え、室温で１時間撹拌する。反応終了後、溶媒を留去
し、塩化メチレン及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加
え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗
浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１
０：１〜５：１）で精製し、エーテルで粉末化して第７
表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−ビス（２−ヒド
ロキシエチル）アミノカルボニル−１，２−ジヒドロキ
ノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
０．６８ｇを得る。

【０１７１】ｍ．ｐ．６５−６８℃ 実施例８９１−｛２−〔２−オキソ−４−〔４−（２−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）ピペラジン−１−イル〕
カルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−
４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレンを実施例８８と同様に処
理して第７表記載の１−｛２−〔２−オキソ−４−〔４
−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン−１−イル〕カ
ルボニル−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン得る。

【０１７２】ｍ．ｐ．１５０−１５３℃ 実施例９０〜９２１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン３．１ｇの
ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液を、ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニルグリシン２．１ｇ及びカルボニルジイミ
ダゾール２．１４ｇのジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液
を３０分間撹拌したものに加え、室温で一晩撹拌する。
残渣に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分取す
る。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホ
ルム：メタノール＝２０：１）で精製して第８表記載の
１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−
３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン
０．８ｇ（実施例９０）、１−〔２−（２−オキソ−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２−ヒドロキシメチル−３−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン１．２ｇ（実施例９１）
及び１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリ
ン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン０．４７ｇ
（実施例９２）を得る。

【０１７３】（実施例９０）ｍ．ｐ．１２０−１２２℃ （実施例９１）ｍ．ｐ．１３６−１３８℃ （実施例９２）油状物実施例９３１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−
３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカル
ボニルオキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
７００ｍｇにトリフルオロ酢酸５ｍｌを加えて溶解し室
温にて１時間撹拌する。反応終了後、溶媒を留去し、メ
タノール及び１５％塩化水素−メタノール溶液２０ｍｌ
を加えた。溶媒を留去し、残渣をエーテルで粉末化して
第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒド
ロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロ
キシメチル−３−アミノメチルカルボニルオキシメチル
−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩５１０ｍｇを
得る。

【０１７４】ｍ．ｐ．１２６−１２８℃（分解）実施例９４１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメチル）−
３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレン
を実施例９３と同様に処理して第８表記載の１−〔２−
（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）
−４−ピリジル〕−２−アミノメチルカルボニルオキシ
メチル−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシナ
フタレン・塩酸塩を得る。

【０１７５】ｍ．ｐ．１４６−１４９℃（分解）実施例９５１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニルオキシメ
チル）−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例９３と
同様に処理して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２，３−ビス（アミノメチルカルボニルオキシメ
チル）−６，７−ジメトキシナフタレン・２塩酸塩を得
る。

【０１７６】ｍ．ｐ．１６５−１６８℃（分解）実施例９６〜９７１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン４６８ｍｇ
のジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液に、水素化ナトリウ
ム６０ｍｇを加え３０分間撹拌する。該溶液を氷冷下に
付し、エチルブロモアセテート０．１７ｍｌを滴下し一
晩撹拌する。残渣に酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチ
ル層を分取する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：アセトン＝５：１）で精製して第８
表記載の１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキ
ノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２−エトキシカ
ルボニルメトキシメチル−３−ヒドロキシメチル−６，
７−ジメトキシナフタレン７０ｍｇ（実施例９６）、１
−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−１
−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−３
−エトキシカルボニルメトキシメチル−６，７−ジメト
キシナフタレン１２０ｍｇ（実施例９７）を得る。

【０１７７】（実施例９６）ｍ．ｐ．１９０−１９２℃ （実施例９７）ｍ．ｐ．１２４−１２６℃ 実施例９８１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジヒドロキノリン−
１−イル）−４−ピリジル〕−２−ヒドロキシメチル−
３−エトキシカルボニルメトキシメチル−６，７−ジメ
トキシナフタレン２００ｍｇのテトラヒドロフラン５ｍ
ｌ溶液に１規定水酸化ナトリウム溶液０．３６ｍｌを加
え撹拌する。該溶液に更にメタノール５ｍｌを加え２０
分間加熱還流する。反応液を室温まで冷却し１規定塩酸
０．３６ｍｌを加えｐＨ約４にする。反応液にクロロホ
ルムを加え、クロロホルム層を分取する。クロロホルム
層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、精製することなく残渣
に塩化メチレン５ｍｌを加えジシクロヘキシルカルボジ
イミド８３ｍｇ及び１−ハイドロキシベンゾトリアゾー
ル６１ｍｇを加え室温にて３０分間撹拌する。該溶液に
１−メチルピペラジン５０ｍｇを加え一晩撹拌する。反
応液を水洗後、溶媒を留去しシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒；クロロホルム：メタノール＝１０：
１）で精製して第８表記載の１−〔２−（２−オキソ−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジ
ル〕−２−ヒドロキシメチル−３−（４−メチルピペラ
ジン−１−イル）カルボニルメトキシメチル−６，７−
ジメトキシナフタレン１５０ｍｇを得る。

【０１７８】ｍ．ｐ．１００−１０２℃ 実施例９９（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ク
ロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１７９】（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメト
キシナフタレン２．０ｇ及びピペラジンの混合物を１３
０℃で９０分間撹拌する。該混合物を室温に戻し、反応
終了後塩化メチレン及び水を加え、塩化メチレン層を分
取する。溶媒を留去し、残渣をエタノールに溶解後、４
規定塩化水素−ジオキサン溶液２．８ｍｌを加え塩酸塩
とし、溶媒留去後、エタノールで結晶化し、第８表記載
の１−〔２−（１−ピペラジニル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレン・２塩酸塩１．５７ｇを得る。

【０１８０】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例１００〜１０１１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンと対
応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例９９（２）と同様
に処理して第９表記載の化合物を得る。

【０１８１】実施例１０２１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン１．
８ｇ及び１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，５］
デカンの混合物を１４０℃で１８時間撹拌する。該混合
物を室温に戻し、反応終了後クロロホルム及び水を加
え、クロロホルム層を分取する。溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホ
ルム：アセトン＝５：１）で精製し、第８表記載の１−
〔２−（１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，５］
デシ−８−イル）ピリジン−４−イル〕−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
１．５４ｇ（収率；６２％）を得る。

【０１８２】ｍ．ｐ．１００−１０３℃ 実施例１０３１−［２−（１，４−ジオキサ−８−アザスピロ［４，
５］デカ−８−イル）ピリジン−４−イル］−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタ
レン１．４０ｇと７０％過塩素酸３．６２ｍｌ、テトラ
ヒドロフラン１５ｍｌ及び水１０ｍｌの混合物を室温に
て３日間撹拌する。反応終了後、クロロホルム及び水を
加え、クロロホルム層を分取する。溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロ
ホルム：アセトン＝２：１）で精製後、クロロホルムに
溶解し、４規定塩化水素−ジオキサン溶液を加え溶媒留
去して第９表記載の１−〔２−（４−オキソ−１−ピペ
リジニル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩８
２８ｍｇを得る。

【０１８３】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例１０４（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エトキ
シナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−
（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレン
を得る。

【０１８４】ｍ．ｐ．１２３−１２６℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシ
ナフタレン１６．０ｇのヒドラジン水和物５０ｍｌ懸濁
液を４時間加熱還流する。該加熱還流下の混合物を室温
まで戻し、水を加え結晶を濾過する。結晶を水にて洗
浄、乾燥して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７
−エトキシナフタレン１４．５ｇを得る。

【０１８５】ｍ．ｐ．１９７−２００℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エト
キシナフタレン２．０ｇ、（２−カルボキシフェニル）
−（３−ピリジル）ケトン１．３５ｇ及びエチレングリ
コール５ｍｌの混合物を２時間加熱還流する。該加熱還
流下の混合物を室温まで戻し、塩化メチレン及び水を加
え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗
浄、乾燥後溶媒を留去し、クロロホルムにて結晶化す
る。析出物をクロロホルム−メタノール混液にて溶解
し、その後、４規定塩化水素−ジオキサン溶液０．６７
ｍｌを加え第１０表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリ
ジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−
ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−
メトキシ−７−エトキシナフタレン・塩酸塩１．４３ｇ
を得る。

【０１８６】ｍ．ｐ．２１１−２１５℃（分解）実施例１０５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタ
レンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ク
ロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレンを得る。

【０１８７】ｍ．ｐ．１４８−１５０℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレ
ンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−
ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンを得る。

【０１８８】ｍ．ｐ．２２５−２３０℃（分解）（３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフ
タレンを実施例１０４−（３）と同様に処理して第１０
表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２
Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキ
シナフタレン・塩酸塩を得る。

【０１８９】ｍ．ｐ．２０７−２１１℃（分解）実施例１０６〜１０７（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１−（２−
ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１９０】ｍ．ｐ．２１４−２２０℃ （２）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレンと対応カルボン酸誘導体〔ＶＩＩ〕を実施例１０
４−（３）と同様に処理して第１０表記載の化合物を得
る。

【０１９１】実施例１０８１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
２．０ｇ、無水フタル酸０．９２ｇ及びエチレングリコ
ール１０ｍｌの混合物を１３０℃で２時間加熱撹拌す
る。該加熱下の混合物を室温まで戻し、塩化メチレン及
び水を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン
層を洗浄、乾燥後溶媒を留去し、エタノールにて結晶化
する。このことにより、第１０表記載の１−〔２−（４
−ヒドロキシ−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル）
−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）
−６，７−ジメトキシナフタレン１．６８ｇ（収率；６
１％）を得る。

【０１９２】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例１０９１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
２．０ｇ及び酢酸２０ｍｌの混合物を室温で９６時間撹
拌する。反応終了後塩化メチレン及び炭酸カリウム水溶
液を加え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層
から溶媒を留去し、クロロホルムで結晶化し、第１０表
記載の１−〔２−（２−アセチルヒドラジノ）ピリジン
−４−イル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン０．８４ｇを得る。

【０１９３】ｍ．ｐ．１５４−１５６℃ 実施例１１０〜１１１（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−メトキ
シカルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタ
レンを実施例６−（１）と同様に処理して１−（２−ブ
ロモ−４−ピリジル）−２−ヒドロキシメチル−３−メ
チル−６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０１９４】ｍ．ｐ．１０６−１０８℃ （２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６
−（２）と同様に処理して第１１表記載の化合物を得
る。

【０１９５】実施例１１２〜１１４（１）１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２−メトキ
シカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例
６−（１）と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピ
リジル）−２−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシ
ナフタレンを得る。

【０１９６】ｍ．ｐ．１５０−１５３℃ （２）本品と対応含窒素化合物〔ＩＩＩ〕とを実施例６
−（２）もしくは実施例７と同様に処理して第１１表記
載の化合物を得る。

【０１９７】実施例１１５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−
メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理し
て１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メト
キシナフタレンを得る。

【０１９８】ｍ．ｐ．２１５−２１７℃（分解）（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メ
トキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理
して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−
メトキシナフタレンを得る。

【０１９９】ｍ．ｐ．１５５−１５７℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７
−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に
処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ベ
ンジルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得
る。

【０２００】ｍ．ｐ．２１９−２２１℃（分解）実施例１１６１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタ
ラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−ベンジルオキシ−７−メト
キシナフタレン０．７３ｇのジクロロメタン（１０ｍ
ｌ）溶液に、氷冷下、無水酢酸０．７ｍｌ及びトリエチ
ルアミン１．３ｍｌを滴下して室温にて終夜撹拌する。
ジクロロメタンで希釈し、水洗、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣の酢酸（５０ｍｌ）溶液に１０％パラジウム−
カーボン（Ｐｄ−Ｃ）０．１ｇを加え、Ｐａｒｒ還元装
置を用いて室温で終夜中圧接触還元する。触媒をろ去
後、ろ液を減圧濃縮し、得られる残渣をメタノール（１
０ｍｌ）に溶解する。得られたメタノール溶液に、氷冷
下、ナトリウムメトキシド０．２ｇを加える。室温で３
時間撹拌後、反応混合物に氷冷下、希塩酸を加え、溶媒
を減圧留去する。残渣に水を加え、ジクロロメタン抽出
する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を酢
酸エチルにて結晶化後、４規定塩化水素−酢酸エチル溶
液を加えて、第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６
−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩０．１
５ｇ（収率２５％）を得る。

【０２０１】ｍ．ｐ．＞２７０℃ 実施例１１７（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−
メトキシナフタレン６．６ｇの酢酸−ジオキサン（１：
１）１０００ｍｌ混合懸濁液に１０％パラジウム−カー
ボン（Ｐｄ−Ｃ）２ｇを加え、Ｐａｒｒ還元装置を用い
て室温で終夜中圧接触還元する。更に、酢酸−ジオキサ
ン混液（１０００ｍｌ）加え、１０％パラジウム−カー
ボン（Ｐｄ−Ｃ）２ｇを加え、同様にＰａｒｒ還元装置
を用いて室温で約１８時間中圧接触還元する。触媒をろ
去後、ろ液を減圧濃縮し、得られる残渣をエタノールで
結晶化することにより、１−（２−クロロ−４−ピリジ
ル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ヒド
ロキシ−７−メトキシナフタレン３．３５ｇ（収率６２
％）を得る。

【０２０２】ｍ．ｐ．２３１−２３３℃（分解）（２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−ヒドロキシ−７−メト
キシナフタレン３．３４ｇのジメチルホルムアミド１５
０ｍｌ溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム０．４ｇを加
え室温で３０分間撹拌する。該溶液に臭化シクロペンタ
ン１．８ｍｌを滴下し、８０℃で一晩撹拌する。更に１
３０℃に昇温し２時間撹拌後、残渣にクロロホルム及び
水を加え、クロロホルム層を分取する。クロロホルム層
を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をエタノールで結
晶化することにより、１−（２−クロロ−４−ピリジ
ル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−シク
ロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレン１．２４ｇ
（収率３２％）を得る。

【０２０３】ｍ．ｐ．１７９−１８１℃ （３）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−シクロペンチルオキシ
−７−メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に
処理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ
−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２０４】ｍ．ｐ．２００−２０１℃ （４）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキシ−
７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様
に処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチ
ルオキシ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２０５】ｍ．ｐ．１２７−１３０℃ （５）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−シクロペンチルオキ
シ−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と
同様に処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−
ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−
４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシナフタレン・
塩酸塩を得る。

【０２０６】ｍ．ｐ．２１５−２１７℃（分解）実施例１１８（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−
７−メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処
理して１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７
−メトキシナフタレンを得る。

【０２０７】ｍ．ｐ．１２９−１３１℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ−７
−メトキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に
処理して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，
３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキ
シ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２０８】ｍ．ｐ．１２８−１３１℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−イソプロピルオキシ
−７−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同
様に処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６
−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸
塩を得る。

【０２０９】ｍ．ｐ．２０３−２０６℃（分解）実施例１１９（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−メトキ
シナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理して１−
（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレン
を得る。

【０２１０】ｍ．ｐ．９３−９７℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシ
ナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理して１
−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メトキシナ
フタレンを得る。

【０２１１】ｍ．ｐ．９３−９７℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキシ−７−メト
キシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に処理し
て第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−
１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−ブトキ
シ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得る。

【０２１２】ｍ．ｐ．１９８−２０１℃（分解）実施例１２０（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−
メトキシナフタレンを実施例６−（１）と同様に処理し
て１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メト
キシナフタレンを得る。

【０２１３】ｍ．ｐ．９８−１０２℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−メ
トキシナフタレンを実施例１０４−（２）と同様に処理
して１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−
ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７−
メトキシナフタレンを得る。

【０２１４】ｍ．ｐ．９８−１０２℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オクチルオキシ−７
−メトキシナフタレンを実施例１０４−（３）と同様に
処理して第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−オ
クチルオキシ−７−メトキシナフタレン・塩酸塩を得
る。

【０２１５】ｍ．ｐ．１９０−１９３℃（分解）実施例１２１（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンを実施例１０４−（２）と同様に処理して、１−（２
−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得た
後、本品と対応原料化合物〔ＶＩＩ〕とを実施例１０４
−（３）と同様に処理して、１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレンの粗精製物（７５．５
ｇ）を得る。当該粗精製物のクロロホルム−メタノール
（３：１）（７００ｍｌ）溶液を活性炭３．７ｇにて活
性炭処理後、クロロホルム−メタノール（３：１）（３
００ｍｌ）で洗浄する。当該溶液に２規定塩酸６９ｍｌ
を加えた後、溶媒留去し、エタノール（１５０ｍｌ）に
て２回共沸し、溶媒を留去する。析出物をろ取、エタノ
ール（２００ｍｌ）にて洗浄後、５０℃にて終夜送風乾
燥し、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン・塩酸塩８４ｇを得る。本品のクロロホルム−メ
タノール（３：１）（１０００ｍｌ）溶液に炭酸カリウ
ム水溶液（水３００ｍｌ中炭酸カリウム２３ｇ）を加え
て洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を結晶物が析出しない
程度留去する。エタノール３００ｍｌ加え、更にクロロ
ホルム及びメタノールを留去する。再度、エタノール
（３００ｍｌ）を加え、溶媒を一部留去する。析出物を
ろ取しエタノール（３００ｍｌ）で洗浄、５０℃で終夜
送風乾燥し、第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン６６．６ｇ（収率８５
％）を得る。

【０２１６】ｍ．ｐ．２６９−２７０℃ （２）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン・硫酸塩ｍ．ｐ．＞２６０℃ 実施例１２２（１）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフ
タレンと対応原料化合物〔ＶＩＩ〕とを実施例１０４−
（３）と同様に処理して、１−｛２−〔４−（３−ピリ
ジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−
ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，
７−ジエトキシナフタレンの粗生成物（６．５ｇ）を得
る。本品に室温下、エタノール−水（３３ｍｌ−１３ｍ
ｌ）混液を加え懸濁化する。当該懸濁液に３５％塩酸
（２．２ｍｌ）を滴下し溶解後、５０〜５５℃に昇温
し、活性炭（１．３ｇ）にて処理後、活性炭をろ別し、
エタノール−水（１３ｍｌ−７ｍｌ）で洗浄する。当該
溶液を４５〜５０℃まで加温し、水酸化ナトリウム水溶
液（水１３ｍｌ中水酸化ナトリウム１ｇ）を滴下し５５
〜６０℃で３時間撹拌後、無水物を接種する。室温にて
終夜撹拌した後氷冷し、析出物をろ取、５０％エタノー
ル（１３ｍｌ）で洗浄、５０℃にて終夜送風乾燥するこ
とにより、第１２表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリ
ジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−
ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，
７−ジエトキシナフタレン５．６ｇ（収率８６％）を得
る。

【０２１７】ｍ．ｐ．２２２℃ （２）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフ
タレン・硫酸塩ｍ．ｐ．＞２２０℃ （３）１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）
−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフ
タレン・メタンスルホン酸塩ｍ．ｐ．１６０−１６３℃（分解）実施例１２３１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン
を実施例１０４−（３）と同様に処理して、１−｛２−
〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−
２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−６，７−ジエトキシナフタレンの粗精製物
（７．０ｇ）を得た後、エタノール−水（３５ｍｌ−１
４ｍｌ）混液を加え、室温下懸濁化する。当該懸濁液に
３５％塩酸（２．３ｍｌ）を滴下し溶解後、５０〜５５
℃に昇温し、活性炭（１．４ｇ）にて活性炭処理後、エ
タノール−水（１４ｍｌ−７ｍｌ）で洗浄する。当該溶
液を３５℃まで加温し、水酸化ナトリウム水溶液（水１
４ｍｌ中水酸化ナトリウム１．１ｇ）を滴下し、二水和
物を接種する。氷冷下１時間撹拌した後、析出物をろ
取、５０％エタノール（１４ｍｌ）で洗浄、５０℃にて
終夜送風乾燥することにより、第１２表記載の１−｛２
−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン
−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン・二水和
物６．４ｇ（収率８６％）を得る。

【０２１８】ｍ．ｐ．１４１℃（１４１℃で融解し、
昇温することにより無水物化し結晶析出。２２２−２２
３℃で再度融解）実施例１２４（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−メトキ
シカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例
６−（１）と同様に処理して１−（２−クロロ−４−ピ
リジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメトキシ
ナフタレンを得る。

【０２１９】ｍ．ｐ．１１５−１１８℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロ
キシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施例１
０４−（２）と同様に処理して１−（２−ヒドラジノ−
４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメ
トキシナフタレンを得る。

【０２２０】ｍ．ｐ．１３９−１４４℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒ
ドロキシメチル−６，７−ジメトキシナフタレンを実施
例１０４−（３）と同様に処理して第１３表記載の１−
｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジ
ノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−３−ヒドロキシメ
チル−６，７−ジメトキシナフタレン・塩酸塩を得る。

【０２２１】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 実施例１２５（１）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボ
キシ−６，７−ジエトキシナフタレンのテトラヒドロフ
ラン５０ｍｌ懸濁液に窒素雰囲気下、５℃以下で水素化
ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム２
９．４ｍｌ（７０％トルエン溶液）とテトラヒドロフラ
ン２０ｍｌ混合溶液を滴下し、同温で１時間反応する。
反応終了後、メタノール１２ｍｌを加え、次いで６．２
５規定水酸化ナトリウム水溶液４８ｍｌを加え、５０℃
で１時間撹拌した。テトラヒドロフラン層を分取した
後、水層に塩化メチレンを加え、抽出した後、塩化メチ
レン層を分取する。有機層を合わせた後、溶媒を留去
し、再び塩化メチレンで抽出し、洗浄、乾燥後溶媒を留
去し、残査をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒；ク
ロロホルム：酢酸エチル＝４：１）で精製後、ジエチル
エーテルで結晶化し、１−（２−クロロ−４−ピリジ
ル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフ
タレン３．９４ｇを得る。

【０２２２】ｍ．ｐ．１３５−１３７℃ （２）１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−ヒドロ
キシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン３．９０ｇ
のヒドラジン水和物１７．８ｍｌ懸濁液を９時間加熱還
流する。該加熱還流下の混合物を室温で１０分間撹拌
し、氷冷下で１０分間撹拌し、塩化メチレン及び水を加
え、塩化メチレン層を分取する。塩化メチレン層を洗
浄、乾燥後溶媒を留去し、残査をエタノール２０ｍｌに
加温溶解後、一夜放冷撹拌して１−（２−ヒドラジノ−
４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエ
トキシナフタレン３．１９ｇを得る。

【０２２３】ｍ．ｐ．１４７−１４９℃ （３）１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒ
ドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１．０
６ｇを実施例１０４−（３）と同様に処理して、第１４
表記載の１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２
Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−３
−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシナフタレン・
塩酸塩１．４５ｇを得る。

【０２２４】ｍ．ｐ．１９７−２０１℃（分解）実施例１２６１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキ
シメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、
１−カルボキシ−２−フェニルカルボニルベンゼン１９
１ｍｇ及びエチレングリコール１ｍｌを用いて、実施例
１０４−（３）と同様の操作により、第１４表記載の１
−〔２−（４−フェニル−１（２Ｈ）−フタラジノン−
２−イル）−４−ピリジル〕−３−ヒドロキシメチル−
６，７−ジエトキシナフタレン２０６ｍｇを得る。

【０２２５】ｍ．ｐ．２０３−２０４℃ 実施例１２７１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキ
シメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、
１−カルボキシ−２−（４−クロロフェニルカルボニ
ル）ベンゼン１３７ｍｇ及びエチレングリコール１ｍｌ
を用いて、実施例１０４−（３）と同様の操作により、
第１４表記載の１−｛２−〔４−（４−クロロフェニ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジエトキシ
ナフタレン２４７ｍｇを得る。

【０２２６】ｍ．ｐ．２２３−２２５℃ 実施例１２８１−（２−ヒドラジノ−４−ピリジル）−３−ヒドロキ
シメチル−６，７−ジエトキシナフタレン１７７ｍｇ、
１−カルボキシ−２−メチルカルボニルベンゼン８６ｍ
ｇ及びエチレングリコール１ｍｌを用いて、実施例１０
４−（３）と同様の操作により、第１４表記載の１−
〔２−（４−メチル−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−
イル）−４−ピリジル〕−３−ヒドロキシメチル−６，
７−ジエトキシナフタレン２１１ｍｇを得る。

【０２２７】ｍ．ｐ．２２０−２２１℃ 参考例１（１）３，４−ジメトキシベンズアルデヒド３９８．８
ｇを酢酸１．８リットルに溶解し室温で臭素１３６ｍｌ
を４時間かけて滴下する。終夜撹拌した後再び臭素６０
ｍｌをゆっくり滴下し終夜撹拌する。反応液を水７リッ
トルに加え、析出晶をろ取し、水洗して得られた結晶を
クロロホルム２リットルに溶解する。該クロロホルム溶
液を洗浄、乾燥後濃縮し、ジイソプロピルエーテルで結
晶化して６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデ
ヒド４７０ｇを無色結晶として得る。

【０２２８】ｍ．ｐ．１４４−１４６℃ （２）６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒ
ド４７０ｇをメタノール６００ｍｌに懸濁させ、オルト
ギ酸メチル１０２５ｍｌとＩＲＡ−１２０（Ｈ＋型）１
０ｇを加え１時間加熱還流する。室温に戻し不溶物をろ
別してろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をエーテルに溶
解する。洗浄、乾燥し、エーテルを留去後減圧蒸留して
主留（１３３−１３８℃／１Ｔｏｒｒ）として６−ブロ
モ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメチルアセ
タール５２２ｇを得る。

【０２２９】参考例２３，４−ジエトキシベンズアルデヒドを参考例１と同様
に処理して６−ブロモ−３，４−ジエトキシベンズアル
デヒドジメチルアセタールを得る。

【０２３０】ｂ．ｐ．１４５−１５０℃／１Ｔｏｒｒ参考例３３−メトキシ−４−エトキシベンズアルデヒドを参考例
１と同様に処理して６−ブロモ−３ーメトキシ−４−エ
トキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２３１】ｂ．ｐ．１６０−１６２℃／２Ｔｏｒｒ参考例４ベンズアルデヒドを参考例１と同様に処理して２−ブロ
モベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２３２】ｂ．ｐ．９０−１００℃／１Ｔｏｒｒ参考例５３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデヒドを参考例
１と同様に処理して６−ブロモ−３−エトキシ−４−メ
トキシベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２３３】ｂ．ｐ．１７０−１７５℃／３Ｔｏｒｒ参考例６６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタール２０ｇのテトラヒドロフラン１００ｍｌ
溶液を−６０℃に冷却し窒素雰囲気下でｎ−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ）４５．１ｍｌを２０分
間で滴下する。同温で３０分間反応させた後４−ホルミ
ルピリジン７．３６ｇのテトラヒドロフラン５０ｍｌ溶
液を２０分間で滴下する。１時間反応させた後反応液に
水、酢酸エチル２００ｍｌを加えて酢酸エチル層を分取
し、洗浄、乾燥後、酢酸エチルを留去して３，４−ジメ
トキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズ
アルデヒドジメチルアセタール１５．４ｇを得る。

【０２３４】ｍ．ｐ．１３０−１３３℃ 参考例７６−ブロモ−３，４−ジエトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタールを参考例６と同様に処理して３，４−ジ
エトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベン
ズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２３５】ｍ．ｐ．１０８−１０９℃ 参考例８６−ブロモ−３−メトキシ−４−エトキシベンズアルデ
ヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して３
−メトキシ−４−エトキシ−６−（４−ピリジル）ヒド
ロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得
る。

【０２３６】ｍ．ｐ．１２５−１２７℃ 参考例９２−ブロモベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考
例６と同様に処理して６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得る。

【０２３７】ｍ．ｐ．１１５−１１６℃ 参考例１０６−ブロモ−３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデ
ヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理して３
−エトキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジル）ヒド
ロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを得
る。

【０２３８】ｍ．ｐ．１１４−１１５℃ 参考例１１６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタールと２−ブロモ−４−ホルミルピリジンを
参考例６と同様に処理して３，４−ジメトキシ−６−
（２−ブロモ−４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズ
アルデヒドジメチルアセタールを油状物として得る。

【０２３９】参考例１２６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタールと２−ホルミルピリジンを参考例６と同
様に処理して３，４−ジメトキシ−６−（２−ピリジ
ル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールを油状物として得る。

【０２４０】参考例１３６−ブロモ−３，４−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタールと３−ホルミルピリジンを参考例６と同
様に処理して３，４−ジメトキシ−６−（３−ピリジ
ル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールを油状物として得る。

【０２４１】参考例１４３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタール１８．４ｇ
の酢酸５０ｍｌ−トルエン５０ｍｌ溶液にマレイン酸ジ
メチル８．６４ｍｌを加え１時間加熱還流する。メタン
スルホン酸９．３３ｍｌを加えディーン・スターク装置
を用いて生成する水を除去しながら８時間加熱還流す
る。室温にもどし反応液を濃縮し、得られた残渣をクロ
ロホルムに溶解し、炭酸カリウム水溶液を加えてｐＨ８
に調整する。該溶液をクロロホルム抽出し、洗浄、乾燥
後濃縮して得られた残渣をエーテルから結晶化して１−
（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレン１３．５ｇを得
る。

【０２４２】ｍ．ｐ．２０４−２０６℃ 参考例１５３，４−ジエトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１
４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタ
レンを得る。

【０２４３】ｍ．ｐ．１４９−１５０℃ 参考例１６３−メトキシ−４−エトキシ−６−（４−ピリジル）ヒ
ドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを
参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−
２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−
７−エトキシナフタレンを得る。

【０２４４】ｍ．ｐ．１９５−１９７℃ 参考例１７６−（４−ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒ
ドジメチルアセタールを参考例１４と同様に処理して１
−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）ナフタレンを得る。

【０２４５】ｍ．ｐ．１９７−１９８℃ 参考例１８３−エトキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジル）ヒ
ドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを
参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリジル）−
２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−
７−メトキシナフタレンを得る。

【０２４６】ｍ．ｐ．１８８−１８９℃ 参考例１９３，４−ジメトキシ−６−（２−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１
４と同様に処理して１−（２−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンを得る。

【０２４７】ｍ．ｐ．１６３−１６５℃ 参考例２０３，４−ジメトキシ−６−（３−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールを参考例１
４と同様に処理して１−（３−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタ
レンを得る。

【０２４８】ｍ．ｐ．９５−９６℃ 参考例２１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレン５ｇの塩化メチ
レン溶液３００ｍｌに氷冷下メタクロロ過安息香酸８．
１ｇを加え、室温に戻し終夜撹拌する。反応液を洗浄、
乾燥後濃縮して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンのＮ−オキシド１５．０ｇを結晶として得る。

【０２４９】ｍ．ｐ．２３７−２３９℃ 参考例２２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジエトキシナフタレンを参考例２１と
同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）−６，７−ジエトキシナフタレ
ンのＮ−オキシドを得る。

【０２５０】ｍ．ｐ．１７７−１７８℃ 参考例２３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを参考
例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３
−ビス（メトキシカルボニル）−６−メトキシ−７−エ
トキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２５１】ｍ．ｐ．＞２２０℃ 参考例２４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）ナフタレンを参考例２１と同様に処理して１−
（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）ナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２５２】ｍ．ｐ．２１５−２１８℃ 参考例２５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを参考
例２１と同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３
−ビス（メトキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メ
トキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２５３】ｍ．ｐ．２３０−２３１℃ 参考例２６１−（２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と
同様に処理して１−（２−ピリジル）−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンのＮ−オキシドを得る。

【０２５４】ｍ．ｐ．１７３−１７５℃ 参考例２７１−（３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と
同様に処理して１−（３−ピリジル）−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ンのＮ−オキシドを得る。

【０２５５】ｍ．ｐ．１８５−１８６℃（分解）参考例２８テトラヒドロフラン２５ｍｌに水素化ビス（メトキシエ
トキシ）アルミニウムナトリウムのトルエン溶液（３．
４Ｍ）１８．０ｍｌを加え、−１０℃に冷却する。そこ
へ１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカル
ボニル）−６，７−ジエトキシナフタレン１０．０ｇの
テトラヒドロフラン懸濁液２５ｍｌを１５分間で滴下す
る。反応液を昇温し、氷冷下で１．５時間撹拌した後、
１５％水酸化ナトリウム水溶液３．７ｍｌを加える。反
応混合物に水及び塩化メチレンを加え、不溶物をろ去す
る。ろ液を塩化メチレン抽出し、抽出液を洗浄、乾燥
後、濃縮して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン７．
８９ｇを得る。

【０２５６】ｍ．ｐ．１５９−１６１℃ 参考例２９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２８と
同様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン
を得る。

【０２５７】ｍ．ｐ．１３５−１３８℃ 参考例３０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレン２０．０ｇを塩化
メチレン２００ｍｌに溶解し、氷冷下に無水酢酸４６．
６ｇ及びトリエチルアミン５７．４ｇを滴下して室温で
終夜撹拌する。塩化メチレンで希釈後水洗し、乾燥後濃
縮して残渣を酢酸エチル−ヘキサン混液より再結晶して
１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレン２２．４ｇを得
る。

【０２５８】ｍ．ｐ．１１５−１１６℃ 参考例３１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例３０と同
様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ア
セトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンを得
る。

【０２５９】ｍ．ｐ．１６５−１６７℃ 参考例３２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジエトキシナフタレン２２．４ｇの塩化
メチレン１００ｍｌ溶液に室温でメタクロロ過安息香酸
１９．０ｇを加え終夜撹拌する。反応液を洗浄、乾燥後
濃縮し、残渣をエーテルより結晶化して１−（４−ピリ
ジル）−２，３−ビス（アセトキシメチル）−６，７−
ジエトキシナフタレンのＮ−オキシド２０．８ｇを得
る。

【０２６０】ｍ．ｐ．１５８−１５９℃ 参考例３３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例３２と同
様に処理して１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（ア
セトキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ
−オキシドを得る。

【０２６１】ｍ．ｐ．１８２−１８５℃ 参考例３４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
３０ｇ及びオキシ塩化リン１５０ｍｌの混合物を２時間
加熱還流する。オキシ塩化リンを留去し、塩化メチレン
及び炭酸カリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取
する。溶媒留去後メタノールで結晶化して１−（２−ク
ロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２６ｇを得る。

【０２６２】ｍ．ｐ．２０１−２０３℃ 参考例３５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンのＮ−
オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ
−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６−メトキシ−７−エトキシナフタレンを得る。

【０２６３】ｍ．ｐ．１９６−１９８℃ 参考例３６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）ナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に
処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）ナフタレンを得る。

【０２６４】ｍ．ｐ．１７４−１７８℃ 参考例３７１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−
オキシドを参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ
−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２６５】ｍ．ｐ．２０５−２０８℃ 参考例３８１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジエトキシナフタレンのＮ−オキシド
を参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジエトキシナフタレンを得る。

【０２６６】ｍ．ｐ．１５４−１５６℃ 参考例３９１−（２−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
を参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−６−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジメトキシナフタレン及び１−（４−クロロ−２−
ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−
６，７−ジメトキシナフタレンの混合物を得る。

【０２６７】ＭＳ；４１５（Ｍ⁺）参考例４０１−（３−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
を参考例３４と同様に処理し１−（２−クロロ−５−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジメトキシナフタレン及び１−（２−クロロ−３−
ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−
６，７−ジメトキシナフタレンの混合物を得る。

【０２６８】ＭＳ；４１５（Ｍ⁺）参考例４１１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メ
トキシカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン２
２．７ｇ、三臭化リン５２ｍｌ及び１，１，２，２−テ
トラクロロエタン１００ｍｌの混合物を１００℃で１０
時間撹拌する。反応後溶媒を留去し、塩化メチレン及び
炭酸カリウム水溶液を加え、塩化メチレン層を分取す
る。溶媒留去後メタノールで結晶化して１−（２−ブロ
モ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレン１７．１ｇを得
る。

【０２６９】ｍ．ｐ．１９２−１９４℃ 参考例４２１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メ
トキシカルボニル）ナフタレンを参考例４１と同様に処
理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）ナフタレンを得る。

【０２７０】ｍ．ｐ．１６２−１６３℃ 参考例４３１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メ
トキシカルボニル）−６−エトキシ−７−メトキシナフ
タレンを参考例４１と同様に処理して１−（２−ブロモ
−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６−エトキシ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２７１】ｍ．ｐ．２０３−２０４℃ 参考例４４参考例３９で得た混合物を参考例４１と同様に処理し、
さらにシリカゲル精製して、１−（２−ブロモ−６−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２７２】ｍ．ｐ．１９９−２００℃ 参考例４５参考例４０で得た混合物を参考例４１と同様に処理し、
さらにシリカゲル精製して、１−（２−ブロモ−５−ピ
リジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６，
７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２７３】ｍ．ｐ．１８２−１８４℃ 参考例４６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
１０６．４ｇの１，２−ジクロロエタン５００ｍｌ懸濁
液にオキシ臭化リン１００ｇを加え、５時間加熱還流す
る。反応終了後溶媒等を留去し、酢酸エチルを加える。
該酢酸エチル溶液を氷水に加え、析出晶をろ取して１−
（２−ブロモ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−６，７−ジメトキシナフタレン３８．
９ｇを得る。

【０２７４】ｍ．ｐ．１９２−１９４℃ 参考例４７３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールとクロトン
酸メチルを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリ
ジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，７
−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２７５】ｍ．ｐ．１５２−１５４℃ 参考例４８３，４−ジメトキシ−６−（４−ピリジル）ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒドジメチルアセタールとアクリル
酸メチルを参考例１４と同様に処理して１−（４−ピリ
ジル）−２−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシ
ナフタレンを得る。

【０２７６】ｍ．ｐ．１５２−１５４℃ 参考例４９１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−
メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と
同様に処理して１−（４−ピリジル）−２−メトキシカ
ルボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレン
のＮ−オキシドを得る。

【０２７７】ｍ．ｐ．２３０−２３２℃ 参考例５０１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，
７−ジメトキシナフタレンを参考例２１と同様に処理し
て１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−
６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２７８】ｍ．ｐ．２２２−２２４℃ 参考例５１１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−
メチル−６，７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシド
を参考例３４と同様に処理して１−（２−クロロ−４−
ピリジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−
６，７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２７９】ｍ．ｐ．１３３−１３６℃ 参考例５２１−（４−ピリジル）−２−メトキシカルボニル−６，
７−ジメトキシナフタレンのＮ−オキシドを参考例３４
と同様に処理し１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２
−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレン
を得る。

【０２８０】ｍ．ｐ．１４２−１４５℃ 参考例５３１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２−メトキシカル
ボニル−３−メチル−６，７−ジメトキシナフタレンを
参考例４１と同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピ
リジル）−２−メトキシカルボニル−３−メチル−６，
７−ジメトキシナフタレンを得る。

【０２８１】ｍ．ｐ．１４８−１５０℃ 参考例５４１−（２−クロロ−４−ピリジル）−２−メトキシカル
ボニル−６，７−ジメトキシナフタレンを参考例４１と
同様に処理して１−（２−ブロモ−４−ピリジル）−２
−メトキシカルボニル−６，７−ジメトキシナフタレン
を得る。

【０２８２】ｍ．ｐ．１４６−１４８℃ 参考例５５イソバニリン２００ｇのジメチルホルムアミド５００ｍ
ｌ溶液に、氷冷下、炭酸カリウム２３６ｇを加えた後、
臭化ベンジル２０３ｍｌを滴下し、終夜撹拌する。反応
残渣の不溶物を濾過し、アセトンにて洗浄、溶媒を留去
し、残渣にエーテル及び水を加えて、再度洗浄、溶媒を
留去することにより、３−ベンジルオキシ−４−メトキ
シベンズアルデヒド（油状物質）を得る。

【０２８３】参考例５６（１）３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズアルデ
ヒドを酢酸−酢酸ナトリウム共存下、参考例１−（１）
と同様に処理して、６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−
４−メトキシベンズアルデヒド得る。

【０２８４】ｍ．ｐ．１４０−１４１℃ （２）６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシ
ベンズアルデヒドを参考例１−（２）と同様に処理し
て、６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシベ
ンズアルデヒドジメチルアセタール（油状物質）を得
る。

【０２８５】参考例５７６−ブロモ−３−ベンジルオキシ−４−メトキシベンズ
アルデヒドジメチルアセタールを参考例６と同様に処理
して、３−ベンジルオキシ−４−メトキシ−６−（４−
ピリジル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチル
アセタール（油状物質）を得る。

【０２８６】参考例５８３−ベンジルオキシ−４−メトキシ−６−（４−ピリジ
ル）ヒドロキシメチルベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールを３日間室温下、参考例１４と同様に処理して、１
−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレンを
得る。

【０２８７】ｍ．ｐ．２４０−２４２℃（分解）参考例５９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン
を参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）
−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ベンジル
オキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得
る。

【０２８８】ｍ．ｐ．２５４−２５７℃（分解）参考例６０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン
のＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−
（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナ
フタレンを得る。

【０２８９】ｍ．ｐ．２６０−２６１℃（分解）参考例６１１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ベンジルオキシ−７−メトキシナフタレン
を実施例１１７−（１）と同様に処理して、１−（４−
ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６
−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンを得る。

【０２９０】ｍ．ｐ．２２５−２３０℃（分解）参考例６２１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンとヨ
ウ化イソプロピルを実施例１１７−（２）と同様に処理
して、１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシ
カルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシ
ナフタレンを得る。

【０２９１】ｍ．ｐ．２１０−２１２℃ 参考例６３１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンとヨ
ウ化ブチルを実施例１１７−（２）と同様に処理して、
１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを得
る。

【０２９２】ｍ．ｐ．１４９−１５１℃ 参考例６４１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ヒドロキシ−７−メトキシナフタレンと臭
化オクチルを実施例１１７−（２）と同様に処理して、
１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレン
を得る。

【０２９３】ｍ．ｐ．１２４−１２６℃ 参考例６５１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタ
レンを参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジ
ル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−イソ
プロピルオキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシ
ドを得る。

【０２９４】ｍ．ｐ．１９５−２００℃（分解）参考例６６１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンを参考
例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）−２，
３−ビス（メトキシカルボニル）−６−ブトキシ−７−
メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得る。

【０２９５】ｍ．ｐ．１７０−１７３℃ 参考例６７１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレン
を参考例２１と同様に処理して、１−（４−ピリジル）
−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−６−オクチル
オキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−オキシドを得
る。

【０２９６】ｍ．ｐ．１４３−１４６℃ 参考例６８１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メトキシナフタ
レンのＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１
−（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メト
キシカルボニル）−６−イソプロピルオキシ−７−メト
キシナフタレン得る。

【０２９７】ｍ．ｐ．１９５−２００℃（分解）参考例６９１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレンのＮ−
オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−（２−ク
ロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−ブトキシ−７−メトキシナフタレン得る。

【０２９８】ｍ．ｐ．１４３−１４７℃ 参考例７０１−（４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキシカルボ
ニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナフタレン
のＮ−オキシドを参考例３４と同様に処理して、１−
（２−クロロ−４−ピリジル）−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−６−オクチルオキシ−７−メトキシナ
フタレン得る。

【０２９９】ｍ．ｐ．９３−９７℃ 参考例７１４−カルボキシ−２−クロロピリジン７８．７ｇを窒素
雰囲気下、水素化ホウ素ナトリウム２８．４ｇのテトラ
ヒドロフラン７５０ｍｌの懸濁液に徐々に加え、次いで
三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩１２３ｍｌを滴
下した後、室温で６時間反応する。反応終了液に、６規
定塩酸９６０ｍｌを滴下し、有機溶媒を留去後、水酸化
ナトリウムでアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し
た。クロロホルム層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄し、乾燥後溶媒を留去し、２−クロロ−４−ヒドロ
キシメチルピリジン６２．２ｇを得る。

【０３００】ｍ．ｐ．６３−６５℃ 参考例７２（１）オキザリルクロライド４２．２ｍｌの塩化メチレ
ン溶液（１１００ｍｌ）に−６０℃〜−５０℃でジメチ
ルスルフォキサイド６８．７ｍｌの塩化メチレン溶液
（２２０ｍｌ）を滴下し、同温で２−クロロ−４−ヒド
ロキシメチルピリジン６３．２ｇの塩化メチレン溶液４
４０ｍｌを滴下した後、１５分間撹拌する。次いで、同
温でトリエチルアミン３０６．６ｍｌを滴下し、５分間
撹拌後、室温にする。反応終了液に、水２．２ｌを加
え、塩化メチレン層を分取し、水層を再び塩化メチレン
２．２ｌで抽出し、先の塩化メチレン層と合す。合わせ
た塩化メチレン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄し、乾燥後溶媒を留去し、２−クロロピリジン−４−
カルバルデヒドを得る。

【０３０１】（２）２−クロロピリジン−４−カルバル
デヒドのジメチルホルムアミド溶液（１５０ｍｌ）をシ
アン化ナトリウム５．２ｇのジメチルホルムアミド懸濁
液２００ｍｌに５分間で滴下し、５分間撹拌後、アクリ
ル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル６１．４ｍｌのジメチル
ホルムアミド溶液（３５０ｍｌ）を１０分間で滴下し、
一夜撹拌する。反応終了液に、酢酸エチルと水を加え、
酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
し、乾燥後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精
製後、４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オ
キソ−ブチル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（油状物質）
８２．８ｇを得る。

【０３０２】参考例７３４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−
ブチル酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル８２．８ｇに氷冷
下、トリフルオロ酢酸１１８ｍｌを加え、１５分間撹拌
した後、室温で１時間反応する。更に、トリフルオロ酢
酸２４ｍｌを加え、室温で２時間反応する。トリフルオ
ロ酢酸を留去し、トルエンでトリフルオロ酢酸を共沸し
た後、ジエチルエーテルで結晶化し、４−（２−クロロ
ピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチル酸５３．８
ｇを得る。

【０３０３】ｍ．ｐ．１１８−１２０℃ 参考例７４４−（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−
ブチル酸２．１４ｇ、３，４−ジメトキシベンズアルデ
ヒド１．６６ｇ、酢酸ナトリウム０．８２ｇ及び無水酢
酸５．６６ｍｌの混合物を８０℃で２時間撹拌する。酢
酸及び濃塩酸５０ｍｌを滴下し、２時間加熱還流する。
反応液をエーテルで洗浄、水酸化ナトリウムでｐＨ＝４
に調整し、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を有機溶媒（ク
ロロホルム：メタノール＝９：１）で抽出し、１−（２
−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボキシ−６，７−
ジメトキシナフタレン（収率；６７％）を得る。

【０３０４】ｍ．ｐ．＞２５０℃ 参考例７５１−（２−クロロ−４−ピリジル）−３−カルボキシ−
６，７−ジメトキシナフタレン２．３ｇのテトラヒドロ
フラン（ＴＨＦ）（６０ｍｌ）溶液に、−１０℃にて水
素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム
２．３６ｍｌ（７０％トルエン溶液）のＴＨＦ溶液を滴
下し、室温にて１時間撹拌する。更に水素化ビス（メト
キシエトキシ）アルミニウムナトリウム１．５７ｍｌ
（７０％トルエン溶液）のＴＨＦ溶液（５ｍｌ）を滴下
し、更に４０℃で１時間加熱撹拌する。反応液にメタノ
ールを加えた後、水酸化ナトリウム水溶液（水２０ｍｌ
中水酸化ナトリウム１．６ｇ）を加え、５０℃にて３０
分間撹拌する。

【０３０５】反応残渣を酢酸エチル抽出し、更にジクロ
ロメタン抽出する。有機層を水洗、乾燥後、溶媒を留去
し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：アセトン＝１９：１）で処理し、エ
ーテルで結晶化させることにより、１−（２−クロロ−
４−ピリジル）−３−ヒドロキシメチル−６，７−ジメ
トキシナフタレン５３１ｍｇ（収率２４％）を得る。

【０３０６】ｍ．ｐ．１１５−１１８℃ 参考例７６３，４−ジエトキシベンズアルデヒド５４．２ｇ、４−
（２−クロロピリジン−４−イル）−４−オキソ−ブチ
ル酸５９．６ｇ、酢酸ナトリウム２２．９ｇ及び無水酢
酸１５８ｍｌの混合物を窒素雰囲気下、８０℃で２時間
撹拌する。３０分間放冷後、酢酸１．４ｌ及び濃塩酸
１．４ｌを加え、２時間加熱還流する。該加熱還流下の
混合物を氷冷し、水酸化ナトリウムを６７２ｇ加えた
後、水１．４ｌ、クロロホルム２．５ｌ、メタノール
０．３ｌを加える。クロロホルム層を乾燥後溶媒を留去
して、ジエチルエーテルで結晶化し、１−（２−クロロ
−４−ピリジル）−３−カルボキシ−６，７−ジエトキ
シナフタレン７０．４ｇを得る。

【０３０７】ｍ．ｐ．＞２５０℃

【０３０８】

【発明の効果】本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその薬理
的に許容し得る塩は、優れた気管支収縮抑制作用を有
し、喘息の予防・治療剤として有用である。即ち、本発
明の目的化合物〔Ｉ〕は、ヒスタミン、Ｕ−４６６１
９、ロイコトリエンＤ₄等の各種スパスモーゲンや抗原
により誘発される気管支収縮を、効果的に抑制する。例
えば、本発明の目的化合物である１−〔２−（２−オキ
ソ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリ
ジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−
ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔２−オキソ−４−
（２−ピペリジノエチル）アミノ−１，２−ジヒドロキ
ノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ン、１−｛２−〔２−オキソ−４−（４−ピリジル）−
１，２−ジヒドロキノリン−１−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン、１−〔２−（２−オキソ−３−モ
ルホリノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４
−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン、１−〔２−（１−オキ
ソ−５−メトキシメトキシ−１，２−ジヒドロイソキノ
リン−２−イル）−４−ピリジル〕−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１
−｛２−〔１−オキソ−５−（２−ピペリジノエチルオ
キシ）−１，２−ジヒドロイソキノリン−２−イル〕−
４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン、１−〔２−（３−オキ
ソ−２，３−ジヒドロイソキノリン−２−イル）−４−
ピリジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，
７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピ
リジル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４
−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔４−（３
−ピリジルメチル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−
イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメ
チル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−
〔６，７−ジメトキシ−４−（３−ピリジル）−１（２
Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１
（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジエト
キシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−
１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６−メトキ
シ−７−エトキシナフタレン又はそれらの薬理的に許容
しうる塩は、テオフィリンより３０倍以上強力な抗原誘
発気管支収縮抑制作用を示す。

【０３０９】また、本発明の目的化合物〔Ｉ〕又はその
薬理的に許容し得る塩は、心臓等に対する副作用をほと
んど示さず、選択的に気管支収縮抑制作用を示すととも
に、低毒性であり、医薬として高い安全性を示すという
優れた特性を有する。テオフィリンの場合、血圧低下、
心悸亢進等心臓への副作用が知られているが、本発明の
目的化合物〔Ｉ〕又はその薬理的に許容し得る塩はかか
る副作用を実質的に示さず、優れた抗喘息作用を有す
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｄ 401/04 ２２３Ｃ０７Ｄ 401/04 ２２３２３５２３５２３７２３７２３９２３９２４１２４１ 401/14 ２１３ 401/14 ２１３２１５２１５２３３２３３２３７２３７２４９２４９ 417/04 ２１３ 417/04 ２１３ 471/04 １１３ 471/04 １１３１１４１１４Ａ 491/113 491/113 // Ａ６１Ｋ 31/44 ＡＣＦＡ６１Ｋ 31/44 ＡＣＦ 31/47 ＡＣＤ 31/47 ＡＣＤ 31/495 31/495 31/50 31/50 31/505 31/505 31/535 31/535 31/54 31/54 31/55 31/55

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式〔Ｉ〕【化１】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³及びＲ⁴はい
ずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基
であり、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護され
ていてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ
⁵及びＲ⁶は同一又は異なって、水素原子、置換されて
いてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいフェ
ニル基又は保護されていてもよいアミノ基を表すか、あ
るいは互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに
置換されていてもよい複素環式基を形成していることを
表す。）で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に
許容し得る塩。
【請求項２】Ｒ¹及びＲ²が同一又は異なって水素原
子又は低級アルコキシ基である請求項１記載の化合物。
【請求項３】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、当該
窒素原子以外にさらに窒素原子、酸素原子及び硫黄原子
から選ばれるヘテロ原子を含有していてもよい単環式、
双環式又は三環式複素環式基である請求項１又は２記載
の化合物。
【請求項４】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、ピリ
ジル基、キノリル基、イソキノリル基、シクロペンタ
〔ｂ〕ピリジル基、ピロ〔２，３−ｂ〕ピリジル基、イ
ミダゾ〔４，５−ｂ〕ピリジル基、ピリド〔２，３−
ｄ〕チアゾリル基、ピリド〔２，３−ｄ〕オキサゾリル
基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、フタラジニ
ル基、キナゾリニル基、インドリル基、ピリダジニル
基、アゼピニル基、アゼチジル基、イソインドリル基、
ピロリル基、ベンゾアゼピニル基、フェナントリジニル
基、ベンゾチアジニル基、ベンゾイミダゾリニル基、ピ
ラジニル基又はモルホリノ基（これらの複素環式基は部
分的もしくは全て水素化されていてもよい）である請求
項３記載の化合物。
【請求項５】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される複素環式基に置換し
うる基が、（１）低級アルケニル基；（２）低級アルキ
ニル基；（３）低級アルキルチオ基；（４）シクロアル
キル基；（５）トリフルオロメチル基；（６）シアノ
基；（７）テトラゾリル基；（８）ホルミル基；（９）
アミノ基；（１０）モルホリノ基、モノシクロアルキル
基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピペリ
ジル基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が置換
されていてもよいモノ−もしくはジ−低級アルキルアミ
ノ基；（１１）ピリジル基；（１２）モルホリノ基；
（１３）低級アルキル基置換トリアゾリル基；（１４）
ビス（ヒドロキシ低級アルキル）アミノカルボニル基；
（１５）ビス（トリ低級アルキルシリルオキシ低級アル
キル）アミノカルボニル基；（１６）モルホリノカルボ
ニル基；（１７）低級アルキル基置換ピペラジニルカル
ボニル基；（１８）ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペ
ラジニルカルボニル基；（１９）トリ低級アルキルシリ
ルオキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニル
基；（２０）低級アルコキシカルボニル基；（２１）カ
ルボキシル基；（２２）モルホリノ基もしくはピリジル
基で置換されていてもよい低級アルキル基；（２３）ピ
ペリジル基、ピリジル基、水酸基又は低級アルコキシ基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基；（２４）オ
キソ基；（２５）水酸基；（２６）ピリミジニル基；
（２７）ジ低級アルキルアミノ基又はハロゲン原子で置
換されていてもよいフェニル基；（２８）ハロゲン原
子；（２９）ニトロ基；（３０）イミダゾリル基；及び
（３１）低級アルキレンジオキシ基から選ばれる１個も
しくは２個以上の同一又は異なる基である請求項１、
２、３又は４記載の化合物。
【請求項６】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される複素環式基が、少な
くともオキソ基で置換された複素環式基である請求項５
記載の化合物。
【請求項７】少なくともオキソ基で置換された複素環
式基が部分構造式【化２】を有する複素環式基である請求項６記載の化合物。
【請求項８】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよ
い複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロアル
キル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピ
ペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分が
置換されていてもよいモノ−もしくはジ−低級アルキル
アミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基
置換トリアゾリル基；ビス（ヒドロキシ低級アルキル）
アミノカルボニル基；ビス（トリ低級アルキルシリルオ
キシ低級アルキル）アミノカルボニル基；モルホリノカ
ルボニル基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニ
ル基；ヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニルカル
ボニル基；トリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル
基置換ピペラジニルカルボニル基；低級アルコキシカル
ボニル基；カルボキシル基；低級アルキル基；水酸基も
しくは低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級ア
ルコキシ基；及び水酸基から選ばれる基で置換されてい
てもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基（又
はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キ
ノキサリニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル
基；ピペリジル基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で
置換されていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基か
ら選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒ
ドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキ
ノリル基、（４）ピリジル基で置換されていてもよい低
級アルキル基；ピリミジニル基；低級アルコキシ基；ピ
リジル基；イミダゾリル基；ジ低級アルキルアミノ基又
はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基；及
び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ
基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）フタラジニル基、（５）ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、ピリジル基及びイ
ミダゾリル基から選ばれる基で置換されていてもよいオ
キソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロ（又はヘキサ
ヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基（又はヒドロキシ
基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル
基、（７）オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ヘキサヒ
ドロキノリル基、（８）オキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基（又はヒド
ロキシ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾア
ゼピニル基、（１０）ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イ
ソキノリル基、（１１）オキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾチアジニル
基、（１２）低級アルキル基及び／又はオキソ基で置換
されていてもよいオキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジ
ヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）
オキソ基（又はヒドロキシ基）置換ジヒドロベンゾイミ
ダゾリニル基、（１４）オキソ基（又はヒドロキシ基）
置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）低級アル
キル基で置換されていてもよいオキソ基（又はヒドロキ
シ基）置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基、
（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級
アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は
（１８）モルホリノ基である請求項５記載の化合物。
【請求項９】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して隣
接する窒素原子とともに形成される置換されていてもよ
い複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテ
トラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）オキソ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノキサリニル基、
（３）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソ
キノリル基、（４）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラ
ヒドロ）フタラジニル基、（５）オキソ基置換ジヒドロ
（又はヘキサヒドロ）ピリジル基、（６）オキソ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ナフチリジニル基、
（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オ
キソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ベンゾアゼピニル基、
（１０）ジヒドロ（又はテトラヒドロ）イソキノリル
基、（１１）オキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒド
ロ）ベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキ
ソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オ
キソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オ
キソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）ピロリル基、
（１６）ヘキサヒドロキシピラジニル基、（１７）低級
アルキレンジオキシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は
（１８）モルホリノ基である請求項８記載の化合物。
【請求項１０】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）オキソ基置換ジヒドロ（又は
テトラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラ
ヒドロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキ
サリニル基、（３）オキソ基置換ジヒドロイソキノリル
基、（４）オキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、
（５）オキソ基置換ジヒドロ（又はヘキサヒドロ）ピリ
ジル基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル
基、（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、
（８）オキソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキ
ソ基置換ジヒドロベンゾアゼピニル基、（１０）テトラ
ヒドロイソキノリル基、（１１）オキソ基置換テトラヒ
ドロベンゾチアジニル基、（１２）オキソ基置換ジヒド
ロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１３）オキ
ソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基、（１４）オ
キソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基、（１５）オ
キソ基置換テトラヒドロピロリル基、（１６）ヘキサヒ
ドロキシピペラジニル基、（１７）低級アルキレンジオ
キシ基置換ヘキサヒドロピリジル基又は（１８）モルホ
リノ基である請求項９記載の化合物。
【請求項１１】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロア
ルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基、
ピペリジノ基又はピロリジニル基で低級アルキル基部分
が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミ
ノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換
トリアゾリル基；低級アルキル基置換ピペラジニルカル
ボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルキル
基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置
換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基で
置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテト
ラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒド
ロキノリル基、（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリ
ニル基、（３）モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペ
リジル基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換され
ていてもよい低級アルコキシ基；及び水酸基から選ばれ
る基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソ
キノリル基、（４）ピリジル基置換低級アルキル基；ピ
リミジニル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダ
ゾリル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基
から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロフタラジニル基、（５）低級アルキル基；低級ア
ルコキシ基；ピリジル基；及びイミダゾリル基から選ば
れる基で置換されているオキソ基置換ジヒドロピリジル
基、（６）オキソ基置換ジヒドロナフチリジニル基、
（７）オキソ基置換ヘキサヒドロキノリル基、（８）オ
キソ基置換ジヒドロインドリル基、（９）オキソ基置換
テトラヒドロベンゾチアジニル基、（１０）低級アルキ
ル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換
ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基、（１
１）オキソ基置換ジヒドロベンゾイミダゾリニル基又は
（１２）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニル基で
ある請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、
イミダゾリル基、ピペリジノ基又はピロリジニル基で低
級アルキル基部分が置換されているモノ−もしくはジ−
低級アルキルアミノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低
級アルキル基置換トリアゾリル基；低級アルキル基；及
び水酸基もしくは低級アルコキシ基で置換されていても
よい低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されていて
もよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キノ
リル基又はヒドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、
（２）オキソ基置換ジヒドロキノキサリニル基、（３）
モルホリノ基置換低級アルキル基；ピペリジル基もしく
は低級アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ
基；及び水酸基から選ばれる基で置換されていてもよい
オキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（４）ピリジル
基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、
イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で
置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニ
ル基、（５）低級アルキル基、低級アルコキシ基、ピリ
ジル基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されて
いるオキソ基置換ジヒドロピリジル基、（６）オキソ基
置換テトラヒドロベンゾチアジニル基又は（７）低級ア
ルキル基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基
置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基であ
る請求項１０記載の化合物。
【請求項１３】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、
イミダゾリル基又はピペリジノ基で低級アルキル基部分
が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミ
ノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換
トリアゾリル基；及び低級アルコキシ基又は水酸基で置
換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換さ
れていてもよいオキソ基置換ジヒドロキノリル基又はヒ
ドロキシ基置換テトラヒドロキノリル基、（２）モルホ
リノ基置換低級アルキル基；ピペリジノ基もしくは低級
アルコキシ基で置換されている低級アルコキシ基；及び
水酸基から選ばれる基で置換されていてもよいオキソ基
置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基置換低
級アルキル基、ピリミジニル基、ピリジル基、イミダゾ
リル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基で置換され
ていてもよいオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基、
（４）低級アルキル基、低級アルコキシ基、ピリジル基
及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されているオ
キソ基置換ジヒドロピリジル基又は（５）低級アルキル
基及びオキソ基で置換されていてもよいオキソ基置換ジ
ヒドロ（又はテトラヒドロ）キナゾリニル基である請求
項１２記載の化合物。
【請求項１４】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、ピリジル基、
イミダゾリル基又はピペリジノ基で低級アルキル基部分
が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキルアミ
ノ基；ピリジル基；モルホリノ基；低級アルキル基置換
トリアゾリル基；及び低級アルコキシ基又は水酸基で置
換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換さ
れていてもよいオキソ基置換ジヒドロキノリル基、
（２）モルホリノ基置換低級アルキル基及びピペリジル
基置換低級アルコキシ基から選ばれる基で置換されてい
てもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）
ピリジル基置換低級アルキル基、ピリミジニル基、ピリ
ジル基、イミダゾリル基及び低級アルコキシ基から選ば
れる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロフ
タラジニル基又は（４）低級アルキル基、低級アルコキ
シ基及びイミダゾリル基から選ばれる基で置換されてい
るオキソ基置換ジヒドロピリジル基である請求項１３記
載の化合物。
【請求項１５】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、モノシクロア
ルキル基置換アミノ基、ピリジル基、イミダゾリル基又
はピペリジノ基で低級アルキル基部分が置換されている
モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；ピリジル
基；モルホリノ基；低級アルキル基置換ピペラジニルカ
ルボニル基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルキ
ル基；水酸基；及び水酸基もしくは低級アルコキシ基で
置換されていてもよい低級アルコキシ基から選ばれる基
で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテ
トラヒドロ）キノリル基又はヒドロキシ基置換テトラヒ
ドロキノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル
基；ピペリジノ基、ピリジル基又は低級アルコキシ基で
置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置換
されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル
基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；ピリミジニ
ル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；イミダゾリル
基；及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選
ばれる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ
フタラジニル基、（４）ピリジル基で置換されているオ
キソ基置換ジヒドロピリジル基、（５）オキソ基置換ジ
ヒドロナフチリジニル基、（６）オキソ基置換ヘキサヒ
ドロキノリル基、（７）オキソ基置換ジヒドロインドリ
ル基、（８）オキソ基置換テトラヒドロベンゾチアジニ
ル基、（９）低級アルキル基及びオキソ基で置換されて
いてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）
キナゾリニル基、（１０）オキソ基置換ジヒドロベンゾ
イミダゾリニル基又は（１１）オキソ基置換ジヒドロフ
ェナントリジニル基である請求項１１記載の化合物。
【請求項１６】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル
基又はピリジル基で低級アルキル基部分が置換されてい
るモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリ
ノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換されて
いてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）
キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；
ピリジル基又は低級アルコキシ基で置換されている低級
アルコキシ基から選ばれる基で置換されていてもよいオ
キソ基置換ジヒドロイソキノリル基、（３）ピリジル基
置換低級アルキル基；低級アルコキシ基；ピリジル基；
及びジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基から選ばれ
る基で置換されているオキソ基置換ジヒドロフタラジニ
ル基又は（４）オキソ基置換ジヒドロフェナントリジニ
ル基である請求項１５記載の化合物。
【請求項１７】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）ピリジル基で低級アルキル基
部分が置換されているモノ−もしくはジ−低級アルキル
アミノ基；モルホリノ基；及び低級アルキル基から選ば
れる基で置換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロ
（又はテトラヒドロ）キノリル基、（２）モルホリノ基
置換低級アルキル基；ピリジル基又は低級アルコキシ基
で置換されている低級アルコキシ基から選ばれる基で置
換されていてもよいオキソ基置換ジヒドロイソキノリル
基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アルコ
キシ基；ピリジル基；及びジ低級アルキルアミノ基置換
フェニル基から選ばれる基で置換されているオキソ基置
換ジヒドロフタラジニル基又は（４）オキソ基置換ジヒ
ドロフェナントリジニル基である請求項１６記載の化合
物。
【請求項１８】Ｒ⁵及びＲ⁶が互いに末端で結合して
隣接する窒素原子とともに形成される置換されていても
よい複素環式基が、（１）モルホリノ基、イミダゾリル
基又はピリジル基で低級アルキル基部分が置換されてい
るモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ基；モルホリ
ノ基；及び低級アルキル基から選ばれる基で置換されて
いてもよいオキソ基置換ジヒドロ（又はテトラヒドロ）
キノリル基、（２）モルホリノ基置換低級アルキル基；
及び低級アルコキシ基置換低級アルコキシ基から選ばれ
る基で置換されているオキソ基置換ジヒドロイソキノリ
ル基、（３）ピリジル基置換低級アルキル基；低級アル
コキシ基；及びピリジル基から選ばれる基で置換されて
いるオキソ基置換ジヒドロフタラジニル基である請求項
１０記載の化合物。
【請求項１９】Ｒ¹及びＲ²が同一又は異なって保護
された水酸基、Ｒ³及びＲ⁴が水酸基置換メチル基であ
る請求項１、３、４、５、６、７、１１、１５、１６、
１７又は１８記載の化合物。
【請求項２０】保護された水酸基が低級アルキル基で
保護された水酸基である請求項１９記載の化合物。
【請求項２１】１−〔２−（２−オキソ−１，２−ジ
ヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−２，３
−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフ
タレン、１−｛２−〔２−オキソ−４−（２−ピペリジ
ノエチル）アミノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イ
ル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔２
−オキソ−４−（４−ピリジル）−１，２−ジヒドロキ
ノリン−１−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレ
ン、１−〔２−（２−オキソ−３−モルホリノ−１，２
−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピリジル〕−
２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメトキ
シナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１
（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジメト
キシナフタレン、１−｛２−〔４−（３−ピリジルメチ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレン、１−｛２−〔６，７−ジメト
キシ−４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジノ
ン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒド
ロキシメチル）−６，７−ジメトキシナフタレン、１−
｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラジ
ノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス（ヒ
ドロキシメチル）−６，７−ジエトキシナフタレン、１
−｛２−〔４−（３−ピリジル）−１（２Ｈ）−フタラ
ジノン−２−イル〕−４−ピリジル｝−２，３−ビス
（ヒドロキシメチル）−６−メトキシ−７−エトキシナ
フタレン又はそれらの薬理的に許容しうる塩。
【請求項２２】１−〔２−（２−オキソ−３−モルホ
リノ−１，２−ジヒドロキノリン−１−イル）−４−ピ
リジル〕−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる
塩。
【請求項２３】１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−
１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
メトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩。
【請求項２４】１−｛２−〔４−（３−ピリジルメチ
ル）−１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピ
リジル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７
−ジメトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる
塩。
【請求項２５】１−｛２−〔４−（３−ピリジル）−
１（２Ｈ）−フタラジノン−２−イル〕−４−ピリジ
ル｝−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−６，７−ジ
エトキシナフタレン又はその薬理的に許容しうる塩。
【請求項２６】一般式〔ＩＩ〕【化３】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって水素原子又
は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³¹及びＲ⁴¹
はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチ
ル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されて
いてもよい水酸基置換メチル基であることを表し、Ｘは
ハロゲン原子を表す。）で示される化合物と一般式〔Ｉ
ＩＩ〕【化４】（但し、Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は異なって、水素原子、
置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていて
もよいフェニル基又は保護されていてもよいアミノ基を
表すか、あるいは互いに末端で結合して隣接する窒素原
子とともに置換されていてもよい複素環式基を形成して
いることを表す。）で示される含窒素化合物とを反応さ
せ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であり、Ｒ
³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル基であ
る場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類に応
じ、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要すれ
ば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２位及
び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護し、さ
らに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒドロキシ
メチル部位を保護し、さらに要すれば生成物をその薬理
的に許容し得る塩とすることを特徴とする一般式〔Ｉ〕【化５】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基、Ｒ³及びＲ⁴はいずれか
一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方
が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい
水酸基置換メチル基であることを表し、他の記号は前記
と同一意味を有する。）で示されるナフタレン誘導体又
はその薬理的に許容し得る塩の製法。
【請求項２７】一般式〔ＩＶ〕【化６】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって水素原子又
は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³¹及びＲ⁴¹はいずれ
か一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他
方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよ
い水酸基置換メチル基を表す。）で示される化合物と一
般式〔Ｖ〕【化７】（但し、Ｒ⁵²及びＲ⁶²は互いに末端で結合して隣接する
窒素原子とともに少なくともハロゲン原子で置換された
複素環式基を形成していることを表す。）で示されるハ
ロゲノ含窒素化合物とを反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹
が保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護
された水酸基置換メチル基である場合は、所望により当
該水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるいは選択的に
当該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒ
ドロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシ
メチル部位を再び保護し、さらに要すれば生成物をその
薬理的に許容し得る塩とすることを特徴とする一般式【化８】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基、Ｒ³及びＲ⁴はいずれか
一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方
が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい
水酸基置換メチル基であることを表し、Ｒ⁵¹及びＲ⁶¹は
互いに末端で結合して隣接する窒素原子とともに少なく
ともオキソ基で置換された複素環式基を形成しているこ
とを表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示
されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容し得る塩
の製法。
【請求項２８】一般式〔ＶＩ〕【化９】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって水素原子又
は保護されていてもよい水酸基、Ｒ⁵³及びＲ⁶³は同一又
は異なって、水素原子、置換されていてもよい低級アル
キル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護され
ていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で
結合して隣接する窒素原子とともに還元反応に安定な置
換されていてもよい複素環式基を形成していることを表
し、Ｒ⁷及びＲ⁸はいずれか一方が遊離の又はエステル
化されたカルボキシル基、他方が、水素原子、低級アル
キル基、あるいは遊離の又はエステル化されたカルボキ
シル基であることを表す。）で示される化合物又はその
分子内酸無水物を還元反応に付し、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹
が保護された水酸基である場合は、所望により当該保護
基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ
部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメチル部
位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位
あるいはヒドロキシメチル部位を保護し、さらに要すれ
ば生成物をその薬理的に許容し得る塩とすることを特徴
とする一般式【化１０】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基、Ｒ³及びＲ⁴はいずれか
一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他方
が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよい
水酸基置換メチル基であることを表し、他の記号は前記
と同一意味を有する。）で示されるナフタレン誘導体又
はその薬理的に許容し得る塩の製法。
【請求項２９】一般式〔Ｉ−ｂ〕【化１１】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって水素原子又
は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³¹及びＲ⁴¹
はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチ
ル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されて
いてもよい水酸基置換メチル基であることを表す。）で
示される化合物又はその塩と一般式〔ＶＩＩ〕【化１２】（但し、Ｒ⁹¹、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異なって水素原
子、水酸基、低級アルコシキシ基、ピリジル基で置換さ
れていてもよい低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ
基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル
基、ピリジル基、ピリミジニル基又はイミダゾリル基を
表す。）で示されるカルボン酸誘導体又はその塩とを反
応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が保護された水酸基であ
り、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護された水酸基置換メチル
基である場合は、所望により当該水酸基の保護基の種類
に応じ、全てあるいは選択的に当該保護基を除去し、要
すれば６位及び／又は７位のヒドロキシ部位あるいは２
位及び／又は３位のヒドロキシメチル部位を再び保護
し、さらに要すれば全てのヒドロキシ部位あるいはヒド
ロキシメチル部位を保護し、さらに要すれば生成物をそ
の薬理的に許容しうる塩とすることを特徴とする一般式
〔Ｉ−ａ〕【化１３】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³及びＲ⁴はい
ずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル
基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されてい
てもよい水酸基置換メチル基であることを表し、他の記
号は前記と同一意味を有する。）で示されるナフタレン
誘導体又はその薬理的に許容しうる塩の製法。
【請求項３０】一般式〔Ｉ−ｂ〕【化１４】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって水素原子又
は保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³¹及びＲ⁴¹
はいずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチ
ル基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されて
いてもよい水酸基置換メチル基であることを表す。）で
示される化合物又はその塩と一般式〔ＶＩＩＩ〕【化１５】（但し、Ｒ⁹²及びＲ⁹³は同一又は異なって水素原子、水
酸基、低級アルコシキシ基、ピリジル基で置換されてい
てもよい低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ基又は
ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、ピリ
ジル基、ピリミジニル基又はイミダゾリル基を表す。）
で示される酸無水物と反応させ、Ｒ¹¹及び／又はＲ²¹が
保護された水酸基であり、Ｒ³¹及び／又はＲ⁴¹が保護さ
れた水酸基置換メチル基である場合は、所望により当該
水酸基の保護基の種類に応じ、全てあるいは選択的に当
該保護基を除去し、要すれば６位及び／又は７位のヒド
ロキシ部位あるいは２位及び／又は３位のヒドロキシメ
チル部位を再び保護し、さらに要すれば全てのヒドロキ
シ部位あるいはヒドロキシメチル部位を保護し、さらに
要すれば生成物をその薬理的に許容しうる塩とすること
を特徴とする一般式〔Ｉ−ａ’〕【化１６】（但し、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって水素原子又は
保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ³及びＲ⁴はい
ずれか一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル
基、他方が水素原子、低級アルキル基又は保護されてい
てもよい水酸基置換メチル基であることを表し、他の記
号は前記と同一意味を有する。）で示されるナフタレン
誘導体又はその薬理的に許容しうる塩の製法。
【請求項３１】一般式〔ＩＩ〕【化１７】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって水素原子又
は保護されていてもよい水酸基、Ｒ³¹及びＲ⁴¹はいずれ
か一方が保護されていてもよい水酸基置換メチル基、他
方が水素原子、低級アルキル基又は保護されていてもよ
い水酸基置換メチル基であることを表し、Ｘはハロゲン
原子を表す。）で示される化合物。
【請求項３２】一般式〔ＶＩ〕【化１８】（但し、Ｒ¹¹及びＲ²¹は同一又は異なって水素原子又
は保護されていてもよい水酸基、Ｒ⁵³及びＲ⁶³は同一又
は異なって、水素原子、置換されていてもよい低級アル
キル基、置換されていてもよいフェニル基又は保護され
ていてもよいアミノ基を表すか、あるいは互いに末端で
結合して隣接する窒素原子とともに還元反応に安定な置
換されていてもよい複素環式基を形成していることを表
し、Ｒ⁷及びＲ⁸はいずれか一方が遊離の又はエステル
化されたカルボキシル基、他方が、水素原子、低級アル
キル基、あるいは遊離の又はエステル化されたカルボキ
シル基であることを表す。）で示される化合物又はその
分子内酸無水物。