JPH09507685A - 3,4−エポキシ−1−ブテンから誘導されるポリエーテルグリコール及びアルコール - Google Patents

3,4−エポキシ−1−ブテンから誘導されるポリエーテルグリコール及びアルコール

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JPH09507685A JP7519176A JP51917695A JPH09507685A JP H09507685 A JPH09507685 A JP H09507685A JP 7519176 A JP7519176 A JP 7519176A JP 51917695 A JP51917695 A JP 51917695A JP H09507685 A JPH09507685 A JP H09507685A
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Abstract

(57)【要約】 酸性触媒及び求核性開始剤化合物の存在下における3,4−エポキシ−1−ブテンの反応または重合によって得られる新規ポリエーテル化合物が開示される。このポリエーテル化合物は、n単位の残基(1)及びm単位の残基(2)を含み、n+mの合計値は2〜70であり、n/(n+m)は0.70〜0.95の範囲の値であり、且つ残基(1)及び(2)は構造:

Description

【発明の詳細な説明】 3,4−エポキシ−1−ブテンから誘導されるポリエーテルグリコール及びアル コール 本発明は、ある種の新規ポリエーテル化合物に関する。さらに詳しくは、本発 明は構造: の反復単位を含むポリエーテルグリコール及びアルコールに関する。本発明はま た、酸性触媒及びヒドロキシル開始剤化合物の存在下における3,4−エポキシ −1−ブテンの重合によるポリエーテル化合物の製造方法に関する。 P.D.Bartlettら、J.Am.Chem.Soc.,70,926(1948)は、硫酸を触媒とす る3,4−エポキシ−1−ブテンのメタノリシスによる、1−ヒドロキシ−2− メトキシ−3−ブテンの製造を開示している。A.M.Rossら、J.Am.Chem.Soc .,104,1658(1982)は、酸を触媒とする3,4−エポキシ−1−ブテンの加水 分解による3,4−ジヒドロキシ−1−ブテンと1,4−ジヒドロキシ−2−ブ テンとの96/4の比の混合物の製造を開示している。残基(1)及び(2)を含 むポリマーは、前に引用した先行技術によっては予想されておらず、例示された 反応は求核試薬を使用するものである。 3,4−エポキシ−1−ブテンの重合及び共重合は公知である。例えば、米国 特許第2,680,109 号は、塩化第二錫及び少量の水の存在下における、3,4−エ ポキシ−1−ブテンを含む不飽和1,2−エポキシドの重合を開示している。英 国特許第869,112 号ならび に米国特許第3,031,439 号及び第3,417,064 号は、少量の水を含む炭酸ストロン チウムを触媒として用いた、3,4−エポキシ−1−ブテンとエチレンオキシド 及びプロピレンオキシドとの共重合を開示している。 米国特許第3,158,705 号、第3,158,581 号及び第3,158,591 号は、水と予備反 応させたトリアルキルアルミニウム化合物を触媒として用いる3,4−エポキシ −1−ブテンの重合による、残基(1)のみから成るポリエーテルの製造を開示 している。これらの特許はまた、水と予備反応させたトリアルキルアルミニウム 化合物を触媒として使用する、3,4−エポキシ−1−ブテンとエチレンオキシ ド、プロピレンオキシド及びエピクロロヒドリンとの共重合を開示している。米 国特許第3,509,118 号は、水と予備反応させたトリエチルアルミニウムを用いる ベンゼン中における3,4−エポキシ−1−ブテンの重合によって得られた高分 子量ポリエーテルのn−ブチルリチウム分解によって得られる、残基(1)のみ を含む不飽和ポリエーテルグリコールの製造を開示している。 米国特許第3,133,905 号は、開始剤としてエチレングリコール及び触媒として 固体水酸化ナトリウムを使用して加圧レジンポット中で少量の3,4−エポキシ −1−ブテンと酸化エチレンとを共重合させることを開示している。米国特許第 3,133,905 号はまた、触媒として三フッ化ホウ素を用いて少量の3,4−エポキ シ−1−ブテンとテトラヒドロフランとを共重合させることを開示しているが、 使用可能な3,4−エポキシ−1−ブテンのうち約2/3だけしかコポリエーテ ル中に取り込まれず、反復単位構造については開示されていない。S.S.Invach evら、J.Polym.Sci.,Polym.Chem.Ed.,18,2051〜2059(1980)は、三フッ 化ホウ素エーテル錯化合物による3,4−エポキシ−1−ブテンのホモ重合を研 究している。 彼らは、停止反応速度が連鎖生長反応速度よりもはるかに速いため、3,4−エ ポキシ−1−ブテンの多くが未反応のまま残されることを開示している。この化 学反応についての本発明者らの研究はこの結果、すなわち、熱的に不安定な白色 物質が低収率で得られ、且つ物質のクロロホルム可溶性部分は残基(1)のみを 含むことを裏付ける。米国特許第3,468,847 号は、触媒としてフッ化セシウムを 用いる、3,4−エポキシ−1−ブテン、ヘキサフルオロアセトン、酸化エチレ ン及び酸化プロピレンの共重合を開示している。 ツルタら、Macromol.Chem.,111,236〜246(1968)は、水と予備反応させた ジエチル亜鉛は3,4−エポキシ−1−ブテンを重合させて、残基(1)のみを 含む高分子量ポリエーテルを収率54%で生成することを開示している。ツルタら はまた、3,4−エポキシ−1−ブテンと触媒としての錯化されていないジエチ ル亜鉛から、赤外線分光法によって内部二重結合[残基(2)]の証拠があるポ リエーテルを収率3%で単離できることを開示している。この化学反応について の我々の研究では、単離可能なポリマーは得られなかった。 米国特許第2,570,601 号は、3,4−エポキシ−1−ブテンの熱重合によって 黄色の硬質樹脂と少量の粘稠な黄色油が得られることを開示している。米国特許 第2,570,601 号はまた、3,4−エポキシ−1−ブテンとα−メチルスチレンと の熱共重合によって脆い、透明な琥珀色の熱可塑性樹脂が得られることを開示し ている。米国特許第2,582,708 号は3,4−エポキシ−1−ブテンと無水マレイ ン酸とのラジカル開始共重合を開示している。米国特許第2,720,530 号は、過剰 のn−ブチルアルデヒド及びベンゾイルペルオキシドによって開始される3,4 −エポキシ−1−ブテンのビニル重合によって形成された残基(2)のみを含む 不飽和ポリエーテルの残基 を開示している。米国特許第5,013,806 号、第5,071,930 号及び第5,071,931 号 は、ラジカル開始による3,4−エポキシ−1−ブテンと無水マレイン酸との交 互コポリマーの製造を開示しており、このコポリマーは、無水マレイン酸由来の ジラジカルと交互になっている残基(1)及び(2)を含む。 一連の論文[P.Kubisa,Makromol.Chem.,Macromol Symp.,13/14,203(198 8); K.Brzezinska,et al.,Makromol.Chem.,Rapid Commun.,7,1(1986); M .Bednarek,et al.,Makromol.Chem.,Suppl.,15,49(1989); T.Biedron,e t al.,Makromol.Chem.,Macromol.Symp.,32,155(1990)]は、アルコールの 存在下におけるオキシランのカチオン重合の進行は、ヒドロキシル基を末端基と する、生長しつつある高分子にプロトン化モノマーを添加することによって連鎖 生長反応が進行する活性化モノマーメカニズムによると教示している。この方法 は、酸化エチレン、酸化プロピレン及びエピクロロヒドリンの重合に有用であり 、分子量の調節に優れ、環状オリゴマーの形成が減少していることがわかった。 これらの論文は、これらの条件下で酸化プロピレンを重合した場合には、得られ るポリエーテルグリコールは第一ヒドロキシル末端基と第二ヒドロキシル末端基 を各々45〜55の比率で含むことを開示している。これらの論文は、開示した活性 化モノマー重合条件を3,4−エポキシ−1−ブテンに適用することによって、 ほとんどが(全てでないとしても)第一ヒドロキシル末端基である、残基(1) 及び(2)を含むコポリマーが得られるとは開示していない。 先行技術はいずれも、以下により詳細に説明する本発明者らの新規ポリエーテ ル化合物またはこの新規ポリエーテル化合物の製造方法を開示していない。本発 明によって提供されるポリエーテル化合物は、n単位の残基(1)及びm単位の 残基(2)からなり、n+ mの合計値は2〜70であり、n/(n+m)は0.70−0.95の値であり、すなわち 、残基(1)は残基(1)及び(2)の総モルの70〜95モル%を占め、残基(1 )及び(2)は構造 を有する。このポリエーテル化合物は、界面活性剤及び公知のポリエーテルポリ マーから得られる組成物に類似した他の組成物の製造または配合に使用できる。 前記ポリエーテル化合物の製造に使用した方法は、新規であると確信できる。 この方法は、触媒量のある種の酸性化合物とヒドロキシル開始剤化合物の存在下 において3,4−エポキシ−1−ブテンを重合させて、前記パラグラフに記載し たポリエーテル化合物を生成することを含んでなる。開始剤化合物は、PCT国際 公開出願 WO89/02883 に開示されたヒドロキシル化合物のような種々の求核試 薬から選択することができる。開始剤化合物は好ましくは、種々の有機ヒドロキ シル化合物、例えば、アルコール、ポリオール、すなわち、2〜6個のヒドロキ シル基を含むポリヒドロキシル化合物ならびにヒドロキシル基を末端基とするポ リマー、例えば、ヒドロキシルを末端基とするポリエーテル及びポリエステルポ リマーから選ばれる。アルコールを開始剤として使用する場合には、得られるポ リマー生成物は鎖の一端にヒドロキシル基(末端ヒドロキシル基)を有する、す なわち、ポリマーアルコールである。ポリマー鎖の他端はアルコール開始剤の残 基、例えば、式−O−R1−[式中、R1は炭素数20以下のアルコールの残基、好 ましくはアルキル基である]を有する残基を末端基とする。開始剤としてポリヒ ドロキシル化合物を用いる場合には、ポリマーは開始剤の少なくとも2個のヒ ドロキシル基から生長し、その後に得られるポリマーはポリヒドロキシルポリマ ーである。ポリヒドロキシ開始剤の残基は、式−O−R2−O−[式中、R2はポ リヒドロキシ開始剤の残基である]で表される。 適当なアルコールとしては、低分子量有機アルコール及びポリマーアルコール が挙げられ、それらは直鎖または分枝鎖脂肪族、脂環式または芳香族アルコール であることができる。第二または第三アルコールも使用できるが、第一アルコー ルが好ましい。いくつかの代表的に有用なアルコール開始剤としては、メチルア ルコール、エチルアルコール、n−ブチルアルコール、イソ−ブチルアルコール 、2−エチルヘキシルアルコール、n−デシルアルコール、ステアリルアルコー ル、セチルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、フェノール、 クレゾールなどが挙げられる。代表的に有用なグリコール開始剤としては、エチ レングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1, 2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1 ,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2,2 −ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペ ンタンジオール、2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオー ル、1,4−ジヒドロキシ−2−ブテン、3,4−ジヒドロキシ−1−ブテン、 ベンゼンジオール、例えば、ヒドロキノン及びレソルシノールなどが挙げられる 。代表的に有用なポリマーアルコール及びグリコールとしては、ポリエチレング リコール、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコ ール、ポリプロピレングリコールモノブチルエーテル、ポリ(テトラメチレンエ ーテル)グリコールなどが挙げられる。低分子量の、ヒドロキシル基を末端とす るポリエステ ルもまた、ヒドロキシル開始剤化合物として作用することができる。代表的に有 用なポリオールとしては、グリセロール、澱粉、スクロース、グリコール、ペン タエリトリトールなどが挙げられる。水もまた開始剤として使用できる。炭素数 2〜6のジオール、すなわち、R2が炭素数2〜6のアルキレンであるジオール は好ましい開始剤である。本発明の方法に使用できる酸性触媒は、強酸、例えば 、硫酸;過塩素酸;テトラフルオロホウ酸;強酸性イオン交換樹脂、例えば、ア ンバーリスト(Amberlyst)樹脂;ならびにフルオロスルホン酸、例えば、炭素 数6以下のペルフルオロアルカンスルホン酸、例えば、トリフルオロメタンスル ホン酸、フルオロスルホン酸及びペルフルオロスルホン酸ポリマー、例えば、ナ フィオン(Nafion)樹脂から選ばれる。強酸は一般に、3,4−エポキシ−1− ブテンと開始剤とを反応させることができるが、そのほとんどは活性が限られ、 低分子量生成物を形成する。最も有効な、従って、好ましい触媒はペルフルオロ アルカンスルホン酸、例えば、オリフルオロメタンスルホン酸、特に、C.G.Pr ocessing of Rockland,Delawareから入手できる60〜100 メッシュ(平均直径17 0〜250 ミクロンの粒子)に極低温で粉砕されたナフィオン NR-50ペルフルオロ スルホン酸酸性樹脂である。酸性触媒の使用量は、例えば、作業条件及び使用す る強酸の種類によってかなり変化しうる。この方法の回分操作においては、触媒 の使用量は、開始剤の当量に基づき 0.5〜1.5 モル%である。 前記重合反応は好ましくは溶媒、例えば、炭化水素、塩素化炭化水素などのよ うな不活性有機溶媒の存在下で実施する。このような溶媒の具体例としては、ベ ンゼン、トルエン、キシレン、ヘプタン、塩化メチレン、クロロホルムなどが挙 げられる。 本発明の方法は、開始剤、溶媒及び触媒の選択によって、0〜1 50℃の範囲の温度で実施できる。20〜60℃の温度が好ましい。反応圧力は本発明 の新規方法の重要部分ではないので、方法は代表的には、概ね大気圧で実施する 。ただし、大気圧よりやや高いか低い圧力も使用できる。 本発明の新規方法の実施においては、主要な反応体である3,4−エポキシ− 1−ブテンを酸性触媒、求核性開始剤化合物及び使用する任意の溶媒の混合物に 添加する。3,4−エポキシ−1−ブテンは、触媒と開始剤との混合物に一度に 添加してもよいし、あるいは好ましくは、徐々に、すなわち、段階的に区分して (increments)添加することもできる。3,4−エポキシ−1−ブテンモノマー を段階的に添加すると、ポリマーの分子量は段階的に増加するので、分子量の調 節は、モノマーの開始剤に対する化学量論によって容易に行える。種々の分子量 を得ることができるが、分子量は一般に、縮合ポリマー中間体として使用するた めには、分子量約 500〜3000のポリマーが得られるように調節する。反応熱を調 節し、生成物の分子量及び分子量分布を調節し且つ副反応を最小にするには、3 ,4−エポキシ−1−ブテンを徐々に添加するのが好ましい。重合反応は一般に かなり速く、3,4−エポキシ−1−ブテンの添加速度、温度及び触媒活性に応 じて、3,4−エポキシ−1−ブテンの添加直後にまたは添加完了後約16時間ま でに完了する。 前記の方法の説明から、本発明のポリエーテルポリマーは、3,4−エポキシ −1−ブテン残基の他に少量または多量の求核性開始剤化合物の残基を含むこと がわかる。たとえば、ポリマー開始剤、例えば、ヒドロキシルを末端基とするポ リオキシアルキレンポリマーを使用し且つ3,4−エポキシ−1−ブテン残基の 反復単位の数が比較的小さい場合には、ポリマー中の3,4−エポキシ−1−ブ テン残基含有率は10重量%未満である。他方、使用開始剤がメタノ ール、エチレングリコールまたは水のような低分子量化合物である場合には、3 ,4−エポキシ−1−ブテン残基がポリマー中に占める割合の99重量%より大き い。ポリマーは代表的には、3,4−エポキシ−1−ブテン残基を少なくとも80 重量%、好ましくは少なくとも90重量%含む。開始剤化合物の残基は代表的には ポリエーテルポリマーの総重量の少なくとも1重量%(水が開始剤である場合に は少なくとも 0.5重量%)を占める。 本発明の新規ポリエーテルポリマーは好ましくは、n単位の残基(1)及びm 単位の残基(2)を含み、n+mの合計値は7〜50であり、n/(n+m)は0. 70〜0.95である。ポリマーはさらに、末端ヒドロキシル基の少なくとも95%が第 一(第二ではなく)ヒドロキシル基であることを特徴とする。本発明のポリエー テルの NMR分析では、第二末端ヒドロキシル基は検出されていない。第一ヒドロ キシル基(従って、ポリマー)は、一般に縮合重合反応に対してより反応性であ る。ポリエーテルポリマーは通常、4未満、好ましくは1〜2.5 の多分散度(po lydispersity)値を有する。n+mの合計値が10〜30であるポリエーテルポリマ ーが特に好ましい。好ましいポリエーテルは、ポリエーテルポリマーの重量に基 づき5〜20重量%のヒドロキシル開始剤残基、好ましくは式−O−R2−O−[ 式中、R2は炭素数2〜6のアルキレンである]を有する残基を含む。 本発明の新規ポリエーテルポリマーの製造及び方法の実施をさらに以下の実施 例によって説明する。300又は400MHzの NMRスペクトロメーターで、内部標準と してテトラメチルシランを含むジュウテリウム置換クロロホルムまたはジュウテ リウム置換アセトン中に溶解したサンプルを用いて、NMRスペクトルを得る。残 基(1)と(2)、 すなわち、 の積分プロトン NMR吸収の比較によって、n/(n+m)の値を求める。報告し た全ての値は添加した3,4−エポキシ−1−ブテンモノマー単位のみに関する ものであり、従って、開始剤フラグメントは除いてある。 絶対分子量分布を、10μmのPLゲル混合ベッドカラムを用いた、テトラヒドロ フラン中における粘度測定法検知による寸法除外(size-exclusion)クロマトグ ラフィー(SEC)を用いて測定した。粘度のデータと、分子量分布の狭いポリスチ レン標準から作成した普遍検量線(universal calibration curve)を用いて、 絶対分子量を計算した。n+mの値は、SECによって測定した数平均分子量から 求める。ヒドロキシル価はサンプルと無水酢酸との反応によって形成された酢酸 の滴定から求める。 実施例例1 熱電対、機械的攪拌機及びアルゴン入り口を有する隔壁(septum)を装着した 、アルゴン雰囲気を有する 300mLの3つ口丸底フラスコに、塩化メチレン(80mL ),1,4−ブタンジオール(3.62g,40.0ミリモル)及び3滴のトリフルオロ メタンスルホン酸を装入する。攪拌を始め、水と氷からなる温度0〜5℃の冷却 浴で反応フラスコを冷却する。シリンジポンプによって3,4−エポキシ−1− ブテン(40mL,500ミリモル)を9mL/時の速度で滴加する。3,4−エポキシ −1−ブテンの添加終了後、冷却浴を取り除き、反応溶 液を室温まで暖めさせる。固体酸化カルシウム(約1g)を添加し、混合物を数 時間攪拌して酸を中和する。次いで、混合物を濾過し、濾液を蒸発させて、無色 透明の油35gを得る。これは、n+m値が約17及びn/(n+m)値が0.85;Mn =1270及びMw/Mn=1.94;ならびにヒドロキシル価=100.5 である。例2 溶媒の不存在下で、冷却水で冷却し且つ必要に応じて少量の氷を添加すること によって20〜30℃の反応温度において、例1に記載した方法を繰り返す。得られ た無色透明な油は、n+m値が約18,n/(n+m)値が0.86;Mn=1305及びMw /Mn=2.00;ならびにヒドロキシル価=97.18 である。この生成物の NMR分析で は、第二ヒドロキシル基の証拠は示されない。例3 熱電対、機械的攪拌機、隔壁及びアルゴン入り口を有する還流冷却器を装着し た、アルゴン雰囲気を有する1Lの3つ口丸底フラスコに、1,4−ブタンジオ ール(21.6g,0.240 モル)及びトリフルオロメタンスルホン酸10滴を 250mLの 塩化メチレンに溶解したものを、装入する。攪拌しながら、液体ポンプによって 3,4−エポキシ−1−ブテン(471g,6.72モル)を60g/時の速度で滴加す る。溶媒を緩やかに還流しながら、温度は最初に約42℃まで上昇し、そして上昇 を続けて、3,4−エポキシ−1−ブテンの添加が終わる頃には58℃に達する。 添加完了後、反応溶液を1時間冷却及び攪拌させる。反応混合物を水で2回洗浄 し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、そして蒸発させて、淡黄色油 468gを得る。これは、n+m値が約29及びn/(n+m)値が約0.83;Mn=21 00及びMw/Mn=2.64;ならびにヒドロキシル価=46.09 である。例4 トルエン10ml中に1,4−ブタンジオール(0.90g,0.010 モル)及びトリフ ルオロメタンスルホン酸1滴を溶解したものを、還流冷却器を装着した、窒素雰 囲気を有する反応フラスコに装入する。攪拌しながら、反応溶液を油浴によって 100℃まで加熱する。シリンジポンプによって3,4−エポキシ−1−ブテン(9 .1g,0.13モル)を0.15mL/分の速度で滴加する。添加の完了後、反応溶液を15 分間冷却及び攪拌させる。反応混合物を水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウム 上で乾燥させ、濾過し、そして蒸発させて、黒色油 8.0gを得る。これは、n+ m値が約14及びn/(n+m)値が約0.74;Mn=950 及びMw/Mn=2.16;ならび にヒドロキシル価=95.0である。例5 塩化メチレン10mL中に3,4−ジヒドロキシ−1−ブテン(0.88g,0.010 モ ル)及びトリフルオロメタンスルホン酸1滴を溶解したものを、窒素雰囲気と18 ℃の冷水冷却浴を有する反応フラスコに装入する。攪拌しながら、シリンジポン プによって3,4−エポキシ−1−ブテン(9.1g,0.13モル)を0.15mL/分の 速度で滴加する。滴加の完了後、反応溶液を15分間冷却及び攪拌させる。反応混 合物を5%炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水炭酸ナトリウム上で乾燥させ、 濾過し、そして蒸発させて、無色透明の油を 8.6g得る。これは、n+m値約14 及びn/(n+m)値約0.87;Mn=1400;ならびにMw/Mn=1.68である。このポ リエーテル生成物のJ−分解(resolved)NMR 及び13C NMR分析から、第二ヒド ロキシル基が検出されないので、末端ヒドロキシル基はほとんど全て、第一ヒド ロキシル基であることがわかる。例6 開始剤として1,4−ブタンジオールの代わりに水0.18g(0.010 モル)を用いて例5に記載した方法を繰り返して、無色透明の油 8.6gを生成す る。これは、n+m値約15及びn/(n+m)値約0.86;Mn=1320;ならびにMw /Mn=1.51である。このポリエーテル生成物のJ−分解 NMR及び13C NMR分析か ら、第二ヒドロキシル基が検出されないので、末端ヒドロキシル基はほとんど全 て、第一ヒドロキシル基であることがわかる。 本発明を、特にその好ましい実施態様に関して詳述したが、本発明の精神及び 範囲内において変更及び修正を行えることを理解されたい。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.n単位の残基(1)及びm単位の残基(2)を含んでなるポリエーテルポ リマーであって、n+mの合計値が2〜70であり、n/(n+m)が0.70〜0.95 の範囲の値であり、且つ残基(1)及び(2)が構造: を有するポリエーテルポリマー。 2.末端ヒドロキシル基の少なくとも95%が第一ヒドロキシル基であり且つポ リマーが4未満の多分散度値を有する請求の範囲第1項に記載のポリマー。 3.n単位の残基(1)及びm単位の残基(2)を含んでなるポリエーテルポ リマーであって、n+mの合計値が7〜50であり、n/(n+m)が0.70−0.95 の範囲の値であり、且つ残基(1)及び(2)が構造: を有し、残基(1)及び(2)がポリマーの少なくとも80重量%を占めるポリエ ーテルポリマー。 4.末端ヒドロキシル基の少なくとも95%が第一ヒドロキシル基であり且つポ リマーが1〜2.5 の多分散度値を有する請求の範囲第3項に記載のポリマー。 5.n単位の残基(1)及びm単位の残基(2)を含んでなるポリエーテルポ リマーであって、(i)n+mの合計値が10〜30であ り、且つn/(n+m)が0.70〜0.95の範囲の値であり;(ii)残基(1)及び (2)がポリマーの少なくとも80重量%を占め;(iii)末端ヒドロキシル基の 少なくとも95%が第一ヒドロキシル基であり;(iv)ポリマーが1〜2.5 の多分 散度値を有し;且つ(v)残基(1)及び(2)が構造: を有するポリエーテルポリマー。 6.ポリエーテルポリマーの重量に基づき、1〜20重量%の式−O−R2−O −[式中、R2は炭素数2〜6のアルキレンである]のヒドロキシル開始剤残基 を含む請求の範囲第5項に記載のポリエーテルポリマー。 7.ポリエーテルポリマーの重量に基づき、0.5〜20重量%の、水に由来する ヒドロキシル開始剤残基を含む請求の範囲第5項に記載のポリエーテルポリマー 。 8.触媒量の酸性触媒及び求核性開始剤化合物の存在下において3,4−エポ キシ−1−ブテンを重合させることを含んでなる、n単位の残基(1)及びm単 位の残基(2)を含んでなるポリエーテルポリマー[n+mの合計値が2〜70で あり、n/(n+m)が0.70〜0.95の範囲の値であり、且つ残基(1)及び(2 )が構造: を有する]のポリエーテルポリマーの製造方法。 9.前記酸性触媒が炭素数6以下のペルフルオロアルカンスルホン酸であり且 つ前記方法を0〜100℃の温度において実施する請求 の範囲第8項に記載の製造方法。 10.(i)触媒量のトリフルオロメタンスルホン酸またはペルフルオロスルホ ン酸酸性樹脂及び(ii)水、有機ヒドロキシル開始剤化合物、またはそれらの混 合物の存在下で20〜60℃において3,4−エポキシ−1−ブテンを重合させるこ とを含んでなる、n単位の残基(1)及びm単位の残基(2)を含んでなるポリ エーテルポリマー[n+mの合計値が7〜50であり、n/(n+m)が0.70〜0. 95の範囲の値であり、且つ残基(1)及び(2)が構造: を有する]のポリエーテルポリマーの製造方法。 11.トリフルオロメタンスルホン酸、炭素数2〜6のグリコール及び不活性有 機溶媒の混合物に3,4−エポキシ−1−ブテンを徐々にまたは段階的に添加す る請求の範囲第10項に記載の製造方法。 12.(i)触媒量のトリフルオロメタンスルホン酸またはペルフルオロスルホ ン酸酸性樹脂及び(ii)水、炭素数2〜6のグリコール、またはそれらの混合物 の存在下で20〜60℃において3,4−エポキシ−1−ブテンを重合させることを 含んでなる、n単位の残基(1)及びm単位の残基(2)を含んでなるポリエー テルポリマー[n+mの合計値が7〜50であり、n/(n+m)が0.70−0.95の 範囲の値であり、且つ残基(1)及び(2)が構造: を有する]のポリエーテルポリマーの製造方法。
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