JPH09328613A - 貯蔵安定性に優れたポリシロキサン組成物 - Google Patents
貯蔵安定性に優れたポリシロキサン組成物Info
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- JPH09328613A JPH09328613A JP193897A JP193897A JPH09328613A JP H09328613 A JPH09328613 A JP H09328613A JP 193897 A JP193897 A JP 193897A JP 193897 A JP193897 A JP 193897A JP H09328613 A JPH09328613 A JP H09328613A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】貯蔵安定性に優れたポリシロキサン組成物、さ
らに詳しくは、貯蔵安定性が改良されたポリシロキサン
組成物の提供。 【解決手段】下記式（１）および（２）で表される基を
有するポリシロキサンに対して、Ｎ，Ｐ，Ｓ，Ｓｎ、も
しくはＡｓ成分を有する化合物、またはアセチレンアル
コールを１ｐｐｍ以上含有することを特徴とするポリシ
ロキサン組成物。 【化１】 （式中、Ｒは炭素数１〜１８の置換または非置換の１価
の炭化水素基もしくはエーテル結合含有有機基であ
る。）
らに詳しくは、貯蔵安定性が改良されたポリシロキサン
組成物の提供。 【解決手段】下記式（１）および（２）で表される基を
有するポリシロキサンに対して、Ｎ，Ｐ，Ｓ，Ｓｎ、も
しくはＡｓ成分を有する化合物、またはアセチレンアル
コールを１ｐｐｍ以上含有することを特徴とするポリシ
ロキサン組成物。 【化１】 （式中、Ｒは炭素数１〜１８の置換または非置換の１価
の炭化水素基もしくはエーテル結合含有有機基であ
る。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、貯蔵安定性に優れ
たポリシロキサン組成物に関し、さらに詳しくは、貯蔵
安定性が改良されたポリシロキサン組成物に関する。な
お、上記ポリシロキサン組成物は、シリカの表面処理
剤、あるいはシリカ配合ゴム組成物における加工助剤と
して使用される。
たポリシロキサン組成物に関し、さらに詳しくは、貯蔵
安定性が改良されたポリシロキサン組成物に関する。な
お、上記ポリシロキサン組成物は、シリカの表面処理
剤、あるいはシリカ配合ゴム組成物における加工助剤と
して使用される。
【０００２】
【従来の技術】従来、各種ゴムにシリカを配合したゴム
組成物は、タイヤトレッド用ゴム組成物として使用され
ているが、未加硫時の加工性に劣るという欠陥を有して
おり、これは構造中に存在するシラノール基に起因して
いると考えられる。そこでアシロキシシリル基等を有す
るポリシロキサンをシリカの表面処理剤としてゴム組成
物に添加しシラノール基と反応させ、シリカ表面を覆う
ことにより、加工性の低下という問題が解決されてき
た。しかし、上述のポリシロキサンを合成する際、その
構造中に、完全にアルコキシル基にはならず、Ｓｉ−Ｈ
基として残る基が存在することがある。例えば、上記ポ
リシロキサンのうち、式（１）、（２）で表される構造
を有するアルコキシポリシロキサンは、アルキルハイド
ロジェンポリシロキサン等とアルコールまたはアルケニ
ルアルコキシシランとを、塩化白金酸などの遷移金属触
媒を使用して合成されるが、その構造中にＳｉ−Ｈ残基
が存在することがある。一般に、Ｓｉ−Ｈ基が存在する
ポリシロキサンは、白金などの遷移金属触媒存在下で
は、水、アルコールと容易に反応し、水素ガスを発生さ
せる。また、複数個のＳｉ−Ｈ基が存在するポリシロキ
サンでは、加熱中にゲル化が起こる。このため、上述の
Ｓｉ−Ｈ基残基を有するアルコキシポリシロキサンは、
水やわずかに残存したアルコールと室温でも徐々に反応
し、水素ガスを発生させる。また、例えば、８０℃とい
ったポリシロキサン合成時の加熱温度付近で保存すると
ゲル化する。これらの現象は、保存中、輸送中の安全
性、貯蔵安定性に関し問題となる。反応終了後に白金等
の遷移金属触媒を濾別すれば、上述の問題は解決できる
が、該金属触媒を除くためには特殊な濾剤を使用しなけ
ればならず、生産性が悪い。
組成物は、タイヤトレッド用ゴム組成物として使用され
ているが、未加硫時の加工性に劣るという欠陥を有して
おり、これは構造中に存在するシラノール基に起因して
いると考えられる。そこでアシロキシシリル基等を有す
るポリシロキサンをシリカの表面処理剤としてゴム組成
物に添加しシラノール基と反応させ、シリカ表面を覆う
ことにより、加工性の低下という問題が解決されてき
た。しかし、上述のポリシロキサンを合成する際、その
構造中に、完全にアルコキシル基にはならず、Ｓｉ−Ｈ
基として残る基が存在することがある。例えば、上記ポ
リシロキサンのうち、式（１）、（２）で表される構造
を有するアルコキシポリシロキサンは、アルキルハイド
ロジェンポリシロキサン等とアルコールまたはアルケニ
ルアルコキシシランとを、塩化白金酸などの遷移金属触
媒を使用して合成されるが、その構造中にＳｉ−Ｈ残基
が存在することがある。一般に、Ｓｉ−Ｈ基が存在する
ポリシロキサンは、白金などの遷移金属触媒存在下で
は、水、アルコールと容易に反応し、水素ガスを発生さ
せる。また、複数個のＳｉ−Ｈ基が存在するポリシロキ
サンでは、加熱中にゲル化が起こる。このため、上述の
Ｓｉ−Ｈ基残基を有するアルコキシポリシロキサンは、
水やわずかに残存したアルコールと室温でも徐々に反応
し、水素ガスを発生させる。また、例えば、８０℃とい
ったポリシロキサン合成時の加熱温度付近で保存すると
ゲル化する。これらの現象は、保存中、輸送中の安全
性、貯蔵安定性に関し問題となる。反応終了後に白金等
の遷移金属触媒を濾別すれば、上述の問題は解決できる
が、該金属触媒を除くためには特殊な濾剤を使用しなけ
ればならず、生産性が悪い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
技術における問題点を解決することにあり、白金などの
遷移金属触媒存在下で、ポリシロキサンの構造中に残る
Ｓｉ−Ｈ基の反応に起因する貯蔵安定性低下の問題を解
決し、貯蔵安定性に優れたポリシロキサン組成物を提供
しようとするものである。
技術における問題点を解決することにあり、白金などの
遷移金属触媒存在下で、ポリシロキサンの構造中に残る
Ｓｉ−Ｈ基の反応に起因する貯蔵安定性低下の問題を解
決し、貯蔵安定性に優れたポリシロキサン組成物を提供
しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ポリシロキ
サン組成物に、Ｎ，Ｐ，Ｓ，Ｓｎ、もしくはＡｓ成分を
有する化合物、またはアセチレアルコールを添加するこ
とにより、白金などの遷移金属触媒存在下でポリシロキ
サン組成物のＳｉ−Ｈ残基の反応に起因する水素ガスの
発生、およびゲル化という問題を解決し、ポリシロキサ
ン組成物の貯蔵安定性が向上することを見出し本発明を
完成した。
サン組成物に、Ｎ，Ｐ，Ｓ，Ｓｎ、もしくはＡｓ成分を
有する化合物、またはアセチレアルコールを添加するこ
とにより、白金などの遷移金属触媒存在下でポリシロキ
サン組成物のＳｉ−Ｈ残基の反応に起因する水素ガスの
発生、およびゲル化という問題を解決し、ポリシロキサ
ン組成物の貯蔵安定性が向上することを見出し本発明を
完成した。
【０００５】すなわち、本発明は、下記式（１）および
（２）で表される基を有するポリシロキサンに対して、
Ｎ，Ｐ，Ｓ，Ｓｎ、もしくはＡｓ成分を有する化合物、
またはアセチレンアルコールを１ｐｐｍ以上含有するこ
とを特徴とするポリシロキサン組成物を提供する。
（２）で表される基を有するポリシロキサンに対して、
Ｎ，Ｐ，Ｓ，Ｓｎ、もしくはＡｓ成分を有する化合物、
またはアセチレンアルコールを１ｐｐｍ以上含有するこ
とを特徴とするポリシロキサン組成物を提供する。
【化２】 （式中、Ｒは炭素数１〜１８の置換または非置換の１価
の炭化水素基もしくはエーテル結合含有有機基であ
る。） 特に、前記Ｓ成分が少なくともＳ原子を含むシランカッ
プリング剤であるポリシロキサン組成物、またはＮ成分
が少なくともＮ原子を含むシランカップリング剤である
前記ポリシロキサン組成物が好ましい。
の炭化水素基もしくはエーテル結合含有有機基であ
る。） 特に、前記Ｓ成分が少なくともＳ原子を含むシランカッ
プリング剤であるポリシロキサン組成物、またはＮ成分
が少なくともＮ原子を含むシランカップリング剤である
前記ポリシロキサン組成物が好ましい。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に、本発明についてさらに詳
細に説明する。本発明を構成するポリシロキサンは、上
記式（１）および（２）で表される基をその構造中に有
するアルコキシポリシロキサンである。該アルコキシポ
リシロキサンの構造に含まれるＳｉ−Ｈ残基（２）は、
白金等の遷移金属触媒存在下において、共存するアルコ
ールまたは水により容易に加溶媒分解され、水素ガスを
発生するという作用を有する。また、複数個のＳｉ−Ｈ
残基により、加熱貯蔵後、ゲル化する。
細に説明する。本発明を構成するポリシロキサンは、上
記式（１）および（２）で表される基をその構造中に有
するアルコキシポリシロキサンである。該アルコキシポ
リシロキサンの構造に含まれるＳｉ−Ｈ残基（２）は、
白金等の遷移金属触媒存在下において、共存するアルコ
ールまたは水により容易に加溶媒分解され、水素ガスを
発生するという作用を有する。また、複数個のＳｉ−Ｈ
残基により、加熱貯蔵後、ゲル化する。
【０００７】上記式（１）および（２）で表される基を
有するアルコキシポリシロキサンは、いかなるものでも
よいが、一般には、Ｓｉ−Ｈ基含有ポリシロキサンとア
ルコールまたはアルケニルアルコキシシランとを、塩化
白金酸等の遷移金属触媒下で反応させて合成する。上記
Ｓｉ−Ｈ基含有ポリシロキサンとしては、以下のものを
例示できるが、特に好ましくはメチルハイドロジェンポ
リシロキサンが挙げられる。
有するアルコキシポリシロキサンは、いかなるものでも
よいが、一般には、Ｓｉ−Ｈ基含有ポリシロキサンとア
ルコールまたはアルケニルアルコキシシランとを、塩化
白金酸等の遷移金属触媒下で反応させて合成する。上記
Ｓｉ−Ｈ基含有ポリシロキサンとしては、以下のものを
例示できるが、特に好ましくはメチルハイドロジェンポ
リシロキサンが挙げられる。
【０００８】
【化３】
【０００９】上記アルコールとしては、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、
ヘプタノール、オクタノール、オクタデカノール、フェ
ノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。また、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテルなどの酸素原子を有するアル
コールを例示することが出来る。好ましくは、エタノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルが特に挙げ
られる。
タノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、
ヘプタノール、オクタノール、オクタデカノール、フェ
ノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。また、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテルなどの酸素原子を有するアル
コールを例示することが出来る。好ましくは、エタノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルが特に挙げ
られる。
【００１０】上記アルケニルアルコキシシランとして
は、以下に示すような二重結合含有アルコキシシランを
例示することができるが、特に好ましくは、トリメトキ
シビニルシランを挙げることが出来る。
は、以下に示すような二重結合含有アルコキシシランを
例示することができるが、特に好ましくは、トリメトキ
シビニルシランを挙げることが出来る。
【００１１】
【化４】
【００１２】上記触媒としては、塩化白金酸の他に、白
金−エーテル錯体、白金−オレフィン錯体、ＰｄＣｌ2
（ＰＰｈ3 ）2 、ＲｈＣｌ2 （ＰＰｈ3 ）2 が使用でき
る。
金−エーテル錯体、白金−オレフィン錯体、ＰｄＣｌ2
（ＰＰｈ3 ）2 、ＲｈＣｌ2 （ＰＰｈ3 ）2 が使用でき
る。
【００１３】本発明において使用するポリシロキサン
は、更に反応性の官能基を側鎖または末端に有するポリ
シロキサンと表１のシランカップリング剤との反応によ
り合成することができる。反応性の官能基を有するポリ
シロキサンとしては、エポキシ基、アミノ基、メルカプ
ト基、カルボキシル基等を有するものを例示することが
できる。
は、更に反応性の官能基を側鎖または末端に有するポリ
シロキサンと表１のシランカップリング剤との反応によ
り合成することができる。反応性の官能基を有するポリ
シロキサンとしては、エポキシ基、アミノ基、メルカプ
ト基、カルボキシル基等を有するものを例示することが
できる。
【００１４】
【表１】
【００１５】上述のように、合成されたポリシロキサン
において、その末端基および側鎖は特に限定はなく、末
端基および側鎖は製造時の原料の種類により定まるもの
である。
において、その末端基および側鎖は特に限定はなく、末
端基および側鎖は製造時の原料の種類により定まるもの
である。
【００１６】通常、シリカ表面処理剤、あるいはシリカ
配合ゴム組成物の加工助剤としては、重合度が２〜１０
００のポリシロキサンが使用される。具体例として、下
記式（３）〜（６）で表される化合物が例示される。
配合ゴム組成物の加工助剤としては、重合度が２〜１０
００のポリシロキサンが使用される。具体例として、下
記式（３）〜（６）で表される化合物が例示される。
【００１７】
【化５】
【００１８】本発明には貯蔵安定化剤として、Ｎ，Ｐ，
Ｓ，Ｓｎ，もしくはＡｓ成分を有する化合物、またはア
セチレンアルコールを添加する。これらのＮ，Ｐ，Ｓ，
ＳｎまたはＡｓ成分は化合物中の混合物でも、化合物中
の原子として有しても、また他の原子との結合基として
有してもよい。本発明に用いる貯蔵安定化剤のうち、Ｓ
成分を有する化合物は、特に限定されるものではなく、
チオール化合物、スルフィド化合物、チアゾール化合
物、チウラム系化合物等、およびこれらの化合物からな
るシランカップリング剤を例示することができる。この
中でも、チオール基、スルフィド基、チアゾール基、チ
オカルバモイル基を有するシランカップリング剤が特に
好ましい。具体的には表２に示す化合物が例示できる。
Ｓ，Ｓｎ，もしくはＡｓ成分を有する化合物、またはア
セチレンアルコールを添加する。これらのＮ，Ｐ，Ｓ，
ＳｎまたはＡｓ成分は化合物中の混合物でも、化合物中
の原子として有しても、また他の原子との結合基として
有してもよい。本発明に用いる貯蔵安定化剤のうち、Ｓ
成分を有する化合物は、特に限定されるものではなく、
チオール化合物、スルフィド化合物、チアゾール化合
物、チウラム系化合物等、およびこれらの化合物からな
るシランカップリング剤を例示することができる。この
中でも、チオール基、スルフィド基、チアゾール基、チ
オカルバモイル基を有するシランカップリング剤が特に
好ましい。具体的には表２に示す化合物が例示できる。
【００１９】
【表２】
【００２０】また、Ｐ成分を有する化合物は、トリフェ
ニルフォスフェート、亜リン酸トリエチル、トリフェニ
ルホスフィン、トリフェニルフォスファイト等が例示さ
れる。Ｎ成分を有する化合物としては、種々のアミン化
合物や、テトラブチルアンモニウムブロマイド、メラミ
ン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。アミン化合物
としては、具体的には、トリエチルアミン、ジブチルア
ミン、ベンジルアミン、３−アミノプロピルトリエトキ
シシラン等が例示される。Ｓｎ成分を有する化合物とし
ては、ジブチルスズラウレート、ジブチルスズジアセテ
ート等が挙げられる。Ａｓ成分を有する化合物として
は、ヒ酸、ヒ酸カルシウム、ヒ酸鉄、酸性ヒ酸マンガ
ン、亜ヒ酸ソーダ、酸性ヒ酸ソーダ等が例示されるが、
特にバイナジン（防カビ剤；モートン・インターナショ
ナル社製）等が好ましい。アセチレンアルコールとして
は、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、３
−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−
ペンチン−３−オール、２，４，７，９−テトラメチル
−５−デシン−４，７−ジオール等が例示されるが、な
かでも３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オールが
好ましい。
ニルフォスフェート、亜リン酸トリエチル、トリフェニ
ルホスフィン、トリフェニルフォスファイト等が例示さ
れる。Ｎ成分を有する化合物としては、種々のアミン化
合物や、テトラブチルアンモニウムブロマイド、メラミ
ン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。アミン化合物
としては、具体的には、トリエチルアミン、ジブチルア
ミン、ベンジルアミン、３−アミノプロピルトリエトキ
シシラン等が例示される。Ｓｎ成分を有する化合物とし
ては、ジブチルスズラウレート、ジブチルスズジアセテ
ート等が挙げられる。Ａｓ成分を有する化合物として
は、ヒ酸、ヒ酸カルシウム、ヒ酸鉄、酸性ヒ酸マンガ
ン、亜ヒ酸ソーダ、酸性ヒ酸ソーダ等が例示されるが、
特にバイナジン（防カビ剤；モートン・インターナショ
ナル社製）等が好ましい。アセチレンアルコールとして
は、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、３
−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−
ペンチン−３−オール、２，４，７，９−テトラメチル
−５−デシン−４，７−ジオール等が例示されるが、な
かでも３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オールが
好ましい。
【００２１】上記ポリシロキサンは、Ｎ，Ｐ，Ｓ，Ｓ
ｎ，もしくはＡｓ成分を有する化合物、またはアセチレ
ンアルコールを添加することにより、これらの化合物が
白金などの遷移金属触媒に作用し、白金などの遷移金属
触媒存在下でのＳｉ−Ｈ残基の反応に起因する加熱貯蔵
時のゲル化や、上述の触媒存在下でのアルコール或いは
水の共存下での水素ガスの発生が防止できる。
ｎ，もしくはＡｓ成分を有する化合物、またはアセチレ
ンアルコールを添加することにより、これらの化合物が
白金などの遷移金属触媒に作用し、白金などの遷移金属
触媒存在下でのＳｉ−Ｈ残基の反応に起因する加熱貯蔵
時のゲル化や、上述の触媒存在下でのアルコール或いは
水の共存下での水素ガスの発生が防止できる。
【００２２】本発明に用いる貯蔵安定化剤の添加量は、
１ｐｐｍ〜５重量％であるのが好ましく、５ｐｐｍ〜５
重量％であるのが特に好ましい。貯蔵安定性の上から
は、添加量の上限は特にないが、臭気の点、あるいは、
上記貯蔵安定化剤がゴム物性に影響を与えるため、添加
量は５重量％以下であるのが好ましい。
１ｐｐｍ〜５重量％であるのが好ましく、５ｐｐｍ〜５
重量％であるのが特に好ましい。貯蔵安定性の上から
は、添加量の上限は特にないが、臭気の点、あるいは、
上記貯蔵安定化剤がゴム物性に影響を与えるため、添加
量は５重量％以下であるのが好ましい。
【００２３】本発明のポリシロキサン組成物は、上述の
必須成分に加えて、加硫または架橋剤、加硫または架橋
促進剤、スコーチ防止剤等の各種添加剤を配合すること
ができる。
必須成分に加えて、加硫または架橋剤、加硫または架橋
促進剤、スコーチ防止剤等の各種添加剤を配合すること
ができる。
【００２４】
【実施例】以下に実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限られるものではない。 （１）ポリシロキサンの合成 合成例１〜４ （合成例１） ポリシロキサン１の合成 エタノール５０．５ｇに、１％塩化白金酸イソプロピル
アルコール溶液１００μｌを加え、７０℃に加熱し、こ
れにメチルハイドロジェンポリシロキサン（ワッカーケ
ミカルズ社製）１００ｇを２時間かけて滴下した。滴下
終了から１時間後、反応温度を９０℃に上げ、さらに４
時間反応させた。1 ＨＮＭＲにより、全Ｓｉ−Ｈ基のう
ち、７０％がＳｉ−ＯＥｔ基に変換されたことを確認し
た。なお、ポリシロキサン１は、下記式（３）で表され
る化合物である。
するが、本発明はこれらに限られるものではない。 （１）ポリシロキサンの合成 合成例１〜４ （合成例１） ポリシロキサン１の合成 エタノール５０．５ｇに、１％塩化白金酸イソプロピル
アルコール溶液１００μｌを加え、７０℃に加熱し、こ
れにメチルハイドロジェンポリシロキサン（ワッカーケ
ミカルズ社製）１００ｇを２時間かけて滴下した。滴下
終了から１時間後、反応温度を９０℃に上げ、さらに４
時間反応させた。1 ＨＮＭＲにより、全Ｓｉ−Ｈ基のう
ち、７０％がＳｉ−ＯＥｔ基に変換されたことを確認し
た。なお、ポリシロキサン１は、下記式（３）で表され
る化合物である。
【００２５】
【化６】
【００２６】（合成例２） ポリシロキサン２の合成 エタノール７０．５ｇを使用する以外は、合成例１と同
様に合成した。1 ＨＮＭＲにより、全Ｓｉ−Ｈ基のう
ち、９７％がＳｉ−ＯＥｔ基に変換されたことを確認し
た。なお、ポリシロキサン２は、下記式（４）で表され
る化合物である。
様に合成した。1 ＨＮＭＲにより、全Ｓｉ−Ｈ基のう
ち、９７％がＳｉ−ＯＥｔ基に変換されたことを確認し
た。なお、ポリシロキサン２は、下記式（４）で表され
る化合物である。
【００２７】
【化７】
【００２８】（合成例３） ポリシロキサン３の合成 メチルハイドロジェンポリシロキサン１００ｇとα−メ
チルスチレンダイマー７４ｇに、２．５％塩化白金酸イ
ソプロピルアルコール溶液５０μｌを加え、９０℃に加
熱し、２時間反応させたものを、７０℃においてエタノ
ール５４ｇに２時間かけて滴下した。滴下終了から１時
間後、反応温度を９０℃に上げ、さらに４時間反応させ
た。なお、ポリシロキサン３は、下記式（５）で表され
る化合物である。
チルスチレンダイマー７４ｇに、２．５％塩化白金酸イ
ソプロピルアルコール溶液５０μｌを加え、９０℃に加
熱し、２時間反応させたものを、７０℃においてエタノ
ール５４ｇに２時間かけて滴下した。滴下終了から１時
間後、反応温度を９０℃に上げ、さらに４時間反応させ
た。なお、ポリシロキサン３は、下記式（５）で表され
る化合物である。
【００２９】
【化８】
【００３０】（合成例４） ポリシロキサン４の合成 メチルハイドロジェンポリシロキサン１００ｇとトリメ
トキシビニルシラン１１６ｇに、２．５％塩化白金酸イ
ソプロピルアルコール溶液２０μｌを加え、８５℃に加
熱し、２時間反応させた。なお、ポリシロキサン４は、
下記式（６）で表される化合物である。
トキシビニルシラン１１６ｇに、２．５％塩化白金酸イ
ソプロピルアルコール溶液２０μｌを加え、８５℃に加
熱し、２時間反応させた。なお、ポリシロキサン４は、
下記式（６）で表される化合物である。
【００３１】
【化９】
【００３２】（２）貯蔵安定化剤添加ポリシロキサンの
合成 実施例１〜８ 貯蔵安定化剤として以下のシランカップリング剤、ＤＢ
ＤＬ、およびアセチレンアルコールを添加した。シラン
カップリング剤としては、下記の３種を使用した。 シランカップリング剤１ ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）−テトラス
ルフィド 〔（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ）3 Ｓｉ（ＣＨ2 ）3 〕2 Ｓ4 シランカップリング剤２ γ−メルカプトプロピル−トリメトキシシラン （ＣＨ3 Ｏ）3 Ｓｉ（ＣＨ2 ）3 ＳＨ シランカップリング剤３ ３−トリメトキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルチ
オカルバモイル−テトラスルフィド
合成 実施例１〜８ 貯蔵安定化剤として以下のシランカップリング剤、ＤＢ
ＤＬ、およびアセチレンアルコールを添加した。シラン
カップリング剤としては、下記の３種を使用した。 シランカップリング剤１ ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）−テトラス
ルフィド 〔（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ）3 Ｓｉ（ＣＨ2 ）3 〕2 Ｓ4 シランカップリング剤２ γ−メルカプトプロピル−トリメトキシシラン （ＣＨ3 Ｏ）3 Ｓｉ（ＣＨ2 ）3 ＳＨ シランカップリング剤３ ３−トリメトキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルチ
オカルバモイル−テトラスルフィド
【００３３】
【化１０】
【００３４】（実施例１）ポリシロキサン１の合成時
に、ポリシロキサン１ １００ｇに対しシランカップリ
ング剤２を１０ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を
得た。 （実施例２）ポリシロキサン２の合成時に、ポリシロキ
サン２ １００ｇに対しシランカップリング剤１を１０
ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例３）ポリシロキサン３の合成時に、ポリシロキ
サン３ １００ｇに対しシランカップリング剤１を１０
ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例４）ポリシロキサン４の合成時に、ポリシロキ
サン４ １００ｇに対しシランカップリング剤２を１０
ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例５）ポリシロキサン１の合成時に、ポリシロキ
サン１ １００ｇに対しシランカップリング剤２を１ｐ
ｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例６）ポリシロキサン１の合成時に、ポリシロキ
サン１ １００ｇに対しＤＢＤＬを１０ｐｐｍ添加し、
ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例７）ポリシロキサン１の合成時に、ポリシロキ
サン１ １００ｇに対しアセチレンアルコールを１０ｐ
ｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例８）ポリシロキサン１の合成時に、ポリシロキ
サン１ １００ｇに対しシランカップリング剤３を１０
ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。
に、ポリシロキサン１ １００ｇに対しシランカップリ
ング剤２を１０ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を
得た。 （実施例２）ポリシロキサン２の合成時に、ポリシロキ
サン２ １００ｇに対しシランカップリング剤１を１０
ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例３）ポリシロキサン３の合成時に、ポリシロキ
サン３ １００ｇに対しシランカップリング剤１を１０
ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例４）ポリシロキサン４の合成時に、ポリシロキ
サン４ １００ｇに対しシランカップリング剤２を１０
ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例５）ポリシロキサン１の合成時に、ポリシロキ
サン１ １００ｇに対しシランカップリング剤２を１ｐ
ｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例６）ポリシロキサン１の合成時に、ポリシロキ
サン１ １００ｇに対しＤＢＤＬを１０ｐｐｍ添加し、
ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例７）ポリシロキサン１の合成時に、ポリシロキ
サン１ １００ｇに対しアセチレンアルコールを１０ｐ
ｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。 （実施例８）ポリシロキサン１の合成時に、ポリシロキ
サン１ １００ｇに対しシランカップリング剤３を１０
ｐｐｍ添加し、ポリシロキサン組成物を得た。
【００３５】比較例として、下記のポリシロキサンを用
いた。 （比較例１）ポリシロキサン１を１００ｇ用いた。 （比較例２）ポリシロキサン２を１００ｇ用いた。 （比較例３）ポリシロキサン４を１００ｇ用いた。
いた。 （比較例１）ポリシロキサン１を１００ｇ用いた。 （比較例２）ポリシロキサン２を１００ｇ用いた。 （比較例３）ポリシロキサン４を１００ｇ用いた。
【００３６】上述の実施例１〜８、および比較例１〜３
において合成したポリシロキサン組成物について、以下
の物性を評価した。 水素の発生 室温にて、ポリシロキサン組成物より水素ガスが発生す
るかを、ガスビュレットを用いて測定した。表中、「な
し」は、ポリシロキサン組成物１００ｇ当たり発生した
水素ガスが１．０ｍｌ以下であることを、「あり」は
１．０ｍｌ以上であることを表す。 貯蔵安定性 ポリシロキサン組成物を７日間、８０℃で保ち、ポリシ
ロキサン組成物の状態を見た。 結果を表３に示す。
において合成したポリシロキサン組成物について、以下
の物性を評価した。 水素の発生 室温にて、ポリシロキサン組成物より水素ガスが発生す
るかを、ガスビュレットを用いて測定した。表中、「な
し」は、ポリシロキサン組成物１００ｇ当たり発生した
水素ガスが１．０ｍｌ以下であることを、「あり」は
１．０ｍｌ以上であることを表す。 貯蔵安定性 ポリシロキサン組成物を７日間、８０℃で保ち、ポリシ
ロキサン組成物の状態を見た。 結果を表３に示す。
【００３７】
【表３】
【００３８】
【発明の効果】本発明によれば、ポリシロキサン構造中
に存在するＳｉ−Ｈ残基の反応に起因するポリシロキサ
ンのゲル化、および、水素ガスの発生という問題が解決
され、貯蔵中にゲル化の恐れがなく、水素ガスの発生し
ない非常に貯蔵安定性の高いポリシロキサン組成物を得
ることができる。
に存在するＳｉ−Ｈ残基の反応に起因するポリシロキサ
ンのゲル化、および、水素ガスの発生という問題が解決
され、貯蔵中にゲル化の恐れがなく、水素ガスの発生し
ない非常に貯蔵安定性の高いポリシロキサン組成物を得
ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 83/05 Ｃ０８Ｌ 83/05
Claims (3)
- 【請求項１】下記式（１）および（２）で表される基を
有するポリシロキサンに対して、Ｎ，Ｐ，Ｓ，Ｓｎ、も
しくはＡｓ成分を有する化合物、またはアセチレンアル
コールを１ｐｐｍ以上含有することを特徴とするポリシ
ロキサン組成物。 【化１】 （式中、Ｒは炭素数１〜１８の置換または非置換の１価
の炭化水素基もしくはエーテル結合含有有機基であ
る。） - 【請求項２】前記Ｓ成分が少なくともＳ原子を含むシラ
ンカップリング剤である請求項１に記載のポリシロキサ
ン組成物。 - 【請求項３】前記Ｎ成分が少なくともＮ原子を含むシラ
ンカップリング剤である請求項１に記載のポリシロキサ
ン組成物。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP193897A JPH09328613A (ja) | 1996-04-10 | 1997-01-09 | 貯蔵安定性に優れたポリシロキサン組成物 |
| US08/831,850 US6191247B1 (en) | 1996-04-10 | 1997-04-04 | Polysiloxane composition having superior storage stability and rubber composition containing same |
| EP97105810A EP0801112A3 (en) | 1996-04-10 | 1997-04-08 | Polysiloxane composition having superior storage stability and rubber composition containing same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-87950 | 1996-04-10 | ||
| JP8795096 | 1996-04-10 | ||
| JP193897A JPH09328613A (ja) | 1996-04-10 | 1997-01-09 | 貯蔵安定性に優れたポリシロキサン組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09328613A true JPH09328613A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=26335234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP193897A Pending JPH09328613A (ja) | 1996-04-10 | 1997-01-09 | 貯蔵安定性に優れたポリシロキサン組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09328613A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6329460B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-12-11 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Polysiloxane composition and rubber composition and resin composition |
| WO2017183259A1 (ja) * | 2016-04-22 | 2017-10-26 | 株式会社Adeka | ケイ素含有硬化性組成物及びその硬化物 |
-
1997
- 1997-01-09 JP JP193897A patent/JPH09328613A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6329460B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-12-11 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Polysiloxane composition and rubber composition and resin composition |
| WO2017183259A1 (ja) * | 2016-04-22 | 2017-10-26 | 株式会社Adeka | ケイ素含有硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPWO2017183259A1 (ja) * | 2016-04-22 | 2019-02-21 | 株式会社Adeka | ケイ素含有硬化性組成物及びその硬化物 |
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