JPH09325826A - 温度補償型基準電圧発生回路 - Google Patents

温度補償型基準電圧発生回路

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JPH09325826A
JPH09325826A JP14184396A JP14184396A JPH09325826A JP H09325826 A JPH09325826 A JP H09325826A JP 14184396 A JP14184396 A JP 14184396A JP 14184396 A JP14184396 A JP 14184396A JP H09325826 A JPH09325826 A JP H09325826A
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JP
Japan
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mos transistor
channel
channel mos
transistor
gate
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JP14184396A
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Yasuhiro Sakurai
保宏 桜井
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Citizen Watch Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディプレション型MOSトランジスタを用い
た温度補償型基準電圧発生回路は、基準電圧の製造ばら
つきが大きく、低電圧仕様の電子機器の高精度化要求に
応えられない。 【解決手段】 電気特性の製造ばらつきが小さいエンハ
ンスメント型MOSトランジスタと抵抗11のみを用
い、基準電圧出力が第2のpチャネルMOSトランジス
タ19のスレショールド電圧の約1.5倍になるよう抵
抗11の値を調整することで温度補償型基準電圧発生回
路を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、MOSトランジス
タを使用する温度補償型基準電圧発生回路の構成に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】温度補償型の携帯機器などのように、温
度や電源電圧変動に依存しない安定した基準電圧を必要
とする電子機器は多い。このような電子機器において
は、何らかの温度補償型基準電圧発生回路を搭載する必
要がある。
【0003】また、携帯機器に搭載されることが多いの
で低消費電力である必要があり、温度補償型基準電圧発
生回路はMOSトランジスタを用いて構成されることが
多くなっている。
【0004】このような従来の温度補償型基準電圧発生
回路の構成は、ディプレション型MOSトランジスタと
エンハンスメント型MOSトランジスタとを組み合わせ
たものが公知であり、たとえば下記の特許が公開されて
いる。
【0005】特公平4−65546号公報「基準電圧用
半導体装置」
【0006】以下図面を用いて従来例における温度補償
型基準電圧発生回路の構成を説明する。図6は上記の公
告公報に記載されている図2を転図したものである。
【0007】図6の回路図に示すように、高電位側の電
源にディプレション型nチャネルMOSトランジスタ5
のドレインを接続し、低電位側の電源にエンハンスメン
ト型nチャネルMOSトランジスタ7のソースおよびバ
ルクを接続する。
【0008】そして、ディプレション型nチャネルMO
Sトランジスタ5のソースおよびバルクをエンハンスメ
ント型nチャネルMOSトランジスタ7のドレインに接
続点8で接続し、それぞれのゲート同士を接続点6で接
続するとともに、接続点8にも接続する。この接続点8
が低電位側の電源を基準電位とする基準電圧出力であ
る。
【0009】ところで、最近の半導体集積回路はCMO
S構成が中心であり、CMOSによる半導体集積回路に
おいては、MOSトランジスタはpチャネルもnチャネ
ルもエンハンスメント型が基本である。つまり半導体基
板表面やウェル拡散層の表面は、エンハンスメント型M
OSトランジスタが形成される不純物濃度になってい
る。
【0010】このような状態では、通常のゲート電極材
料を使用する限り、ゲート電極材料の仕事関数によって
ディプレション型MOSトランジスタを形成することは
不可能であり、ディプレション型MOSトランジスタを
形成するためには、ゲート酸化膜直下に不純物をイオン
注入しなければならない。
【0011】上記の特許でも述べられているように、ゲ
ート酸化膜直下に不純物をイオン注入する工程そのもの
は、半導体集積回路の製造コストを大幅に引き上げるも
のではない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ゲート酸化膜
直下に不純物をイオン注入して形成したMOSトランジ
スタは、イオン注入を行わない表面チャネル型のMOS
トランジスタに比べて、スレショールド電圧などの電気
特性の製造ばらつきが非常に大きいという問題点があ
る。
【0013】従来例における温度補償型基準電圧発生回
路は、ディプレション型MOSトランジスタとエンハン
スメント型MOSトランジスタとのスレショールド電圧
の差を基準電圧として出力するものであるから、ディプ
レション型MOSトランジスタのスレショールド電圧の
製造ばらつきが大きいということは、基準電圧の製造ば
らつきも大きいことを意味する。
【0014】最近の携帯電子機器は消費電力を低減する
ために電源の低電圧化が顕著であり、使える電圧幅が狭
いために基準電圧に対する高精度化の要求が厳しくなっ
てきているので、基準電圧の製造ばらつきが大きいこと
は重大な障害になってきている。
【0015】本発明の目的は、基準電圧の製造ばらつき
が小さい温度補償型基準電圧発生回路を提供することで
ある。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明による温度補償型基準電圧発生回路の構成
は、下記の通りとする。
【0017】すなわち、n基板CMOSで構成し、高電
位側の電源に一端を接続する抵抗と、この抵抗の他端に
ソースを接続する第1のpチャネルMOSトランジスタ
と、第1のpチャネルMOSトランジスタのドレインに
ゲートおよびドレインを接続し低電位側の電源にソース
およびバルクを接続する第1のnチャネルMOSトラン
ジスタと、第1のnチャネルMOSトランジスタのゲー
トにゲートを接続し低電位側の電源にソースおよびバル
クを接続する第2のnチャネルMOSトランジスタと、
高電位側の電源にソースおよびバルクを接続しドレイン
およびゲートを第1のpチャネルMOSトランジスタの
ゲートおよび第2のnチャネルMOSトランジスタのド
レインに接続する第2のpチャネルMOSトランジスタ
とを備え、第1のpチャネルMOSトランジスタおよび
第2のpチャネルMOSトランジスタはp形多結晶シリ
コン膜をゲート電極とするエンハンスメント型MOSト
ランジスタであってスレショールド電圧が等しく、第1
のnチャネルMOSトランジスタおよび第2のnチャネ
ルMOSトランジスタはn形多結晶シリコン膜をゲート
電極とするエンハンスメント型MOSトランジスタであ
ってスレショールド電圧が等しく、第1のnチャネルM
OSトランジスタのチャネル幅およびチャネル長は、第
2のnチャネルMOSトランジスタのチャネル幅および
チャネル長に等しく、第1のpチャネルMOSトランジ
スタのチャネル幅とチャネル長との比は、第2のpチャ
ネルMOSトランジスタのチャネル幅とチャネル長との
比よりも大きく、高電位側の電源を基準電位とし、第2
のpチャネルMOSトランジスタのドレインを基準電圧
出力とし、抵抗の大きさの調整により、基準電圧出力の
大きさが第2のpチャネルMOSトランジスタのスレシ
ョールド電圧の約1.5倍になっていることを特徴とす
る。
【0018】あるいはまた、n基板CMOSで構成し、
高電位側の電源に一端を接続する抵抗と、この抵抗の他
端にソースを接続するpチャネルMOSトランジスタ
と、pチャネルMOSトランジスタのドレインにゲート
およびドレインを接続し低電位側の電源にソースおよび
バルクを接続する第1のnチャネルMOSトランジスタ
と、第1のnチャネルMOSトランジスタのゲートにゲ
ートを接続し低電位側の電源にソースおよびバルクを接
続する第2のnチャネルMOSトランジスタと、高電位
側の電源にドレインおよびゲートを接続しソースおよび
バルクを第1のpチャネルMOSトランジスタのゲート
および第2のnチャネルMOSトランジスタのドレイン
に接続する第3のnチャネルMOSトランジスタとを備
え、pチャネルMOSトランジスタはp形多結晶シリコ
ン膜をゲート電極とするエンハンスメント型MOSトラ
ンジスタであり、第1のnチャネルMOSトランジスタ
および第2のnチャネルMOSトランジスタおよび第3
のnチャネルMOSトランジスタはn形多結晶シリコン
膜をゲート電極とするエンハンスメント型MOSトラン
ジスタであってスレショールド電圧が等しく、第1のn
チャネルMOSトランジスタのチャネル幅およびチャネ
ル長は、第2のnチャネルMOSトランジスタのチャネ
ル幅およびチャネル長に等しく、第3のnチャネルMO
Sトランジスタのチャネル幅とチャネル長との比は、第
1のnチャネルMOSトランジスタのチャネル幅とチャ
ネル長との比よりも小さく、高電位側の電源を基準電位
とし、第3のnチャネルMOSトランジスタのソースを
基準電圧出力とし、抵抗の大きさの調整により、基準電
圧出力の大きさが第3のnチャネルMOSトランジスタ
のスレショールド電圧にほぼ等しくなっていることを特
徴とする。
【0019】あるいはまた、p基板CMOSで構成し、
低電位側の電源に一端を接続する抵抗と、この抵抗の他
端にソースを接続する第1のnチャネルMOSトランジ
スタと、第1のnチャネルMOSトランジスタのドレイ
ンにゲートおよびドレインを接続し高電位側の電源にソ
ースおよびバルクを接続する第1のpチャネルMOSト
ランジスタと、第1のpチャネルMOSトランジスタの
ゲートにゲートを接続し高電位側の電源にソースおよび
バルクを接続する第2のpチャネルMOSトランジスタ
と、低電位側の電源にソースおよびバルクを接続しドレ
インおよびゲートを第1のnチャネルMOSトランジス
タのゲートおよび第2のpチャネルMOSトランジスタ
のドレインに接続する第2のnチャネルMOSトランジ
スタとを備え、第1のpチャネルMOSトランジスタお
よび第2のpチャネルMOSトランジスタはp形多結晶
シリコン膜をゲート電極とするエンハンスメント型MO
Sトランジスタであってスレショールド電圧が等しく、
第1のnチャネルMOSトランジスタおよび第2のnチ
ャネルMOSトランジスタはn形多結晶シリコン膜をゲ
ート電極とするエンハンスメント型MOSトランジスタ
であってスレショールド電圧が等しく、第1のpチャネ
ルMOSトランジスタのチャネル幅およびチャネル長
は、第2のpチャネルMOSトランジスタのチャネル幅
およびチャネル長に等しく、第1のnチャネルMOSト
ランジスタのチャネル幅とチャネル長との比は、第2の
nチャネルMOSトランジスタのチャネル幅とチャネル
長との比よりも大きく、低電位側の電源を基準電位と
し、第2のnチャネルMOSトランジスタのドレインを
基準電圧出力とし、抵抗の大きさの調整により、基準電
圧出力の大きさが第2のnチャネルMOSトランジスタ
のスレショールド電圧の約1.6倍になっていることを
特徴とする。
【0020】あるいはまた、p基板CMOSで構成し、
低電位側の電源に一端を接続する抵抗と、この抵抗の他
端にソースを接続するnチャネルMOSトランジスタ
と、nチャネルMOSトランジスタのドレインにゲート
およびドレインを接続し高電位側の電源にソースおよび
バルクを接続する第1のpチャネルMOSトランジスタ
と、第1のpチャネルMOSトランジスタのゲートにゲ
ートを接続し高電位側の電源にソースおよびバルクを接
続する第2のpチャネルMOSトランジスタと、低電位
側の電源にドレインおよびゲートを接続しソースおよび
バルクを第1のnチャネルMOSトランジスタのゲート
および第2のpチャネルMOSトランジスタのドレイン
に接続する第3のpチャネルMOSトランジスタとを備
え、nチャネルMOSトランジスタはn形多結晶シリコ
ン膜をゲート電極とするエンハンスメント型MOSトラ
ンジスタであり、第1のpチャネルMOSトランジスタ
および第2のpチャネルMOSトランジスタおよび第3
のpチャネルMOSトランジスタはp形多結晶シリコン
膜をゲート電極とするエンハンスメント型MOSトラン
ジスタであってスレショールド電圧が等しく、第1のp
チャネルMOSトランジスタのチャネル幅およびチャネ
ル長は、第2のpチャネルMOSトランジスタのチャネ
ル幅およびチャネル長に等しく、第3のpチャネルMO
Sトランジスタのチャネル幅とチャネル長との比は、第
1のpチャネルMOSトランジスタのチャネル幅とチャ
ネル長との比よりも小さく、低電位側の電源を基準電位
とし、第3のpチャネルMOSトランジスタのソースを
基準電圧出力とし、抵抗の大きさの調整により、基準電
圧出力の大きさが第3のpチャネルMOSトランジスタ
のスレショールド電圧の約1.5倍になっていることを
特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】高電位側の電源に一端を接続する
抵抗と、該抵抗の他端にソースを接続する第1のpチャ
ネルMOSトランジスタと、該第1のpチャネルMOS
トランジスタのドレインにゲートおよびドレインを接続
し低電位側の電源にソースおよびバルクを接続する第1
のnチャネルMOSトランジスタと、該第1のnチャネ
ルMOSトランジスタのゲートにゲートを接続し低電位
側の電源にソースおよびバルクを接続する第2のnチャ
ネルMOSトランジスタと、高電位側の電源にソースお
よびバルクを接続しドレインおよびゲートを前記第1の
pチャネルMOSトランジスタのゲートおよび前記第2
のnチャネルMOSトランジスタのドレインに接続する
第2のpチャネルMOSトランジスタとを備え、前記第
1のpチャネルMOSトランジスタおよび第2のpチャ
ネルMOSトランジスタはp形多結晶シリコン膜をゲー
ト電極とするスレショールド電圧が等しいエンハンスメ
ント型MOSトランジスタとし、前記第1のnチャネル
MOSトランジスタおよび第2のnチャネルMOSトラ
ンジスタはn形多結晶シリコン膜をゲート電極とするス
レショールド電圧が等しいエンハンスメント型MOSト
ランジスタとし、前記第1のnチャネルMOSトランジ
スタのチャネル幅およびチャネル長を第2のnチャネル
MOSトランジスタのチャネル幅およびチャネル長に等
しくし、前記第1のpチャネルMOSトランジスタのチ
ャネル幅とチャネル長との比を前記第2のpチャネルM
OSトランジスタのチャネル幅とチャネル長との比より
も大きくし、高電位側の電源を基準電位とし、前記第2
のpチャネルMOSトランジスタのドレインを基準電圧
出力とし、前記抵抗値の調整により前記基準電圧出力の
大きさが前記第2のpチャネルMOSトランジスタのス
レショールド電圧の約1.5倍になっていることを特徴
とする温度補償型基準電圧発生回路である。
【0022】
【実施例】以下図面を用いて、本発明の最適な実施の形
態を詳述する。図1は、n基板CMOSによる本発明の
第1の実施の形態における温度補償型基準電圧発生回路
の構成を示す回路図である。図1の回路図に示すよう
に、高電位側の電源に抵抗11を接続し、抵抗11の他
端に第1のpチャネルMOSトランジスタ13のソース
を接続し、第1のpチャネルMOSトランジスタ13の
ドレインに第1のnチャネルMOSトランジスタ15の
ドレインおよびゲートを接続する。
【0023】第1のnチャネルMOSトランジスタ15
のソースおよびバルクは低電位側の電源に接続する。
【0024】そして、第2のnチャネルMOSトランジ
スタ17のゲートを第1のnチャネルMOSトランジス
タ15のゲートに接続し、第2のnチャネルMOSトラ
ンジスタ17のソースおよびバルクを低電位側の電源に
接続する。
【0025】また、第2のnチャネルMOSトランジス
タ17のドレインに、第2のpチャネルMOSトランジ
スタ19のドレインおよびゲートと第1のpチャネルM
OSトランジスタ13のゲートとを接続し、第2のpチ
ャネルMOSトランジスタ19のソースおよびバルクを
高電位側の電源に接続する。
【0026】第1のpチャネルMOSトランジスタ13
のバルクは、n基板CMOSであるから当然高電位側の
電源に接続する。以上の接続により基準電圧発生回路を
構成しており、第2のpチャネルMOSトランジスタ1
9のドレインが、高電位側の電源を基準電位とする基準
電圧出力である。
【0027】そして、基準電圧の製造ばらつきを小さく
するために、第1のpチャネルMOSトランジスタ13
および第2のpチャネルMOSトランジスタ19は、p
形多結晶シリコン膜をゲート電極とするエンハンスメン
ト型MOSトランジスタとし、第1のnチャネルMOS
トランジスタ15および第2のnチャネルMOSトラン
ジスタ17は、n形多結晶シリコン膜をゲート電極とす
るエンハンスメント型MOSトランジスタとする。
【0028】また、製造コストの上昇を防止し、かつ、
設計を容易にするために、pチャネルMOSトランジス
タ同士のスレショールド電圧およびnチャネルMOSト
ランジスタ同士のスレショールド電圧をそれぞれ等しく
しておく。
【0029】さらに、基準電圧出力の温度補償を行うた
めに、各MOSトランジスタの寸法や抵抗11の値につ
いて次のような構成とする。
【0030】まず、第1のnチャネルMOSトランジス
タ15および第2のnチャネルMOSトランジスタ17
のチャネル幅およびチャネル長をそれぞれ等しくし、そ
れぞれのMOSトランジスタを流れる電流を等しくす
る。これは必須事項ではないが、設計を容易にするため
である。
【0031】そして、第1のpチャネルMOSトランジ
スタ13のチャネル幅とチャネル長との比を、第2のp
チャネルMOSトランジスタ15のチャネル幅とチャネ
ル長との比よりも大きくした上で、基準電圧出力が第2
のpチャネルMOSトランジスタ15のスレショールド
電圧の約1.5倍となるよう抵抗11の値を調整する。
【0032】抵抗11は温度依存性があってもよいが、
設計を容易にするためにできるだけ温度係数を0に近づ
けておく。
【0033】このような構成とすることにより、基準電
圧出力の温度補償が可能となる理由は以下の通りであ
る。
【0034】すなわち、第2のpチャネルMOSトラン
ジスタ15はゲートとドレインとを接続しているからダ
イオード接続で使用していることになり、このような接
続では、ソース・ドレイン間の電位差はスレショールド
電圧に比例することが知られている。
【0035】そしてMOSトランジスタのスレショール
ド電圧は温度の上昇と共に低下するから、第2のpチャ
ネルMOSトランジスタ15のソース・ドレイン間の電
位差、すなわち基準電圧出力は、温度の上昇と共に低下
しようとする。
【0036】一方、ダイオード接続のMOSトランジス
タのソース・ドレイン間の電位差は、電流の増加と共に
増加する。
【0037】したがって、第2のpチャネルMOSトラ
ンジスタ15を流れる電流が温度の上昇と共に増加する
ようにしておけば、スレショールド電圧の低下による基
準電圧出力の低下を打ち消すように働く。
【0038】このとき、抵抗11の値が高ければ第2の
pチャネルMOSトランジスタ15を流れる電流は減少
するので、打ち消し効果が不足して温度の上昇と共に基
準電圧出力は低下し、逆に抵抗11の値が低ければ第2
のpチャネルMOSトランジスタ15を流れる電流は上
昇するので、打ち消し効果が過剰になり温度の上昇とと
もに基準電圧出力は上昇する。
【0039】そこで抵抗11の値を適切に選べば、基準
電圧出力の温度変化がなくなる。このように、スレショ
ールド電圧の温度変化を電流の温度変化が打ち消すとい
うのが、本発明による温度補償型基準電圧発生回路の動
作原理である。
【0040】このような動作原理であるから、スレショ
ールド電圧の温度変化を打ち消すのに見合う電流値を選
ぶ必要があり、第2のpチャネルMOSトランジスタ1
5を流れる電流値を任意に設定することはできない。
【0041】そして、第2のpチャネルMOSトランジ
スタ15はダイオード接続であるから、電流値が決まれ
ば基準出力電圧も一義的に定まる。
【0042】したがって、本発明による温度補償型基準
電圧発生回路においては、出力する基準電圧の値を任意
に設定できるのではなく、第2のpチャネルMOSトラ
ンジスタ15のスレショールド電圧に応じてある値に決
定される。実測によれば、温度補償がなされている条件
での基準電圧の値は、第2のpチャネルMOSトランジ
スタ15のスレショールド電圧の約1.5倍である。
【0043】これが上記のような構成にしている理由で
ある。
【0044】次に本発明による温度補償型基準電圧発生
回路の基準電圧出力の温度特性の実測値を説明する。図
2は、図1に示す温度補償型基準電圧発生回路のマイナ
ス30℃〜プラス90℃の温度変化に対する基準電圧出
力の変化を示したグラフである。ただし、図1に示す温
度補償型基準電圧発生回路は高電位側の電源を基準電位
としているから、基準電圧出力は負の値であり、出力の
上昇や低下と数値の増加や減少との関係が混乱しないよ
う、縦軸は基準電圧出力の絶対値で示している。
【0045】また、実測の際に用いた回路定数は次の通
りである。
【0046】すなわち、抵抗11の温度係数は−0.0
88%/deg、第1のpチャネルMOSトランジスタ
13のチャネル幅およびチャネル長はそれぞれ50μm
および10μm、第2のpチャネルMOSトランジスタ
19のチャネル幅およびチャネル長はそれぞれ10μm
および20μm、第1のnチャネルMOSトランジスタ
15のチャネル幅およびチャネル長はそれぞれ10μm
および20μm、第2のnチャネルMOSトランジスタ
17のチャネル幅およびチャネル長はそれぞれ10μm
および20μmであり、各MOSトランジスタのスレシ
ョールド電圧の絶対値は0.7Vであり、電源電圧は
1.3V以上である。
【0047】そして、抵抗11の値が600kΩの場合
を曲線21に、500kΩの場合を曲線23に、そして
700kΩの場合を曲線25にそれぞれ示している。
【0048】図2に示す基準電圧出力の温度特性から明
らかなように、上記の回路定数の場合は、抵抗11の値
が600kΩのとき最適な温度補償が行われ、マイナス
30℃〜プラス90℃の温度変化に対する基準電圧出力
の変化は2mV以下である。
【0049】この温度特性を詳細に分析すると、どのよ
うな抵抗値であっても基準電圧出力の温度特性は完全な
直線にはならず、室温付近で若干持ち上がるという特性
を示す。
【0050】この特性は、低温側ではスレショールド電
圧の温度変化がわずかに強く、高温側では第2のpチャ
ネルMOSトランジスタ19を流れる電流の温度変化が
わずかに強いために現れるものであって、MOSトラン
ジスタの基本的な物理特性から生じているものであるか
ら、これ以上の改善は不可能である。
【0051】しかし、基準電圧出力の温度変化が2mV
以下であれば、実用上はほぼ完全に温度補償が行われて
いるとみなして差し支えない。
【0052】そしてこのように温度補償が行われている
とき、第2のpチャネルMOSトランジスタ19のスレ
ショールド電圧の絶対値が0.7Vであるのに対し、基
準電圧出力は1.04Vであってスレショールド電圧の
約1.5倍になっている。
【0053】なお、電源電圧の1Vの変化に対する基準
電圧出力の変化は0.2mVであり、電源電圧変動に対
する安定性はほぼ完璧である。
【0054】また、本発明における温度補償型基準電圧
発生回路では、温度係数が0に近い抵抗11を用いてい
るが、このような抵抗を形成することはきわめて容易で
ある。たとえば、多結晶シリコン膜に高濃度の不純物を
イオン注入すればよい。
【0055】次に本発明の他の実施の形態を詳述する。
図3は、n基板CMOSによる本発明の第2の実施の形
態における温度補償型基準電圧発生回路の構成を示す回
路図である。
【0056】図3の回路図に示すように、高電位側の電
源に抵抗11を接続し、抵抗11の他端にpチャネルM
OSトランジスタ13のソースを接続し、pチャネルM
OSトランジスタ13のドレインに第1のnチャネルM
OSトランジスタ15のドレインおよびゲートを接続す
る。
【0057】第1のnチャネルMOSトランジスタ15
のソースおよびバルクは低電位側の電源に接続する。
【0058】そして、第2のnチャネルMOSトランジ
スタ17のゲートを第1のnチャネルMOSトランジス
タ15のゲートに接続し、第2のnチャネルMOSトラ
ンジスタ17のソースおよびバルクを低電位側の電源に
接続する。
【0059】また、第2のnチャネルMOSトランジス
タ17のドレインに、第3のnチャネルMOSトランジ
スタ27のソースおよびバルクとpチャネルMOSトラ
ンジスタ13のゲートとを接続し、第3のnチャネルM
OSトランジスタ27のドレインおよびゲートを高電位
側の電源に接続する。
【0060】pチャネルMOSトランジスタ13のバル
クは、n基板CMOSであるから当然高電位側の電源に
接続する。以上の接続により基準電圧発生回路を構成し
ており、第3のnチャネルMOSトランジスタ27のソ
ースが、高電位側の電源を基準電位とする基準電圧出力
である。
【0061】そして、基準電圧の製造ばらつきを小さく
するために、pチャネルMOSトランジスタ13は、p
形多結晶シリコン膜をゲート電極とするエンハンスメン
ト型MOSトランジスタとし、第1のnチャネルMOS
トランジスタ15および第2のnチャネルMOSトラン
ジスタ17および第3のnチャネルMOSトランジスタ
27は、n形多結晶シリコン膜をゲート電極とするエン
ハンスメント型MOSトランジスタとする。
【0062】また、製造コストの上昇を防止し、かつ、
設計を容易にするために、nチャネルMOSトランジス
タ同士のスレショールド電圧を等しくしておく。
【0063】さらに、基準電圧出力の温度補償を行うた
めに、各MOSトランジスタの寸法や抵抗11の値につ
いて次のような構成とする。
【0064】まず、第1のnチャネルMOSトランジス
タ15および第2のnチャネルMOSトランジスタ17
のチャネル幅およびチャネル長をそれぞれ等しくし、そ
れぞれのMOSトランジスタを流れる電流を等しくす
る。これは必須事項ではないが、設計を容易にするため
である。
【0065】そして、第3のnチャネルMOSトランジ
スタ27のチャネル幅とチャネル長との比を、第1のn
チャネルMOSトランジスタ15のチャネル幅とチャネ
ル長との比よりも小さくした上で、基準電圧出力が第3
のnチャネルMOSトランジスタ27のスレショールド
電圧にほぼ等しくなるよう抵抗11の値を調整する。
【0066】抵抗11は温度依存性があってもよいが、
設計を容易にするためにできるだけ温度係数を0に近づ
けておく。
【0067】このような構成とすることにより基準電圧
出力の温度補償が可能となる理由は、第1の実施の形態
と同様であり、詳細な説明は省略する。
【0068】ただし、第1の実施の形態とは異なって、
第2の実施の形態では基準電圧を第3のnチャネルMO
Sトランジスタ27が出力しており、表面チャネル型の
MOSトランジスタの場合、nチャネルMOSトランジ
スタの方がpチャネルMOSトランジスタよりも温度依
存性が大きいので、第2の実施の形態の方が流れる電流
の温度変化が大きく、温度補償のためにはそれに見合う
分だけ動作点を移動させる必要があるから、基準電圧の
値を第3のnチャネルMOSトランジスタ27のスレシ
ョールド電圧にほぼ等しくなるようにしている。
【0069】以上は本発明による温度補償型基準電圧発
生回路のうち、n基板CMOSによる実施の形態を説明
したが、p基板CMOSによる実施の形態も可能である
ことは言うまでもない。
【0070】図1に示す第1の実施の形態に相当するp
基板CMOSによる温度補償型基準電圧発生回路の構成
を第3の実施の形態として図4に、また図3に示す第2
の実施の形態に相当するp基板CMOSによる温度補償
型基準電圧発生回路の構成を第4の実施の形態として図
5にそれぞれ示す。
【0071】p基板CMOSの場合は低電位側の電源が
基準電位となるが、そのことを除けば動作原理などはn
基板CMOSによる温度補償型基準電圧発生回路と同様
であり、詳細な説明は省略する。
【0072】ただし、p基板CMOSの場合はn基板C
MOSに比べてスレショールド電圧に対する基準電圧の
倍率が多少異なり、図4に示す第3の実施の形態では約
1.6倍であり、図5に示す第4の実施の形態では約
1.5倍である。
【0073】以上のように実施の形態に基づき本発明を
具体的に説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
の変更が可能であることは言うまでもない。
【0074】たとえば、図1に示す第1の実施の形態お
よび図3に示す第2の実施の形態における温度補償型基
準電圧発生回路の構成は、n基盤CMOSへの適用が望
ましいが、バルクの接続に注意すれば、p基板CMOS
へ適用することも不可能ではない。
【0075】同様に、図4に示す第3の実施の形態およ
び図5に示す第4の実施の形態における温度補償型基準
電圧発生回路の構成は、p基盤CMOSへの適用が望ま
しいが、バルクの接続に注意すれば、n基板CMOSへ
適用することも不可能ではない。
【0076】
【発明の効果】以上のように、表面チャネル型のMOS
トランジスタであるエンハンスメント型MOSトランジ
スタと抵抗のみで温度補償型基準電圧発生回路を構成す
ることにより、基準電圧出力の製造ばらつきを小さくす
ることができる。
【0077】したがって、特に低電圧で使用するために
基準電圧の高精度化の要求が厳しい携帯電子機器搭載用
の温度補償型基準電圧発生回路に適用するならば、その
効果は極めて大きい。
【0078】また製造するMOSトランジスタの種類が
少なくて済むため、ディプレション型MOSトランジス
タを用いる場合よりも製造コストを低くすることがで
き、製造工程管理も容易になるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態における温度補償型
基準電圧発生回路の構成を示す回路図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態における温度補償型
基準電圧発生回路の温度特性を示すグラフである。
【図3】本発明の第2の実施の形態における温度補償型
基準電圧発生回路の構成を示す回路図である。
【図4】本発明の第3の実施の形態における温度補償型
基準電圧発生回路の構成を示す回路図である。
【図5】本発明の第4の実施の形態における温度補償型
基準電圧発生回路の構成を示す回路図である。
【図6】従来例における温度補償型基準電圧発生回路の
構成を示す回路図である。
【符号の説明】
11 抵抗 13 第1のpチャネルMOSトランジスタ 15 第1のnチャネルMOSトランジスタ 17 第2のnチャネルMOSトランジスタ 19 第2のpチャネルMOSトランジスタ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高電位側の電源に一端を接続する抵抗
    と、該抵抗の他端にソースを接続する第1のpチャネル
    MOSトランジスタと、該第1のpチャネルMOSトラ
    ンジスタのドレインにゲートおよびドレインを接続し低
    電位側の電源にソースおよびバルクを接続する第1のn
    チャネルMOSトランジスタと、該第1のnチャネルM
    OSトランジスタのゲートにゲートを接続し低電位側の
    電源にソースおよびバルクを接続する第2のnチャネル
    MOSトランジスタと、高電位側の電源にソースおよび
    バルクを接続しドレインおよびゲートを前記第1のpチ
    ャネルMOSトランジスタのゲートおよび前記第2のn
    チャネルMOSトランジスタのドレインに接続する第2
    のpチャネルMOSトランジスタとを備え、前記第1の
    pチャネルMOSトランジスタおよび第2のpチャネル
    MOSトランジスタはp形多結晶シリコン膜をゲート電
    極とするスレショールド電圧が等しいエンハンスメント
    型MOSトランジスタとし、前記第1のnチャネルMO
    Sトランジスタおよび第2のnチャネルMOSトランジ
    スタはn形多結晶シリコン膜をゲート電極とするスレシ
    ョールド電圧が等しいエンハンスメント型MOSトラン
    ジスタとし、前記第1のnチャネルMOSトランジスタ
    のチャネル幅およびチャネル長を第2のnチャネルMO
    Sトランジスタのチャネル幅およびチャネル長に等しく
    し、前記第1のpチャネルMOSトランジスタのチャネ
    ル幅とチャネル長との比を前記第2のpチャネルMOS
    トランジスタのチャネル幅とチャネル長との比よりも大
    きくし、高電位側の電源を基準電位とし、前記第2のp
    チャネルMOSトランジスタのドレインを基準電圧出力
    とし、前記抵抗値の調整により前記基準電圧出力の大き
    さが前記第2のpチャネルMOSトランジスタのスレシ
    ョールド電圧の約1.5倍になっていることを特徴とす
    る温度補償型基準電圧発生回路。
  2. 【請求項2】 高電位側の電源に一端を接続する抵抗
    と、該抵抗の他端にソースを接続するpチャネルMOS
    トランジスタと、該pチャネルMOSトランジスタのド
    レインにゲートおよびドレインを接続し低電位側の電源
    にソースおよびバルクを接続する第1のnチャネルMO
    Sトランジスタと、該第1のnチャネルMOSトランジ
    スタのゲートにゲートを接続し低電位側の電源にソース
    およびバルクを接続する第2のnチャネルMOSトラン
    ジスタと、高電位側の電源にドレインおよびゲートを接
    続しソースおよびバルクを前記第1のpチャネルMOS
    トランジスタのゲートおよび前記第2のnチャネルMO
    Sトランジスタのドレインに接続する第3のnチャネル
    MOSトランジスタとを備え、前記pチャネルMOSト
    ランジスタは、p形多結晶シリコン膜をゲート電極とす
    るエンハンスメント型MOSトランジスタとし、前記第
    1のnチャネルMOSトランジスタおよび第2のnチャ
    ネルMOSトランジスタおよび第3のnチャネルMOS
    トランジスタは、n形多結晶シリコン膜をゲート電極と
    するスレショールド電圧が等しいエンハンスメント型M
    OSトランジスタとし、前記第1のnチャネルMOSト
    ランジスタのチャネル幅およびチャネル長を第2のnチ
    ャネルMOSトランジスタのチャネル幅およびチャネル
    長に等しくし、前記第3のnチャネルMOSトランジス
    タのチャネル幅とチャネル長との比を第1のnチャネル
    MOSトランジスタのチャネル幅とチャネル長との比よ
    りも小さくし、高電位側の電源を基準電位とし、前記第
    3のnチャネルMOSトランジスタのソースを基準電圧
    出力とし、前記抵抗値の調整により前記基準電圧出力の
    大きさが前記第3のnチャネルMOSトランジスタのス
    レショールド電圧にほぼ等しくなっていることを特徴と
    する温度補償型基準電圧発生回路。
  3. 【請求項3】 低電位側の電源に一端を接続する抵抗
    と、該抵抗の他端にソースを接続する第1のnチャネル
    MOSトランジスタと、該第1のnチャネルMOSトラ
    ンジスタのドレインにゲートおよびドレインを接続し高
    電位側の電源にソースおよびバルクを接続する第1のp
    チャネルMOSトランジスタと、該第1のpチャネルM
    OSトランジスタのゲートにゲートを接続し高電位側の
    電源にソースおよびバルクを接続する第2のpチャネル
    MOSトランジスタと、低電位側の電源にソースおよび
    バルクを接続しドレインおよびゲートを前記第1のnチ
    ャネルMOSトランジスタのゲートおよび前記第2のp
    チャネルMOSトランジスタのドレインに接続する第2
    のnチャネルMOSトランジスタとを備え、前記第1の
    pチャネルMOSトランジスタおよび第2のpチャネル
    MOSトランジスタはp形多結晶シリコン膜をゲート電
    極とするスレショールド電圧が等しいエンハンスメント
    型MOSトランジスタとし、前記第1のnチャネルMO
    Sトランジスタおよび第2のnチャネルMOSトランジ
    スタはn形多結晶シリコン膜をゲート電極とするスレシ
    ョールド電圧が等しいエンハンスメント型MOSトラン
    ジスタとし、前記第1のpチャネルMOSトランジスタ
    のチャネル幅およびチャネル長を第2のpチャネルMO
    Sトランジスタのチャネル幅およびチャネル長に等しく
    し、前記第1のnチャネルMOSトランジスタのチャネ
    ル幅とチャネル長との比を前記第2のnチャネルMOS
    トランジスタのチャネル幅とチャネル長との比よりも大
    きくし、低電位側の電源を基準電位とし、前記第2のn
    チャネルMOSトランジスタのドレインを基準電圧出力
    とし、前記抵抗値の調整により前記基準電圧出力の大き
    さが前記第2のnチャネルMOSトランジスタのスレシ
    ョールド電圧の約1.6倍になっていることを特徴とす
    る温度補償型基準電圧発生回路。
  4. 【請求項4】 低電位側の電源に一端を接続する抵抗
    と、該抵抗の他端にソースを接続するnチャネルMOS
    トランジスタと、該nチャネルMOSトランジスタのド
    レインにゲートおよびドレインを接続し高電位側の電源
    にソースおよびバルクを接続する第1のpチャネルMO
    Sトランジスタと、該第1のpチャネルMOSトランジ
    スタのゲートにゲートを接続し高電位側の電源にソース
    およびバルクを接続する第2のpチャネルMOSトラン
    ジスタと、低電位側の電源にドレインおよびゲートを接
    続しソースおよびバルクを前記第1のnチャネルMOS
    トランジスタのゲートおよび前記第2のpチャネルMO
    Sトランジスタのドレインに接続する第3のpチャネル
    MOSトランジスタとを備え、前記nチャネルMOSト
    ランジスタをn形多結晶シリコン膜をゲート電極とする
    エンハンスメント型MOSトランジスタとし、前記第1
    のpチャネルMOSトランジスタおよび第2のpチャネ
    ルMOSトランジスタおよび第3のpチャネルMOSト
    ランジスタをp形多結晶シリコン膜をゲート電極とする
    スレショールド電圧が等しいエンハンスメント型MOS
    トランジスタとし、前記第1のpチャネルMOSトラン
    ジスタのチャネル幅およびチャネル長を第2のpチャネ
    ルMOSトランジスタのチャネル幅およびチャネル長に
    等しくし、 前記第3のpチャネルMOSトランジスタ
    のチャネル幅とチャネル長との比を前記第1のpチャネ
    ルMOSトランジスタのチャネル幅とチャネル長との比
    よりも小さくし、低電位側の電源を基準電位とし、前記
    第3のpチャネルMOSトランジスタのソースを基準電
    圧出力とし、前記抵抗値の調整により前記基準電圧出力
    の大きさが前記第3のpチャネルMOSトランジスタの
    スレショールド電圧の約1.5倍になっていることを特
    徴とする温度補償型基準電圧発生回路。
JP14184396A 1996-06-04 1996-06-04 温度補償型基準電圧発生回路 Pending JPH09325826A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006965A (ja) * 2000-06-20 2002-01-11 Citizen Watch Co Ltd レギュレータ回路およびこれを用いた回路
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JP2008236629A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Seiko Epson Corp 発振装置、半導体装置、電子機器および時計
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CN110061705A (zh) * 2019-04-22 2019-07-26 西安拓尔微电子有限责任公司 一种带温度补偿的内置Regulator电路及其实现方法

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