JPH09320937A - 電子線描画装置用ウエハ搬送装置 - Google Patents
電子線描画装置用ウエハ搬送装置Info
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- JPH09320937A JPH09320937A JP8134937A JP13493796A JPH09320937A JP H09320937 A JPH09320937 A JP H09320937A JP 8134937 A JP8134937 A JP 8134937A JP 13493796 A JP13493796 A JP 13493796A JP H09320937 A JPH09320937 A JP H09320937A
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- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 title abstract description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 17
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 75
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の目的は信頼性が高く、ウエハの高速搬
送が可能な電子線描画装置用ウェハ搬送装置を提供する
ことにある。 【解決手段】搬送ア−ム１１はウエハカセット９からカ
セットを取り出し、回転台１２に搬送し、ここでアライ
メントを行う。その後、ア−ム１１はそのウエハを試料
交換室１に搬送し、そのウエハはア−ム２によって試料
ステ−ジ１４に搬送され、描画される。一方、描画済み
ウエハはア−ム６によって試料交換室５に搬送され、更
に搬送ア−ム１１によってウエハカセット９に搬送さ
れ、収納される。描画済みウエハの試料ステ−ジからの
搬出と新しいウエハの試料ステ−ジへの搬入は並列的に
行われる。
送が可能な電子線描画装置用ウェハ搬送装置を提供する
ことにある。 【解決手段】搬送ア−ム１１はウエハカセット９からカ
セットを取り出し、回転台１２に搬送し、ここでアライ
メントを行う。その後、ア−ム１１はそのウエハを試料
交換室１に搬送し、そのウエハはア−ム２によって試料
ステ−ジ１４に搬送され、描画される。一方、描画済み
ウエハはア−ム６によって試料交換室５に搬送され、更
に搬送ア−ム１１によってウエハカセット９に搬送さ
れ、収納される。描画済みウエハの試料ステ−ジからの
搬出と新しいウエハの試料ステ−ジへの搬入は並列的に
行われる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子線描画装置用ウ
エハ搬送装置、特に半導体製造分野において用いられる
のに適した電子線描画装置用ウェハ搬送装置に関する。
エハ搬送装置、特に半導体製造分野において用いられる
のに適した電子線描画装置用ウェハ搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子線描画装置は描画速度が遅
く、高速の試料交換を必要としなかった。しかし、近
年、部分一括露光、連続移動描画法等の技術開発により
描画時間が相対的に短縮され、ウェハ交換時間が大きな
無駄時間となってきている。
く、高速の試料交換を必要としなかった。しかし、近
年、部分一括露光、連続移動描画法等の技術開発により
描画時間が相対的に短縮され、ウェハ交換時間が大きな
無駄時間となってきている。
【０００３】従来のウェハ交換機構を大別すると、スト
ッカ方式と予備排気方式の２方式がある。ストッカ方式
は多数の搬送治具（パレット）を真空容器（交換室）内
に配置し、ウェハ充填後に一括して真空排気する方式で
ある。そのため、個々のウェハを搬送する場合に比べて
全体としては高速排気が可能である。一方、予備排気方
式は交換室と真空的に遮断できる予備排気室を設けたこ
とを特徴としている。描画や試料室へのウェハ搬送と並
行して予備排気室の真空排気、ベントを実行するため、
比較的少数の２〜３枚のパレットで効率的な搬送が可能
である。
ッカ方式と予備排気方式の２方式がある。ストッカ方式
は多数の搬送治具（パレット）を真空容器（交換室）内
に配置し、ウェハ充填後に一括して真空排気する方式で
ある。そのため、個々のウェハを搬送する場合に比べて
全体としては高速排気が可能である。一方、予備排気方
式は交換室と真空的に遮断できる予備排気室を設けたこ
とを特徴としている。描画や試料室へのウェハ搬送と並
行して予備排気室の真空排気、ベントを実行するため、
比較的少数の２〜３枚のパレットで効率的な搬送が可能
である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら両方式と
も以下の問題があった。すなわち、ストッカ方式ではウ
ェハ充填枚数が少ない場合、かえって効率が悪くなる。
また、高速化のためには強力な排気系が必要となる。予
備排気方式では予備排気室の容量を最小限にすれば排気
時間は小さくなるが、一般に真空内の搬送系が複雑であ
り、搬送経路の増大が場合により高速化の阻害要因とな
る。いずれにしても、近年電子線描画装置を生産ライン
に適用するためには更に高信頼化と高速化が要求されて
いる。
も以下の問題があった。すなわち、ストッカ方式ではウ
ェハ充填枚数が少ない場合、かえって効率が悪くなる。
また、高速化のためには強力な排気系が必要となる。予
備排気方式では予備排気室の容量を最小限にすれば排気
時間は小さくなるが、一般に真空内の搬送系が複雑であ
り、搬送経路の増大が場合により高速化の阻害要因とな
る。いずれにしても、近年電子線描画装置を生産ライン
に適用するためには更に高信頼化と高速化が要求されて
いる。
【０００５】本発明の目的は信頼性が高く、ウエハの高
速搬送が可能な電子線描画装置用ウェハ搬送装置を提供
することにある。
速搬送が可能な電子線描画装置用ウェハ搬送装置を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の電子線描画装置
用ウェハ搬送装置は、真空にされた試料室と、該試料室
内に配置された試料ステ−ジと、前記試料室に隣接して
設けられた第１及び第２の試料交換室と、前記試料ステ
−ジと前記第１の試料交換室との間及び前記試料ステ−
ジと前記第２の試料交換室との間でウエハを搬送する第
１及び第２の搬送装置と、ウエハを収納するウエハカセ
ットと、ウエハをアライメントするアライメント装置
と、ウエハを前記ウエハカセットから前記アライメント
装置へ搬送し、該アライメント装置から前記第１又は第
２の試料交換室へ選択的に搬送し、更に該第１又は第２
の試料交換室から前記ウエハカセットへ選択的に搬送す
る第３の搬送装置とを含んでいることを特徴とする。
用ウェハ搬送装置は、真空にされた試料室と、該試料室
内に配置された試料ステ−ジと、前記試料室に隣接して
設けられた第１及び第２の試料交換室と、前記試料ステ
−ジと前記第１の試料交換室との間及び前記試料ステ−
ジと前記第２の試料交換室との間でウエハを搬送する第
１及び第２の搬送装置と、ウエハを収納するウエハカセ
ットと、ウエハをアライメントするアライメント装置
と、ウエハを前記ウエハカセットから前記アライメント
装置へ搬送し、該アライメント装置から前記第１又は第
２の試料交換室へ選択的に搬送し、更に該第１又は第２
の試料交換室から前記ウエハカセットへ選択的に搬送す
る第３の搬送装置とを含んでいることを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】図２を参照するに、電子線描画装
置は、電子線１７が偏向器１９と電子レンズ１８により
ＸＹ試料ステ−ジ１４によって保持されたウェハ１６上
の所望の位置に照射され、回路パターン等を形成するも
のである。ウエハ１４の所望位置は電子線１７の偏向範
囲に対してＸＹ試料ステージ１４を駆動モータ１５で移
動することにより決定（位置決め）される。更に、描画
装置にはウエハカセット９内のウエハ１６の試料ステー
ジ１４への移動のため、一般に真空バルブ２１を有する
交換室２０が設けられている。試料ステ−ジ１４上のウ
エハ１６は描画すべきウェハ１６とこれが収納されたカ
セット９からエアーロック機構を介して交換される。
置は、電子線１７が偏向器１９と電子レンズ１８により
ＸＹ試料ステ−ジ１４によって保持されたウェハ１６上
の所望の位置に照射され、回路パターン等を形成するも
のである。ウエハ１４の所望位置は電子線１７の偏向範
囲に対してＸＹ試料ステージ１４を駆動モータ１５で移
動することにより決定（位置決め）される。更に、描画
装置にはウエハカセット９内のウエハ１６の試料ステー
ジ１４への移動のため、一般に真空バルブ２１を有する
交換室２０が設けられている。試料ステ−ジ１４上のウ
エハ１６は描画すべきウェハ１６とこれが収納されたカ
セット９からエアーロック機構を介して交換される。
【０００８】図１を参照するに、真空にされた試料室１
３の壁面１３ａに２系統の真空内搬送系を設けている。
真空内搬送系は、第１の試料交換室１、第１のパレット
搬送アーム２とその駆動モータ８、ウェハを保持する搬
送パレット３を含む第１の真空内搬送系と、第１の真空
内搬送系と同じ構成の第２の試料交換室５、第２の搬送
アーム６とその駆動モータ４、ウエハを保持する搬送パ
レット７を含む第２の真空内搬送系で構成される。
３の壁面１３ａに２系統の真空内搬送系を設けている。
真空内搬送系は、第１の試料交換室１、第１のパレット
搬送アーム２とその駆動モータ８、ウェハを保持する搬
送パレット３を含む第１の真空内搬送系と、第１の真空
内搬送系と同じ構成の第２の試料交換室５、第２の搬送
アーム６とその駆動モータ４、ウエハを保持する搬送パ
レット７を含む第２の真空内搬送系で構成される。
【０００９】試料ステ−ジ１４と試料交換室１、５間の
パレット７の搬送（直線移動）は保持機能を有する搬送
ロボットを用いて行われる。図では直線移動を高速度に
実現するために、第１、第２の搬送ア−ム２、６をリニ
アガイド可動部に固定し、該可動部をボ−ルネジで送
り、制御する例を示している。高速交換のためには、第
１、第２の搬送ア−ム２、６を同時に駆動してパレット
７の出し入れを実行する方式が考えられる。その場合、
パレット７を搬入する試料ステ−ジ１４上での第１、第
２の搬送ア−ム２、６間の機械的干渉を考慮する必要が
ある。そのためにには、一方の搬送ア−ムに上下移動機
構を設け、各パレットと搬送ア−ム間の移動時の機械的
クリアランスを設けて干渉を防止すればよい。
パレット７の搬送（直線移動）は保持機能を有する搬送
ロボットを用いて行われる。図では直線移動を高速度に
実現するために、第１、第２の搬送ア−ム２、６をリニ
アガイド可動部に固定し、該可動部をボ−ルネジで送
り、制御する例を示している。高速交換のためには、第
１、第２の搬送ア−ム２、６を同時に駆動してパレット
７の出し入れを実行する方式が考えられる。その場合、
パレット７を搬入する試料ステ−ジ１４上での第１、第
２の搬送ア−ム２、６間の機械的干渉を考慮する必要が
ある。そのためにには、一方の搬送ア−ムに上下移動機
構を設け、各パレットと搬送ア−ム間の移動時の機械的
クリアランスを設けて干渉を防止すればよい。
【００１０】大気中のウェハ搬送は予め定められた点を
中心として旋回が可能で、かつ伸縮が可能な旋回アーム
１１を含む搬送装置によって実行される。すなわち、旋
回アーム１１はウェハカセット９、回転台１２、第１の
試料換室１と第２の試料交換室５間の相互搬送に使用さ
れる。アライメント装置の回転台１２はウェハ１６を回
転し、オリエンテーションフラット等を検知し、挿入方
向にウェハを位置決めする。旋回アーム１１は回転台１
２上のウェハを第１の試料交換室１又は第２の試料交換
室５内に搬送する。描画済のウェハは旋回アーム１１に
より直接交換室からウエハカセットへ搬送する。
中心として旋回が可能で、かつ伸縮が可能な旋回アーム
１１を含む搬送装置によって実行される。すなわち、旋
回アーム１１はウェハカセット９、回転台１２、第１の
試料換室１と第２の試料交換室５間の相互搬送に使用さ
れる。アライメント装置の回転台１２はウェハ１６を回
転し、オリエンテーションフラット等を検知し、挿入方
向にウェハを位置決めする。旋回アーム１１は回転台１
２上のウェハを第１の試料交換室１又は第２の試料交換
室５内に搬送する。描画済のウェハは旋回アーム１１に
より直接交換室からウエハカセットへ搬送する。
【００１１】ウェハ交換時間で問題となる真空排気ベン
ト時間は図３又は図４に示す機構により最小限にでき
る。図３、４は第１の試料交換室１を例に示すが、第２
の試料交換室５も全く同一の機構とする。
ト時間は図３又は図４に示す機構により最小限にでき
る。図３、４は第１の試料交換室１を例に示すが、第２
の試料交換室５も全く同一の機構とする。
【００１２】まず、図３は、試料交換室１の試料交換口
を試料交換室１の内側からウエハ１６を保持するパレッ
ト３を受ける受けを兼ねるエアロックバルブ２２により
真空的に閉じる（遮断する）方式である。試料交換口は
更に試料交換室の外部側からも試料交換蓋２２によって
真空的に閉じられる。これによって、試料交換蓋２２と
エアロックバルブ２２の間には搬送ア−ム１１で搬送さ
れてきたウエハ１６がこれを保持するパレット３と共に
収容される真空排気容量の小さい閉空間が形成される。
この閉空間はロータリポンプ等で排気穴２４から１０Ｐ
ａ程度の低真空に排気される。その後、エアロックバル
ブ２２は下方に移動され、パレット３は試料交換室１に
完全に入り、搬送ア−ム２により試料室１３内の試料ス
テ−ジ１４上に搬送し得る準備ができあがる。閉空間は
排気容量が小さいため試料交換室１は容易に試料室１３
の高真空に達し、試料室１３の真空度低下も微小であ
る。機構的には試料室１３から直接高真空に排気できる
ため新たに交換機構用の高真空用ポンプを必要としな
い。
を試料交換室１の内側からウエハ１６を保持するパレッ
ト３を受ける受けを兼ねるエアロックバルブ２２により
真空的に閉じる（遮断する）方式である。試料交換口は
更に試料交換室の外部側からも試料交換蓋２２によって
真空的に閉じられる。これによって、試料交換蓋２２と
エアロックバルブ２２の間には搬送ア−ム１１で搬送さ
れてきたウエハ１６がこれを保持するパレット３と共に
収容される真空排気容量の小さい閉空間が形成される。
この閉空間はロータリポンプ等で排気穴２４から１０Ｐ
ａ程度の低真空に排気される。その後、エアロックバル
ブ２２は下方に移動され、パレット３は試料交換室１に
完全に入り、搬送ア−ム２により試料室１３内の試料ス
テ−ジ１４上に搬送し得る準備ができあがる。閉空間は
排気容量が小さいため試料交換室１は容易に試料室１３
の高真空に達し、試料室１３の真空度低下も微小であ
る。機構的には試料室１３から直接高真空に排気できる
ため新たに交換機構用の高真空用ポンプを必要としな
い。
【００１３】図４はパレット３がエアロックバルブを兼
用している例で、図３と同様にウェハ１６を囲むように
真空的に遮断された小さい閉空間を形成し、この空間を
真空排気ベント２４を通して真空排気する。図４によれ
ば、付加的な真空バルブ機構としては試料交換室蓋２３
のみであり、したがって最も単純なエアーロック機構を
提供する。
用している例で、図３と同様にウェハ１６を囲むように
真空的に遮断された小さい閉空間を形成し、この空間を
真空排気ベント２４を通して真空排気する。図４によれ
ば、付加的な真空バルブ機構としては試料交換室蓋２３
のみであり、したがって最も単純なエアーロック機構を
提供する。
【００１４】図５はウエハ交換動作フロ−を示す。図５
では上から下に時間経過とそれに伴う処理内容を示して
いる。第１と第２の真空内搬送系で描画ステージ１４で
のパレット交換が同期される。また真空外のウェハ搬送
系は各交換室蓋が開状態となってウェハ交換を開始す
る。これらの時間的同期点まで処理が先行した場合は処
理待ち状態となる。通常は図５でステージからのパレッ
ト交換以外はすべて描画処理時間に処理可能であり、極
めて効率的なウェハ交換が可能である。
では上から下に時間経過とそれに伴う処理内容を示して
いる。第１と第２の真空内搬送系で描画ステージ１４で
のパレット交換が同期される。また真空外のウェハ搬送
系は各交換室蓋が開状態となってウェハ交換を開始す
る。これらの時間的同期点まで処理が先行した場合は処
理待ち状態となる。通常は図５でステージからのパレッ
ト交換以外はすべて描画処理時間に処理可能であり、極
めて効率的なウェハ交換が可能である。
【００１５】具体的にウエハ交換動作を説明する。図５
のフロ−図は描画が完了し、ウエハを試料ステ−ジから
第１真空内搬送系の第１試料交換室へ取り出す動作を起
点としている（Ｓ１）。第１真空内搬送系の試料ステ−
ジより試料交換室に搬出されたウエハはエアロックバル
ブを閉（オン）とした（Ｓ２）後、大気圧までベントさ
れる（Ｓ３）。試料交換室蓋を開とし（Ｓ４）、ウエハ
搬送系によりウエハの取り出し、ウエハカセットへの収
納が実行される（Ｓ５）。すなわち、ウエハ搬送系は既
にウエハカセットからウエハを取り出し、アライメント
用回転台に搬送し（Ｓ６）、同回転台で挿入方向に位置
決めしておく（Ｓ７）。ウエハ搬送系はこの状態におい
て試料交換蓋が開となると同時に試料交換室内のウエハ
を取り出し（Ｓ７）、ウエハカセットに搬出し（Ｓ
８）、回転台上のウエハを試料交換室のパレットに挿入
する（Ｓ９）。ウエハが試料交換室のパレットに挿入さ
れると、第１の真空内搬送系は試料交換室の蓋を閉とし
（Ｓ１０）、真空排気する（ＳＳ１１）。真空排気後、
エアロックバルブが開（オフ）となり（Ｓ１２）、試料
ステ−ジ上にウエハを保持したパレットを転送する（Ｓ
１３）。転送されたウエハは描画され（Ｓ１４）、その
終了後、ウエハについては同様の手順で搬送、交換が実
行される（Ｓ１５）。
のフロ−図は描画が完了し、ウエハを試料ステ−ジから
第１真空内搬送系の第１試料交換室へ取り出す動作を起
点としている（Ｓ１）。第１真空内搬送系の試料ステ−
ジより試料交換室に搬出されたウエハはエアロックバル
ブを閉（オン）とした（Ｓ２）後、大気圧までベントさ
れる（Ｓ３）。試料交換室蓋を開とし（Ｓ４）、ウエハ
搬送系によりウエハの取り出し、ウエハカセットへの収
納が実行される（Ｓ５）。すなわち、ウエハ搬送系は既
にウエハカセットからウエハを取り出し、アライメント
用回転台に搬送し（Ｓ６）、同回転台で挿入方向に位置
決めしておく（Ｓ７）。ウエハ搬送系はこの状態におい
て試料交換蓋が開となると同時に試料交換室内のウエハ
を取り出し（Ｓ７）、ウエハカセットに搬出し（Ｓ
８）、回転台上のウエハを試料交換室のパレットに挿入
する（Ｓ９）。ウエハが試料交換室のパレットに挿入さ
れると、第１の真空内搬送系は試料交換室の蓋を閉とし
（Ｓ１０）、真空排気する（ＳＳ１１）。真空排気後、
エアロックバルブが開（オフ）となり（Ｓ１２）、試料
ステ−ジ上にウエハを保持したパレットを転送する（Ｓ
１３）。転送されたウエハは描画され（Ｓ１４）、その
終了後、ウエハについては同様の手順で搬送、交換が実
行される（Ｓ１５）。
【００１６】一方、第２の真空内搬送系では次のウエハ
が同様の搬送手順で第２の試料交換室で大気状態にあり
（Ｓ１３´）、第１の真空内搬送系がウエハを搬出する
と同時にウエハを試料ステ−ジに搬入し、描画が実行さ
れる（Ｓ１４´）。以上を並列に繰り返すことにより交
換無駄時間を最小限にすることができる。
が同様の搬送手順で第２の試料交換室で大気状態にあり
（Ｓ１３´）、第１の真空内搬送系がウエハを搬出する
と同時にウエハを試料ステ−ジに搬入し、描画が実行さ
れる（Ｓ１４´）。以上を並列に繰り返すことにより交
換無駄時間を最小限にすることができる。
【００１７】第２の真空内搬送系の一連の処理ステップ
は第１の真空内搬送系のそれと同じで、タイミングがず
れているだけであるので、前者のステップの符号は後者
のステップの符号にプライム符号を付して示した。
は第１の真空内搬送系のそれと同じで、タイミングがず
れているだけであるので、前者のステップの符号は後者
のステップの符号にプライム符号を付して示した。
【００１８】なお、以上の制御は、図示は省略したが、
コンピュ−タを用いて行われる。
コンピュ−タを用いて行われる。
【００１９】以上の説明から明らかなように、真空内搬
送系を２系統設けてあるので、同時に並列処理ができ、
高速なウェハ交換が可能となる。また、ウェハ周囲のみ
を限定して真空排気するようにしているので、真空排気
ベント時間を最小限にすることができる。試料交換時の
排気容量や機構系の動作が最小限であり、並列処理で問
題となる描画精度への影響も少なく、コストダウンと高
信頼化が可能である。信頼性については真空内の搬送系
が２系統あるため１系統が故障しても他の１系統でウェ
ハ交換が可能である。
送系を２系統設けてあるので、同時に並列処理ができ、
高速なウェハ交換が可能となる。また、ウェハ周囲のみ
を限定して真空排気するようにしているので、真空排気
ベント時間を最小限にすることができる。試料交換時の
排気容量や機構系の動作が最小限であり、並列処理で問
題となる描画精度への影響も少なく、コストダウンと高
信頼化が可能である。信頼性については真空内の搬送系
が２系統あるため１系統が故障しても他の１系統でウェ
ハ交換が可能である。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、信頼性が高く、ウエハ
の高速搬送が可能な電子線描画装置用ウェハ搬送装置が
提供される。
の高速搬送が可能な電子線描画装置用ウェハ搬送装置が
提供される。
【図１】本発明の一実施例を示す電子線描画装置用ウェ
ハ交換装置の平断面図。
ハ交換装置の平断面図。
【図２】電子線描画装置の概念図。
【図３】図１の試料交換室の断面図。
【図４】図３に示される試料交換室の変形例を示す断面
図。
図。
【図５】本発明にもとづくウェハ交換動作フロ−図。
１：第１の試料交換室、２：第１のパレット搬送アー
ム、３：第１パレット、４：第１搬送アーム駆動モー
タ、５：第２の試料交換室、６：第２パレット搬送アー
ム、７：第２ニパレット、８：第ニ搬送アーム駆動モー
タ、９：ウェハパレット、１０：カセット移動台、１
１：ウェハ搬送アーム、１２：回転台、１３：試料室、
１４：ＸＹ試料ステージ、１５：ステージ駆動モータ、
１６：ウェハ、１７：電子線、１８：電子レンズ、１
９：偏向器、２０：交換室、２１：真空バルブ、２２：
エアロクバルブ、２３：…第１試料交換室蓋、２４…真
空排気ベント穴。
ム、３：第１パレット、４：第１搬送アーム駆動モー
タ、５：第２の試料交換室、６：第２パレット搬送アー
ム、７：第２ニパレット、８：第ニ搬送アーム駆動モー
タ、９：ウェハパレット、１０：カセット移動台、１
１：ウェハ搬送アーム、１２：回転台、１３：試料室、
１４：ＸＹ試料ステージ、１５：ステージ駆動モータ、
１６：ウェハ、１７：電子線、１８：電子レンズ、１
９：偏向器、２０：交換室、２１：真空バルブ、２２：
エアロクバルブ、２３：…第１試料交換室蓋、２４…真
空排気ベント穴。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ // Ｇ２１Ｋ 5/04 Ｇ２１Ｋ 5/04 Ｍ
Claims (6)
- 【請求項１】真空にされた試料室と、該試料室内に配置
された試料ステ−ジと、前記試料室に隣接して設けられ
た第１及び第２の試料交換室と、前記試料ステ−ジと前
記第１の試料交換室との間及び前記試料ステ−ジと前記
第２の試料交換室との間でウエハを搬送する第１及び第
２の搬送装置と、ウエハを収納するウエハカセットと、
ウエハをアライメントするアライメント装置と、ウエハ
を前記ウエハカセットから前記アライメント装置へ搬送
し、該アライメント装置から前記第１又は第２の試料交
換室へ選択的に搬送し、更に該第１又は第２の試料交換
室から前記ウエハカセットへ選択的に搬送する第３の搬
送装置とを含んでいることを特徴とする電子線描画装置
用ウエハ搬送装置。 - 【請求項２】前記試料ステ−ジと前記第１の試料交換室
との間のウエハ搬送又は前記試料ステ−ジと前記第２の
試料交換室との間のウエハ搬送の一方が前記試料ステ−
ジへのウエハ搬入のためであるときは他方が前記試料ス
テ−ジからのウエハ搬出のためであるようになされてい
ることを特徴とする請求項２に記載された電子線描画装
置用ウエハ搬送装置。 - 【請求項３】前記第１及び第２の試料交換室の各々は試
料交換口を有し、該試料交換口は対応する試料交換室の
内側からは該試料交換室に搬送されるウエハを受ける受
けを兼ねたエアロックバルブによって真空的に開閉され
得るようになっていると共に、前記対応する試料交換室
の外部側からは試料交換蓋によって真空的に開閉され得
るようになっており、前記試料交換口が前記エアロック
バルブ及び試料交換蓋によって真空的に閉じられたとき
はそれらの間には前記エアロックバルブによって受けら
れたウエハを収容する閉空間が形成され、該閉空間は真
空排気され得るようになっていることを特徴とする請求
項１又は２に記載された電子線描画装置用ウエハ搬送装
置。 - 【請求項４】前記試料ステ−ジと前記第１の試料交換室
との間でのウエハの搬送及び前記試料ステ−ジと前記第
２の試料交換室との間でのウエハの搬送はそれらのウエ
ハがパレットによって保持された状態で行われることを
特徴とする請求項３に記載された電子線描画装置用ウエ
ハ搬送装置。 - 【請求項５】前記パレットは前記試料交換室に搬送され
るウエハを受ける受けを兼ねていると共に前記エアロッ
クバルブを兼ねていることを特徴とする請求項４に記載
された電子線描画装置用ウエハ搬送装置。 - 【請求項６】前記ウエハカセット、アライメント装置並
びに第１及び第２の試料交換室は前記第３の搬送装置の
周りに配置され、該第３の搬送装置は予め定められた点
を中心として旋回可能であると共に、伸縮可能なア−ム
を備え、該ア−ムを用いて、前記ウエハの、前記ウエハ
カセットから前記アライメント装置への搬送、該アライ
メント装置から前記第１又は第２の試料交換室への選択
的搬送、並びに該第１又は第２の試料交換室から前記ウ
エハカセットへの選択的搬送を行うようにしたことを特
徴とする請求項１〜５に記載された電子線描画装置用ウ
エハ搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8134937A JPH09320937A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 電子線描画装置用ウエハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8134937A JPH09320937A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 電子線描画装置用ウエハ搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09320937A true JPH09320937A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=15140050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8134937A Pending JPH09320937A (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | 電子線描画装置用ウエハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09320937A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007294562A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置の描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| CN115116812A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-09-27 | 深圳市宗源伟业科技有限公司 | 一种高精度电子显微镜 |
-
1996
- 1996-05-29 JP JP8134937A patent/JPH09320937A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007294562A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置の描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| CN115116812A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-09-27 | 深圳市宗源伟业科技有限公司 | 一种高精度电子显微镜 |
| CN115116812B (zh) * | 2022-08-29 | 2022-11-11 | 深圳市宗源伟业科技有限公司 | 一种高精度电子显微镜 |
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