JPH09320094A - 光ディスクの再生方法及び光ディスク - Google Patents
光ディスクの再生方法及び光ディスクInfo
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- JPH09320094A JPH09320094A JP8131780A JP13178096A JPH09320094A JP H09320094 A JPH09320094 A JP H09320094A JP 8131780 A JP8131780 A JP 8131780A JP 13178096 A JP13178096 A JP 13178096A JP H09320094 A JPH09320094 A JP H09320094A
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
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- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 どのような光ディスクに対しても最適な再生
ビーム強度を設定でき、正確な再生を行うことのできる
光ディスクの再生方法及び光ディスクを提供する。 【解決手段】 まず光ディスクを再生し、それにより光
ディスクの種類を表わす情報、あるいは、最適再生ビー
ム強度に関する情報を読み取り、それに基づいて最適再
生ビーム強度を設定する構成とする。
ビーム強度を設定でき、正確な再生を行うことのできる
光ディスクの再生方法及び光ディスクを提供する。 【解決手段】 まず光ディスクを再生し、それにより光
ディスクの種類を表わす情報、あるいは、最適再生ビー
ム強度に関する情報を読み取り、それに基づいて最適再
生ビーム強度を設定する構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は光ディスクに関す
るものであり、特に、再生パワーに関する情報を記録し
た光ディスクに関するものである。
るものであり、特に、再生パワーに関する情報を記録し
た光ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】情報を高密度に記録することが可能で、
また、高速で情報を再生することが可能な光ディスク
は、コンピュータ用のデータストレージとして関心が高
まっている。直径5.25インチや3.5インチの光ディスク
については、記録した情報を書換えることが可能な光磁
気方式や相変化方式が、ＩＳＯ規格として国際標準化さ
れている。また、最近ではＤＶＤ（デジタルビデオディ
スク）に関する規格が標準化され、光ディスクのマルチ
メディア分野への応用が、今後更に加速されるものと考
えられる。
また、高速で情報を再生することが可能な光ディスク
は、コンピュータ用のデータストレージとして関心が高
まっている。直径5.25インチや3.5インチの光ディスク
については、記録した情報を書換えることが可能な光磁
気方式や相変化方式が、ＩＳＯ規格として国際標準化さ
れている。また、最近ではＤＶＤ（デジタルビデオディ
スク）に関する規格が標準化され、光ディスクのマルチ
メディア分野への応用が、今後更に加速されるものと考
えられる。
【０００３】光ディスクには、凹または凸の溝がスパイ
ラル状に形成されている。これは、光ピックアップから
出射されるレーザービームをこの溝に沿ってガイドす
る、即ち、トラッキングのための溝である。この凹また
は凸状のガイドのことをガイド溝、あるいは、ガイドグ
ルーブと呼ぶ。このガイド溝により、情報を整然と列状
に並べて記録することができ、また、記録された情報列
を忠実にトレースして正確に再生することができる。
ラル状に形成されている。これは、光ピックアップから
出射されるレーザービームをこの溝に沿ってガイドす
る、即ち、トラッキングのための溝である。この凹また
は凸状のガイドのことをガイド溝、あるいは、ガイドグ
ルーブと呼ぶ。このガイド溝により、情報を整然と列状
に並べて記録することができ、また、記録された情報列
を忠実にトレースして正確に再生することができる。
【０００４】ＩＳＯ規格では、ガイド溝に関して、光ピ
ックアップ側から見て凹部、つまり、遠い部分をランド
と呼び、逆に、光ピックアップ側から見て凸部、つま
り、近い部分をグルーブと呼ぶ。情報はランドまたはグ
ルーブのいずれか一方に記録され、ランド（またはグル
ーブ）の中心から隣りのランド（またはグルーブ）の中
心までの距離をトラックピッチと呼ぶ。
ックアップ側から見て凹部、つまり、遠い部分をランド
と呼び、逆に、光ピックアップ側から見て凸部、つま
り、近い部分をグルーブと呼ぶ。情報はランドまたはグ
ルーブのいずれか一方に記録され、ランド（またはグル
ーブ）の中心から隣りのランド（またはグルーブ）の中
心までの距離をトラックピッチと呼ぶ。
【０００５】グルーブの幅Ｗは、グルーブ上端部の幅を
Ｗtop、グルーブ底部の幅をＷbottomとして、Ｗ＝（Ｗt
op＋Ｗbottom）／２で定義する。また、グルーブ底部よ
りグルーブ上端部までの高さ、即ち、ランド部とグルー
ブ部の段差をグルーブ深さとも言う。グルーブ幅の寸法
は、ランド部に記録を行う方式のもので、0.3〜0.6μｍ
程度である。また、グルーブ深さは，記録再生に用いる
ビームの波長をλ、基板の屈折率をｎとすれば、λ／
（10・ｎ）〜λ／（６・ｎ）程度である。
Ｗtop、グルーブ底部の幅をＷbottomとして、Ｗ＝（Ｗt
op＋Ｗbottom）／２で定義する。また、グルーブ底部よ
りグルーブ上端部までの高さ、即ち、ランド部とグルー
ブ部の段差をグルーブ深さとも言う。グルーブ幅の寸法
は、ランド部に記録を行う方式のもので、0.3〜0.6μｍ
程度である。また、グルーブ深さは，記録再生に用いる
ビームの波長をλ、基板の屈折率をｎとすれば、λ／
（10・ｎ）〜λ／（６・ｎ）程度である。
【０００６】また、光ディスクには、ガイド溝の他にト
ラック番号やセクター番号を記録したプリフォーマット
信号が、光ピックアップから見て凸となるマークの列す
なわちピット列として予め形成されている。ところで近
年、画像のような多くの情報量を必要とする情報を、記
録あるいは再生する機会が増加している。このような状
況において、光ディスクに、より高密度に記録を行い、
また、その情報を正確に再生したいという要求が高まっ
ている。そして、その実現に向けて様々なアプローチが
試みられている。
ラック番号やセクター番号を記録したプリフォーマット
信号が、光ピックアップから見て凸となるマークの列す
なわちピット列として予め形成されている。ところで近
年、画像のような多くの情報量を必要とする情報を、記
録あるいは再生する機会が増加している。このような状
況において、光ディスクに、より高密度に記録を行い、
また、その情報を正確に再生したいという要求が高まっ
ている。そして、その実現に向けて様々なアプローチが
試みられている。
【０００７】記録に関しては、ビームの中心付近のエネ
ルギーの高い領域のみを使用すれば原理的に相当小さな
マークが形成できる。例えば、再生専用（ＲＯＭ）タイ
プの光ディスクでは、凹凸ピットは次のように形成す
る。まず、ガラス原盤上に塗布されたフォトレジスト面
に、記録すべき情報に応じて変調したレーザービームを
細く絞って照射し、フォトレジストに部分的に光反応を
起こさせる。これを現像処理することで、フォトレジス
ト表面に凹凸パターンを形成する。このパターンにニッ
ケルメッキして、それを剥離することで、表面に凹凸状
のピットが形成されたニッケルプレートを得る。このニ
ッケルプレートを射出成形金型にセットして成形するこ
とで、凹凸ピットを有する光ディスク基板を得る。この
光でぃすく基板に反射層を形成して光ディスクが完成す
る。また、相変化タイプや光磁気タイプの光ディスクで
は、記録する際、ビーム中心付近の高温部分でのみ記録
マークが形成されるように設計すれば、小さなマークが
形成できるのである。
ルギーの高い領域のみを使用すれば原理的に相当小さな
マークが形成できる。例えば、再生専用（ＲＯＭ）タイ
プの光ディスクでは、凹凸ピットは次のように形成す
る。まず、ガラス原盤上に塗布されたフォトレジスト面
に、記録すべき情報に応じて変調したレーザービームを
細く絞って照射し、フォトレジストに部分的に光反応を
起こさせる。これを現像処理することで、フォトレジス
ト表面に凹凸パターンを形成する。このパターンにニッ
ケルメッキして、それを剥離することで、表面に凹凸状
のピットが形成されたニッケルプレートを得る。このニ
ッケルプレートを射出成形金型にセットして成形するこ
とで、凹凸ピットを有する光ディスク基板を得る。この
光でぃすく基板に反射層を形成して光ディスクが完成す
る。また、相変化タイプや光磁気タイプの光ディスクで
は、記録する際、ビーム中心付近の高温部分でのみ記録
マークが形成されるように設計すれば、小さなマークが
形成できるのである。
【０００８】しかし、問題は再生である。再生はビーム
スポット内の凹凸ピットや光磁気マーク等の情報を光学
的に検出するため、ビームの一部分にある情報のみを再
生するということはできない。従って、高密度記録再生
の一番の問題点は、連続する小さなマークによる情報
を、いかに正確に再生するかということにあり、この問
題を解決するために、次に説明するようなアプローチが
考えらている。
スポット内の凹凸ピットや光磁気マーク等の情報を光学
的に検出するため、ビームの一部分にある情報のみを再
生するということはできない。従って、高密度記録再生
の一番の問題点は、連続する小さなマークによる情報
を、いかに正確に再生するかということにあり、この問
題を解決するために、次に説明するようなアプローチが
考えらている。
【０００９】まず、トラックピッチを詰めるというもの
である。従来、トラックピッチは1.6μｍが標準であっ
たが、最近ではトラックピッチを狭くする試みがなされ
ており、1.4μｍや1.2μｍ、更に1.0μｍが報告されて
いる。しかし、実用可能な開口数（ＮＡ）である0.5〜
0.6程度の対物レンズを搭載した光ピックアップの場
合、トラックピッチを1.4μｍ程度より狭くすると、隣
接するトラックに記録されている情報を同時に再生（光
クロストークと呼んでいる）してしまう。これでは、得
たい情報を正確に再生することができないのである。
である。従来、トラックピッチは1.6μｍが標準であっ
たが、最近ではトラックピッチを狭くする試みがなされ
ており、1.4μｍや1.2μｍ、更に1.0μｍが報告されて
いる。しかし、実用可能な開口数（ＮＡ）である0.5〜
0.6程度の対物レンズを搭載した光ピックアップの場
合、トラックピッチを1.4μｍ程度より狭くすると、隣
接するトラックに記録されている情報を同時に再生（光
クロストークと呼んでいる）してしまう。これでは、得
たい情報を正確に再生することができないのである。
【００１０】次に、再生ビームの波長を短くすることで
ある。ビームをどこまで小さく絞れるかは、ビームの波
長に比例することが知られている。そこで、この手段に
より再生ビームスポットサイズをより小さくし、それに
よって、高密度に記録した情報の再生を可能にするとい
うものである。これが実現すれば、光クロストークの問
題は避けられるのである。しかし、光ピックアップの光
源に使用可能な半導体レーザーの波長は、その出力や安
定性の面から限界がある。例えば、従来は波長830nmの
半導体レーザが一般的であったが、かなりの期間を要し
て短波長化が図られたにもかかわらず、最近になってや
っと波長680nmが主流になった程度である。つまり、こ
の短波長化によるビームサイズの減少率はわずか18％で
ある。従って、この手段により、ビームスポットサイズ
を現状の１／２や１／３まで飛躍的に減少させることは
困難である。
ある。ビームをどこまで小さく絞れるかは、ビームの波
長に比例することが知られている。そこで、この手段に
より再生ビームスポットサイズをより小さくし、それに
よって、高密度に記録した情報の再生を可能にするとい
うものである。これが実現すれば、光クロストークの問
題は避けられるのである。しかし、光ピックアップの光
源に使用可能な半導体レーザーの波長は、その出力や安
定性の面から限界がある。例えば、従来は波長830nmの
半導体レーザが一般的であったが、かなりの期間を要し
て短波長化が図られたにもかかわらず、最近になってや
っと波長680nmが主流になった程度である。つまり、こ
の短波長化によるビームサイズの減少率はわずか18％で
ある。従って、この手段により、ビームスポットサイズ
を現状の１／２や１／３まで飛躍的に減少させることは
困難である。
【００１１】しかし、再生ビームスポットのサイズは従
来通りでも、相当な高密度に記録された情報を正確に再
生することが可能な記録再生方法及び媒体が発明され
た。これは超解像媒体と呼ばれる。この方法の基本的な
考え方は、およそ次の通りである。再生ビームの照射に
より、記録媒体の温度は上昇するが、媒体は移動してい
るので、再生ビームスポット内の媒体の進行方向側の温
度が相対的に高温になる。この温度分布の特性を利用し
てスポット内の一部をマスクして光ピックアップで見え
ないようにし、見える部分のみ再生すれば、スポット内
の小さな部分の情報のみ再生することができる。つま
り、実質的に再生ビームスポットサイズを小さくしたこ
とになる。即ち、相当に高密度記録された情報を正確に
再生できるのである。
来通りでも、相当な高密度に記録された情報を正確に再
生することが可能な記録再生方法及び媒体が発明され
た。これは超解像媒体と呼ばれる。この方法の基本的な
考え方は、およそ次の通りである。再生ビームの照射に
より、記録媒体の温度は上昇するが、媒体は移動してい
るので、再生ビームスポット内の媒体の進行方向側の温
度が相対的に高温になる。この温度分布の特性を利用し
てスポット内の一部をマスクして光ピックアップで見え
ないようにし、見える部分のみ再生すれば、スポット内
の小さな部分の情報のみ再生することができる。つま
り、実質的に再生ビームスポットサイズを小さくしたこ
とになる。即ち、相当に高密度記録された情報を正確に
再生できるのである。
【００１２】具体的には、(1)再生ビームスポット内の
低温部分が開口となる（高温部分がマスクになる）タイ
プもの、(2)高温部分が開口となる（低温部分がマスク
になる）タイプのもの、更に、(3)高温部分が開口にな
るタイプであって、開口部分の中の更に高温の部分はマ
スクされることにより、更に小さな開口を実現するもの
が提案されている。マスク生成の原理は、相変化による
透過率の変化によるもの、磁気的結合力の変化による磁
化方向変化を利用したもの等が発表されている。
低温部分が開口となる（高温部分がマスクになる）タイ
プもの、(2)高温部分が開口となる（低温部分がマスク
になる）タイプのもの、更に、(3)高温部分が開口にな
るタイプであって、開口部分の中の更に高温の部分はマ
スクされることにより、更に小さな開口を実現するもの
が提案されている。マスク生成の原理は、相変化による
透過率の変化によるもの、磁気的結合力の変化による磁
化方向変化を利用したもの等が発表されている。
【００１３】磁気的結合力の変化による磁化方向変化を
利用したものの原理を図４を用いて簡単に説明する。図
４(b)は、光磁気ディスクの主要部分の断面と再生ビー
ムが照射された部分の温度分布を表わしている。この光
磁気ディスクは２層の磁性層を有しており、情報は記録
層の垂直方向の磁化の方向により記録される。記録層の
上にはマスク層が設けられており、このマスク層の磁化
は所定の温度以下の領域（低温領域）では面内方向であ
るが、所定の温度以上の領域（高温領域）では記録層の
磁化との交換結合力により記録層の磁化と同じ方向を向
く。所定の温度は再生ビームの照射による温度分布の中
心付近の小さな領域になるように設定される。その結
果、図４(a)に示すように、再生ビームスポットの一部
分の高温領域にあるマークのみ読み出される。そして、
再生ビームスポット内のマークであっても、高温領域か
ら外れたマークは読み出されない。
利用したものの原理を図４を用いて簡単に説明する。図
４(b)は、光磁気ディスクの主要部分の断面と再生ビー
ムが照射された部分の温度分布を表わしている。この光
磁気ディスクは２層の磁性層を有しており、情報は記録
層の垂直方向の磁化の方向により記録される。記録層の
上にはマスク層が設けられており、このマスク層の磁化
は所定の温度以下の領域（低温領域）では面内方向であ
るが、所定の温度以上の領域（高温領域）では記録層の
磁化との交換結合力により記録層の磁化と同じ方向を向
く。所定の温度は再生ビームの照射による温度分布の中
心付近の小さな領域になるように設定される。その結
果、図４(a)に示すように、再生ビームスポットの一部
分の高温領域にあるマークのみ読み出される。そして、
再生ビームスポット内のマークであっても、高温領域か
ら外れたマークは読み出されない。
【００１４】ところで、光ディスクの記録再生には、回
転数一定（ＣＡＶ）方式と線速度一定（ＣＬＶ）方式が
ある。情報の記録再生を高速で行うには、光ディスクを
一定回転数で回転させるＣＡＶ方式が適している。この
方式の場合、ディスクの内周と外周で線速度が異なるた
め、記録を行う際、ビーム照射による媒体の温度上昇が
ディスクの半径位置にかかわらず一定となるように、記
録ビーム強度をディスク半径位置に応じて変化させてい
る。しかし、再生ビームについては、再生信号がある程
度以上のレベルになればよいことから、ディスクの半径
位置にかかわらずその強度を一定としている。
転数一定（ＣＡＶ）方式と線速度一定（ＣＬＶ）方式が
ある。情報の記録再生を高速で行うには、光ディスクを
一定回転数で回転させるＣＡＶ方式が適している。この
方式の場合、ディスクの内周と外周で線速度が異なるた
め、記録を行う際、ビーム照射による媒体の温度上昇が
ディスクの半径位置にかかわらず一定となるように、記
録ビーム強度をディスク半径位置に応じて変化させてい
る。しかし、再生ビームについては、再生信号がある程
度以上のレベルになればよいことから、ディスクの半径
位置にかかわらずその強度を一定としている。
【００１５】しかし、記録ビーム強度に関する上記の説
明からもわかるように、再生ビーム強度を常に一定とし
た場合には、内周と外周で媒体の温度上昇は異なる。超
解像媒体においては開口の大きさが媒体の温度によって
決まるため、一定の再生ビーム強度で再生すると、内周
部では温度上昇が大きいため大きな開口となり、また、
外周部では温度上昇が小さいため小さな開口となる。例
えば、内周部における再生の状態は図３に示すように、
読み出したいマーク以外のマークも同時に読み出してし
まうためエラーの原因となる。即ち、全面にわたって最
適な再生条件を実現できないのである。そこで、再生ビ
ーム強度を半径位置に応じて変化させるという発明がな
された。
明からもわかるように、再生ビーム強度を常に一定とし
た場合には、内周と外周で媒体の温度上昇は異なる。超
解像媒体においては開口の大きさが媒体の温度によって
決まるため、一定の再生ビーム強度で再生すると、内周
部では温度上昇が大きいため大きな開口となり、また、
外周部では温度上昇が小さいため小さな開口となる。例
えば、内周部における再生の状態は図３に示すように、
読み出したいマーク以外のマークも同時に読み出してし
まうためエラーの原因となる。即ち、全面にわたって最
適な再生条件を実現できないのである。そこで、再生ビ
ーム強度を半径位置に応じて変化させるという発明がな
された。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、光ディスクの
構成によって熱容量は異なるので、例え、同じタイプの
光ディスクであっても、メーカーが違えば熱容量は異な
る。また、同じ構成の光ディスクであっても、個体毎に
記録層の厚さが異なる等の理由により、その熱容量には
バラツキが存在する。そのため最適再生ビーム強度は、
メーカーにより異なることが考えられ、また、メーカー
が同じであったとしても、個々のディスクにより異なる
ことも考えられる。特に、記録層として磁性層を用いる
磁気超解像媒体では、磁性層の厚さのみならずその組成
によって最適再生ビーム強度は大きく異なるので、個々
のディスクによる最適再生ビーム強度のバラツキは更に
大きくなる傾向がある。従って、特に、磁気超解像再生
を行うような光ディスクでは、個々のディスクに固有の
最適再生ビーム強度を設定しないと正確な再生ができな
いという問題がある。
構成によって熱容量は異なるので、例え、同じタイプの
光ディスクであっても、メーカーが違えば熱容量は異な
る。また、同じ構成の光ディスクであっても、個体毎に
記録層の厚さが異なる等の理由により、その熱容量には
バラツキが存在する。そのため最適再生ビーム強度は、
メーカーにより異なることが考えられ、また、メーカー
が同じであったとしても、個々のディスクにより異なる
ことも考えられる。特に、記録層として磁性層を用いる
磁気超解像媒体では、磁性層の厚さのみならずその組成
によって最適再生ビーム強度は大きく異なるので、個々
のディスクによる最適再生ビーム強度のバラツキは更に
大きくなる傾向がある。従って、特に、磁気超解像再生
を行うような光ディスクでは、個々のディスクに固有の
最適再生ビーム強度を設定しないと正確な再生ができな
いという問題がある。
【００１７】更に、記録層の厚さや組成は、１枚のディ
スクの半径方向に対して完全に均一にすることは難し
く、ある程度のムラ（傾き）が生ずることは避けられな
い。そして、この傾きは個々のディスクにより異なり一
様でない。このことは、特に上記の磁気超解像再生を行
うような光ディスクの場合には、ある半径位置における
最適再生ビーム強度が同じ２枚の光ディスクであって
も、半径位置が変わると最適再生ビーム強度が互いに異
なるということも起こり得るということを意味する。従
って、このような場合、各ディスク毎に、半径位置に応
じた最適再生ビーム強度を設定しないと正確な再生がで
きないという問題がある。
スクの半径方向に対して完全に均一にすることは難し
く、ある程度のムラ（傾き）が生ずることは避けられな
い。そして、この傾きは個々のディスクにより異なり一
様でない。このことは、特に上記の磁気超解像再生を行
うような光ディスクの場合には、ある半径位置における
最適再生ビーム強度が同じ２枚の光ディスクであって
も、半径位置が変わると最適再生ビーム強度が互いに異
なるということも起こり得るということを意味する。従
って、このような場合、各ディスク毎に、半径位置に応
じた最適再生ビーム強度を設定しないと正確な再生がで
きないという問題がある。
【００１８】本発明は、かかる問題点を解決し、どのよ
うな光ディスクに対しても最適な再生ビーム強度を設定
でき、正確な再生を行うことのできる光ディスクの再生
方法及び光ディスクの提供を目的とする。
うな光ディスクに対しても最適な再生ビーム強度を設定
でき、正確な再生を行うことのできる光ディスクの再生
方法及び光ディスクの提供を目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】上記問題点の解決のため
本発明では、まず光ディスクを再生し、それにより光デ
ィスクの種類を表わす情報、あるいは、最適再生ビーム
強度に関する情報を読み取り、それに基づいて最適再生
ビーム強度を設定する構成とする。
本発明では、まず光ディスクを再生し、それにより光デ
ィスクの種類を表わす情報、あるいは、最適再生ビーム
強度に関する情報を読み取り、それに基づいて最適再生
ビーム強度を設定する構成とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明の光ディスクでは、図１に
示すように、光ディスクの所定の領域に、少なくとも１
ヵ所、望ましくは数箇所の半径位置における最適再生ビ
ーム強度の値を記録しておく。また、光ディスクの再生
装置は、このような光ディスクが挿入されると、個々の
ディスクの数箇所の半径位置に応じた最適再生ビーム強
度に関する情報を読み取る。そして、情報を再生する際
は、この情報を基に半径位置での最適な再生ビーム強度
を設定して、情報の再生を行う。各トラックにおける最
適再生ビーム強度は、複数の半径位置における最適再生
ビーム強度に関する情報を基に、内挿や外挿により求め
ることが可能である。当然のことながら、より多くの半
径位置における最適再生ビーム強度の情報をディスクに
記録しておくことにより、より精度の高い再生ビーム強
度の設定が可能となる。
示すように、光ディスクの所定の領域に、少なくとも１
ヵ所、望ましくは数箇所の半径位置における最適再生ビ
ーム強度の値を記録しておく。また、光ディスクの再生
装置は、このような光ディスクが挿入されると、個々の
ディスクの数箇所の半径位置に応じた最適再生ビーム強
度に関する情報を読み取る。そして、情報を再生する際
は、この情報を基に半径位置での最適な再生ビーム強度
を設定して、情報の再生を行う。各トラックにおける最
適再生ビーム強度は、複数の半径位置における最適再生
ビーム強度に関する情報を基に、内挿や外挿により求め
ることが可能である。当然のことながら、より多くの半
径位置における最適再生ビーム強度の情報をディスクに
記録しておくことにより、より精度の高い再生ビーム強
度の設定が可能となる。
【００２１】最適再生ビーム強度はディスクの製造に続
いて測定し、光ディスクの所定の領域に記録しておくこ
とが望ましい。なお、あるディスクが最初に再生装置に
挿入されたときには、再生装置側ではこのディスクの最
適再生ビーム強度に関する情報の読み取りに用いる再生
ビーム強度は、認識できていない。従って、超解像によ
る再生が最適の条件で行えなくても、この情報を正確に
再生する必要がある。そこで、最適再生ビーム強度に関
する情報は、高密度記録する情報に比べて、低い密度で
記録しておくことが望ましい。最適再生ビーム強度に関
する情報を再生する時には、例えば高温部分が開口とな
る（低温部分がマスクになる）タイプの超解像媒体で
は、高めの再生ビーム強度を設定して開口を大きくした
状態にすると、より大きな再生信号でこの情報を読み取
るれる。この様子を図２に示す。極端には、最適再生ビ
ーム強度に関する情報を、従来と同じ大きさのマークで
記録してもよい。
いて測定し、光ディスクの所定の領域に記録しておくこ
とが望ましい。なお、あるディスクが最初に再生装置に
挿入されたときには、再生装置側ではこのディスクの最
適再生ビーム強度に関する情報の読み取りに用いる再生
ビーム強度は、認識できていない。従って、超解像によ
る再生が最適の条件で行えなくても、この情報を正確に
再生する必要がある。そこで、最適再生ビーム強度に関
する情報は、高密度記録する情報に比べて、低い密度で
記録しておくことが望ましい。最適再生ビーム強度に関
する情報を再生する時には、例えば高温部分が開口とな
る（低温部分がマスクになる）タイプの超解像媒体で
は、高めの再生ビーム強度を設定して開口を大きくした
状態にすると、より大きな再生信号でこの情報を読み取
るれる。この様子を図２に示す。極端には、最適再生ビ
ーム強度に関する情報を、従来と同じ大きさのマークで
記録してもよい。
【００２２】以下、実施例により説明するが、本発明は
これに限られるものではない。
これに限られるものではない。
【００２３】
【実施例１】複数のスパッタリングターゲットをセット
できるマグネトロンスパッタリング装置を用意する。ま
た、厚さ1.2 mm、直径130 mmのポリカーネート製光ディ
スク基板を用意する。この基板には、表面に最小マーク
長さと最小マーク間長さが共に0.45μｍの凹凸状のピッ
トにより、情報が形成されている。また、この基板に
は、前記信号とは別に、最小マーク長さと最小マーク間
長さが共に0.9μｍの凹凸状のピットにより、この光デ
ィスクの半径90 mmの位置における最適再生ビーム強度
（10ｍＷ）及び半径位置の変化に伴う最適再生ビーム強
度の変化率の情報が形成されている。
できるマグネトロンスパッタリング装置を用意する。ま
た、厚さ1.2 mm、直径130 mmのポリカーネート製光ディ
スク基板を用意する。この基板には、表面に最小マーク
長さと最小マーク間長さが共に0.45μｍの凹凸状のピッ
トにより、情報が形成されている。また、この基板に
は、前記信号とは別に、最小マーク長さと最小マーク間
長さが共に0.9μｍの凹凸状のピットにより、この光デ
ィスクの半径90 mmの位置における最適再生ビーム強度
（10ｍＷ）及び半径位置の変化に伴う最適再生ビーム強
度の変化率の情報が形成されている。
【００２４】上記スパッタリング装置のスパッタリング
槽に、上記光ディスク基板をセットする。スパッタリン
グ槽内を、一旦５×10＾(−5) Paになるまで排気した
後、Ａｒガスを導入しながら、次の６つの層を順に形成
する。即ち、Ａｕによる準透過層／ＺｎＳ-ＳｉＯ2によ
る保護層／Ｇｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5によるマスクの役割をする
カルコゲナイド層／ＺｎＳ-ＳｉＯ2による保護層／Ｂｉ
Ｓｂ4による反射層／ＺｎＳ-ＳｉＯ2による保護層であ
る。このようにして、相変化タイプの光ディスクを作成
する。
槽に、上記光ディスク基板をセットする。スパッタリン
グ槽内を、一旦５×10＾(−5) Paになるまで排気した
後、Ａｒガスを導入しながら、次の６つの層を順に形成
する。即ち、Ａｕによる準透過層／ＺｎＳ-ＳｉＯ2によ
る保護層／Ｇｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5によるマスクの役割をする
カルコゲナイド層／ＺｎＳ-ＳｉＯ2による保護層／Ｂｉ
Ｓｂ4による反射層／ＺｎＳ-ＳｉＯ2による保護層であ
る。このようにして、相変化タイプの光ディスクを作成
する。
【００２５】この光ディスクを、記録や再生を行うこと
のできる記録再生装置にセットし、800 rpmで回転させ
る。なお、記録及び再生に用いるビームの波長は680 n
m、ＮＡは0.55である。まず、この光ディスクの制御情
報領域にアクセスして、10ｍＷ（即ち、内周部における
最適再生ビーム強度よりも大きな強度）の再生ビーム強
度で、上記の半径90 mmの位置における最適再生ビーム
強度及び半径位置の変化に伴う最適再生ビーム強度の変
化率の情報を読み取る。上記値を基に、各半径位置に応
じた最適再生ビーム強度を設定する。このように再生を
行うことで、光ディスクの全ての領域において、Ｃ／Ｎ
値42ｄＢ以上を確保できる。即ち、最小マーク長さ0.45
μｍの高密度記録された情報を正確に再生できることが
示される。
のできる記録再生装置にセットし、800 rpmで回転させ
る。なお、記録及び再生に用いるビームの波長は680 n
m、ＮＡは0.55である。まず、この光ディスクの制御情
報領域にアクセスして、10ｍＷ（即ち、内周部における
最適再生ビーム強度よりも大きな強度）の再生ビーム強
度で、上記の半径90 mmの位置における最適再生ビーム
強度及び半径位置の変化に伴う最適再生ビーム強度の変
化率の情報を読み取る。上記値を基に、各半径位置に応
じた最適再生ビーム強度を設定する。このように再生を
行うことで、光ディスクの全ての領域において、Ｃ／Ｎ
値42ｄＢ以上を確保できる。即ち、最小マーク長さ0.45
μｍの高密度記録された情報を正確に再生できることが
示される。
【００２６】
【実施例２】複数のスパッタリングターゲットをセット
できるマグネトロンスパッタリング装置を用意する。ま
た、厚さ1.2mm、直径300mmで、表面にピッチ1.1μｍで
トラッキング用ガイド溝が形成されたガラス製光ディス
ク基板を用意する。スパッタリング装置に窒化シリコ
ン、ＧｄＦｅＣｏ及びＤｙＦｅＣｏの３種類のスパッタ
リングターゲットをセットする。ここで、ＧｄＦｅＣｏ
ターゲットの組成はＧｄ30％、Ｆｅ49％、Ｃｏ21％であ
り、また、 ＤｙＦｅＣｏターゲットの組成は原子％比
で、Ｄｙ25％、Ｆｅ52.5％、Ｃｏ22.5％である。
できるマグネトロンスパッタリング装置を用意する。ま
た、厚さ1.2mm、直径300mmで、表面にピッチ1.1μｍで
トラッキング用ガイド溝が形成されたガラス製光ディス
ク基板を用意する。スパッタリング装置に窒化シリコ
ン、ＧｄＦｅＣｏ及びＤｙＦｅＣｏの３種類のスパッタ
リングターゲットをセットする。ここで、ＧｄＦｅＣｏ
ターゲットの組成はＧｄ30％、Ｆｅ49％、Ｃｏ21％であ
り、また、 ＤｙＦｅＣｏターゲットの組成は原子％比
で、Ｄｙ25％、Ｆｅ52.5％、Ｃｏ22.5％である。
【００２７】次に、この装置のスパッタリング槽に、前
記基板をセットし、スパッタリング槽内を、一旦５×10
＾(−5) Paになるまで排気した後、Arガスを導入するこ
とで、圧力を0.2 Paに保持する。この状態で、まず、窒
化シリコンターゲットにより、基板のガイド溝のある側
に、窒化シリコンによる保護層を厚さ60 nm形成する。
続いてＧｄＦｅＣｏターゲットにより、保護層の上にマ
スクとして作用するＧｄＦｅＣｏの第１磁性層を厚さ50
nm形成する。続いて、 ＤｙＦｅＣｏターゲットによ
り、第１磁性層の上に記録及び再生層として作用するＤ
ｙＦｅＣｏの第２磁性層を厚さ50 nm形成する。最後
に、再び窒化シリコンターゲットにより、窒化シリコン
による保護層を厚さ70 nm形成する。このようにして、
光磁気ディスクを作成する。
記基板をセットし、スパッタリング槽内を、一旦５×10
＾(−5) Paになるまで排気した後、Arガスを導入するこ
とで、圧力を0.2 Paに保持する。この状態で、まず、窒
化シリコンターゲットにより、基板のガイド溝のある側
に、窒化シリコンによる保護層を厚さ60 nm形成する。
続いてＧｄＦｅＣｏターゲットにより、保護層の上にマ
スクとして作用するＧｄＦｅＣｏの第１磁性層を厚さ50
nm形成する。続いて、 ＤｙＦｅＣｏターゲットによ
り、第１磁性層の上に記録及び再生層として作用するＤ
ｙＦｅＣｏの第２磁性層を厚さ50 nm形成する。最後
に、再び窒化シリコンターゲットにより、窒化シリコン
による保護層を厚さ70 nm形成する。このようにして、
光磁気ディスクを作成する。
【００２８】この光磁気ディスクを、記録や再生を行う
ことのできる記録再生装置にセットし、1000 rpmで回転
させる。記録及び再生に用いるビームの波長は680 nm、
ＮＡは0.55である。次の方法で最適再生ビーム強度を求
める。最適記録ビーム強度で、マーク長さ及びマーク間
長さが共に0.45μｍの信号を記録する。この信号を、再
生ビーム強度を変化させながら再生し、最もＣ／Ｎ値が
高くなる再生ビーム強度を求める。
ことのできる記録再生装置にセットし、1000 rpmで回転
させる。記録及び再生に用いるビームの波長は680 nm、
ＮＡは0.55である。次の方法で最適再生ビーム強度を求
める。最適記録ビーム強度で、マーク長さ及びマーク間
長さが共に0.45μｍの信号を記録する。この信号を、再
生ビーム強度を変化させながら再生し、最もＣ／Ｎ値が
高くなる再生ビーム強度を求める。
【００２９】最適再生ビーム強度は、半径70 mmの位置
では2.5ｍＷ、110 mmの位置では3.0ｍＷ、147 mmでは3.
4ｍＷである。この時のＣ／Ｎ値は、それぞれ42 dB、44
dB、及び45 dBである。次に、この光磁気ディスクの内
周の所定の領域（制御情報領域という）に、これらの最
適再生ビーム強度と半径位置を組み合わせた情報を、最
小マーク長さ及び最小マーク間長さ共に0.9μｍで記録
する。
では2.5ｍＷ、110 mmの位置では3.0ｍＷ、147 mmでは3.
4ｍＷである。この時のＣ／Ｎ値は、それぞれ42 dB、44
dB、及び45 dBである。次に、この光磁気ディスクの内
周の所定の領域（制御情報領域という）に、これらの最
適再生ビーム強度と半径位置を組み合わせた情報を、最
小マーク長さ及び最小マーク間長さ共に0.9μｍで記録
する。
【００３０】次に、この光磁気ディスクの最内周部の制
御情報領域にアクセスして、2.8ｍＷ（即ち、内周部に
おける最適再生ビーム強度よりも大きな強度）の再生ビ
ーム強度で、上記の最適再生ビーム強度と半径位置を組
み合わせた情報を読み取る。中間の半径位置について
は、上記値を基に内挿して、各半径位置に応じた最適再
生ビーム強度を設定する。このように再生を行うこと
で、光磁気ディスクの全ての領域において、Ｃ／Ｎ値42
ｄＢ以上を確保できる。即ち、最小マーク長さ0.45μｍ
の高密度記録された情報を正確に再生できることが示さ
れる。
御情報領域にアクセスして、2.8ｍＷ（即ち、内周部に
おける最適再生ビーム強度よりも大きな強度）の再生ビ
ーム強度で、上記の最適再生ビーム強度と半径位置を組
み合わせた情報を読み取る。中間の半径位置について
は、上記値を基に内挿して、各半径位置に応じた最適再
生ビーム強度を設定する。このように再生を行うこと
で、光磁気ディスクの全ての領域において、Ｃ／Ｎ値42
ｄＢ以上を確保できる。即ち、最小マーク長さ0.45μｍ
の高密度記録された情報を正確に再生できることが示さ
れる。
【００３１】
【発明の効果】の提供を目的とする。以上説明したよう
に、本発明によれば、どのような光ディスクに対しても
最適な再生ビーム強度を設定でき、正確な再生を行うこ
とのできる光ディスクの再生方法及び光ディスクの提供
が可能となる。
に、本発明によれば、どのような光ディスクに対しても
最適な再生ビーム強度を設定でき、正確な再生を行うこ
とのできる光ディスクの再生方法及び光ディスクの提供
が可能となる。
【図１】 本発明に係る、最適再生ビーム強度に関する
情報を所定の領域に記録した光ディスクである。
情報を所定の領域に記録した光ディスクである。
【図２】 本発明に係る、最適再生ビーム強度に関する
情報を、高密度記録した情報に比べて低い密度で記録し
た場合の再生状態を表わす説明図である。
情報を、高密度記録した情報に比べて低い密度で記録し
た場合の再生状態を表わす説明図である。
【図３】 高密度記録された情報を、最適値より高い再
生ビーム強度により再生した場合の状態を表わす説明図
である。
生ビーム強度により再生した場合の状態を表わす説明図
である。
【図４】 高密度記録された情報を、磁気的超解像によ
り再生する原理を表わす説明図である。
り再生する原理を表わす説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 11/10 ５８１ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５８１Ｅ
Claims (8)
- 【請求項１】 光ディスクの最適再生ビーム強度に関す
る情報を，前記光ディスクを再生することにより読み取
り、それに基づいて最適再生ビーム強度を設定すること
を特徴とする光ディスクの再生方法。 - 【請求項２】 光ディスクの種類を表わす情報を，前記
光ディスクを再生することにより読み取り、それに基づ
いて最適再生ビーム強度を設定することを特徴とする光
ディスクの再生方法。 - 【請求項３】 最適再生ビーム強度に関する情報が記録
されていることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項４】 光ディスクの、少なくとも１ヵ所の半径
位置における最適再生ビーム強度に関する情報が、前記
光ディスクの所定の領域に記録されていることを特徴と
する光ディスク。 - 【請求項５】 最適再生ビーム強度に関する情報は、半
径位置情報とその位置に対応した最適再生ビーム強度を
含む情報であることを特徴とする請求項４記載の光ディ
スク。 - 【請求項６】 情報を再生する際、再生ビームスポット
内の温度分布の特性を利用して超解像再生を行う超解像
媒体であることを特徴とする請求項４記載の光ディス
ク。 - 【請求項７】 超解像媒体は、記録層として磁性層を用
いる磁気超解像媒体であることを特徴とする請求項６記
載の光ディスク。 - 【請求項８】 光ディスクの中で、最適再生ビーム強度
に関する情報は、超解像によって再生を行う高密度に記
録された情報に比べて、低い記録密度で記録されている
ことを特徴とする請求項６に記載の光ディスク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8131780A JPH09320094A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | 光ディスクの再生方法及び光ディスク |
| US08/863,277 US5886973A (en) | 1996-05-27 | 1997-05-27 | Optical disk and playback method for setting an optimum playback beam intensity based on read playback beam intensity data |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8131780A JPH09320094A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | 光ディスクの再生方法及び光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09320094A true JPH09320094A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=15065984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8131780A Pending JPH09320094A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | 光ディスクの再生方法及び光ディスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5886973A (ja) |
| JP (1) | JPH09320094A (ja) |
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| JP2008033985A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Ricoh Co Ltd | 情報再生方法、情報再生装置及び光ディスク |
| WO2009051246A1 (ja) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | 光情報記録媒体再生装置および光情報記録媒体 |
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| WO2011118070A1 (ja) * | 2010-03-24 | 2011-09-29 | 日立コンシューマエレクトロニクス株式会社 | 光ディスク及び光ディスク装置 |
| US8223620B2 (en) | 2007-08-30 | 2012-07-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Super-resolution optical recording medium on which information is recorded using train of prepits, optical recording medium reproduction device, and control method |
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|---|---|---|---|---|
| TWI239002B (en) * | 2000-03-10 | 2005-09-01 | Sony Corp | Optical recording/reproducing apparatus, optical head apparatus, optical disc drive apparatus, tracking control method for use therein, and optical disc |
| US6743911B2 (en) * | 2000-03-14 | 2004-06-01 | Shell Oil Company | Process for the carbonylation of pentenenitrile |
| JP2007133920A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報再生方法及び情報再生装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| NL9000328A (nl) * | 1989-06-23 | 1991-01-16 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het aanbrengen van informatiepatronen op een registratiedrager. |
| US5590111A (en) * | 1990-06-29 | 1996-12-31 | Hitachi, Ltd. | Method of controlling recording of optical records |
| JP2812636B2 (ja) * | 1993-04-22 | 1998-10-22 | 株式会社日立製作所 | 光学的記録装置 |
| WO1995022142A1 (en) * | 1994-02-14 | 1995-08-17 | Philips Electronics N.V. | Method and recording device for recording signals on a record carrier |
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-
1996
- 1996-05-27 JP JP8131780A patent/JPH09320094A/ja active Pending
-
1997
- 1997-05-27 US US08/863,277 patent/US5886973A/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
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| WO2003025917A1 (fr) * | 2001-09-12 | 2003-03-27 | Tdk Corporation | Procede de reproduction pour support d'enregistrement optique multiniveau et dispositif de reproduction associe |
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