JPH09318879A - 共焦点光学装置 - Google Patents

共焦点光学装置

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JPH09318879A
JPH09318879A JP13504696A JP13504696A JPH09318879A JP H09318879 A JPH09318879 A JP H09318879A JP 13504696 A JP13504696 A JP 13504696A JP 13504696 A JP13504696 A JP 13504696A JP H09318879 A JPH09318879 A JP H09318879A
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light
beam splitter
hologram
array
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Application number
JP13504696A
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English (en)
Inventor
Hideyuki Wakai
秀之 若井
Manabu Ando
学 安藤
Masato Moriya
正人 守屋
Takanori Nakaike
孝昇 中池
Eri Suda
江利 須田
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Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置のコスト高を生じることなくノイズ光を
なくすことができ、計測性能を向上できるようにする。 【解決手段】 光源の光が参照光としてホログラムに入
射し、ホログラム3はピンホールアレイ4の各ピンホー
ル位置から出射する点光源と等価な光を、上記参照光を
回折することにより再生し、この再生光が被計測物体に
投光され、その反射光がホログラム3を透過してピンホ
ールアレイ4に集光され、このピンホールアレイ4を通
過した光の光量を光検出器アレイ8にて検出するように
した共焦点光学装置において、上記光源からの参照光に
直線偏光した光を用い、ホログラム3と被計測物体との
間に1/4波長板17を配置し、ホログラムと光検出器
アレイの間に偏光ビームスプリッタを配置した構成とな
っている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、3次元形状、例え
ば、被計測物体のおよその表面形状が既知であるIC実
装用ハンダバンブ等の被計測物体の形状を高速に検査す
る3次元形状検査装置に用いる共焦点光学装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】この種の共焦点光学装置は図1に示すよ
うになっており、光源1の光は拡大レンズ2a,2bを
介して平行光となってホログラム3に参照光として入射
する。ホログラム3はピンホールアレイ4の各ピンホー
ル位置から出射する点光源と等価な光を、上記参照光を
回折することにより再生する。
【0003】この再生光は、第1対物レンズ5aによっ
て物体(被計測物体)6に投光され、物体6で散乱し、
反射し、第1対物レンズ5a、ホログラム3を透過し、
第2対物レンズ5bを介してピンホールアレイ4に集光
する。この図1は1つのピンホール位置の光を代表して
表現している。
【0004】図2,図3,図4は投光の第1対物レンズ
5aによる集光点と、物体6の表面の光軸方向(Z方
向)の位置関係に対して、反射光がピンホールアレイ4
付近でどのように結像するかを示したものである。これ
によれば、図3に示すように、集光点と物体6の表面が
一致(合焦)したときのみ反射光がピンホールアレイ4
のピンホール4aを通過するが、それ以外のとき、すな
わち、図2に示すように集光点が物体6に反射した後に
ある場合(後ピン)、あるいは図4に示すように、反射
する前にある場合(前ピン)には、反射光はピンホール
アレイ4に遮蔽されて殆ど、通過できなくなり、いわゆ
る受光絞り作用がなされる。
【0005】この特性を利用すれば、物体6を光軸方向
(Z方向)に移動しながらピンホール4aを通過する反
射光の光量を図1に示すように、第1,第2のリレーレ
ンズ7a,7bを介して2次元用の光検出器アレイ8に
て計測することにより、最大の光量が得られた位置が物
体の表面であること、すなわち、物体6の表面の位置が
計測できることになる。これをピーク処理という。
【0006】図1は図2〜図4で説明した共焦点光学系
を2次元的に配列したものであるから、物体6をZ方向
に移動させながら、各ピンホール4aを通過する反射光
の光量を計測し、これをピーク処理してやれば、ピンホ
ールに対応した部分の物体6の表面の形状計測をするこ
とができる。実際には、第1,第2の対物レンズ5a,
5bを共にテレセントリック系(アフォーカル系あるい
はタンデム配置ともいう)で構成し、物体6をZ方向に
移動するかわりに第1対物レンズ5aをZ方向へ移動し
て計測する。
【0007】ピンホール4aを通過する光は、第1,第
2のリレーレンズ7a,7bを介して2次元の光を検出
する光検出器アレイ8に結像し、個々のピンホール4a
を通過する光は、独立した光検出部分に結像して計測さ
れ制御装置9にて制御と処理される。この制御装置9
は、物体6を載置するステージ10のXY位置(必要が
あればZ方向のオフセット位置)を制御して計測視野を
決め、第1対物レンズ5aをZ方向に移動しながら光検
出器アレイ8の計測値を読み出してピーク処理し、その
結果を表示、出力あるいは記録する。
【0008】また図5はホログラムを用いない他の従来
例を示すもので、これは特開平4−265918号公
報、米国特許第5,239,178号に示されるもので
あり、光源1からの光は拡大レンズ2により拡大され
て、ピンホールアレイ4に入射し、この各ピンホール4
aにて回折した光はビームスプリッタ15を通過し、第
2,第1の対物レンズ5b,5aによって物体6に投光
されるようになっている。
【0009】そして物体6に投光されて反射散乱した光
は、第1,第2の対物レンズ5a,5bを逆に通ってビ
ームスプリッタ15に入り、ここで反射して光検出器ア
レイ8に結像するようになっている。
【0010】上記図1に示した共焦点光学装置の光学系
において、参照光のホログラム3での透過光、参照光よ
り生じる散乱光、副次再生光が、さらにホログラム3で
再生された光の第1の対物レンズのレンズ面での反射光
が、上記ホログラム3による再生光と共にピンホールア
レイ4を通過し、これが上記再生光に対するノイズ光と
して光検出器アレイ8にて観測されてしまうという問題
がある。また図5で示した共焦点光学装置にあっても同
様に透過光によるノイズ光が問題になっている。
【0011】この問題を解決するために、従来のこの種
の例えば図1に示す共焦点光学装置は図6に示すよう
に、光源1の光を第1の偏光板16によって直線偏光の
みを透過させて参照光を直線偏光にし、一方、ホログラ
ム3と物体6の間に1/4波長板17を配置し、さら
に、ホログラム3と光検出器アレイ8の間に第2の偏光
板18を配置した構成になっている。なお上記光源1に
直線偏光特性をもったレーザ光源を用いた場合には光源
1の光を偏光するための第1の偏光板は不要である。
【0012】この構成で、例えば、参照光がP偏光であ
れば、上記ノイズ光はP偏光であるので、偏光板18は
S偏光だけ通過する方向に配置している。これによれ
ば、1/4波長板17を透過する物体6からの反射光が
S偏光になるように配置すればいい、偏光板18にてこ
のP偏光のノイズ光が遮断され、物体6の反射光だけが
光検出器アレイ8にて検出される。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上記偏光板18をホロ
グラム3と光検出器アレイ8との間に介装した構成のも
のにあっては、この偏光板の光透過率が、例えば30〜
40%と低いため、光源の光を有効に利用できず、物体
6よりの反射光量が少ない場合には、光検出器アレイ8
による光電変換時間を長くしないと必要な信号レベルが
得られず、計測時間が遅くなるという問題があった。ま
たこのことを回避するために光源のパワーを大きくする
ことは装置のコスト高、光源設置スペースの増大化、光
源発熱に対する対応(冷却)の強化を強いられてしま
う。
【0014】また、光検出器アレイ8に結像する光は、
これの表面で反射、散乱し、ピンホールアレイ4で反射
して再び光検出器アレイ8に戻り、これがノイズ光とし
て観測されてしまう。ピンホールアレイ4のマスク部分
の反射率を低くすることには限界があり、また、装置の
使用する光源がレーザ光などのように干渉性の高いもの
では、ピンホールアレイ4からの反射に加えて、リレー
レンズ7a,7bの表面での反射光も、予期せぬ干渉縞
を作り、大きなノイズとして観測され、ひいては計測精
度を劣化させてしまうという問題があった。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した従来の
技術における問題点を解決するためになされたもので、
この構成は、光源の光が参照光としてホログラムに入射
し、ホログラムはピンホールアレイの各ピンホール位置
から出射する点光源と等価な光を、上記参照光を回折す
ることにより再生し、この再生光が被計測物体に投光さ
れ、その反射光がホログラムを透過してピンホールアレ
イに集光され、このピンホールアレイを通過した光の光
量を光検出器アレイにて検出するようにした共焦点光学
装置において、上記光源からの参照光に直線偏光した光
を用い、ホログラムと被計測物体との間に1/4波長板
を配置し、ホログラムと光検出器アレイの間に偏光ビー
ムスプリッタを配置した構成となっている。
【0016】また、上記装置において、偏光ビームスプ
リッタを、リレーレンズ間の平行光部に設置する。
【0017】また、上記装置において、偏光ビームスプ
リッタと光検出器アレイの間に1/4波長板を配置した
構成となっている。
【0018】さらに、上記装置において、偏光ビームス
プリッタのノイズ光の出射側に光吸収層を配置する。
【0019】そしてさらに、光源からの光をピンホール
アレイ、ビームスプリッタを介して被計測物体に投光
し、この被計測物体よりの反射光を上記ビームスプリッ
タにて反射させて光検出器アレイにて検出するようにし
た共焦点光学装置において、上記ビームスプリッタと被
計測物体との間に1/4波長板を配置し、またビームス
プリッタと光検出器アレイの間に受光ピンホールアレイ
とリレーレンズを配置すると共に、リレーレンズ間に偏
光ビームスプリッタを配置した構成となっている。
【0020】
【作 用】直線偏光した光源光は、ホログラムで回折
し、ホログラムと被計測物体の間に配置した1/4波長
板を通過し、被計測物体で反射し、再び1/4波長板を
通過することにより、上記光源光と直交する方向の直線
偏光(以下物体光という)となる。すなわち、光源光が
P偏光ならば、物体光はS偏光となり、光源光がS偏光
ならば、物体光はP偏光となる。
【0021】ホログラムと光検出器アレイの間に配置さ
れた偏光ビームスプリッタにて上記物体光を光検出器ア
レイに導出すると同時に、光源光と同じ偏光方向、つま
り、物体光とは直交する偏光方向の光はノイズ光として
偏光ビームスプリッタにて物体光と分離して除去され
る。そして上記偏光ビームスプリッタによりノイズ光と
して除去された光は、光吸収層によって吸収されて迷光
となることが防止される。
【0022】従って、ホログラムにおいて回折されなか
った光源光の透過光、ホログラムにおいて生じる散乱
光、副次再生光、さらに、ホログラムで回折した光が第
1の対物レンズのレンズ面で反射する光など、ノイズ光
となる光は、光源光と同じ偏光方向なので、偏光ビーム
スプリッタにて除去される。
【0023】また、偏光ビームスプリッタと光検出器ア
レイの間に1/4波長板が配置されているものでは、光
検出器アレイの表面で反射した物体光は、再び1/4波
長板を通過することにより、物体光と直交する方向の直
線偏光となり、上記偏光ビームスプリッタにおいてノイ
ズ光として除去されるので、光検出器アレイの表面で反
射した物体光がピンホールアレイの上面などで反射し、
ノイズ光として再度光検出器アレイに入射するのが防止
される。そして、上記偏光ビームスプリッタによりノイ
ズ光として除去された光は、光吸収層によって吸収さ
れ、迷光となることが防止される。
【0024】さらに、ホログラムを用いない同種の共焦
点光学光で、受光ピンホールアレイ25の背後にリレー
レンズと光検出器アレイを配置するものにおいては、1
/4波長板24を通過し、被計測物体で反射し、再び1
/4波長板24を通過することにより、光源光と直交す
る方向の直線偏光となった物体光は、受光ピンホールア
レイ25と光検出器アレイの間に配置した偏光ビームス
プリッタにて物体光が光検出器アレイに導光すると共
に、光源光と同じ偏光方向の光、つまり、物体光とは直
交する偏光方向の光はノイズ光として偏光ビームスプリ
ッタにて物体光と分離して除去される。
【0025】
【発明の効果】本発明の請求項1,2,5記載の構成に
よれば、ノイズ光を除去する手段として偏光ビームスプ
リッタが用いられることにより、従来の偏光板を用いた
ものと比較して光の透過率がよくなり、これにより、光
源のパワーを大きくすることなく計測時間を短くするこ
とができ、装置のコスト高を生じることなくノイズ光を
なくすことができ、計測性能を向上することができる。
【0026】そして上記発明の請求項3に記載の構成で
は、光検出器アレイからの反射光を除去でき、また請求
項4の構成では、偏光ビームスプリッタにて除去された
ノイズ光が迷光となることなく吸収することができる。
【0027】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図7以下に
基づいて説明する。なお、以下の実施の形態の説明にお
いて、図1から図5に示した従来の技術の説明に用いた
構成と同一部材のものは同一符号を付して説明を省略す
る。
【0028】図7は本発明の実施例を示すもので、図6
に示した従来の技術におけるホログラム3と光検出器ア
レイ8との間に介装した偏光板18の代りに、ホログラ
ム3と光検出器アレイ8との間にプリズム型の偏光ビー
ムスプリッタ19を介装する。この偏光ビームスプリッ
タ19の光透過率は偏光板より十分大きい。この場合、
上記従来の技術のものと同様に、光源1からの光の出射
光路内に光源1の光をS偏光にする偏光板16を介装
し、ホログラム3と物体6との間に物体6からの反射光
がP偏光となるようにした1/4波長板17を介装す
る。上記偏光ビームスプリッタ19の反射光の出射側に
は光吸収層20が設けてある。
【0029】この第1の実施の形態における構成では、
光源1より出射された光は偏光板16にてS偏光となっ
て参照光としてホログラム3に入射され、これから再生
光は第1の対物レンズ5を経て1/4波長板17を透過
して物体6に反射し、この反射光は再び1/4波長板1
7に入射される。この物体6の反射光(物体光)は1/
4波長板17にてP偏光になってこれを透過し、リレー
レンズ7bを介して偏光ビームスプリッタ19を透過し
て光検出器アレイ8にて観測される。
【0030】そしてホログラム3において回折されなか
った光源光(透過光)、ホログラム3において生じる散
乱光、副次再生光、さらに、ホログラム3で回折した光
が第1の対物レンズ5aのレンズ面で反射する光など、
ノイズ光となる光は、光源光と同じS偏光であるので、
偏光ビームスプリッタ19にて反射してノイズ光として
除去される。このノイズ光として除去された光は、光吸
収層20によって吸収され、これが迷光となるのが防止
される。
【0031】この実施の形態において、光源1の光を偏
光板16にてP偏光とする場合には、第1の対物レンズ
5aと物体6の間に介装する1/4波長板17を物体6
の反射光がS偏光となるように配置すれば、この物体光
は偏光ビームスプリッタ19にて反射される。このた
め、この物体光を観測するためには、図7で示す状態か
ら、第1のリレーレンズ7a及び光検出器アレイ8の配
置と、光吸収光20との配置を入れ替える。
【0032】また、1/4波長板17はできるだけ物体
6に近く配置し、対物レンズ5aの表面あるいは、この
対物レンズ5aを構成するレンズ群の各レンズの表面で
の散乱ノイズ光を物体光と分離できるようにする。
【0033】図8は本発明の第2の実施の形態を示すも
ので、上記図7で示した第1の実施の形態における光検
出器アレイ8による物体光の反射光を処理できるように
したものである。この実施の形態のように、光源1に干
渉性の高いレーザ光源が用いられる場合効果的である。
【0034】すなわち、図7で示した構成では、光検出
器アレイ8に結像する物体光は、これの表面で反射、散
乱し、ピンホールアレイ4で反射して再び光検出器アレ
イ8に戻り、ノイズ光として観測されてしまう。この問
題を解決するために、上記ノイズ光が再度光検出器アレ
イ8にて観測されないように、第2の1/4波長板21
をリレーレンズ7aと光検出器アレイ8との間に介装す
ると共に、光検出器アレイ8からの反射光が偏光ビーム
スプリッタ19にて反射する光(S偏光)を吸収する第
2の光吸収層22を偏光ビームスプリッタ19に沿わせ
て配置した。この実施の形態において、第2の1/4波
長板21はできるだけ光検出器アレイ8の近くに配置
し、リレーレンズ7aの表面あるいは、これを構成する
レンズ群の各レンズの表面での散乱ノイズ光と物体光を
分離できるようにする。
【0035】図9は上記従来の技術において図5で示し
たホログラムを用いない共焦点光学装置に本発明を応用
した第3の実施の形態を示すものである。
【0036】この実施の形態では、図5に示した構成に
おいて、光源1とピンホールアレイ4との間に光源1の
光をP偏光にする偏光板23を介装し、ビームスプリッ
タ15と物体6との間に第1の1/4波長板24を介装
する。上記ビームスプリッタ15は偏光ビームスプリッ
タあるいは無偏光ビームスプリッタのいずれでもよい。
【0037】ビームスプリッタ15と光検出器アレイ8
との間に、受光のピンホールアレイ25と、第1のリレ
ーレンズ26a、偏光ビームスプリッタ27、第2のリ
レーレンズ26bと、第2の1/4波長板28を介装す
る。
【0038】この構成において、光源1からの光は偏光
板23にてP偏光にされ、ビームスプリッタ15、第1
の1/4波長板24を通って物体6に反射され、第1の
1/4波長板24を再び通ってS偏光の物体光となって
ビームスプリッタ15へ入射して一部が反射される。そ
してその反射光(S偏光)は偏光ビームスプリッタ27
で反射して光検出器アレイ8に入射される。一方光検出
器8の表面での物体光の反射光は、第2の1/4波長板
28にてP偏光になって偏光ビームスプリッタ27を透
過して光吸収板20にて吸収されて、これが外に漏れて
迷光となることがない。
【0039】ビームスプリッタ15と偏光ビームスプリ
ッタとすることにより、P偏光の光源光は、無駄無くビ
ームスプリッタ15を透過して物体6へ向かい、1/4
波長板24を再び通過してS偏光となる物体光も無駄な
くビームスプリッタ15を反射して受光ピンホールアレ
イ25に向かう。従ってこの場合、光の利用効率が向上
する。
【0040】上記各実施の形態において、プリズム型の
偏光ビームスプリッタをタンデム配置したリレーレンズ
間に設置した構成を示したが、これは、そうすることに
よって偏光ビームスプリッタによる収差が軽減できるか
らであり、これは実質的に、偏光ビームスプリッタはピ
ンホールアレイと光検出器アレイとの間に配置すればよ
いものである。
【0041】また、光源がコヒーレンスの高いレーザな
どの光源で、光検出器アレイに市販のウィンドウ付きC
CDカメラを使う場合には、ARコートをウィンドウガ
ラス両面に施し、あるいは、ウィンドウを外し、あるい
はウィンドウ内に光学マッチングのための屈折液を充填
し、ARコートをウィンドウの光入射面に施して、ウィ
ンドウに入る光の多重散乱による干渉縞を除去すること
が有用である。
【0042】上記ピンホールアレイマスクの反射を防止
する点で、Cr2 3 ,Cr,Cr2 3 の層マスクを
用いることは好適である。このとき、上記各膜の厚さに
よって光の反射率%、透過率%は変化する。その一例を
図10(a),(b)及び図11(a),(b)にて示
す。
【0043】図10は第2層Cr層を50nm、第3層
Cr2 3 を50nmとしたときの第1層Cr2 3
膜厚を変えたときの反射率の変化を示したもので、第1
層Cr2 3 が約55nmのときが最低となることを示
している。
【0044】図11は第1層Cr2 3 を50nm、第
3層Cr2 3 を50nmとしたときの第2層Crの膜
厚を変化による透過率の変化を示す。なお、Cr,Cr
203の屈折率、消失係数は成膜条件で変化する。
【0045】このように、使用する光源の波長に合わせ
て、膜厚を設計することにより、最適な反射率と透過率
を持つマスクにすることができる。ちなみに透過率は低
いことが望ましく、主にCrの厚さによって支配される
が、ピンホールをエッチングにより作製する場合にはあ
まり厚いCr層は望ましくない。実際は50〜200n
m程度である。
【0046】上記各実施の形態における光吸収層の具体
的なものとしては、黒色の起毛(例えばベルベット)、
光吸収率の高い光学ガラスが好適である。また、光吸収
層を含めた低反射率の塗装、コーティングとしては、B
lack surfacefor optical s
ystems,Handbook of optics
Vol.2 Second edition 199
5 McGraw−Hills,Stephen M,
Pompea,Robert P.Breault.の
例が好適である。
【図面の簡単な説明】
【図1】共焦点光学装置を示す構成説明図である。
【図2】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
【図3】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
【図4】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
【図5】ホログラムを用いない共焦点光学装置を示す構
成説明図である。
【図6】従来のノイズ光を除去する手段を有する共焦点
光学装置を示す構成説明図である。
【図7】本発明の第1の実施の形態を示す構成説明図で
ある。
【図8】本発明の第2の実施の形態を示す構成説明図で
ある。
【図9】ホログラムを用いない共焦点光学装置に本発明
を応用した実施の形態を示す構成説明図である。
【図10】(a)はARコートの断面図である。(b)
はARコートの第1層の厚さに対する反射率を示す線図
である。
【図11】(a)はARコートの断面図である。(b)
はARコートの第2層の厚さに対する光の透過率を示す
線図である。
【符号の説明】
1,11…光源 2,2a,2b,14a,14b,14c,14d…拡
大レンズ 3…ホログラム 4,25…ピンホールアレイ 4a…ピンホール 5a,5b…対物レンズ 6…物体 7,7a,7b,26a,26b…リレーレンズ 8…光検出器アレイ 8a…光検出部分 9…制御装置 10…ステージ 15…ビームスプリッタ 16,18,23…偏光板 17,21,24,28…1/4波長板 19,27…偏光ビームスプリッタ 20,22…光吸収層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中池 孝昇 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 (72)発明者 須田 江利 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源の光が参照光としてホログラムに入
    射し、ホログラムはピンホールアレイの各ピンホール位
    置から出射する点光源と等価な光を、上記参照光を回折
    することにより再生し、この再生光が被計測物体に投光
    され、その反射光がホログラムを透過してピンホールア
    レイに集光され、このピンホールアレイを通過した光の
    光量を光検出器アレイにて検出するようにした共焦点光
    学装置において、 上記光源からの参照光に直線偏光した光を用い、ホログ
    ラムと被計測物体との間に1/4波長板を配置し、ホロ
    グラムと光検出器アレイの間に偏光ビームスプリッタを
    配置したことを特徴とする共焦点光学装置。
  2. 【請求項2】 偏光ビームスプリッタを、リレーレンズ
    間の平行光部に設置したことを特徴とする請求項1記載
    の共焦点光学装置。
  3. 【請求項3】 偏光ビームスプリッタと光検出器アレイ
    の間に1/4波長板を配置したことを特徴とする請求項
    1、または2記載の共焦点光学装置。
  4. 【請求項4】 偏光ビームスプリッタのノイズ光の出射
    側に光吸収層を配置することを特徴とする請求項1、2
    または3記載の共焦点光学装置。
  5. 【請求項5】 光源からの光をピンホールアレイ、ビー
    ムスプリッタを介して被計測物体に投光し、この被計測
    物体よりの反射光を上記ビームスプリッタにて反射させ
    て光検出器アレイにて検出するようにした共焦点光学装
    置において、 上記ビームスプリッタと被計測物体との間に1/4波長
    板を配置し、またビームスプリッタと光検出器アレイの
    間に、受光ピンホールアレイとリレーレンズを配置する
    と共に、リレーレンズ間に偏光ビームスプリッタを配置
    したことを特徴とする共焦点光学装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10318733A (ja) * 1997-05-20 1998-12-04 Takaoka Electric Mfg Co Ltd 2次元配列型共焦点光学装置
JP2009139969A (ja) * 1998-02-19 2009-06-25 Leica Microsystems Cms Gmbh スペクトル選択素子を有する光学装置
JP2013016555A (ja) * 2011-06-30 2013-01-24 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd 測定装置
EP1046073B1 (de) 1998-01-14 2015-04-08 Leica Microsystems CMS GmbH Verfahren zur abstimmung des beleuchtungsstrahlengangs eines konfokalen mikroskops auf die eintrittspupille eines objektivs
WO2024024242A1 (ja) * 2022-07-29 2024-02-01 株式会社日立ハイテク 距離計測装置、及び距離計測方法

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