JPH09316408A - ポリイミド樹脂接着フィルムの製造方法 - Google Patents

ポリイミド樹脂接着フィルムの製造方法

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JPH09316408A
JPH09316408A JP13842196A JP13842196A JPH09316408A JP H09316408 A JPH09316408 A JP H09316408A JP 13842196 A JP13842196 A JP 13842196A JP 13842196 A JP13842196 A JP 13842196A JP H09316408 A JPH09316408 A JP H09316408A
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JP
Japan
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polyimide resin
film
adhesive
drying
resin adhesive
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Pending
Application number
JP13842196A
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English (en)
Inventor
Minehiro Mori
峰寛 森
Mikio Kitahara
幹夫 北原
Kenji Tanabe
健二 田辺
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Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベースフィルムに接着剤をコーティング、乾
燥して得られる接着フィルムにおいて、フィルムと接着
剤の熱膨張差からくる界面強度の低下を抑え、接着信頼
性を向上させる。 【解決手段】 400℃以下の温度で熱溶融しないポリ
イミド樹脂製フィルムの片面または両面に、固化した後
400℃以下の温度で熱溶融可能なポリイミド樹脂接着
剤ワニスをコーティングした後、最高乾燥温度が200
℃以上、300℃以下の温度で乾燥することを特徴とす
るポリイミド樹脂接着剤フィルムの製造方法。 【効果】 コーティング後の乾燥を低い温度で行うこと
で、ポリイミド樹脂製フィルムとポリイミド樹脂接着剤
の熱膨張差による界面に残留する応力を低く抑えること
ができ、優れた界面接着性を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、電子・電気分野で使用さ
れる接着用シートあるいはテープに関する。
【0002】
【従来技術】ポリイミド樹脂接着フィルムは高い信頼性
を有するために電子・電気分野において絶縁接着シート
あるいはテープとして使用されている。ポリイミド樹脂
製フィルムの片面にポリイミド樹脂接着剤層を有する接
着シートは、高温で使用されるフレキシブル回路基板の
回路面保護用として、また両面にポリイミド樹脂接着剤
層を有するものは半導体分野で、例えばリードフレーム
と半導体素子との接合に、あるいはリードフレームと放
熱板の接合等に用いられる。このような接着フィルム
は、ポリイミド樹脂製フィルムの片面あるいは両面に、
接着剤となるポリイミド樹脂ワニスまたはポリイミド樹
脂の前駆体であるポリアミド酸ワニスあるいはこれらの
混合ワニスをコーティングし、加熱により溶媒を飛散・
乾燥させることにより製造される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ポリイミド
樹脂製フィルムとポリイミド樹脂接着剤の熱膨張率に差
があるため、乾燥工程を経て冷却された時にポリイミド
樹脂製フィルムとポリイミド樹脂接着剤の界面に熱応力
が残留することとなり界面接着強度が低下し、接着信頼
性が低下するという問題があった。ポリイミド樹脂製フ
ィルムの熱膨張率は15〜25ppmであるのに対し
て、ポリイミド樹脂接着剤は40〜50ppmである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は種々検討を重
ねた結果、ポリイミド樹脂製フィルムの片面または両面
にポリイミド樹脂接着剤ワニスをコーティングした後の
乾燥において、最高乾燥温度を200℃以上、300℃
以下とすることで、ポリイミド樹脂製フィルムとポリイ
ミド樹脂接着剤との界面接着強度の低下を小さくできる
ことを見いだし本発明を完成するにいたった。
【0005】すなはち、400℃以下の温度で熱溶融し
ないポリイミド樹脂製フィルムの片面または両面に、4
00℃以下の温度で熱溶融可能なポリイミド樹脂接着剤
ワニスをコーティングし、最高乾燥温度が200℃以
上、300℃以下の温度で乾燥することを特徴とするポ
リイミド樹脂接着フィルムの製造方法である。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明に使用されるポリイミド樹
脂製フィルムは、400℃以下の温度で熱溶融しないも
のが用いられる。400℃以下の温度で熱溶融しないも
のとは、400℃以下の温度における弾性率が100M
Pa以上のものであれば使用可能である。このようなポ
リイミド樹脂製フィルムの市販例としては、ユーピレッ
クス(宇部興産社製)、カプトン(デュポン社製)、ア
ピカル(鐘淵化学社製)等が上げられる。ポリイミド樹
脂製フィルムの厚みは、5〜200μmのフィルムが使
用できるが、10〜125μmのものが好ましく用いら
れる。
【0007】本発明において使用されるポリイミド樹脂
接着剤としては、400℃以下の温度で熱溶融可能なも
のを使用する。400℃以下で熱溶融可能なものとは、
400℃以下の温度における弾性率が、100Pa以
上、1MPa以下のものが好ましく用いられる。100
Pa未満では十分な機械特性を得ることができず、1M
Paを超えた場合、被接着物に対して十分な接着性を得
ることができない。このようなポリイミド樹脂接着剤は
耐熱性を考えた場合、芳香族基を有するジアミン化合物
と芳香族基を有する酸二無水物とより重合されるものが
好ましい。さらに、対数粘度としては、0.1g/ml
以上、2.0g/ml以下であるが、好ましくは0.3
g/ml以上、1.0g/ml以下である。対数粘度が
0.1g/ml未満では機械特性が低下し、2.0g/
mlを超えると弾性率が高くなり、接着性を得るに十分
な熱溶融性が得られない。
【0008】前記のジアミンの具体的な例としては、p
−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニル
メタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,
4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベ
ンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)
ベンゼン、ビス4−(3−アミノフェノキシ)ビフェニ
ル、ビス4−(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、
2,2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル)プロパン等が上げられ単独または2種
以上混合して使用される。酸二無水物の具体的例として
は、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、オキシフタル酸二無水物、ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物等が上げられ単独または2
種以上混合して使用される。しかしながら本発明は、こ
れらの例示に限定されるものではなく、芳香族基を有
し、最終的に接着剤としたとき、400℃以下の温度で
熱溶融性を示すものは全て使用可能である。また耐熱性
を損なわない範囲で脂肪族系のジアミンあるいはシリコ
ーン系のジアミンを併用することも可能である。
【0009】本発明においては、ポリイミド樹脂製フィ
ルムの片面あるいは両面にポリイミド樹脂またはポリイ
ミド樹脂の前駆体であるポリアミド酸を溶剤に溶解した
ワニス状態でコーティングする。使用可能な溶剤として
は、前記ポリイミド樹脂あるいはポリアミド酸樹脂が溶
解性を示す溶剤なら全て使用可能である。好ましく用い
られる溶剤としては、N−メチル−2−ピロリドン、ジ
メチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジグライ
ム、トリグライム等が上げられる。
【0010】本発明では、前記のポリイミド樹脂製フィ
ルムの片面あるいは両面に、前記のポリイミド樹脂ワニ
スまたはポリアミド酸樹脂ワニスをダイコーター、バー
コーター、グラビアコーター等によりコーティングした
後、連続的に乾燥工程により溶剤を飛散・乾燥させ固化
し接着剤層を形成させる。乾燥工程においては、良好な
面状態を得るために段階的に温度を上げながら乾燥する
ことが好ましいが、本発明の目的を達成するためには、
乾燥工程の最高温度を200℃以上、300℃以下にす
ることが必要である。好ましくは、220℃以上、28
0℃以下の温度である。200℃未満では、溶剤の飛散
が不十分となり、接着剤中に溶剤が残留し接着信頼性を
低下させる原因となる。また300℃を超えると、ポリ
イミド樹脂製フィルムとポリイミド樹脂接着剤の熱膨張
差に起因する熱応力により界面の接着強度が低下する。
【0011】乾燥方式に関しては特に限定されるもので
はなく、加熱エア方式、赤外線、遠赤外線方式等が用い
られる。ポリイミド樹脂接着剤層の厚みは、1〜50μ
mであれば十分であるが、好ましくは5〜25μmであ
る。1μm未満では十分な接着性が得られず、50μm
を超えると、乾燥に時間が掛かり生産性が大幅に低下す
る。以上の様に製造されたポリイミド樹脂接着フィルム
は優れた接着信頼性を有し、高い信頼性を要求される電
子・電気分野の絶縁接着用途に有用である。以下に実施
例を上げて本発明の優位性を説明する。
【0012】
【実施例】
実施例1〜6及び比較例1、2 25μmのカプトンフィルム(デュポン社製)の片面
に、ポリイミド樹脂ワニスPI−Ah(三井東圧化学社
製)を乾燥後10μmの厚みとなるようにコーティン
グ。最高乾燥温度を変更し、製品の残留溶剤量を熱分解
ガスクロマトグラフィーにより、またポリイミド樹脂製
フィルムとポリイミド樹脂接着剤の界面接着強度をスト
ログラフを用い90°ピール試験で測定した。測定結果
を表1に示す。
【0013】実施例7〜12及び比較例3、4 50μmのユーピレックスフィルム(宇部興産社製)の
両面に、ポリアミド酸ワニスPAA−Pm(三井東圧化
学社製)を乾燥後20μmの厚みとなるようにコーティ
ング。最高乾燥温度を変更し、製品の残留溶剤量を熱分
解ガスクロマトグラフィーにより、またポリイミド樹脂
製フィルムとポリイミド樹脂接着剤の界面接着強度をス
トログラフを用い90°ピール試験で測定した。測定結
果を表2に示す。
【0014】
【表1】
【0015】
【表2】
【0016】
【発明の効果】コーティング後の乾燥を低い温度で行う
ことで、ポリイミド樹脂製フィルムとポリイミド樹脂接
着剤の熱膨張差による界面に残留する応力を低く抑える
ことができ、優れた界面接着性を得ることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】400℃以下の温度で熱溶融しないポリイ
    ミド樹脂製フィルムの片面または両面に、400℃以下
    の温度で熱溶融可能なポリイミド樹脂接着剤ワニスをコ
    ーティングし、最高乾燥温度が200℃以上、300℃
    以下の温度で乾燥することを特徴とするポリイミド樹脂
    接着フィルムの製造方法。
JP13842196A 1996-05-31 1996-05-31 ポリイミド樹脂接着フィルムの製造方法 Pending JPH09316408A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000144072A (ja) * 1998-11-10 2000-05-26 Hitachi Chem Co Ltd 電子部品用両面接着フィルム、半導体搭載用有機基板および半導体装置
JP2000290606A (ja) * 1999-04-08 2000-10-17 Ube Ind Ltd 層間絶縁接着シ−トおよび多層回路基板
JP2001131501A (ja) * 1999-11-04 2001-05-15 Hitachi Chem Co Ltd 三層接着フィルム、半導体チップ搭載用基板及び半導体装置
JP2001152107A (ja) * 1999-11-25 2001-06-05 Hitachi Chem Co Ltd 積層接着フィルム、半導体チップ搭載用基板及び半導体装置

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