JPH09310037A - 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜 - Google Patents
日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜Info
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- JPH09310037A JPH09310037A JP12534796A JP12534796A JPH09310037A JP H09310037 A JPH09310037 A JP H09310037A JP 12534796 A JP12534796 A JP 12534796A JP 12534796 A JP12534796 A JP 12534796A JP H09310037 A JPH09310037 A JP H09310037A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 可視光透過率の制御が可能で効率の良い日射
遮蔽機能を有する膜を、簡便で安価な方法で成膜できる
塗布液を提供する。 【解決手段】 銀に更にＰｄ、銅、及び、金からなる群
から選択された１種もしくは２種以上を含み、かつ、そ
の平均粒径が１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ
以下の銀系金属微粒子を溶媒に分散させた日射遮蔽膜用
塗布液。また、上記銀系微粒子に加え更に、Ｓｉ、Ｚ
ｒ、Ｔｉ、Ａｌの各金属のアルコキシド、もしくは、各
金属のアルコキシドの部分加水分解重合物のうちから選
ばれた１種もしくは２種以上を含む日射遮蔽膜用塗布
液。また、上記いずれかの塗布液を基材に塗布後加熱し
て得た日射遮蔽膜。
遮蔽機能を有する膜を、簡便で安価な方法で成膜できる
塗布液を提供する。 【解決手段】 銀に更にＰｄ、銅、及び、金からなる群
から選択された１種もしくは２種以上を含み、かつ、そ
の平均粒径が１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ
以下の銀系金属微粒子を溶媒に分散させた日射遮蔽膜用
塗布液。また、上記銀系微粒子に加え更に、Ｓｉ、Ｚ
ｒ、Ｔｉ、Ａｌの各金属のアルコキシド、もしくは、各
金属のアルコキシドの部分加水分解重合物のうちから選
ばれた１種もしくは２種以上を含む日射遮蔽膜用塗布
液。また、上記いずれかの塗布液を基材に塗布後加熱し
て得た日射遮蔽膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス、プラスチ
ックスなどの日射遮蔽機能を必要とする基材表面に塗布
して日射遮蔽膜とするための塗布液及びこれによって得
られた日射遮蔽膜に関する。
ックスなどの日射遮蔽機能を必要とする基材表面に塗布
して日射遮蔽膜とするための塗布液及びこれによって得
られた日射遮蔽膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】太陽光線は、近赤外光、可視光、紫外光
の３つに大きく分けることができる。この内近赤外光
（熱線）は熱エネルギーとして人体に感じる波長領域の
光であるが、これを遮蔽することで室内の温度上昇を抑
制することができる。また、自動車、ビル、住宅等の窓
ガラスの可視光透過率を制御することで、その窓ガラス
にプライバシー保護機能を付与できる。
の３つに大きく分けることができる。この内近赤外光
（熱線）は熱エネルギーとして人体に感じる波長領域の
光であるが、これを遮蔽することで室内の温度上昇を抑
制することができる。また、自動車、ビル、住宅等の窓
ガラスの可視光透過率を制御することで、その窓ガラス
にプライバシー保護機能を付与できる。
【０００３】従来、日射遮蔽膜としては、アンチモン添
加酸化錫（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、
アルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）などの透明導電材
料、金属（Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ）、窒化チタン、アルミニ
ウムなどのような伝導電子を多量にもつ材料を応用した
ものが用いられていた。上記材料を用いた膜の形成に
は、スパッタ法や蒸着法等の物理成膜法によって成膜さ
れているが、これらの方法は大がかりな真空装置を必要
とするために生産性に問題がありまた大面積の成膜が困
難であった。
加酸化錫（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、
アルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）などの透明導電材
料、金属（Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ）、窒化チタン、アルミニ
ウムなどのような伝導電子を多量にもつ材料を応用した
ものが用いられていた。上記材料を用いた膜の形成に
は、スパッタ法や蒸着法等の物理成膜法によって成膜さ
れているが、これらの方法は大がかりな真空装置を必要
とするために生産性に問題がありまた大面積の成膜が困
難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題点を解決し、可視光透過率の制御が可能で効率の良
い日射遮蔽機能を有し、しかも簡便で安価な塗布法で成
膜できる日射遮蔽膜、およびこれに用いる塗布液を提供
することを目的とする。
問題点を解決し、可視光透過率の制御が可能で効率の良
い日射遮蔽機能を有し、しかも簡便で安価な塗布法で成
膜できる日射遮蔽膜、およびこれに用いる塗布液を提供
することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】発明者は上記従来の問題
を解決するため特定の銀系金属微粒子に注目し、これを
含む日射遮蔽膜およびこれを得るための塗布液を発明す
るに至った。
を解決するため特定の銀系金属微粒子に注目し、これを
含む日射遮蔽膜およびこれを得るための塗布液を発明す
るに至った。
【０００６】即ち、本発明の日射遮蔽膜用塗布液は、銀
（Ａｇ）を含み、更にパラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃ
ｕ）、及び、金（Ａｕ）からなる群から選択された１種
もしくは２種以上を含み、かつ、その平均粒径が１００
ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である銀系金属
微粒子を溶媒に分散させてなることを特徴とする。 ま
た、本発明の他の日射遮蔽膜用塗布液は、上記銀系金属
微粒子加えて更に、ケイ素（Ｓｉ）、ジルコニウム（Ｚ
ｒ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）の各金属
のアルコキシド、もしくは、各金属のアルコキシドの部
分加水分解重合物のうちから選ばれた１種もしくは２種
以上を含むことを特徴とする。
（Ａｇ）を含み、更にパラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃ
ｕ）、及び、金（Ａｕ）からなる群から選択された１種
もしくは２種以上を含み、かつ、その平均粒径が１００
ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である銀系金属
微粒子を溶媒に分散させてなることを特徴とする。 ま
た、本発明の他の日射遮蔽膜用塗布液は、上記銀系金属
微粒子加えて更に、ケイ素（Ｓｉ）、ジルコニウム（Ｚ
ｒ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）の各金属
のアルコキシド、もしくは、各金属のアルコキシドの部
分加水分解重合物のうちから選ばれた１種もしくは２種
以上を含むことを特徴とする。
【０００７】また、本発明の日射遮蔽膜は、上記いずれ
かの塗布液を基材に塗布後加熱して得たものである。
かの塗布液を基材に塗布後加熱して得たものである。
【０００８】また、本発明の他の日射遮蔽膜は、上記日
射遮蔽膜に更に、ケイ素、ジルコニウム、チタン、アル
ミニウムの各金属の酸化物のうちから選ばれた１種もし
くは２種以上を含む酸化物膜を被覆した多層日射遮蔽膜
である。
射遮蔽膜に更に、ケイ素、ジルコニウム、チタン、アル
ミニウムの各金属の酸化物のうちから選ばれた１種もし
くは２種以上を含む酸化物膜を被覆した多層日射遮蔽膜
である。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明に用いる銀系金属微粒子
は、銀微粒子の表面にその他の金属が膜状に被覆してい
てもよく、またその他の金属が微粒子の状態で銀微粒子
を覆っていてもよく、さらに、銀に他の金属が添加され
た銀系合金微粒子であってもよく、また、上記いずれか
の２種以上の混合でもよい。
は、銀微粒子の表面にその他の金属が膜状に被覆してい
てもよく、またその他の金属が微粒子の状態で銀微粒子
を覆っていてもよく、さらに、銀に他の金属が添加され
た銀系合金微粒子であってもよく、また、上記いずれか
の２種以上の混合でもよい。
【００１０】この銀系金属微粒子は、黒色系の粉末であ
るが、粒径１００ｎｍ以下の微粒子として薄膜中に分散
した状態においては十分な可視光透過性が生じる。ま
た、可視光透過性があるにもかかわらず、近赤外光遮蔽
能は充分保持できる。
るが、粒径１００ｎｍ以下の微粒子として薄膜中に分散
した状態においては十分な可視光透過性が生じる。ま
た、可視光透過性があるにもかかわらず、近赤外光遮蔽
能は充分保持できる。
【００１１】塗布液中の銀系金属微粒子の平均粒径は１
００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下がよい。平
均粒子が１００ｎｍよりも大きくなると分散液中の微粒
子同士の凝集による塗布液中の凝集微粒子の沈降原因と
なる。また１００ｎｍを超える微粒子もしくはそれらの
凝集した粗大粒子は、それによる光散乱により可視光透
過率低下の原因となる。
００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下がよい。平
均粒子が１００ｎｍよりも大きくなると分散液中の微粒
子同士の凝集による塗布液中の凝集微粒子の沈降原因と
なる。また１００ｎｍを超える微粒子もしくはそれらの
凝集した粗大粒子は、それによる光散乱により可視光透
過率低下の原因となる。
【００１２】本発明の塗布液中には上記の銀系金属微粒
子に加えて、前記ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＡＺＯなどの透明導
電性酸化物微粒子を加えてもよい。これら酸化物微粒子
を用いる場合、微粒子の粒径が大きすぎたり、凝集が強
い場合には形成された膜に曇りを生ずるため好ましくな
い。膜の曇りは、散乱透過光量の全透過光量に対する百
分率で定義されるヘイズの値で表現されるが、通常ヘイ
ズを５％以下に抑えることが必要である。
子に加えて、前記ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＡＺＯなどの透明導
電性酸化物微粒子を加えてもよい。これら酸化物微粒子
を用いる場合、微粒子の粒径が大きすぎたり、凝集が強
い場合には形成された膜に曇りを生ずるため好ましくな
い。膜の曇りは、散乱透過光量の全透過光量に対する百
分率で定義されるヘイズの値で表現されるが、通常ヘイ
ズを５％以下に抑えることが必要である。
【００１３】ケイ素、ジルコニウム、チタン、アルミニ
ウムの各金属のアルコキシド、もしくは、各金属のアル
コキシドの部分加水分解重合物は、塗膜加熱後それぞれ
の酸化物として重合固化し、銀系金属微粒子の基材への
結着性を向上させ、更に、膜の硬度を向上させる効果が
ある。
ウムの各金属のアルコキシド、もしくは、各金属のアル
コキシドの部分加水分解重合物は、塗膜加熱後それぞれ
の酸化物として重合固化し、銀系金属微粒子の基材への
結着性を向上させ、更に、膜の硬度を向上させる効果が
ある。
【００１４】本発明の塗布液は、平均粒径１００ｎｍ以
下の銀系金属微粒子を分散用溶媒中に高分散し、これに
希釈用溶媒を混合することにより製造することができ
る。分散処理工程においては、銀系金属微粒子を分散用
溶媒中に混合し、強力な分散機を用いて凝集粒子が大部
分一次粒子になるまで解膠し、一次粒子の単分散状態を
得ることが好ましい。銀系金属微粒子の分散方法は、微
粒子が均一に溶液中に分散する方法であれば良く、分散
機としてはボールミル、サンドミル、超音波分散機、ア
トライター、サンドミルなどを用いることができる。
下の銀系金属微粒子を分散用溶媒中に高分散し、これに
希釈用溶媒を混合することにより製造することができ
る。分散処理工程においては、銀系金属微粒子を分散用
溶媒中に混合し、強力な分散機を用いて凝集粒子が大部
分一次粒子になるまで解膠し、一次粒子の単分散状態を
得ることが好ましい。銀系金属微粒子の分散方法は、微
粒子が均一に溶液中に分散する方法であれば良く、分散
機としてはボールミル、サンドミル、超音波分散機、ア
トライター、サンドミルなどを用いることができる。
【００１５】本発明に用いる分散溶媒は、特に限定され
るものではなく、塗布条件や、塗布環境、塗布液中のア
ルコキシド等に合わせて選択可能であり、例えば水や、
アルコール等の有機溶媒など各種使用可能であり、必要
に応じて酸やアルカリを添加してｐＨを調整しても良
い。また、銀系金属微粒子の分散安定性を更に向上させ
るために、各種カップリング剤、界面活性剤等の利用も
可能である。この時のそれぞれの添加量は、銀系金属微
粒子に対して３０重量％以下、好ましくは５重量％以下
が良い。
るものではなく、塗布条件や、塗布環境、塗布液中のア
ルコキシド等に合わせて選択可能であり、例えば水や、
アルコール等の有機溶媒など各種使用可能であり、必要
に応じて酸やアルカリを添加してｐＨを調整しても良
い。また、銀系金属微粒子の分散安定性を更に向上させ
るために、各種カップリング剤、界面活性剤等の利用も
可能である。この時のそれぞれの添加量は、銀系金属微
粒子に対して３０重量％以下、好ましくは５重量％以下
が良い。
【００１６】焼成温度以下の適当な沸点をもち、銀系金
属微粒子を効率よく分散し得る分散溶媒の例として、
水、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、エタノー
ル、４−ヒドロキシ４−メチル−２−ペンタノン（ジア
セトンアルコール）、イソプロピルアルコール、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトア
ミド、メチルセロソルブ、アセトン、テトラヒドロキシ
フランなどを挙げることができる。
属微粒子を効率よく分散し得る分散溶媒の例として、
水、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、エタノー
ル、４−ヒドロキシ４−メチル−２−ペンタノン（ジア
セトンアルコール）、イソプロピルアルコール、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトア
ミド、メチルセロソルブ、アセトン、テトラヒドロキシ
フランなどを挙げることができる。
【００１７】分散性を高める目的で、分散剤としてシラ
ン系、チタネート系、ジルコネート系、アルミネート系
などのカップリング剤、ポリカルボン酸系、リン酸エス
テル系、シリコーン系などの界面活性剤などを少量添加
してもよい。日射遮蔽機能に影響を及ぼすものでなけれ
ばよく、また少量の添加であれば問題はない。
ン系、チタネート系、ジルコネート系、アルミネート系
などのカップリング剤、ポリカルボン酸系、リン酸エス
テル系、シリコーン系などの界面活性剤などを少量添加
してもよい。日射遮蔽機能に影響を及ぼすものでなけれ
ばよく、また少量の添加であれば問題はない。
【００１８】成膜時、特に塗布時にムラなく平滑な膜が
得られるよう、基材への塗り性を向上させることを目的
として、希釈用溶媒を用いることもできる。これは分散
用溶媒及び分散剤と相溶性で、焼成温度以下の沸点をも
つ公知の溶媒から選択できる。
得られるよう、基材への塗り性を向上させることを目的
として、希釈用溶媒を用いることもできる。これは分散
用溶媒及び分散剤と相溶性で、焼成温度以下の沸点をも
つ公知の溶媒から選択できる。
【００１９】塗布の方法は特に限定されるものではな
く、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコー
ト法、スクリーン印刷法等、処理液を平坦にかつ薄く均
一に塗布できる方法であればいかなる方法でも良い。
く、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコー
ト法、スクリーン印刷法等、処理液を平坦にかつ薄く均
一に塗布できる方法であればいかなる方法でも良い。
【００２０】本発明の塗布液を用いた膜の膜厚は、要求
される可視光透過率と日射遮蔽機能とから決定され、通
常は０．０５〜５μｍ程度が好ましい。膜厚が０．０５
μｍより薄くなると効果的な日射遮蔽効果が得られず、
また膜中の微粒子の分布が不均一になる傾向がある。ま
た塗布を繰り返すなどの操作により、厚膜を作製するこ
とも可能であるが、膜厚が５μｍ以上になると十分な透
明性を保持するのが困難となる。
される可視光透過率と日射遮蔽機能とから決定され、通
常は０．０５〜５μｍ程度が好ましい。膜厚が０．０５
μｍより薄くなると効果的な日射遮蔽効果が得られず、
また膜中の微粒子の分布が不均一になる傾向がある。ま
た塗布を繰り返すなどの操作により、厚膜を作製するこ
とも可能であるが、膜厚が５μｍ以上になると十分な透
明性を保持するのが困難となる。
【００２１】本発明による塗布液は銀系金属微粒子を分
散したものであり、焼成時の熱による塗布液成分の分解
或いは化学反応を利用して目的の銀系金属微粒子の薄膜
を形成するものではない。従って、特性の安定した均一
な膜厚の薄膜を形成することができる。また、焼成温度
としては溶媒成分や分散剤成分の蒸発、或いは部分加水
分解物の重合固化を促進できる温度でよいので、１００
℃程度の低温焼成でも成膜が可能である。焼成中には縮
重合と溶媒成分の蒸発が起こり、塗布膜は収縮・乾燥・
硬化する。
散したものであり、焼成時の熱による塗布液成分の分解
或いは化学反応を利用して目的の銀系金属微粒子の薄膜
を形成するものではない。従って、特性の安定した均一
な膜厚の薄膜を形成することができる。また、焼成温度
としては溶媒成分や分散剤成分の蒸発、或いは部分加水
分解物の重合固化を促進できる温度でよいので、１００
℃程度の低温焼成でも成膜が可能である。焼成中には縮
重合と溶媒成分の蒸発が起こり、塗布膜は収縮・乾燥・
硬化する。
【００２２】本発明の日射遮蔽膜上に更に、ケイ素、ジ
ルコニウム、チタン、アルミニウム等の酸化物膜を第２
層として被膜することで、銀系金属微粒子を主成分とす
る膜の基体への結着力や、膜の硬度および耐候性を更に
向上させることが可能となる。
ルコニウム、チタン、アルミニウム等の酸化物膜を第２
層として被膜することで、銀系金属微粒子を主成分とす
る膜の基体への結着力や、膜の硬度および耐候性を更に
向上させることが可能となる。
【００２３】第２層目以降を成膜する方法は、スパッタ
法や、蒸着法も可能であるが、成膜工程の容易さや、成
膜コストが低いなどの利点から、塗布法が有効である。
この成膜用塗布液には、水やアルコール中に、ケイ素、
ジルコニウム、チタン、アルミニウム等のアルコキシド
およびその部分加水分解重合物を１種もしくは２種以上
含むものが使用でき、その含有量は、加熱後得られる酸
化物換算で全溶液中の３０重量％以下、好ましくは１０
重量％以下が良い。また必要に応じて酸やアルカリを添
加してｐＨを調整することも可能である。
法や、蒸着法も可能であるが、成膜工程の容易さや、成
膜コストが低いなどの利点から、塗布法が有効である。
この成膜用塗布液には、水やアルコール中に、ケイ素、
ジルコニウム、チタン、アルミニウム等のアルコキシド
およびその部分加水分解重合物を１種もしくは２種以上
含むものが使用でき、その含有量は、加熱後得られる酸
化物換算で全溶液中の３０重量％以下、好ましくは１０
重量％以下が良い。また必要に応じて酸やアルカリを添
加してｐＨを調整することも可能である。
【００２４】ケイ素、ジルコニウム、チタン、アルミニ
ウムのうちの１種もしくは２種以上の酸化物を加熱生成
させて得た本発明の日射遮蔽膜は、銀系金属微粒子を電
気的に孤立した状態で膜中に存在させることが可能とな
り、表面抵抗が１ＭΩ/□以上の膜が得られる。このよ
うに高い表面抵抗を持つ日射遮蔽膜は、これを施した室
内で、携帯電話等の電波通信機や、ラジオ、テレビ、ポ
ケットベル等の電波受信機の利用が可能となり、応用範
囲が広がる。本発明の日射遮蔽膜は、その膜厚を変える
ことで可視光透過率が制御でき、近赤外域の太陽光線を
遮蔽するだけでなく、プライバシー保護膜としての機能
も兼ね備えることができる。
ウムのうちの１種もしくは２種以上の酸化物を加熱生成
させて得た本発明の日射遮蔽膜は、銀系金属微粒子を電
気的に孤立した状態で膜中に存在させることが可能とな
り、表面抵抗が１ＭΩ/□以上の膜が得られる。このよ
うに高い表面抵抗を持つ日射遮蔽膜は、これを施した室
内で、携帯電話等の電波通信機や、ラジオ、テレビ、ポ
ケットベル等の電波受信機の利用が可能となり、応用範
囲が広がる。本発明の日射遮蔽膜は、その膜厚を変える
ことで可視光透過率が制御でき、近赤外域の太陽光線を
遮蔽するだけでなく、プライバシー保護膜としての機能
も兼ね備えることができる。
【００２５】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。 実施例１ ・・・ 平均粒径４５ｎｍの住友金属鉱山
（株）製Ａｇ−Ｐｄ微粒子（９重量％Ｐｄ含有：化学分
析値（以下同じ））１５ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン（ＮＭＰ）２３ｇ、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）
１４ｇ、水４７ｇ、およびシラン系カップリング剤１ｇ
を混合し、これを強力混合してＡｇ−Ｐｄの混合液１０
０ｇを作製した（Ａ液）。また、平均重合度で４〜５量
体であるエチルシリケート４０（多摩化学工業株式会社
製）を１８．７５ｇ、エタノール１８．２５ｇ、５％塩
酸水溶液８ｇ、水５ｇで調整したエチルシリケート溶液
５０ｇを調整した（Ｂ液）。
（株）製Ａｇ−Ｐｄ微粒子（９重量％Ｐｄ含有：化学分
析値（以下同じ））１５ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン（ＮＭＰ）２３ｇ、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）
１４ｇ、水４７ｇ、およびシラン系カップリング剤１ｇ
を混合し、これを強力混合してＡｇ−Ｐｄの混合液１０
０ｇを作製した（Ａ液）。また、平均重合度で４〜５量
体であるエチルシリケート４０（多摩化学工業株式会社
製）を１８．７５ｇ、エタノール１８．２５ｇ、５％塩
酸水溶液８ｇ、水５ｇで調整したエチルシリケート溶液
５０ｇを調整した（Ｂ液）。
【００２６】Ａ液とＢ液をそれぞれエタノールで目的の
濃度となるように希釈し、Ａ液とB液を混合撹拌し、Ａ
ｇ−Ｐｄと、シリケートのＳｉＯ2換算の固形分が全体
の１．８重量％、Ａｇ−ＰｄとシリケートのＳｉＯ2換
算の重量比が７５：２５となるようにした（Ｃ液）。
濃度となるように希釈し、Ａ液とB液を混合撹拌し、Ａ
ｇ−Ｐｄと、シリケートのＳｉＯ2換算の固形分が全体
の１．８重量％、Ａｇ−ＰｄとシリケートのＳｉＯ2換
算の重量比が７５：２５となるようにした（Ｃ液）。
【００２７】このＣ液２０ｇを、１６０ｒｐｍで回転す
る２００×２００×３ｍｍのソーダライム系板硝子基板
上にビーカーから滴下し、そのまま５分間振り切った後
回転を止めた。これを４００℃の電気炉に入れて３０分
加熱し、膜を得た。
る２００×２００×３ｍｍのソーダライム系板硝子基板
上にビーカーから滴下し、そのまま５分間振り切った後
回転を止めた。これを４００℃の電気炉に入れて３０分
加熱し、膜を得た。
【００２８】形成された膜の表面抵抗は、三菱油化株式
会社製の表面抵抗計を用いて測定した。また、形成され
た膜の３４０〜１８００ｎｍの分光透過率を測定し、Ｊ
ＩＳＲ ３１０６に従って日射透過率、可視光透過率を
算出した。また、ヘイズメーターを用いて膜のヘイズ値
を測定した。更に、形成された膜の紫外線領域の分光透
過率を測定し、ＩＳＯ９０５０に従って紫外線透過率を
算出した。これらの結果を表１に示す。表１には実施例
２〜７、比較例１で得られた膜の特性についても併せて
示した。
会社製の表面抵抗計を用いて測定した。また、形成され
た膜の３４０〜１８００ｎｍの分光透過率を測定し、Ｊ
ＩＳＲ ３１０６に従って日射透過率、可視光透過率を
算出した。また、ヘイズメーターを用いて膜のヘイズ値
を測定した。更に、形成された膜の紫外線領域の分光透
過率を測定し、ＩＳＯ９０５０に従って紫外線透過率を
算出した。これらの結果を表１に示す。表１には実施例
２〜７、比較例１で得られた膜の特性についても併せて
示した。
【００２９】実施例２ ・・・ 実施例１におけるＣ液
中の固形分濃度を１．５重量％とし、Ａｇ−Ｐｄとシリ
ケートのＳｉＯ2換算の重量比が５０：５０となるよう
にし、また、膜の焼成温度を２００℃とした以外は実施
例１と同様の方法で膜を形成した。
中の固形分濃度を１．５重量％とし、Ａｇ−Ｐｄとシリ
ケートのＳｉＯ2換算の重量比が５０：５０となるよう
にし、また、膜の焼成温度を２００℃とした以外は実施
例１と同様の方法で膜を形成した。
【００３０】実施例３ ・・・ 実施例１におけるＣ液
中の固形分濃度を１．５重量％とし、Ａｇ−Ｐｄとシリ
ケートのＳｉＯ2換算の重量比が１００：０となるよう
にした。このＣ液２０ｇを、１５０ｒｐｍで回転する２
００×２００×３ｍｍのソーダライム系板硝子基板上に
ビーカーから滴下し、そのまま５分間振り切った後回転
を止めた。これを、８０℃の乾燥機で３０分乾燥させた
後、エタノールで固形分納度を１．６重量％に希釈した
Ｂ液を更にこの基板上に上記と同様の条件で塗布し２０
０℃で焼成を行い、２層構造の膜を作製した。それ以外
は、実施例１と同様の方法で膜を形成した。
中の固形分濃度を１．５重量％とし、Ａｇ−Ｐｄとシリ
ケートのＳｉＯ2換算の重量比が１００：０となるよう
にした。このＣ液２０ｇを、１５０ｒｐｍで回転する２
００×２００×３ｍｍのソーダライム系板硝子基板上に
ビーカーから滴下し、そのまま５分間振り切った後回転
を止めた。これを、８０℃の乾燥機で３０分乾燥させた
後、エタノールで固形分納度を１．６重量％に希釈した
Ｂ液を更にこの基板上に上記と同様の条件で塗布し２０
０℃で焼成を行い、２層構造の膜を作製した。それ以外
は、実施例１と同様の方法で膜を形成した。
【００３１】実施例４ ・・・ 実施例１におけるＣ液
中の固形分濃度を４重量％とし、焼成温度を４００℃と
した以外は、実施例３と同様の方法で膜を形成した。
中の固形分濃度を４重量％とし、焼成温度を４００℃と
した以外は、実施例３と同様の方法で膜を形成した。
【００３２】実施例５ ・・・ 実施例１おけるＡ液中
のＡｇ−Ｐｄ微粒子の代わりに、平均粒径３５ｎｍのＡ
ｇ−Ａｕ微粒子（３．６重量％Ａｕ含有）を使用し、さ
らに、実施例１におけるＣ液中の全固形分濃度を２重量
％、Ａｇ−ＡｕとシリケートのＳｉＯ2換算の重量比が
８０：２０となるようにした以外は、実施例１と同様の
方法で膜を形成した。
のＡｇ−Ｐｄ微粒子の代わりに、平均粒径３５ｎｍのＡ
ｇ−Ａｕ微粒子（３．６重量％Ａｕ含有）を使用し、さ
らに、実施例１におけるＣ液中の全固形分濃度を２重量
％、Ａｇ−ＡｕとシリケートのＳｉＯ2換算の重量比が
８０：２０となるようにした以外は、実施例１と同様の
方法で膜を形成した。
【００３３】実施例６ ・・・ 実施例１におけるＡ液
中のＡｇ−Ｐｄ微粒子の代わりに、平均粒径４３ｎｍの
Ａｇ−Ｃｕ微粒子（４．４重量％Ｃｕ含有）を使用し、
さらに実施例１におけるＣ液中の全固形分濃度を１．４
重量％、Ａｇ−ＣｕとシリケートのＳｉＯ2換算の重量
比が７０：３０となるようにし、焼成温度を２００℃と
した以外は実施例１と同様の方法で膜を形成した。
中のＡｇ−Ｐｄ微粒子の代わりに、平均粒径４３ｎｍの
Ａｇ−Ｃｕ微粒子（４．４重量％Ｃｕ含有）を使用し、
さらに実施例１におけるＣ液中の全固形分濃度を１．４
重量％、Ａｇ−ＣｕとシリケートのＳｉＯ2換算の重量
比が７０：３０となるようにし、焼成温度を２００℃と
した以外は実施例１と同様の方法で膜を形成した。
【００３４】実施例７ ・・・ 実施例１におけるＣ液
中の全固形分濃度を４重量％とし、Ａｇ−Ｃｕとシリケ
ートのＳｉＯ2換算の重量比が５０：５０となるように
したた以外は、実施例６と同様の方法で膜を形成した。
中の全固形分濃度を４重量％とし、Ａｇ−Ｃｕとシリケ
ートのＳｉＯ2換算の重量比が５０：５０となるように
したた以外は、実施例６と同様の方法で膜を形成した。
【００３５】比較例１ ・・・ 実施例１におけるＡ液
中のＡｇ−Ｐｄ微粒子の平均粒径を１１０ｎｍとし、さ
らに実施例１におけるＣ液中の全固形分濃度を１．８重
量％、Ａｇ−ＰｄとシリケートのＳｉＯ2換算の重量比
が８０：２０となるようにした以外は、実施例１と同様
の方法で膜を形成した。
中のＡｇ−Ｐｄ微粒子の平均粒径を１１０ｎｍとし、さ
らに実施例１におけるＣ液中の全固形分濃度を１．８重
量％、Ａｇ−ＰｄとシリケートのＳｉＯ2換算の重量比
が８０：２０となるようにした以外は、実施例１と同様
の方法で膜を形成した。
【００３６】このようにして得られた膜付きガラスは、
ヘイズ値が２８と非常に高く、曇りガラスの様になって
しまった。また、インク中に多量の沈殿が生じてしま
い、目的とする膜、及びインクは得られなかった。
ヘイズ値が２８と非常に高く、曇りガラスの様になって
しまった。また、インク中に多量の沈殿が生じてしま
い、目的とする膜、及びインクは得られなかった。
【００３７】
【表１】
【００３８】
【発明の効果】以上示したように、特定の銀系金属微粒
子を主成分とする塗布液を塗布成膜することで、可視光
透過率の制御が可能で効率の良い日射遮蔽機能を有する
膜が、簡便で安価な塗布法で成膜できた。
子を主成分とする塗布液を塗布成膜することで、可視光
透過率の制御が可能で効率の良い日射遮蔽機能を有する
膜が、簡便で安価な塗布法で成膜できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５
Claims (5)
- 【請求項１】 銀（Ａｇ）を含み、更にパラジウム（Ｐ
ｄ）、銅（Ｃｕ）、及び、金（Ａｕ）からなる群から選
択された１種もしくは２種以上を含み、かつ、その平均
粒径が１００ｎｍ以下である銀系金属微粒子を溶媒に分
散させてなる日射遮蔽膜用塗布液。 - 【請求項２】 銀（Ａｇ）を含み、更にパラジウム（Ｐ
ｄ）、銅（Ｃｕ）、及び、金（Ａｕ）からなる群から選
択された１種もしくは２種以上を含み、かつ、その平均
粒径が５０ｎｍ以下である銀系金属微粒子を溶媒に分散
させてなる日射遮蔽膜用塗布液。 - 【請求項３】 銀系金属微粒子に加え更に、ケイ素（Ｓ
ｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、アルミ
ニウム（Ａｌ）の各金属のアルコキシド、もしくは、各
金属のアルコキシドの部分加水分解重合物のうちから選
ばれた１種もしくは２種以上を含むことを特徴とする請
求項１または請求項２に記載の日射遮蔽膜用塗布液。 - 【請求項４】 請求項１又は請求項２又は請求項３に記
載の日射遮蔽膜用塗布液を基材に塗布後加熱して得た日
射遮蔽膜。 - 【請求項５】 請求項４に記載の日射遮蔽膜上に更に、
ケイ素（Ｓｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔ
ｉ）、アルミニウム（Ａｌ）の各金属の酸化物のうちか
ら選ばれた１種もしくは２種以上を含む酸化物膜を被覆
した多層日射遮蔽膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12534796A JPH09310037A (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12534796A JPH09310037A (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09310037A true JPH09310037A (ja) | 1997-12-02 |
Family
ID=14907877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12534796A Pending JPH09310037A (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09310037A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008008609A (ja) * | 2006-06-16 | 2008-01-17 | Schott Ag | ガラスセラミック板下面に不透明コーティングと、ディスプレイウインド上の改良型ウインドコーティングが施されたガラスセラミック板を有して成る調理用レンジ |
| JP2011241357A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Mitsubishi Chemicals Corp | 熱線反射積層体及び熱線反射層形成用塗布液 |
-
1996
- 1996-05-21 JP JP12534796A patent/JPH09310037A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008008609A (ja) * | 2006-06-16 | 2008-01-17 | Schott Ag | ガラスセラミック板下面に不透明コーティングと、ディスプレイウインド上の改良型ウインドコーティングが施されたガラスセラミック板を有して成る調理用レンジ |
| JP2011241357A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Mitsubishi Chemicals Corp | 熱線反射積層体及び熱線反射層形成用塗布液 |
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