JPH09306975A - 被処理基板の移載装置 - Google Patents
被処理基板の移載装置Info
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- JPH09306975A JPH09306975A JP14227496A JP14227496A JPH09306975A JP H09306975 A JPH09306975 A JP H09306975A JP 14227496 A JP14227496 A JP 14227496A JP 14227496 A JP14227496 A JP 14227496A JP H09306975 A JPH09306975 A JP H09306975A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 密閉型の被処理基板カセット（ウエハカセッ
ト）を用いてウエハカセット内の被処理基板例えばウエ
ハを処理ステ−ションに移載するにあたり、ウエハの汚
染をできるだけ防止することができる装置を提供するこ
と。 【解決手段】 壁部２によりウエハカセット３の載置領
域（第１の雰囲気）とウエハの移載領域（第２の雰囲
気）とを区画し、壁部２に開口部２１を形成し、ここに
ウエハカセット３を第１の雰囲気側から装着して、第２
の雰囲気側からウエハカセット３内のウエハを取り出
す。前記開口部２１とウエハカセット３との間の隙間を
Ｏリング２２で封止すると共に、開口部２１の第２の雰
囲気側の周縁部と壁部用蓋体５１との間にシ−ル部材５
４を介在させ、開口部２１内の雰囲気を第１及び第２の
雰囲気から封止し、開口部２１内を排気しながらＮ2 ガ
スを供給する。
ト）を用いてウエハカセット内の被処理基板例えばウエ
ハを処理ステ−ションに移載するにあたり、ウエハの汚
染をできるだけ防止することができる装置を提供するこ
と。 【解決手段】 壁部２によりウエハカセット３の載置領
域（第１の雰囲気）とウエハの移載領域（第２の雰囲
気）とを区画し、壁部２に開口部２１を形成し、ここに
ウエハカセット３を第１の雰囲気側から装着して、第２
の雰囲気側からウエハカセット３内のウエハを取り出
す。前記開口部２１とウエハカセット３との間の隙間を
Ｏリング２２で封止すると共に、開口部２１の第２の雰
囲気側の周縁部と壁部用蓋体５１との間にシ−ル部材５
４を介在させ、開口部２１内の雰囲気を第１及び第２の
雰囲気から封止し、開口部２１内を排気しながらＮ2 ガ
スを供給する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理基板の移載
装置に関する。
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ（以下ウエハという）のパ
ーティクル汚染を抑えるために密閉型のウエハカセット
が検討されている。この密閉型のウエハカセット１は、
例えば図８に示すように、ウエハＷを例えば１３枚収納
するカセット本体１０と、このカセット本体１０に形成
されたウエハ取り出し口を、Ｏリング１２を介して気密
に塞ぐための蓋体１１とを備えており、この蓋体１１
は、例えば蓋体１１に図示しないキ−を差し込むことに
よりロックされてカセット本体１０に固定されるように
構成されている。
ーティクル汚染を抑えるために密閉型のウエハカセット
が検討されている。この密閉型のウエハカセット１は、
例えば図８に示すように、ウエハＷを例えば１３枚収納
するカセット本体１０と、このカセット本体１０に形成
されたウエハ取り出し口を、Ｏリング１２を介して気密
に塞ぐための蓋体１１とを備えており、この蓋体１１
は、例えば蓋体１１に図示しないキ−を差し込むことに
よりロックされてカセット本体１０に固定されるように
構成されている。
【０００３】ここでウエハのパーティクル汚染をより低
減させるためには、ウエハカセットが置かれるカセット
載置領域とウエハの移載領域とを区画し、後者の領域の
クリ−ン度を前者の領域よりも高くすることが望まし
い。このため前記カセット載置領域を第１の雰囲気、ウ
エハの移載領域を第２の雰囲気と呼ぶことにすると、第
１の雰囲気と第２の雰囲気とを壁部１３にて区画し、処
理の際には、壁部１３に形成された開口部１４に第１の
雰囲気側から前記ウエハカセット１を装着し、このウエ
ハカセット１内のウエハを第２の雰囲気側から取り出す
システムを検討している。
減させるためには、ウエハカセットが置かれるカセット
載置領域とウエハの移載領域とを区画し、後者の領域の
クリ−ン度を前者の領域よりも高くすることが望まし
い。このため前記カセット載置領域を第１の雰囲気、ウ
エハの移載領域を第２の雰囲気と呼ぶことにすると、第
１の雰囲気と第２の雰囲気とを壁部１３にて区画し、処
理の際には、壁部１３に形成された開口部１４に第１の
雰囲気側から前記ウエハカセット１を装着し、このウエ
ハカセット１内のウエハを第２の雰囲気側から取り出す
システムを検討している。
【０００４】上述のウエハカセット１の装着構造につい
て説明すると、壁部１３の開口部１４にウエハカセット
１を装着したときに、前記開口部１４の周縁部において
ウエハカセット１と壁部１３との間及び、開閉機構１５
と壁部１３との間に、約２ｍｍ程度の隙間が形成される
ように各部を構成すると共に、第１の雰囲気よりも第２
の雰囲気を陽圧に設定して第２の雰囲気から、クリ−ン
エアをこの隙間を介して常時第１の雰囲気側へ流出さ
せ、第１の雰囲気側から第２の雰囲気側へパーティクル
が侵入することを防ぐようにしている。なお図中１６は
載置台、１７は開口部１４の蓋部である。
て説明すると、壁部１３の開口部１４にウエハカセット
１を装着したときに、前記開口部１４の周縁部において
ウエハカセット１と壁部１３との間及び、開閉機構１５
と壁部１３との間に、約２ｍｍ程度の隙間が形成される
ように各部を構成すると共に、第１の雰囲気よりも第２
の雰囲気を陽圧に設定して第２の雰囲気から、クリ−ン
エアをこの隙間を介して常時第１の雰囲気側へ流出さ
せ、第１の雰囲気側から第２の雰囲気側へパーティクル
が侵入することを防ぐようにしている。なお図中１６は
載置台、１７は開口部１４の蓋部である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記隙
間を流れるエアが渦を巻き、一方隙間を形成する壁部１
３、ウエハカセット１、及び開閉機構１５の各面の表面
近傍では、エアが非常に緩やかで流速が零に近いため、
第１の雰囲気側のエアが第２の雰囲気から流れ込むエア
の渦に巻き込まれて、前記表面に沿って第２の雰囲気側
に流れ込んでしまう。これによりエアと共にパーティク
ルが第２の雰囲気側に侵入してしまい、せっかく密閉型
のウエハカセット１を用いてウエハのパーティクル汚染
を防止しようとしているのに、その趣旨が十分生かされ
なくなってしまう。また例えばウエハボ−トへのウエハ
の移載領域を窒素ガス雰囲気として、自然酸化膜の成長
を防止しようとする装置においては、処理領域中の酸素
濃度を管理することが難しくなってしまう。
間を流れるエアが渦を巻き、一方隙間を形成する壁部１
３、ウエハカセット１、及び開閉機構１５の各面の表面
近傍では、エアが非常に緩やかで流速が零に近いため、
第１の雰囲気側のエアが第２の雰囲気から流れ込むエア
の渦に巻き込まれて、前記表面に沿って第２の雰囲気側
に流れ込んでしまう。これによりエアと共にパーティク
ルが第２の雰囲気側に侵入してしまい、せっかく密閉型
のウエハカセット１を用いてウエハのパーティクル汚染
を防止しようとしているのに、その趣旨が十分生かされ
なくなってしまう。また例えばウエハボ−トへのウエハ
の移載領域を窒素ガス雰囲気として、自然酸化膜の成長
を防止しようとする装置においては、処理領域中の酸素
濃度を管理することが難しくなってしまう。
【０００６】また密閉型のウエハカセットは、カセット
内でウエハの位置合わせを行うことができず、ウエハカ
セットからウエハを取り出した後にウエハの位置合わせ
を行う必要がある。さらにウエハカセットの交換は、カ
セット本体１０に蓋体１１を取り付けてから、ウエハカ
セット１を壁部１３から取り外し、新しいウエハカセッ
ト１を壁部１３の開口部１４に装着して行われるもので
あり、蓋体１３の着脱や、ウエハカセット１自体の着脱
に時間がかかるため、ウエハカセット１の交換にかなり
の時間がかかってしまう。従って密閉型のウエハカセッ
トを用いるシステムを組むにあたっては、ウエハの位置
合わせの時間及びウエハカセットの交換の時間が加算さ
れてくるため、スル−プットが低下しないような工夫を
検討することが要請される。
内でウエハの位置合わせを行うことができず、ウエハカ
セットからウエハを取り出した後にウエハの位置合わせ
を行う必要がある。さらにウエハカセットの交換は、カ
セット本体１０に蓋体１１を取り付けてから、ウエハカ
セット１を壁部１３から取り外し、新しいウエハカセッ
ト１を壁部１３の開口部１４に装着して行われるもので
あり、蓋体１３の着脱や、ウエハカセット１自体の着脱
に時間がかかるため、ウエハカセット１の交換にかなり
の時間がかかってしまう。従って密閉型のウエハカセッ
トを用いるシステムを組むにあたっては、ウエハの位置
合わせの時間及びウエハカセットの交換の時間が加算さ
れてくるため、スル−プットが低下しないような工夫を
検討することが要請される。
【０００７】本発明は、このような事情の下になされた
ものであり、その目的は、密閉型の被処理基板カセット
を用いて被処理基板の移載を行なう場合に、被処理基板
の移載領域のクリ−ン度の低下を抑えることのできる被
処理基板の移載装置を提供することにある。また本発明
の他の目的は、密閉型の被処理基板カセットを用いて被
処理基板の移載を行なう場合に、スル−プットの向上を
図ることができる被処理基板の移載装置を提供すること
にある。
ものであり、その目的は、密閉型の被処理基板カセット
を用いて被処理基板の移載を行なう場合に、被処理基板
の移載領域のクリ−ン度の低下を抑えることのできる被
処理基板の移載装置を提供することにある。また本発明
の他の目的は、密閉型の被処理基板カセットを用いて被
処理基板の移載を行なう場合に、スル−プットの向上を
図ることができる被処理基板の移載装置を提供すること
にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の被処理基板の移
載装置は、第１の雰囲気と第２の雰囲気とを区画すると
共に被処理基板の受け渡し用の開口部が形成された壁部
と、被処理基板を収納するカセット本体とこのカセット
本体の被処理基板取り出し口を気密に塞ぐための蓋体と
を有する密閉型の被処理基板カセットと、を備え、前記
被処理基板カセットを前記第１の雰囲気側から前記壁部
に取り付けて、前記第２の雰囲気内の移載機構により前
記カセットに対して被処理基板の受け渡しを行うための
装置であって、前記第１の雰囲気側に設けられ、前記被
処理基板カセットを、被処理基板取り出し口が前記開口
部に適合するように載置するためのカセット載置部と、
前記壁部の開口部の周縁部と前記被処理基板カセットの
被処理基板取り出し口の周縁部との間を封止して当該カ
セット内空間と前記第１の雰囲気とを気密に区画するた
めの封止部と、前記壁部の開口部を気密に塞ぐための壁
部用の蓋体と、前記壁部用の蓋体を開閉するための第１
の開閉手段と、前記カセットの蓋体を開閉するための第
２の開閉手段と、を備えたことを特徴とする。
載装置は、第１の雰囲気と第２の雰囲気とを区画すると
共に被処理基板の受け渡し用の開口部が形成された壁部
と、被処理基板を収納するカセット本体とこのカセット
本体の被処理基板取り出し口を気密に塞ぐための蓋体と
を有する密閉型の被処理基板カセットと、を備え、前記
被処理基板カセットを前記第１の雰囲気側から前記壁部
に取り付けて、前記第２の雰囲気内の移載機構により前
記カセットに対して被処理基板の受け渡しを行うための
装置であって、前記第１の雰囲気側に設けられ、前記被
処理基板カセットを、被処理基板取り出し口が前記開口
部に適合するように載置するためのカセット載置部と、
前記壁部の開口部の周縁部と前記被処理基板カセットの
被処理基板取り出し口の周縁部との間を封止して当該カ
セット内空間と前記第１の雰囲気とを気密に区画するた
めの封止部と、前記壁部の開口部を気密に塞ぐための壁
部用の蓋体と、前記壁部用の蓋体を開閉するための第１
の開閉手段と、前記カセットの蓋体を開閉するための第
２の開閉手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】本発明は、封止部を、被処理基板カセット
の着脱方向に対向する面の間に介在すると共に弾性のあ
る封止部材により構成し、被処理基板カセットを壁部に
対して封止部材の弾性力に抗して押圧するための押圧機
構を設けるようにしてもよいし、前記被処理基板カセッ
トを壁部に押圧したときの当該カセットの着脱方向の位
置を検出するための検出手段と、前記検出手段の検出値
に基づいて被処理基板カセット内への移載機構の伸び出
しストロ−クを制御する制御手段とを設けるようにして
もよい。
の着脱方向に対向する面の間に介在すると共に弾性のあ
る封止部材により構成し、被処理基板カセットを壁部に
対して封止部材の弾性力に抗して押圧するための押圧機
構を設けるようにしてもよいし、前記被処理基板カセッ
トを壁部に押圧したときの当該カセットの着脱方向の位
置を検出するための検出手段と、前記検出手段の検出値
に基づいて被処理基板カセット内への移載機構の伸び出
しストロ−クを制御する制御手段とを設けるようにして
もよい。
【００１０】また本発明は、被処理基板カセットを壁部
に取り付けたときに、壁部用の蓋体と被処理基板カセッ
トとの間に形成される空間に清浄気体を通気させるため
の手段を設けるようにしてもよいし、前記空間に当該空
間を減圧するための減圧手段を設けるようにしてもよ
い。ここで第２の雰囲気が不活性ガス雰囲気である場合
には、清浄気体は不活性ガスとされる。
に取り付けたときに、壁部用の蓋体と被処理基板カセッ
トとの間に形成される空間に清浄気体を通気させるため
の手段を設けるようにしてもよいし、前記空間に当該空
間を減圧するための減圧手段を設けるようにしてもよ
い。ここで第２の雰囲気が不活性ガス雰囲気である場合
には、清浄気体は不活性ガスとされる。
【００１１】さらに本発明は、前記第２の雰囲気側に、
前記被処理基板カセットの収納枚数以上の被処理基板が
保持される中間受け渡し台と、被処理基板に対して処理
を行うための処理ステ−ションと、被処理基板の位置合
わせを行うための位置合わせ機構と、前記被処理基板カ
セットと中間受け渡し台と位置合わせ機構との間で被処
理基板を移載するための第１の移載機構と、被処理基板
を前記中間受け渡し台と処理ステ−ションとの間で移載
するための第２の移載機構とを夫々設けたことを特徴と
する。ここで位置合わせ機構は、中間受け渡し台に組み
合わせて設けてもよい。
前記被処理基板カセットの収納枚数以上の被処理基板が
保持される中間受け渡し台と、被処理基板に対して処理
を行うための処理ステ−ションと、被処理基板の位置合
わせを行うための位置合わせ機構と、前記被処理基板カ
セットと中間受け渡し台と位置合わせ機構との間で被処
理基板を移載するための第１の移載機構と、被処理基板
を前記中間受け渡し台と処理ステ−ションとの間で移載
するための第２の移載機構とを夫々設けたことを特徴と
する。ここで位置合わせ機構は、中間受け渡し台に組み
合わせて設けてもよい。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態に係る
被処理基板の移載装置を縦型熱処理装置に適用した例を
示す図であり、図２はその要部を示す断面図である。こ
の装置は、壁部２によりウエハカセット載置領域である
第１の雰囲気Ｓ１と、ウエハの移載領域である第２の雰
囲気Ｓ２とに区画されている。この壁部２には、図２に
示すように、ウエハの受け渡し用の開口部２１が形成さ
れており、この開口部２１の第１の雰囲気Ｓ１側の周縁
部には、段部２１ａが形成されている。
被処理基板の移載装置を縦型熱処理装置に適用した例を
示す図であり、図２はその要部を示す断面図である。こ
の装置は、壁部２によりウエハカセット載置領域である
第１の雰囲気Ｓ１と、ウエハの移載領域である第２の雰
囲気Ｓ２とに区画されている。この壁部２には、図２に
示すように、ウエハの受け渡し用の開口部２１が形成さ
れており、この開口部２１の第１の雰囲気Ｓ１側の周縁
部には、段部２１ａが形成されている。
【００１３】この段部２１ａの段面（後述するウエハカ
セット３の着脱方向に対向する面）には封止部をなす弾
性材例えばテフロンよりなるＯリング２２が設けられて
いる。このＯリング２２は、ウエハカセット３の周縁部
と、前記壁部２の開口部２１との間を封止して、第１の
雰囲気Ｓ１とウエハカセット３内空間とを気密に区画す
るためのものである。また前記開口部２１を囲む壁部２
の内周面に夫々開口するように、窒素（Ｎ2 ）ガス供給
路２３と排気路２４とが設けられており、Ｎ2ガス供給
路２３及び排気路２４の他端側には、夫々Ｎ2 ガス供給
源２５と、真空ポンプ２６とが接続されている。
セット３の着脱方向に対向する面）には封止部をなす弾
性材例えばテフロンよりなるＯリング２２が設けられて
いる。このＯリング２２は、ウエハカセット３の周縁部
と、前記壁部２の開口部２１との間を封止して、第１の
雰囲気Ｓ１とウエハカセット３内空間とを気密に区画す
るためのものである。また前記開口部２１を囲む壁部２
の内周面に夫々開口するように、窒素（Ｎ2 ）ガス供給
路２３と排気路２４とが設けられており、Ｎ2ガス供給
路２３及び排気路２４の他端側には、夫々Ｎ2 ガス供給
源２５と、真空ポンプ２６とが接続されている。
【００１４】前記開口部２１の第１の雰囲気Ｓ１側に
は、被処理基板カセットをなす密閉型のウエハカセット
３が壁部２に密着されている。このウエハカセット３
は、例えば図３に示すように、例えば１３枚の被処理基
板であるウエハＷを棚状に保持するようにウエハ保持部
３０が多段に形成されたカセット本体３１と、このカセ
ット本体３１のウエハ取り出し口である開口部３３を気
密に塞ぐための蓋体３２とを備えている。
は、被処理基板カセットをなす密閉型のウエハカセット
３が壁部２に密着されている。このウエハカセット３
は、例えば図３に示すように、例えば１３枚の被処理基
板であるウエハＷを棚状に保持するようにウエハ保持部
３０が多段に形成されたカセット本体３１と、このカセ
ット本体３１のウエハ取り出し口である開口部３３を気
密に塞ぐための蓋体３２とを備えている。
【００１５】蓋体３２は、図２に示すように、カセット
本体３１の開口部３３の内側に入り込むように設けられ
ており、カセット本体３１の内周面には、蓋体３２のス
トッパとなる突状部３４が形成されていて、蓋体３２と
突状部３４との間にはＯリング３５が設けられている。
また蓋体３２には、例えば２か所に鍵穴３６ａが設けら
れており、この鍵穴３６ａに後述の第２の開閉機構に設
けられたキ−３６を挿入して回すことにより、蓋体３２
の上端と下端とから例えば４本のロックピン３７が突出
して、カセット本体３１に蓋体３２が固定されるように
構成されている。またカセット本体３１の開口部３３の
周縁部は外側に屈曲して鍔部３１ａとして形成されてい
る。
本体３１の開口部３３の内側に入り込むように設けられ
ており、カセット本体３１の内周面には、蓋体３２のス
トッパとなる突状部３４が形成されていて、蓋体３２と
突状部３４との間にはＯリング３５が設けられている。
また蓋体３２には、例えば２か所に鍵穴３６ａが設けら
れており、この鍵穴３６ａに後述の第２の開閉機構に設
けられたキ−３６を挿入して回すことにより、蓋体３２
の上端と下端とから例えば４本のロックピン３７が突出
して、カセット本体３１に蓋体３２が固定されるように
構成されている。またカセット本体３１の開口部３３の
周縁部は外側に屈曲して鍔部３１ａとして形成されてい
る。
【００１６】前記ウエハカセット３はカセット載置部４
のステ−ジ４１上に載置されており、このカセット載置
部４により、ウエハカセット３は前記ウエハの受け渡し
用の開口部２１に適合する位置に保持され、前記鍔部３
１ａの鍔面が前記ウエハの受け渡し用開口部２１の段部
２１ａの段面にＯリング２２を介して密接するように、
前記開口部２１に装着される。図１では、便宜上壁部２
及びカセット載置部４は、通常の位置よりも手前側に描
かれているが、実際にはこれらは後述する第１の移載機
構８Ａ側に寄った位置にある。
のステ−ジ４１上に載置されており、このカセット載置
部４により、ウエハカセット３は前記ウエハの受け渡し
用の開口部２１に適合する位置に保持され、前記鍔部３
１ａの鍔面が前記ウエハの受け渡し用開口部２１の段部
２１ａの段面にＯリング２２を介して密接するように、
前記開口部２１に装着される。図１では、便宜上壁部２
及びカセット載置部４は、通常の位置よりも手前側に描
かれているが、実際にはこれらは後述する第１の移載機
構８Ａ側に寄った位置にある。
【００１７】前記カセット載置部４は、例えば３本の突
起４１ａが形成されたステ−ジ４１と、ステ−ジ４１を
支持するためのステ−ジ支持台４２と、ウエハカセット
３の着脱方向に基台４４上に設けられたガイドレ−ル４
３とを備え、ステ−ジ支持台４２が前記ガイドレ−ル４
３上を前記着脱方向に移動できるように構成されてい
る。
起４１ａが形成されたステ−ジ４１と、ステ−ジ４１を
支持するためのステ−ジ支持台４２と、ウエハカセット
３の着脱方向に基台４４上に設けられたガイドレ−ル４
３とを備え、ステ−ジ支持台４２が前記ガイドレ−ル４
３上を前記着脱方向に移動できるように構成されてい
る。
【００１８】前記ウエハカセット３の底面には、ステ−
ジ４１の突起４１ａと適合するように凹部３１ｂが形成
されており、この凹部３１ｂに突起４１ａが係合してウ
エハカセット３のステ−ジ４１上での位置合わせが行わ
れるように構成されている。また前記ステ−ジ支持台４
２の後方側（処理領域Ｓ２と反対側）には、ステ−ジ支
持台４２を壁部２側へ押圧するための例えばエアシリン
ダよりなる押圧機構４５が設けられている。
ジ４１の突起４１ａと適合するように凹部３１ｂが形成
されており、この凹部３１ｂに突起４１ａが係合してウ
エハカセット３のステ−ジ４１上での位置合わせが行わ
れるように構成されている。また前記ステ−ジ支持台４
２の後方側（処理領域Ｓ２と反対側）には、ステ−ジ支
持台４２を壁部２側へ押圧するための例えばエアシリン
ダよりなる押圧機構４５が設けられている。
【００１９】前記壁部２のウエハの受け渡し用の開口部
２１の第２の雰囲気Ｓ２側には、例えば図４に示すよう
に、前記開口部２１の処理領域Ｓ２側を気密に塞ぐため
の壁部２用の蓋体５１が設けられている。この蓋体５１
は、第２の雰囲気Ｓ２側の開口部２１の周縁部を覆う大
きさに形成されており、第１の開閉機構によって開閉さ
れるように構成されている。この第１の開閉機構は、蓋
体５１を昇降軸５５ａにより昇降させるための昇降基台
５５と、この昇降基台５５を水平方向に移動させるため
の水平基台５６とを備えている。
２１の第２の雰囲気Ｓ２側には、例えば図４に示すよう
に、前記開口部２１の処理領域Ｓ２側を気密に塞ぐため
の壁部２用の蓋体５１が設けられている。この蓋体５１
は、第２の雰囲気Ｓ２側の開口部２１の周縁部を覆う大
きさに形成されており、第１の開閉機構によって開閉さ
れるように構成されている。この第１の開閉機構は、蓋
体５１を昇降軸５５ａにより昇降させるための昇降基台
５５と、この昇降基台５５を水平方向に移動させるため
の水平基台５６とを備えている。
【００２０】前記蓋体５１には、ウエハカセット３の蓋
体３２を開閉するための第２の開閉手段５２が組み合わ
せて設けられており、この第２の開閉手段５２は、キ−
３６を進退、回転させるキ−操作機構５３を有してい
る。第２の雰囲気Ｓ２側の開口部２１の周縁部には、壁
部用蓋体５１の周縁部との間を気密に塞ぐように、伸縮
自在な蛇腹状のシ−ル部材５４が吸盤により固定されて
いる。
体３２を開閉するための第２の開閉手段５２が組み合わ
せて設けられており、この第２の開閉手段５２は、キ−
３６を進退、回転させるキ−操作機構５３を有してい
る。第２の雰囲気Ｓ２側の開口部２１の周縁部には、壁
部用蓋体５１の周縁部との間を気密に塞ぐように、伸縮
自在な蛇腹状のシ−ル部材５４が吸盤により固定されて
いる。
【００２１】続いて第２の雰囲気Ｓ２におけるウエハの
移載や位置合わせのための機構に関して図１を参照しな
がら説明する。第２の雰囲気Ｓ２には、ウエハを一旦仮
置きするための中間受け渡し台６と、この前段側に配置
され、ウエハの向きの位置合わせを行なう位置合わせ機
構７と、前記中間受け渡し台６の後段側に配置され、熱
処理ステ−ションの一部をなす例えばウエハボ−トＷＢ
と、ウエハカセット３と中間受け渡し台６と位置合わせ
機構７との間でウエハの受け渡しを行なう第１の移載機
構８Ａと、中間受け渡し台６とウエハボ−トＷＢとの間
でウエハの受け渡しを行なう第２の移載機構８Ｂとが設
けられている。
移載や位置合わせのための機構に関して図１を参照しな
がら説明する。第２の雰囲気Ｓ２には、ウエハを一旦仮
置きするための中間受け渡し台６と、この前段側に配置
され、ウエハの向きの位置合わせを行なう位置合わせ機
構７と、前記中間受け渡し台６の後段側に配置され、熱
処理ステ−ションの一部をなす例えばウエハボ−トＷＢ
と、ウエハカセット３と中間受け渡し台６と位置合わせ
機構７との間でウエハの受け渡しを行なう第１の移載機
構８Ａと、中間受け渡し台６とウエハボ−トＷＢとの間
でウエハの受け渡しを行なう第２の移載機構８Ｂとが設
けられている。
【００２２】前記中間受け渡し台６は、ウエハＷの中心
の位置合わせを行う機構が組み合わされており、１カセ
ット分（１３枚）以上例えば５カセット分のウエハを搭
載できるように、６５段に配列されたウエハＷの中心の
位置合わせ用の載置リング６１を備えている。各載置リ
ング６１は、ウエハＷの周縁に対応する位置に沿って例
えば左右対称位置に例えば５本ずつ合計１０配列された
円錐状のテ−パピン６２を備えていて、このテ−パピン
６２の先端側の間と、後端側の間は、夫々前記第１の移
載機構８Ａと第２の移載機構８Ｂの進入空間を形成して
いる。
の位置合わせを行う機構が組み合わされており、１カセ
ット分（１３枚）以上例えば５カセット分のウエハを搭
載できるように、６５段に配列されたウエハＷの中心の
位置合わせ用の載置リング６１を備えている。各載置リ
ング６１は、ウエハＷの周縁に対応する位置に沿って例
えば左右対称位置に例えば５本ずつ合計１０配列された
円錐状のテ−パピン６２を備えていて、このテ−パピン
６２の先端側の間と、後端側の間は、夫々前記第１の移
載機構８Ａと第２の移載機構８Ｂの進入空間を形成して
いる。
【００２３】位置合わせ機構７は、複数段例えば５段に
配列された固定基台７１を備えており、各固定基台７１
には、ウエハＷの裏面を保持して駆動部７３により鉛直
軸のまわりに回転するタ−ンテ−ブル７２と、タ−ンテ
−ブル７２上のウエハのノッチやオリフラを検出するた
めの光センサ７４が設けられている。この位置合わせ機
構７では、光センサ７４からの検出信号に基づいてタ−
ンテ−ブル７２の回転角が制御され、ウエハが所定の向
きに位置合わせされる。
配列された固定基台７１を備えており、各固定基台７１
には、ウエハＷの裏面を保持して駆動部７３により鉛直
軸のまわりに回転するタ−ンテ−ブル７２と、タ−ンテ
−ブル７２上のウエハのノッチやオリフラを検出するた
めの光センサ７４が設けられている。この位置合わせ機
構７では、光センサ７４からの検出信号に基づいてタ−
ンテ−ブル７２の回転角が制御され、ウエハが所定の向
きに位置合わせされる。
【００２４】前記第１の移載機構８Ａ及び第２の移載機
構８Ｂは、ウエハを複数枚例えば５枚一括して移載で
き、また１枚づつの移載もできるように例えば５枚の移
載ア−ム８１を備えており、進退自在、昇降自在、回転
自在に構成されると共に、各アーム８１のピッチ（上下
間隔）を可変できるようになっている。
構８Ｂは、ウエハを複数枚例えば５枚一括して移載で
き、また１枚づつの移載もできるように例えば５枚の移
載ア−ム８１を備えており、進退自在、昇降自在、回転
自在に構成されると共に、各アーム８１のピッチ（上下
間隔）を可変できるようになっている。
【００２５】続いて上述の実施の形態の作用について説
明する。先ずウエハＷが収納されたウエハカセット３を
カセット載置部４に載置して、押圧機構４５により押圧
し、これによりウエハカセット３の鍔部３１ａの鍔面を
ウエハの受け渡し用開口部２１の段部２１ａの段面にＯ
リング２２を介して押圧し、第１の雰囲気Ｓ１と開口部
２１との間を気密にシ−ルする。
明する。先ずウエハＷが収納されたウエハカセット３を
カセット載置部４に載置して、押圧機構４５により押圧
し、これによりウエハカセット３の鍔部３１ａの鍔面を
ウエハの受け渡し用開口部２１の段部２１ａの段面にＯ
リング２２を介して押圧し、第１の雰囲気Ｓ１と開口部
２１との間を気密にシ−ルする。
【００２６】そして壁部２の開口部２１の空間（壁部用
蓋体５１とウエハカセット３との間）を真空ポンプ２６
により排気路２４を介して例えば０．０７ＭＰａ程度に
減圧しながら、当該開口部２１にＮ2 ガス供給路２３に
より清浄ガスである不活性ガス例えばＮ2 ガスを供給
し、当該空間のエアをＮ2 ガスにより置換する。次いで
第２の開閉手段５２のキ−操作機構５３のキ−３６が、
ウエハカセット３の蓋体３２の鍵穴３６ａに挿入されて
回され、これによりロックピン３７が解除されて前記蓋
体３２が開かれる。
蓋体５１とウエハカセット３との間）を真空ポンプ２６
により排気路２４を介して例えば０．０７ＭＰａ程度に
減圧しながら、当該開口部２１にＮ2 ガス供給路２３に
より清浄ガスである不活性ガス例えばＮ2 ガスを供給
し、当該空間のエアをＮ2 ガスにより置換する。次いで
第２の開閉手段５２のキ−操作機構５３のキ−３６が、
ウエハカセット３の蓋体３２の鍵穴３６ａに挿入されて
回され、これによりロックピン３７が解除されて前記蓋
体３２が開かれる。
【００２７】その後第１の開閉手段の水平基台５６によ
り壁部用蓋体５１を後退させてから昇降基台５５により
下降させて、壁部用蓋体５１を蓋体３２と共に、前記開
口部２１から取り外す。この後第１の移載機構８Ａの移
載ア−ム８１をウエハカセット３内に進入させてカセッ
ト３の５枚のウエハＷを一括して掬い上げて保持し、中
間受け渡し台６に移載する。中間受け渡し台６では、前
記移載ア−ム８１が載置リング６１の先端側のア−ムの
進入空間に進入し、載置リング６１のテ−パピン６２の
テ−パ面の内周面にウエハＷの周縁が当接するようにウ
エハＷを載置する。これによりウエハＷの周縁はテ−パ
ピン６２のテ−パ面により規制されるため、ウエハＷの
中心の位置合わせが行なわれる。
り壁部用蓋体５１を後退させてから昇降基台５５により
下降させて、壁部用蓋体５１を蓋体３２と共に、前記開
口部２１から取り外す。この後第１の移載機構８Ａの移
載ア−ム８１をウエハカセット３内に進入させてカセッ
ト３の５枚のウエハＷを一括して掬い上げて保持し、中
間受け渡し台６に移載する。中間受け渡し台６では、前
記移載ア−ム８１が載置リング６１の先端側のア−ムの
進入空間に進入し、載置リング６１のテ−パピン６２の
テ−パ面の内周面にウエハＷの周縁が当接するようにウ
エハＷを載置する。これによりウエハＷの周縁はテ−パ
ピン６２のテ−パ面により規制されるため、ウエハＷの
中心の位置合わせが行なわれる。
【００２８】このようにしてウエハカセット３内の１３
枚のウエハＷを中間受け渡し台６に移載した後、壁部用
の蓋体５１によりウエハの受け渡し用の開口部２１を閉
じる。そして空のウエハカセット３を新しいウエハカセ
ット３に交換するが、その交換の間に第２の雰囲気Ｓ２
では、ウエハＷの位置合わせ及びウエハボ−トへの移載
が行われる。
枚のウエハＷを中間受け渡し台６に移載した後、壁部用
の蓋体５１によりウエハの受け渡し用の開口部２１を閉
じる。そして空のウエハカセット３を新しいウエハカセ
ット３に交換するが、その交換の間に第２の雰囲気Ｓ２
では、ウエハＷの位置合わせ及びウエハボ−トへの移載
が行われる。
【００２９】即ち第２の雰囲気Ｓ２では、図５に示すよ
うに、中間受け渡し台６に載置されているウエハＷを、
第１の移載機構８Ａの移載ア−ム８１により位置合わせ
機構７のタ−ンテ−ブル７２に移載して、既述のように
ウエハＷのノッチの位置合わせを行なう。なお位置合わ
せ機構７では、図示しない突き上げピンをタ−ンテ−ブ
ル７２上面から突出させ、この突き上げピンを介してタ
−ンテ−ブル７２上にウエハＷを受け渡す。
うに、中間受け渡し台６に載置されているウエハＷを、
第１の移載機構８Ａの移載ア−ム８１により位置合わせ
機構７のタ−ンテ−ブル７２に移載して、既述のように
ウエハＷのノッチの位置合わせを行なう。なお位置合わ
せ機構７では、図示しない突き上げピンをタ−ンテ−ブ
ル７２上面から突出させ、この突き上げピンを介してタ
−ンテ−ブル７２上にウエハＷを受け渡す。
【００３０】続いて位置合わせ機構７上のウエハＷを、
第１の移載機構８Ａにより中間受け渡し台６に移載した
後、中間受け渡し台６から第２の移載機構８Ｂの移載ア
−ム８１によりウエハボ−トＷＢに移載し、例えばこの
ウエハボ−トＷＢの上方に配置された熱処理炉Ｈに、こ
のウエハボ−トＷＢを搬入して所定の熱処理を行なう。
第１の移載機構８Ａにより中間受け渡し台６に移載した
後、中間受け渡し台６から第２の移載機構８Ｂの移載ア
−ム８１によりウエハボ−トＷＢに移載し、例えばこの
ウエハボ−トＷＢの上方に配置された熱処理炉Ｈに、こ
のウエハボ−トＷＢを搬入して所定の熱処理を行なう。
【００３１】このようなウエハの移載装置では、ウエハ
カセット３が壁部２のウエハの受け渡し用の開口部２１
に装着されていないときには、壁部用蓋体５１により前
記開口部２１は閉じられると共に、壁部用蓋体５１と前
記開口部２１の周縁部との間はシ−ル部材５４によりシ
−ルされているので、第１の雰囲気Ｓ１のクリ−ン度の
低いエアが第２の雰囲気Ｓ２に侵入することが抑えられ
る。
カセット３が壁部２のウエハの受け渡し用の開口部２１
に装着されていないときには、壁部用蓋体５１により前
記開口部２１は閉じられると共に、壁部用蓋体５１と前
記開口部２１の周縁部との間はシ−ル部材５４によりシ
−ルされているので、第１の雰囲気Ｓ１のクリ−ン度の
低いエアが第２の雰囲気Ｓ２に侵入することが抑えられ
る。
【００３２】またウエハカセット３が前記開口部２１に
装着された後は、開口部２１におけるウエハカセット３
と壁部用蓋体５１との間に形成された隙間には、第１の
雰囲気Ｓ１のエアが侵入しているが、この隙間にＮ2 ガ
スを供給しながら減圧することにより、前記エアがＮ2
ガスで置換され、前記エアにより隙間に持ち込まれたパ
ーティクルも排気路２４を介して除去される。
装着された後は、開口部２１におけるウエハカセット３
と壁部用蓋体５１との間に形成された隙間には、第１の
雰囲気Ｓ１のエアが侵入しているが、この隙間にＮ2 ガ
スを供給しながら減圧することにより、前記エアがＮ2
ガスで置換され、前記エアにより隙間に持ち込まれたパ
ーティクルも排気路２４を介して除去される。
【００３３】このため、壁部用蓋体５１を開いたときの
隙間の雰囲気のクリ−ン度は高く、またウエハカセット
３と壁部２との間のＯリング２２により、第１の雰囲気
Ｓ１と第２の雰囲気Ｓ２とは気密にシ−ルされているの
で、第２の雰囲気Ｓ２内のクリ−ン度が低下することが
抑えられる。
隙間の雰囲気のクリ−ン度は高く、またウエハカセット
３と壁部２との間のＯリング２２により、第１の雰囲気
Ｓ１と第２の雰囲気Ｓ２とは気密にシ−ルされているの
で、第２の雰囲気Ｓ２内のクリ−ン度が低下することが
抑えられる。
【００３４】また第２の雰囲気Ｓ２内を窒素ガス雰囲気
とする処理装置においては、開口部２１内自体が窒素ガ
ス雰囲気となっているので、第２の雰囲気Ｓ２内に酸素
ガスが実質入り込むおそれがなく、第２の雰囲気Ｓ２を
所定の窒素ガス雰囲気とすることができる。なお清浄ガ
スとしてはＮ2 ガス以外のアルゴン等の不活性ガスやク
リ−ン度の高いエアを用いることができる。
とする処理装置においては、開口部２１内自体が窒素ガ
ス雰囲気となっているので、第２の雰囲気Ｓ２内に酸素
ガスが実質入り込むおそれがなく、第２の雰囲気Ｓ２を
所定の窒素ガス雰囲気とすることができる。なお清浄ガ
スとしてはＮ2 ガス以外のアルゴン等の不活性ガスやク
リ−ン度の高いエアを用いることができる。
【００３５】さらに上述のウエハの移載装置では、ウエ
ハカセット３内の全部のウエハＷを先ず中間受け渡し台
６に移載して仮置きし、ウエハカセット３内を空にして
交換できる状態にしているため、ウエハＷの位置合わせ
作業及びウエハボ−トＷＢへの移載作業と、ウエハカセ
ット３の交換作業とを並行して行うことができる。従っ
てウエハＷの位置合わせ、移載に要する時間とウエハカ
セット３の交換作業に要する時間との足し合せがなくな
り、カセット３内のウエハが処理ステ−ション内への搬
入されるまでの時間を短縮することができる。密閉型の
ウエハカセット３の場合には、ウエハカセット３の交換
に長い時間を要し、またウエハＷをウエハカセット３か
ら取り出した後位置合わせを行なわなければならない事
情があることから今後の処理システムに対し、スループ
ットを図る上で非常に有効な手法である。
ハカセット３内の全部のウエハＷを先ず中間受け渡し台
６に移載して仮置きし、ウエハカセット３内を空にして
交換できる状態にしているため、ウエハＷの位置合わせ
作業及びウエハボ−トＷＢへの移載作業と、ウエハカセ
ット３の交換作業とを並行して行うことができる。従っ
てウエハＷの位置合わせ、移載に要する時間とウエハカ
セット３の交換作業に要する時間との足し合せがなくな
り、カセット３内のウエハが処理ステ−ション内への搬
入されるまでの時間を短縮することができる。密閉型の
ウエハカセット３の場合には、ウエハカセット３の交換
に長い時間を要し、またウエハＷをウエハカセット３か
ら取り出した後位置合わせを行なわなければならない事
情があることから今後の処理システムに対し、スループ
ットを図る上で非常に有効な手法である。
【００３６】以上において本実施の形態では、壁部用蓋
体５１と第２の開閉手段５２とは一体ではなく別個に設
けるようにしてもよいし、Ｎ2 ガス供給路２３と排気路
２４とは必ずしも設けなくてもよい。また封止部材はＯ
リング２２に限られるものではないし、押圧機構４５を
設けない構成としてもよい。さらに位置合わせ機構７に
てウエハＷの中心、周方向の位置合わせを行ない、中間
受け渡し台６では位置合わせを行なわないようにしても
よい。ウエハＷの中心、周方向の位置合わせの両方は、
例えばタ−ンテ−ブル７２と載置リング６１とを組み合
わせ、両者を相対的に昇降自在な構成とすることで実現
できる。
体５１と第２の開閉手段５２とは一体ではなく別個に設
けるようにしてもよいし、Ｎ2 ガス供給路２３と排気路
２４とは必ずしも設けなくてもよい。また封止部材はＯ
リング２２に限られるものではないし、押圧機構４５を
設けない構成としてもよい。さらに位置合わせ機構７に
てウエハＷの中心、周方向の位置合わせを行ない、中間
受け渡し台６では位置合わせを行なわないようにしても
よい。ウエハＷの中心、周方向の位置合わせの両方は、
例えばタ−ンテ−ブル７２と載置リング６１とを組み合
わせ、両者を相対的に昇降自在な構成とすることで実現
できる。
【００３７】さらに本実施の形態では、中間受け渡し台
６を設けた場合には、上述の如く効果があるが、この場
合従来のような、第２の雰囲気Ｓ２を第１の雰囲気Ｓ１
よりも陽圧に設定し、第２の雰囲気Ｓ２からエアを流出
させることにより、第１の雰囲気Ｓ１から第２の雰囲気
Ｓ２へのエアの侵入を防ぐタイプのシステムに適用して
もよい。
６を設けた場合には、上述の如く効果があるが、この場
合従来のような、第２の雰囲気Ｓ２を第１の雰囲気Ｓ１
よりも陽圧に設定し、第２の雰囲気Ｓ２からエアを流出
させることにより、第１の雰囲気Ｓ１から第２の雰囲気
Ｓ２へのエアの侵入を防ぐタイプのシステムに適用して
もよい。
【００３８】続いて本発明の第２の実施の形態について
図６により説明する。本実施の形態は、ウエハカセット
３がウエハの受け渡し用の開口部２１の段部２１ａに押
圧されたときに、これらの間に封止部材としてＯリング
２２のような弾性材を用いた場合、例えばＯリング２２
の潰れ代が安定しないため、ウエハカセット３毎にウエ
ハカセット３の着脱方向の固定位置がまちまちであるこ
とに着眼してなされたものである。
図６により説明する。本実施の形態は、ウエハカセット
３がウエハの受け渡し用の開口部２１の段部２１ａに押
圧されたときに、これらの間に封止部材としてＯリング
２２のような弾性材を用いた場合、例えばＯリング２２
の潰れ代が安定しないため、ウエハカセット３毎にウエ
ハカセット３の着脱方向の固定位置がまちまちであるこ
とに着眼してなされたものである。
【００３９】即ちウエハカセット３の位置が一定しない
ということは、ウエハＷを中心の位置合わせを行なって
ウエハカセット３内に収納したとしても、第１の移載機
構８Ａの移載ア−ム８１側から見ると、ウエハカセット
３内のウエハＷの受取り位置が異なってしまう。従って
移載ア−ム８１のストロ−クが同じであれば、ウエハＷ
が移載ア−ム８１に移載された段階でウエハＷの中心位
置がずれてしまうので、再度中心の位置合わせが必要と
なる。本実施の形態は、このような問題を解決するため
になされたものである。
ということは、ウエハＷを中心の位置合わせを行なって
ウエハカセット３内に収納したとしても、第１の移載機
構８Ａの移載ア−ム８１側から見ると、ウエハカセット
３内のウエハＷの受取り位置が異なってしまう。従って
移載ア−ム８１のストロ−クが同じであれば、ウエハＷ
が移載ア−ム８１に移載された段階でウエハＷの中心位
置がずれてしまうので、再度中心の位置合わせが必要と
なる。本実施の形態は、このような問題を解決するため
になされたものである。
【００４０】本実施の形態が上述の実施の形態と異なる
ところは、カセット載置部４の前方側（第２の雰囲気Ｓ
２側）にカセット載置部４の固定位置を検出するための
検出手段９例えばマイクロデジタルスケ−ルを設けると
共に、この検出手段９の検出信号を第１の移載機構８Ａ
の制御手段Ｃに入力し、この制御手段Ｃにて前記入力信
号に基づいて移載ア−ム８１のストロ−クを決定するこ
とである。
ところは、カセット載置部４の前方側（第２の雰囲気Ｓ
２側）にカセット載置部４の固定位置を検出するための
検出手段９例えばマイクロデジタルスケ−ルを設けると
共に、この検出手段９の検出信号を第１の移載機構８Ａ
の制御手段Ｃに入力し、この制御手段Ｃにて前記入力信
号に基づいて移載ア−ム８１のストロ−クを決定するこ
とである。
【００４１】前記マイクロデジタルスケ−ルは、例えば
本体９１からストック９２が所定距離突出した構造であ
って、このストック９２が押されて本体に突入した距離
を測定することにより、０．１ｍｍのオ−ダで移動距離
を検出できるものであり、本実施の形態では、カセット
載置部４が少なくともＯリング２２に当接する手前から
例えばカセット載置部４が初期の位置（ウエハカセット
３が載置されるときの位置）に停止しているときに、こ
のストック９２の先端が、前記カセット載置部４の前面
に当接するように配置される。このようにするとストッ
ク９２の位置が分かるので、カセット載置部４の位置が
分かり、マイクロデジタルスケ−ルからの検出信号は、
ウエハカセット３の位置情報として制御手段Ｃに送信さ
れ、移載ア−ム８１のストロ−クつまりウエハカセット
３への進入距離が制御される。
本体９１からストック９２が所定距離突出した構造であ
って、このストック９２が押されて本体に突入した距離
を測定することにより、０．１ｍｍのオ−ダで移動距離
を検出できるものであり、本実施の形態では、カセット
載置部４が少なくともＯリング２２に当接する手前から
例えばカセット載置部４が初期の位置（ウエハカセット
３が載置されるときの位置）に停止しているときに、こ
のストック９２の先端が、前記カセット載置部４の前面
に当接するように配置される。このようにするとストッ
ク９２の位置が分かるので、カセット載置部４の位置が
分かり、マイクロデジタルスケ−ルからの検出信号は、
ウエハカセット３の位置情報として制御手段Ｃに送信さ
れ、移載ア−ム８１のストロ−クつまりウエハカセット
３への進入距離が制御される。
【００４２】例えば図７（ａ）に示すように、Ｏリング
２２の潰れ代が小さく、ウエハカセット３の移動距離が
予め予定されている移動距離（図中に破線で示す）より
も短い場合には、移載ア−ム８１のウエハカセット３へ
の進入距離を長くする。また図７（ｂ）に示すように、
Ｏリング２２の潰れ代が大きく、ウエハカセット３の移
動距離が予め予定されている移動距離よりも長い場合に
は、移載ア−ム８１のウエハカセット３への進入距離を
短くする。
２２の潰れ代が小さく、ウエハカセット３の移動距離が
予め予定されている移動距離（図中に破線で示す）より
も短い場合には、移載ア−ム８１のウエハカセット３へ
の進入距離を長くする。また図７（ｂ）に示すように、
Ｏリング２２の潰れ代が大きく、ウエハカセット３の移
動距離が予め予定されている移動距離よりも長い場合に
は、移載ア−ム８１のウエハカセット３への進入距離を
短くする。
【００４３】このようにしてウエハカセット３の移動距
離に応じて、移載ア−ム８１の進入距離を制御し、ウエ
ハＷの受け取り位置を制御すれば、Ｏリング２２の潰れ
代が異なっても、移載ア−ム８１上のウエハＷの位置は
常に同じとなるため、ウエハＷの中心の位置は一定であ
り、移載ア−ム８１によるウエハＷの移載の精度が高く
なり、新たに中心の位置合わせを行なう必要はなくな
る。
離に応じて、移載ア−ム８１の進入距離を制御し、ウエ
ハＷの受け取り位置を制御すれば、Ｏリング２２の潰れ
代が異なっても、移載ア−ム８１上のウエハＷの位置は
常に同じとなるため、ウエハＷの中心の位置は一定であ
り、移載ア−ム８１によるウエハＷの移載の精度が高く
なり、新たに中心の位置合わせを行なう必要はなくな
る。
【００４４】以上において本実施の形態では、例えば検
出手段９として、上述のマイクロデジタルスケ−ルの代
わりに、例えばカセット載置部４のレ−ル４３に例えば
ガラススケ−ル等のスケ−リング機器を設け、これによ
りカセット載置部４の移動距離を検出するなど他の手段
を採用してもよい。また本発明は被処理基板として液晶
ディスプレイ基板を用いた装置に適用してもよい。
出手段９として、上述のマイクロデジタルスケ−ルの代
わりに、例えばカセット載置部４のレ−ル４３に例えば
ガラススケ−ル等のスケ−リング機器を設け、これによ
りカセット載置部４の移動距離を検出するなど他の手段
を採用してもよい。また本発明は被処理基板として液晶
ディスプレイ基板を用いた装置に適用してもよい。
【００４５】
【発明の効果】本発明によれば、被処理基板のパーティ
クル汚染をできるだけ低減するために、密閉型の被処理
基板カセットを用い、しかも被処理基板カセットの置か
れる第１の雰囲気と被処理基板の移載が行なわれる第２
の雰囲気とを区画して、被処理基板カセット装着のため
の開口部を封止しているので、被処理基板の置かれる雰
囲気はいつも清浄度が高く被処理基板の汚染を防止する
ことができる。
クル汚染をできるだけ低減するために、密閉型の被処理
基板カセットを用い、しかも被処理基板カセットの置か
れる第１の雰囲気と被処理基板の移載が行なわれる第２
の雰囲気とを区画して、被処理基板カセット装着のため
の開口部を封止しているので、被処理基板の置かれる雰
囲気はいつも清浄度が高く被処理基板の汚染を防止する
ことができる。
【００４６】また本発明によれば、カセット載置部の着
脱方向の固定位置を検出して、これに基づいて移載機構
の被処理基板カセット内での被処理基板の受取り位置を
制御するようにしたので、封止部材の潰れ代が一定でな
くても、移載機構上の被処理基板の位置が一定となり、
移載機構による被処理基板の移載の精度が向上する。さ
らに本発明によれば、被処理基板カセットの交換と、被
処理基板の移載及び位置合わせを並行して行なうことが
できるのでスル−プットが向上する。
脱方向の固定位置を検出して、これに基づいて移載機構
の被処理基板カセット内での被処理基板の受取り位置を
制御するようにしたので、封止部材の潰れ代が一定でな
くても、移載機構上の被処理基板の位置が一定となり、
移載機構による被処理基板の移載の精度が向上する。さ
らに本発明によれば、被処理基板カセットの交換と、被
処理基板の移載及び位置合わせを並行して行なうことが
できるのでスル−プットが向上する。
【図１】本発明の実施の形態に係る被処理基板の移載装
置を縦型熱処理装置に適用した例を示す概略斜視図であ
る。
置を縦型熱処理装置に適用した例を示す概略斜視図であ
る。
【図２】本発明の実施の形態に係る移載装置の一部を示
す断面図である。
す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る被処理基板カセット
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る被処理基板カセッ
ト、シ−ル部材、第２の開閉手段、壁部用蓋体を示す斜
視図である。
ト、シ−ル部材、第２の開閉手段、壁部用蓋体を示す斜
視図である。
【図５】本発明の実施の形態に係る移載装置の作用を説
明する平面図である。
明する平面図である。
【図６】本発明の他の実施の形態に係る移載装置を示す
断面図である。
断面図である。
【図７】本発明の他の実施の形態に係る移載装置の作用
を説明する説明図である。
を説明する説明図である。
【図８】従来の移載装置の一部を示す断面図である。
２ 壁部２ ２１ ウエハの受け渡し用の開口部 ２２、３５ Ｏリング ３ ウエハカセット ３１ カセット本体 ３２ 蓋体 ３６ キ− ４ カセット載置部 ４３ ガイドレ−ル ４５ 押圧機構 ５１ 壁部用蓋体 ５２ 第２の開閉手段 ５４ シ−ル部材 ５５ 昇降基台 ５６ 水平基台 ６ 中間受け渡し台 ７ 位置合わせ機構 ８Ａ、８Ｂ 移載機構 ８１ 移載ア−ム ９ 検出手段 Ｃ 制御手段
Claims (8)
- 【請求項１】 第１の雰囲気と第２の雰囲気とを区画す
ると共に被処理基板の受け渡し用の開口部が形成された
壁部と、被処理基板を収納するカセット本体とこのカセ
ット本体の被処理基板取り出し口を気密に塞ぐための蓋
体とを有する密閉型の被処理基板カセットと、を備え、
前記被処理基板カセットを前記第１の雰囲気側から前記
壁部に取り付けて、前記第２の雰囲気内の移載機構によ
り前記カセットに対して被処理基板の受け渡しを行うた
めの装置であって、 前記第１の雰囲気側に設けられ、前記被処理基板カセッ
トを、被処理基板取り出し口が前記開口部に適合するよ
うに載置するためのカセット載置部と、 前記壁部の開口部の周縁部と前記被処理基板カセットの
被処理基板取り出し口の周縁部との間を封止して当該カ
セット内空間と前記第１の雰囲気とを気密に区画するた
めの封止部と、 前記壁部の開口部を気密に塞ぐための壁部用の蓋体と、 前記壁部用の蓋体を開閉するための第１の開閉手段と、 前記カセットの蓋体を開閉するための第２の開閉手段
と、を備えたことを特徴とする被処理基板の移載装置。 - 【請求項２】 封止部は、被処理基板カセットの着脱方
向に対向する面の間に介在し、弾性のある封止部材によ
り構成され、 前記被処理基板カセットを前記封止部材の弾性力に抗し
て壁部に対して押圧するための押圧機構を設けたことを
特徴とする請求項１記載の被処理基板の移載装置。 - 【請求項３】 被処理基板カセットを壁部に取り付けた
ときに、壁部用の蓋体と被処理基板カセットとの間に形
成される空間に清浄気体を通気させるための手段を設け
ることを特徴とする請求項１又は２記載の被処理基板の
移載装置。 - 【請求項４】 第２の雰囲気が不活性ガス雰囲気であ
り、清浄気体は不活性ガスであることを特徴とする請求
項３記載の被処理基板の移載装置。 - 【請求項５】 前記壁部用の蓋体と被処理基板カセット
との間に形成される空間を減圧するための減圧手段を設
けたことを特徴とする請求項３又は４記載の被処理基板
の移載装置。 - 【請求項６】 前記被処理基板カセットを封止部材の弾
性力に抗して、壁部に押圧したときの当該カセットの着
脱方向の位置を検出するための検出手段と、 前記検出手段の検出値に基づいて被処理基板カセット内
への移載機構の伸び出しストロ−クを制御する制御手段
と、を備えたことを特徴とする請求項２記載の被処理基
板の移載装置。 - 【請求項７】 第１の雰囲気と第２の雰囲気とを区画す
ると共に被処理基板の受け渡し用の開口部が形成された
壁部と、被処理基板を収納するカセット本体とこのカセ
ット本体の被処理基板取り出し口を気密に塞ぐための蓋
体とを有する密閉型の被処理基板カセットと、を備え、
前記被処理基板カセットを前記第１の雰囲気側から前記
壁部に取り付けて、前記第２の雰囲気内の移載機構によ
り前記カセットに対して被処理基板の受け渡しを行うた
めの装置であって、 前記第２の雰囲気側には、 前記被処理基板カセットの収納枚数以上の被処理基板が
保持される中間受け渡し台と、前記被処理基板に対して
処理を行うための処理ステ−ションと、前記被処理基板
の位置合わせを行うための位置合わせ機構と、前記被処
理基板カセットと中間受け渡し台と位置合わせ機構との
間で被処理基板を移載するための第１の移載機構と、前
記被処理基板を前記中間受け渡し台と処理ステ−ション
との間で移載するための第２の移載機構と、を設けたこ
とを特徴とする被処理基板の移載装置。 - 【請求項８】 位置合わせ機構は、中間受け渡し台に組
み合わせて設けられていることを特徴とする請求項７記
載の被処理基板の移載装置。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP14227496A JP3657695B2 (ja) | 1996-05-13 | 1996-05-13 | 被処理基板の移載装置 |
| US08/847,721 US5980195A (en) | 1996-04-24 | 1997-04-22 | Positioning apparatus for substrates to be processed |
| KR1019970015370A KR100515908B1 (ko) | 1996-04-24 | 1997-04-24 | 피처리기판의위치맞춤장치및그에쓰이는피처리기판용이적장치 |
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-
1996
- 1996-05-13 JP JP14227496A patent/JP3657695B2/ja not_active Expired - Fee Related
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