KR20070024907A - 웨이퍼 정렬수단을 가지는 더미챔버와 이를 포함하는반도체제조장치 - Google Patents

웨이퍼 정렬수단을 가지는 더미챔버와 이를 포함하는반도체제조장치 Download PDF

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KR20070024907A
KR20070024907A KR1020050080528A KR20050080528A KR20070024907A KR 20070024907 A KR20070024907 A KR 20070024907A KR 1020050080528 A KR1020050080528 A KR 1020050080528A KR 20050080528 A KR20050080528 A KR 20050080528A KR 20070024907 A KR20070024907 A KR 20070024907A
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박찬호
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Abstract

본 발명은, 일정한 내부공간을 가지는 하우징 상기 하우징의 내부에 위치하는 웨이퍼안치수단; 상기 웨이퍼안치수단을 기울여서 웨이퍼의 센터를 정렬시키는 센터정렬수단을 포함하는 더미챔버와 이를 포함하는 반도체제조장치를 제공한다.
본 발명에 따르면, 더미챔버에서 더미웨이퍼의 센터를 정렬시킴으로써 로봇이 공정챔버의 안치대에 더미웨이퍼를 정확하게 안치할 수 있게 된다. 따라서 더미웨이퍼가 잘못 안치되어 안치대의 일부가 노출됨으로써 안치대에 불필요한 박막이 증착되거나 이로 인한 웨이퍼 오염 및 공정재현성 저하를 방지할 수 있다.
반도체 제조장치, 더미챔버, 더미웨이퍼, 센터정렬

Description

웨이퍼 정렬수단을 가지는 더미챔버와 이를 포함하는 반도체제조장치 {Dummy chamber having wafer align means and manufacturing apparatus of semiconductor device comprising the same}
도 1은 종래 반도체제조장치의 구성도
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 더미챔버의 구성 단면도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 더미챔버의 동작을 나타낸 도면
도 4는 포켓의 일 유형을 나타낸 도면
도 5a 및 도 5b는 도 4의 포켓에 더미웨이퍼가 삽입되는 모습을 나타낸 도면
도 6은 다른 유형의 포켓을 나타낸 도면
도 7은 또 다른 유형의 포켓을 나타낸 도면
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 더미챔버를 포함하는 반도체제조장치의 구성도
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
100 : 더미챔버 102 : 하우징
110 : 수직부재 120 : 지지부재
130 : 힌지 140 : 포켓
142 : 슬롯 143 : 거치대
144 : 보조지지대 145,146 : 제1,2 걸림턱
147 : 곡면형걸림턱 150 : 승강부재
160 : 롤러 170 : 벨로우즈
180 : 구동부 190 : 웨이퍼출입구
본 발명은 반도체제조장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 이송챔버의 측부에 연결되며 웨이퍼의 센터를 정렬하는 수단을 가지는 더미챔버에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 실리콘 웨이퍼 상에 회로패턴을 형성하는 공정과 웨이퍼를 소정의 크기로 절단하여 에폭시 수지 등으로 봉지하는 패키징 공정 등을 통해 제조된다.
회로패턴을 형성하기 위해서는 웨이퍼 상에 소정의 박막을 형성하는 박막증착공정, 증착된 박막에 포토레지스트를 도포하고 노광 및 현상을 통해 포토레지스터 패턴을 형성하는 포토리소그래피 공정, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 박막을 패터닝하는 식각 공정, 웨이퍼의 소정 영역에 특정 이온을 주입하는 이온주입공정, 불순물을 제거하는 세정공정 등을 거쳐야 하고, 이러한 공정은 해당 공정을 위해 최적의 환경이 조성된 공정장치의 내부에서 진행된다.
도 1은 종래의 반도체제조장치(10)의 개략적인 구성을 도시한 것으로서, 이송챔버(11)와, 이송챔버(11)에 연결되는 2개의 공정챔버(12)와, 역시 이송챔버(11)에 연결되는 2개의 로드락챔버(13)와, 로드락챔버(13)에 연결되는 이송부(14)와, 이송부(14)에 연결되는 로드포트(15)와, 이송챔버(11)에 연결되는 더미챔버(16) 및 얼라이너(17)를 포함한다.
공정챔버(12)는 웨이퍼에 대한 박막증착 또는 식각 등의 공정이 진행되는 영역으로서, 내부에 다수의 웨이퍼(w)를 한꺼번에 안치할 수 있는 서셉터(12a)와 원료물질을 웨이퍼의 상부로 공급하는 가스공급장치를 포함하며, 이송챔버(11)와의 사이에 슬롯밸브(12b)를 설치하여 웨이퍼출입구를 개폐한다.
이와 같이 다수의 웨이퍼를 한꺼번에 안치하여 공정을 진행하는 방식을 세미 배치(semi-batch) 방식이라고도 하는데, 웨이퍼를 1매씩 처리하는 경우에 비하여 시간당 생산량(throughput)이 높긴 하지만 로봇의 웨이퍼 반송속도를 감안하여 통상 하나의 이송챔버(11)에2-3개의 세미 배치방식 공정챔버를 연결하는 것이 보통이다.
이송챔버(11)는 공정챔버(12)와 로드락챔버(13) 사이에서 웨이퍼(w)가 이동하는 공간으로서 웨이퍼를 이송하는 이송챔버로봇(18)을 포함한다. 공정챔버(12)와 이송챔버(11)는 진공상태를 유지한다.
로드락챔버(13)는 진공상태에 있는 이송챔버(11)와 대기압상태의 이송부(14) 사이에서 웨이퍼(w)를 교환하는 공간으로서 웨이퍼가 출입할 때마다 진공상태와 대 기압상태를 반복한다. 상기 로드락챔버(13)는 한 개만 설치될 수도 있다.
이송부(14)는 내부에 이송부로봇(19)을 포함하며, 일측에 웨이퍼 카세트가 적재되는 로드포트(15)가 연결된다.
이송챔버(11)의 측부에 연결되는 얼라이너(17)는 로드락챔버(13)의 웨이퍼를 공정챔버(12)로 반입하기 전에 웨이퍼의 플랫존 또는 노치(notch)를 정렬하는 장치이다.
이송챔버(11)의 측부에 연결되는 더미챔버(16)는 더미웨이퍼(dummy wafer)가 적재되는 챔버로서, 더미웨이퍼는 예를 들어 5개의 웨이퍼안치대를 서셉터(12a)에 4개 이하의 웨이퍼만을 안치하고 공정을 진행할 필요가 있는 경우에 웨이퍼가 안치되는 않은 웨이퍼안치대에 올려놓는 웨이퍼를 의미한다.
웨이퍼안치대의 표면을 노출시킨 채 박막증착을 수행하면, 웨이퍼안치대에 증착된 박막으로 인해 다른 웨이퍼가 오염되거나 공정 재현성이 저하되기 때문에 웨이퍼안치대의 표면을 커버하기 위하여 더미웨이퍼를 이용한다.
더미웨이퍼는 이러한 경우에만 사용되는 것이 아니라 공정챔버(12)의 가동을 중단하였다가 재가동하는 경우에 공정재현성을 확인하기 위한 더미공정에서도 이용된다. 이러한 더미공정에서는 통상 1매의 웨이퍼에 대해서만 시험공정을 진행하면 되므로 나머지 웨이퍼안치대에는 더미웨이퍼를 안치하여야 하는 것이다.
이러한 반도체제조장치(10)의 동작을 살펴보면, 먼저 이송부로봇(19)이 로드포트(15)에 안치된 카세트로부터 웨이퍼(w)를 픽업하여 로드락챔버(13)로 반입한 후 로드락챔버(13)를 대기압상태에서 진공상태로 변화시킨다.
이어서 이송챔버로봇(18)이 진입하여 웨이퍼를 1매씩 픽업하여 얼라이너(17)로 이송하며, 얼라이너(17)에서 웨이퍼를 정렬한 후 공정챔버(12)로 반입한다.
공정챔버(12)에서 공정을 마친 웨이퍼는 다시 이송챔버로봇(18)에 의해 로드락챔버(13)로 이송되며, 로드락챔버(13)를 진공상태에서 대기압상태로 가압한 후에 이송부로봇(19)이 진입하여 공정을 마친 웨이퍼를 반출하여 로드포트(15)의 카세트에 적재한다.
그런데 종래 반도체제조장치에서는 로드락챔버(13)에서 공정챔버(12)로 웨이퍼를 이송할 때 매 웨이퍼를 얼라이너(17)에서 정렬시켜야 하므로 웨이퍼 이송시간이 과다하게 소요되며, 이와 같이 과다한 이송시간은 장비의 생산성을 높이는데 있어서 한계요인으로 작용하게 된다.
따라서 최근에는 300mm 웨이퍼를 처리하는 반도체제조장치를 중심으로 웨이퍼를 로드락챔버(13)에 반입하기 전에 미리 정렬하고 있으며, 이를 위해 대기압 환경에 있는 이송부(14)의 측부에 얼라이너(17)를 설치하고 로드포트(15)에서 로드락챔버(13)로 웨이퍼를 이송하는 중간에 얼라이너(17)를 거쳐 웨이퍼를 정렬하도록 하고 있다.
그런데 웨이퍼를 로드락챔버(15)로 반입하기 전에 미리 정렬시키면, 로드락챔버(13)에서 공정챔버(12)로 웨이퍼를 반입하는 시간이 크게 줄어서 장비의 생산성을 높일 수는 있으나, 더미챔버(16)에 적재된 더미웨이퍼를 얼라인할 수 있는 방법이 없기 때문에 더미웨이퍼를 서셉터(12a)의 웨이퍼안치대에 정확하게 안치시키 지 못하는 경우가 종종 발생하고 이로 인해 웨이퍼안치대에 불필요한 박막이 증착됨으로써 다른 웨이퍼를 오염시키고 공정재현성을 저하시키는 등의 문제점이 발생한다.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 더미챔버에서 더미웨이퍼의 센터정렬까지 수행할 수 있도록 함으로써 서셉터의 웨이퍼안치대에 정확하게 더미웨이퍼를 안치할 수 있는 방안을 제공하는데 목적이 있다.
본 발명은 이러한 목적을 달성하기 위하여, 일정한 내부공간을 가지는 하우징 상기 하우징의 내부에 위치하는 웨이퍼안치수단; 상기 웨이퍼안치수단을 기울여서 웨이퍼의 센터를 정렬시키는 센터정렬수단을 포함하는 더미챔버를 제공한다.
상기 웨이퍼안치수단은, 지지부재; 상기 지지부재의 상부에 결합하며 웨이퍼의 일부를 지지하는 포켓을 포함한다.
상기 포켓은, 웨이퍼의 일부가 놓여지는 거치대; 상기 거치대의 상부로 돌출되며, 소정 간격 이격되어 위치하는 2개의 걸림턱을 포함한다.
상기 포켓은 웨이퍼의 일부가 놓여지는 거치대와 상기 거치대의 상부로 돌출되는 걸림턱을 포함하며, 2개 이상이 소정 간격 이격되어 설치된다.
상기 포켓은, 웨이퍼의 일부가 놓여지는 거치대; 상기 거치대의 상부로 돌출 되며 상기 웨이퍼 보다 작거나 같은 곡률의 측면을 가지는 걸림턱을 포함한다.
상기 센터정렬수단은, 고정부재; 상기 지지부재의 일단을 상기 고정부재에 회전가능하게 결합하는 힌지; 상기 지지부재의 타단을 상하로 이동시키는 상하구동수단을 포함하며, 이때 상기 고정부재는 상기 챔버의 내부에 세워지는 수직부재로서, 상단부가 상기 지지부재와 결합할 수도 있고, 상기 고정부재는 챔버의 내측벽에 설치된 것일 수도 있다.
상기 상하구동수단은, 상기 지지부재의 하부에 위치하는 기둥형상의 승강부재; 상기 승강부재의 상단에 결합하며 상기 지지부재의 하면에 접하는 롤러; 진공시일을 위해 상기 승강부재에 결합하는 벨로우즈; 상기 승강부재에 구동력을 제공하는 구동부를 포함한다.
또한 본 발명은, 내부에 로봇을 구비하는 이송챔버; 상기 이송챔버의 일 측부에 연결되며, 더미웨이퍼를 적재하는 웨이퍼안치수단과 더미웨이퍼의 센터를 정렬시키는 센터정렬수단을 구비하는 더미챔버; 상기 이송챔버의 측부에 연결되는 공정챔버; 상기 이송챔버의 측부에 연결되며 웨이퍼 출입시에 대기압상태와 진공상태를 반복하는 로드락챔버; 상기 로드락챔버에 연결되며 대기압상태에 있는 이송부; 상기 이송부의 일 측부에 설치되며 웨이퍼를 정렬시키는 얼라이너를 포함하는 반도체제조장치를 제공한다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 더미챔버(100)의 구성 단면을 도시한 것으로서, 일정한 내부공간을 가지며 일 측면에 웨이퍼출입구(190)를 가지는 하우징(102)의 내부에 더미웨이퍼(DW)를 지지하는 지지부재(120)를 설치하고, 상기 지지부재(120)의 상부에는 다수의 더미웨이퍼가 거치되는 포켓(140)과 보조지지대(144)를 설치한다.
포켓(140)은 지지부재(120)가 한쪽으로 기울어질 때 중력에 의해 미끄러지는 더미웨이퍼의 가장자리를 지지함으로써 자연스럽게 모든 더미웨이퍼의 센터를 정렬시키는 역할을 하며, 각 더미웨이퍼가 삽입되는 슬롯(142)을 다수 구비한다. 더미웨이퍼를 반송하는 로봇의 이동을 감안하여 포켓(140)은 웨이퍼출입구(190)의 반대편에 설치되는 것이 바람직하다.
보조지지대(144)는 상기 포켓(140)의 좌우에 설치되어 포켓(140)과 함께 더미웨이퍼를 지지하는 역할을 하며, 더미웨이퍼의 가장자리가 거치되는 슬롯(미도시)을 다수 구비한다. 포켓(140)과 보조지지대(144)의 슬롯 개수는 같아야 한다.
보조지지대(144)는 포켓(140)과 함께 더미웨이퍼를 안정되게 지지할 수 있어야 하므로 안치되는 더미웨이퍼의 중심을 기준으로 포켓(140)에 대하여 좌우로 90도 정도 이격되는 위치에 설치되는 것이 바람직하다.
일반적으로 300mm 웨이퍼는 플랫존 대신에 통상 노치(notch)를 가지고 있고, 본 발명의 더미챔버(100)는 이와 같이 노치를 가지는 더미웨이퍼의 센터를 정렬시키기 위한 것이며, 적재된 더미웨이퍼의 노치의 위치까지 정렬하기 위한 것은 아니다. 더미챔버(100)는 공정챔버로 반입되어 웨이퍼안치대를 커버하는 역할을 할 뿐 이기 때문에 패턴형성의 기준이 되는 노치의 위치를 고려할 필요는 없기 때문이다.
본 발명의 더미챔버(100)는 더미웨이퍼(DW)를 한쪽으로 기울이는 방법을 이용하여 센터를 정렬시키며, 이를 위해 더미웨이퍼를 지지하는 지지부재(120)의 일단을 소정의 고정부재에 대하여 회전가능하게 고정시킨다.
상기 고정부재는 도 2에 도시된 바와 같이 챔버 내부에 설치되는 수직부재(110)로 제공될 수도 있고, 더미챔버(100)의 내측벽에 결합되어 제공될 수도 있다.
고정부재가 수직부재(110)의 형태로 제공될 경우, 지지부재(120)를 한쪽으로 기울이기 위해서 지지부재(120)의 웨이퍼출입구(190)쪽 일단과 수직부재(110)를 힌지(130)를 이용하여 결합하며, 지지부재(120)의 타단, 즉 웨이퍼출입구(190)의 반대쪽에는 지지부재(120)를 상하로 구동하는 상하구동수단을 설치한다.
본 발명의 실시예에서는, 지지부재(120)의 하부에 설치되는 기둥 형상의 승강부재(150), 승강부재(150)의 상단에 결합하는 롤러(160), 상기 승강부재(150)를 상하로 구동시키는 구동부(180)를 이용하여 상하구동수단을 구성한다.
또한 본 발명에서는 승강부재(150)의 상단과 지지부재(120)를 서로 결합하지 않고 지지부재(120)가 승강부재(150)의 상단에 단순히 거치되도록 하였는데, 이렇게 함으로써 승강부재(150)를 하강시키면 중력에 의해 상부의 지지부재(120)도 힌지(130)를 중심으로 회전하면서 함께 하강하게 되어 상부에 위치하는 더미웨이퍼의 센터를 정렬시킬 수 있다.
롤러(160)는 승강부재(150)의 상단과 지지부재(120)의 하면 사이에서 발생하는 마찰을 최소화시켜 승강 운동을 원활하게 하는 한편 오염물질의 발생을 방지하 기 위한 것이다.
승강부재(150)를 구동시키는 구동부(180)는 더미챔버(100)의 내부에 위치할 수도 있으나. 더미챔버(100)의 외부에 위치하는 것이 보다 바람직하며, 이때 승강부재(150)의 하단은 하우징(102)을 관통하여 구동부(180)에 연결된다.
더미챔버(100)의 내부는 이송챔버와 연통되므로 항상 진공상태에 있는 반면에, 외부는 대기압상태이므로, 승강부재(150)의 주위에 진공시일을 위한 벨로우즈(170)를 설치할 필요가 있다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 더미챔버(100)의 동작을 나타낸 것으로서, 구동부(180)가 승강부재(150)를 하강시키면 더미웨이퍼(DW)를 안치한 지지부재(120)의 한쪽이 기울어지고, 상부에 안치된 더미웨이퍼가 중력에 의해 포켓(140) 쪽으로 미끄러져 각 슬롯(142)에 수납됨으로써 자연스럽게 웨이퍼의 센터정렬이 이루어지게 된다.
한편, 이상에서는 승강부재(150)와 지지부재(120)가 서로 연결되지 않고, 지지부재(120)가 승강부재(150)의 상부에 단순히 거치되는 것으로 설명하였으나, 승강부재(150)의 상단과 지지부재(120)가 서로 연결될 수도 있음은 물론이다.
도 4는 지지부재(120)의 상부에 결합되는 포켓(140)의 일 유형을 도시한 것으로서, 편의상 1매의 더미웨이퍼를 거치하는 포켓(140)을 도시하였다.
상기 포켓(140)은 더미웨이퍼의 가장자리 일부를 거치하는 거치대(143)와 상기 거치대(143)의 양쪽에서 상부로 돌출되는 제1,2 걸림턱(145,146)을 가진다. 상 기 거치대(143)와 제1,2 걸림턱(145,146) 사이의공간이 더미웨이퍼가 출입하는 슬롯(142)을 형성하게 된다.
상기 제1,2 걸림턱(145,146)은 지지부재(120)가 기울어질 때 더미웨이퍼를 지지하는 부분으로서, 그 측면이 서로 평행하지 않게 형성되는 것이 바람직하다.
도 5a 및 도 5b는 이러한 형태의 포켓(140)에서 더미웨이퍼가 정렬되는 모습을 나타낸 것으로서, 지지부재(120)가 수평상태인 경우에는 더미웨이퍼의 가장자리 일부가 거치대(143) 위에 임의로 놓여져 있을 뿐이고 제1,2걸림턱(145,146)과는 접하지 않는 상태에 있다.(도 5a)
그러나 센터정렬을 위해 지지부재(120)를 기울이게 되면, 더미웨이퍼의 가장자리가 제1,2 걸림턱(145,146)의 측면에 접하게 되면서 더미웨이퍼를 소정 위치로 정렬시키게 된다.(도 5b)
이러한 형태의 거치대(143)와 제1,2 걸림턱(145,146)이 상하로 다수 결합되어 있는 포켓(140)을 이용하면, 다수의 더미웨이퍼를 한꺼번에 정렬시킬 수 있다.
한편, 포켓(140)을 반드시 전술한 바와 같이 일체형으로 제작하여야 하는 것은 아니므로 도 6에 도시된 바와 같이 2개의 제1,2 포켓(140a,140b)을 소정 간격으로 설치할 수도 있다.
이때 각 포켓(140a,140b)은 더미웨이퍼가 안치되는 거치대(143)와 거치대의 상부로 돌출되는 하나의 걸림턱(145)을 가지며, 이때 걸림턱(145)이 더미웨이퍼의 중심을 향하도록 각 포켓(140a,140b)을 설치하는 것이 바람직하다.
도 4 내지 도 6에서 예시한 포켓(140)은 걸림턱(145,146)을 이용하여 더미웨 이퍼의 2지점을 지지하면서 센터정렬을 하는 유형인데, 더미웨이퍼의 2지점을 지지함으로써 센터정렬을 안정적으로 수행할 수 있기는 하지만 반드시 이에 한정될 필요는 없다.
따라서 도 7에 도시된 바와 같이, 더미웨이퍼(DW)가 거치되는 거치대(143)의 상부로 더미웨이퍼의 가장자리에 대응하는 곡면형걸림턱(147)이 돌출되는 유형의 포켓(140)을 이용할 수도 있다.
곡면형걸림턱(147)의 곡면은 더미웨이퍼의 가장자리와 접하는 부분이므로, 곡률이 더미웨이퍼의 곡률보다 작거나 같아야 한다. 더미웨이퍼보다 작은 곡률을 가질 경우에 센터정렬시에 더미웨이퍼가 좌우로 요동할 가능성은 있지만 지지부재(120)의 구동시에 발생하는 진동이 미미하다면 더미웨이퍼를 센터를 정렬시키데는 무리가 없다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 더미챔버(100)를 포함하는 반도체제조장치의 구성을 개략적으로 도시한 것으로서, 도 1과 비교하면 웨이퍼 정렬을 위한 얼라이너(17)가 이송부(14)의 측부에 설치되고, 이송챔버(11)의 측부에 연결되는 더미챔버(100)가 전술한 센터정렬수단을 포함하는 점에서 차이가 있다.
따라서 통상의 웨이퍼는 얼라이너(17)에서 정렬을 마친 후에 로드락챔버(13)로 반입되며, 로드락챔버(13)의 웨이퍼는 이송챔버로봇(18)에 의해 공정챔버(12)로 곧바로 이송된다.
더미웨이퍼를 공정챔버(12)로 반입할 필요가 있는 경우에는 이송챔버로봇 (18)이 더미챔버(100)로 진입하여 더미웨이퍼를 공정챔버(12)로 이송한다.
이때 더미웨이퍼는 이미 센터정렬수단에 의해 센터가 정렬된 상태이므로 이송챔버로봇(18)은 서셉터(12)의 웨이퍼안치대에 더미웨이퍼를 정확하게 안치시킬 수 있게 된다. 따라서 웨이퍼안치대에 불필요한 박막이 증착되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명에 따르면 더미챔버에서 더미웨이퍼의 센터를 정렬시킴으로써 로봇이 공정챔버의 안치대에 더미웨이퍼를 정확하게 안치할 수 있게 된다. 따라서 더미웨이퍼가 잘못 안치되어 안치대의 일부가 노출됨으로써 안치대에 불필요한 박막이 증착되거나 이로 인한 웨이퍼 오염 및 공정재현성 저하를 방지할 수 있다.
또한 복수개의 더미웨이퍼 센터정렬을 일괄적으로 수행함으로써 생산성 향상에 기여할 수 있다.

Claims (10)

  1. 일정한 내부공간을 가지는 하우징;
    상기 하우징의 내부에 위치하는 웨이퍼안치수단;
    상기 웨이퍼안치수단을 기울여서 웨이퍼의 센터를 정렬시키는 센터정렬수단
    을 포함하는 더미챔버
  2. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼안치수단은,
    지지부재;
    상기 지지부재의 상부에 결합하며 웨이퍼의 일부를 지지하는 포켓
    을 포함하는 더미챔버
  3. 제2항에 있어서,
    상기 포켓은,
    웨이퍼의 일부가 놓여지는 거치대;
    상기 거치대의 상부로 돌출되며, 소정 간격 이격되어 위치하는 2개의 걸림턱
    을 포함하는 더미챔버
  4. 제2항에 있어서,
    상기 포켓은 웨이퍼의 일부가 놓여지는 거치대와 상기 거치대의 상부로 돌출되는 걸림턱을 포함하며, 2개 이상이 소정 간격 이격되어 설치되는 더미챔버
  5. 제2항에 있어서,
    상기 포켓은,
    웨이퍼의 일부가 놓여지는 거치대;
    상기 거치대의 상부로 돌출되며 상기 웨이퍼 보다 작거나 같은 곡률의 측면을 가지는 걸림턱
    을 포함하는 더미챔버
  6. 제2항에 있어서,
    상기 센터정렬수단은,
    고정부재;
    상기 지지부재의 일단을 상기 고정부재에 회전가능하게 결합하는 힌지;
    상기 지지부재의 타단을 상하로 이동시키는 상하구동수단
    을 포함하는 더미 챔버
  7. 제6항에 있어서,
    상기 고정부재는 상기 챔버의 내부에 세워지는 수직부재로서, 상단부가 상기 지지부재와 결합하는 더미 챔버
  8. 제6항에 있어서,
    상기 고정부재는 챔버의 내측벽에 설치되는 더미 챔버
  9. 제6항에 있어서,
    상기 상하구동수단은,
    상기 지지부재의 하부에 위치하는 기둥형상의 승강부재;
    상기 승강부재의 상단에 결합하며 상기 지지부재의 하면에 접하는 롤러;
    진공시일을 위해 상기 승강부재에 결합하는 벨로우즈;
    상기 승강부재에 구동력을 제공하는 구동부
    를 포함하는 더미챔버
  10. 내부에 로봇을 구비하는 이송챔버;
    상기 이송챔버의 일 측부에 연결되며, 더미웨이퍼를 적재하는 웨이퍼안치수단과 더미웨이퍼의 센터를 정렬시키는 센터정렬수단을 구비하는 더미챔버;
    상기 이송챔버의 측부에 연결되는 공정챔버;
    상기 이송챔버의 측부에 연결되며 웨이퍼 출입시에 대기압상태와 진공상태를 반복하는 로드락챔버;
    상기 로드락챔버에 연결되며 대기압상태에 있는 이송부;
    상기 이송부의 일 측부에 설치되며 웨이퍼를 정렬시키는 얼라이너
    를 포함하는 반도체제조장치
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101503728B1 (ko) * 2013-09-02 2015-03-24 국제엘렉트릭코리아 주식회사 기판 처리 장치, 기판 처리용 클러스터 설비 및 기판 처리 방법
KR20180136778A (ko) 2017-06-15 2018-12-26 (주)에스아이엔지니어링 영상을 이용한 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치 및 그 방법

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