JPH09306815A - 露光装置とこれを利用したデバイス生産方法 - Google Patents
露光装置とこれを利用したデバイス生産方法Info
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- JPH09306815A JPH09306815A JP12158396A JP12158396A JPH09306815A JP H09306815 A JPH09306815 A JP H09306815A JP 12158396 A JP12158396 A JP 12158396A JP 12158396 A JP12158396 A JP 12158396A JP H09306815 A JPH09306815 A JP H09306815A
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- stage
- exposure apparatus
- projection lens
- substrate
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 各種振動等に対しても優れたステージ制御特
性を可能にする構造を備えた露光装置を提供すること。 【解決手段】 投影レンズを保持する構造体と、基板を
載置して所定方向の自由度にて位置決めするステージ
と、前記ステージを搭載する固定部とを有し、前記構造
体と前記固定部とは分離して支持すると共に、前記所定
方向において前記ステージを前記固定部より機械的に弱
い剛性で支持したことを特徴とする。ステージは固定部
に対して静圧軸受けを用いて非接触で案内し、ステージ
の駆動は非接触型のリニアモータで行なう。
性を可能にする構造を備えた露光装置を提供すること。 【解決手段】 投影レンズを保持する構造体と、基板を
載置して所定方向の自由度にて位置決めするステージ
と、前記ステージを搭載する固定部とを有し、前記構造
体と前記固定部とは分離して支持すると共に、前記所定
方向において前記ステージを前記固定部より機械的に弱
い剛性で支持したことを特徴とする。ステージは固定部
に対して静圧軸受けを用いて非接触で案内し、ステージ
の駆動は非接触型のリニアモータで行なう。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体デバイス製造
などに好適に用いられる露光装置の技術分野に属する。
などに好適に用いられる露光装置の技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】従来の露光装置の一例として、特開平2-
199813号公報に記載されたものを図６に示す。これは、
被露光基板（半導体ウエハ）を載置するステージと、投
影レンズを保持する構造体とを分離して別々に支持する
別置き構造となっている。101はレチクルを照明する照
明部、102は転写すべきパターンを有するレチクル、103
はレチクル上に形成されたパターンをウエハ107上に投
影する投影レンズ、104は投影レンズを保持する鏡筒支
持体、105は鏡筒支持体を支持するマウント、106はマウ
ント105とステージ用マウント114との相対位置関係を位
置決めしている台盤である。110はＸステージであっ
て、ウエハを保持するトップステージ109を搭載してい
る。111はＹステージであり、その上にＸステージ110を
搭載している。Ｙステージ111は同様に接触型の転がり
ガイドを介して固定部であるステージベース112の上に
搭載されている。117,118はステージ駆動用のＤＣ回転
モータであり、回転運動を直動運動に変換するボールね
じ送り機構を介して、Ｘステージ及びＹステージをそれ
ぞれの方向に駆動する。
199813号公報に記載されたものを図６に示す。これは、
被露光基板（半導体ウエハ）を載置するステージと、投
影レンズを保持する構造体とを分離して別々に支持する
別置き構造となっている。101はレチクルを照明する照
明部、102は転写すべきパターンを有するレチクル、103
はレチクル上に形成されたパターンをウエハ107上に投
影する投影レンズ、104は投影レンズを保持する鏡筒支
持体、105は鏡筒支持体を支持するマウント、106はマウ
ント105とステージ用マウント114との相対位置関係を位
置決めしている台盤である。110はＸステージであっ
て、ウエハを保持するトップステージ109を搭載してい
る。111はＹステージであり、その上にＸステージ110を
搭載している。Ｙステージ111は同様に接触型の転がり
ガイドを介して固定部であるステージベース112の上に
搭載されている。117,118はステージ駆動用のＤＣ回転
モータであり、回転運動を直動運動に変換するボールね
じ送り機構を介して、Ｘステージ及びＹステージをそれ
ぞれの方向に駆動する。
【０００３】図７はＸステージを鏡筒支持体に対して位
置決めするＸステージ制御系のモデルの概念図である。
位置決めの基準である鏡筒支持体104の挙動をＸｒ'、Ｘ
ステージ109,110の挙動をＸ'としたとき、偏差であるＸ
ｒ'−Ｘ'＝０となるようにＤＣモータ117で力ｆ'を与え
てＸステージを制御する。
置決めするＸステージ制御系のモデルの概念図である。
位置決めの基準である鏡筒支持体104の挙動をＸｒ'、Ｘ
ステージ109,110の挙動をＸ'としたとき、偏差であるＸ
ｒ'−Ｘ'＝０となるようにＤＣモータ117で力ｆ'を与え
てＸステージを制御する。
【０００４】
【発明が解決しようとしている課題】上記例では、基板
を載置するＸＹステージは投影レンズを保持する鏡筒支
持体基準に位置決めするが、Ｘ方向微小振動振幅におい
て、固定部であるステージベース112と可動体であるＸ
Ｙステージ間のＸＹ平面方向において、「転がりガイ
ド」や「ボールねじ機構」での接触抵抗が機械的な送り
剛性として寄与する。これによって例えば図７に示すよ
うにＸステージ制御系に位置決め方向にバネ特性100が
存在することになる。
を載置するＸＹステージは投影レンズを保持する鏡筒支
持体基準に位置決めするが、Ｘ方向微小振動振幅におい
て、固定部であるステージベース112と可動体であるＸ
Ｙステージ間のＸＹ平面方向において、「転がりガイ
ド」や「ボールねじ機構」での接触抵抗が機械的な送り
剛性として寄与する。これによって例えば図７に示すよ
うにＸステージ制御系に位置決め方向にバネ特性100が
存在することになる。
【０００５】すると結果的に図８のグラフ図に示される
ようにステージベースにバネで結合されたような制御応
答特性曲線となる。これは周波数領域における低域のゲ
インが低くならないため追従特性として望ましい特性と
は言えず、ステージの位置決め精度の追求の妨げになる
可能性がある。また図７においてステージベース112の
挙動をＸｄ'とすると、Ｘステージ109,110の加減速時に
生じる反力がＸｄ'を励起するが、このＸｄ'がバネ100
を通してＸステージの挙動Ｘ'に影響を及ぼすため外乱
としてステージの位置決め精度を損なう可能性がある。
ようにステージベースにバネで結合されたような制御応
答特性曲線となる。これは周波数領域における低域のゲ
インが低くならないため追従特性として望ましい特性と
は言えず、ステージの位置決め精度の追求の妨げになる
可能性がある。また図７においてステージベース112の
挙動をＸｄ'とすると、Ｘステージ109,110の加減速時に
生じる反力がＸｄ'を励起するが、このＸｄ'がバネ100
を通してＸステージの挙動Ｘ'に影響を及ぼすため外乱
としてステージの位置決め精度を損なう可能性がある。
【０００６】本発明の目的は、上記従来例をより改良す
ることによって、各種振動等に対しても優れたステージ
制御特性を可能にする構造を備えた露光装置を提供する
ことにある。またこの露光装置を利用することにより高
集積度のデバイス生産を可能にするデバイス生産方法を
提供することを目的とする。
ることによって、各種振動等に対しても優れたステージ
制御特性を可能にする構造を備えた露光装置を提供する
ことにある。またこの露光装置を利用することにより高
集積度のデバイス生産を可能にするデバイス生産方法を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の露光装置は、投影レンズを保持する構造体
と、基板を載置して所定方向の自由度にて位置決めする
ステージと、前記ステージを搭載する固定部とを有し、
前記構造体と前記固定部とは分離して支持すると共に、
前記所定方向において前記ステージを前記固定部より機
械的に弱い剛性で支持したことを特徴とする。
に、本発明の露光装置は、投影レンズを保持する構造体
と、基板を載置して所定方向の自由度にて位置決めする
ステージと、前記ステージを搭載する固定部とを有し、
前記構造体と前記固定部とは分離して支持すると共に、
前記所定方向において前記ステージを前記固定部より機
械的に弱い剛性で支持したことを特徴とする。
【０００８】また、本発明の露光装置の別の形態は、投
影レンズを保持する構造体と、基板を載置して所定方向
の自由度にて位置決めするステージと、前記ステージを
搭載する固定部とを有し、前記構造体と前記固定部とは
分離して支持すると共に、前記ステージを非接触型の静
圧軸受けで案内したことを特徴とする。
影レンズを保持する構造体と、基板を載置して所定方向
の自由度にて位置決めするステージと、前記ステージを
搭載する固定部とを有し、前記構造体と前記固定部とは
分離して支持すると共に、前記ステージを非接触型の静
圧軸受けで案内したことを特徴とする。
【０００９】また、本発明の露光装置の別の形態は、投
影レンズを保持する構造体と、基板を載置して所定方向
の自由度にて位置決めするステージと、前記ステージを
搭載する固定部とを有し、前記構造体と前記固定部とは
分離して支持すると共に、前記ステージを非接触ダイレ
クト駆動型のリニアモータで駆動することを特徴とす
る。
影レンズを保持する構造体と、基板を載置して所定方向
の自由度にて位置決めするステージと、前記ステージを
搭載する固定部とを有し、前記構造体と前記固定部とは
分離して支持すると共に、前記ステージを非接触ダイレ
クト駆動型のリニアモータで駆動することを特徴とす
る。
【００１０】これによれば従来例に比し、低周波数領域
の追従特性において、より性能の良いゲイン特性が得ら
れ、床振動などの外乱によって生じる前記投影レンズを
保持する構造体の挙動に対して偏差なくステージを追従
させることができ、また固定部の振動が生じてもステー
ジ位置決め精度が損なわれない優れた系が実現できるた
め、優れた精度を持った露光装置を実現することができ
る。
の追従特性において、より性能の良いゲイン特性が得ら
れ、床振動などの外乱によって生じる前記投影レンズを
保持する構造体の挙動に対して偏差なくステージを追従
させることができ、また固定部の振動が生じてもステー
ジ位置決め精度が損なわれない優れた系が実現できるた
め、優れた精度を持った露光装置を実現することができ
る。
【００１１】
＜露光装置の実施形態＞図１は本発明の露光装置の実施
の形態を示す正面図である。図中、1は光源や照明レン
ズを有する照明部、2は転写すべきパターンを有するレ
チクル、3はレチクル上に形成されたパターンを被露光
基板であるウエハ7上に投影する投影レンズ、4は投影レ
ンズを保持する鏡筒支持体、5は鏡筒支持体を支持する
エアマウント、6はエアマウント5とステージ用マウント
14との相対位置関係を位置決めしている台盤である。な
おステージ用マウント14としては、振動を効果的に遮断
するアクティブエアマウントを用いている。
の形態を示す正面図である。図中、1は光源や照明レン
ズを有する照明部、2は転写すべきパターンを有するレ
チクル、3はレチクル上に形成されたパターンを被露光
基板であるウエハ7上に投影する投影レンズ、4は投影レ
ンズを保持する鏡筒支持体、5は鏡筒支持体を支持する
エアマウント、6はエアマウント5とステージ用マウント
14との相対位置関係を位置決めしている台盤である。な
おステージ用マウント14としては、振動を効果的に遮断
するアクティブエアマウントを用いている。
【００１２】9は被露光基板であるウエハ7を載置するト
ップステージ、10はトップステージ9を搭載してＸ方向
（紙面左右方向）に移動可能なＸステージ、11はＹ方向
（紙面法線方向）に移動可能なＹステージである。Ｘス
テージ10の底面に設けた静圧パッド20を有する静圧軸受
けによってＸステージ10を固定部であるステージベース
12を基準に案内し、側面も静圧軸受けによってＹステー
ジ11基準で非接触に案内している。またＹステージ11の
底面に同様に静圧パッド21を有する静圧軸受けを設け
て、Ｙステージ11をステージベース12を基準に案内し、
側面も静圧パッド22を有する静圧軸受けによって、ステ
ージベース12に固定されたヨーガイド13基準に非接触で
案内している。以上のトップステージ9、Ｘステージ1
0、Ｙステージ11からなる２次元のＸＹステージは、投
影レンズの光軸に対して直交する２次元平面内にて自由
度を有する。15はレーザ干渉計システムであり、鏡筒支
持体基準にトップステージのＸＹ平面内の位置を精確に
計測できる。17、18はステージ駆動用のボールネジ機構
を持たずにダイレクト駆動する非接触ダイレクト駆動型
リニアモータであり、Ｘステージ、及びＹステージをそ
れぞれの方向に駆動できる。該リニアモータは複数の電
磁コイルを移動方向に沿って並べて配置した固定子と、
この両側を挟むようにして配置した永久磁石を有する可
動子とからなる。
ップステージ、10はトップステージ9を搭載してＸ方向
（紙面左右方向）に移動可能なＸステージ、11はＹ方向
（紙面法線方向）に移動可能なＹステージである。Ｘス
テージ10の底面に設けた静圧パッド20を有する静圧軸受
けによってＸステージ10を固定部であるステージベース
12を基準に案内し、側面も静圧軸受けによってＹステー
ジ11基準で非接触に案内している。またＹステージ11の
底面に同様に静圧パッド21を有する静圧軸受けを設け
て、Ｙステージ11をステージベース12を基準に案内し、
側面も静圧パッド22を有する静圧軸受けによって、ステ
ージベース12に固定されたヨーガイド13基準に非接触で
案内している。以上のトップステージ9、Ｘステージ1
0、Ｙステージ11からなる２次元のＸＹステージは、投
影レンズの光軸に対して直交する２次元平面内にて自由
度を有する。15はレーザ干渉計システムであり、鏡筒支
持体基準にトップステージのＸＹ平面内の位置を精確に
計測できる。17、18はステージ駆動用のボールネジ機構
を持たずにダイレクト駆動する非接触ダイレクト駆動型
リニアモータであり、Ｘステージ、及びＹステージをそ
れぞれの方向に駆動できる。該リニアモータは複数の電
磁コイルを移動方向に沿って並べて配置した固定子と、
この両側を挟むようにして配置した永久磁石を有する可
動子とからなる。
【００１３】可動体であるＸＹステージは、固定部であ
るステージベース12及びヨーガイド13に対して、静圧軸
受けを介して非接触で案内されているため、ＸＹ平面方
向のガイド部材による機械的な送り剛性は零あるいは零
に極めて近い。また、非接触ダイレクト駆動型のリニア
モータを用いたため、モータでの接触抵抗による機械的
な送り剛性も零あるいは零に極めて近い。すなわち本例
の構成は、従来のような転がりガイドやボールネジ送り
機構などを用いたステージ機構に比べて、位置決め方向
でのステージ支持の剛性が極めて小さくなっている。別
の見方をすれば、ステージの移動方向において、ステー
ジを搭載する固定部よりも、ステージを機械的に弱い剛
性で支持している。
るステージベース12及びヨーガイド13に対して、静圧軸
受けを介して非接触で案内されているため、ＸＹ平面方
向のガイド部材による機械的な送り剛性は零あるいは零
に極めて近い。また、非接触ダイレクト駆動型のリニア
モータを用いたため、モータでの接触抵抗による機械的
な送り剛性も零あるいは零に極めて近い。すなわち本例
の構成は、従来のような転がりガイドやボールネジ送り
機構などを用いたステージ機構に比べて、位置決め方向
でのステージ支持の剛性が極めて小さくなっている。別
の見方をすれば、ステージの移動方向において、ステー
ジを搭載する固定部よりも、ステージを機械的に弱い剛
性で支持している。
【００１４】図２は、Ｘステージを鏡筒支持体に対して
位置決めするＸステージ制御系のモデルを示す概念図で
あり、先の図７のモデル図でのバネ系100が存在しない
か存在したとしても極めて小さいことを特徴とする。位
置決めの基準である鏡筒支持体4の挙動をＸｒ、Ｘステ
ージ9,10の挙動をＸとしたとき、偏差であるＸｒ−Ｘ＝
０ となるようにリニアモータで力ｆを与えてＸステー
ジを制御する。この制御系の追従特性Ｇ＝（Ｘｒ−Ｘ）
／Ｘｒをプロットした結果を図３のグラフ図の実線で示
す。また併せて図６の従来例のステージ装置の追従特性
の結果を一点鎖線で示す。なお、制御系のコントローラ
としてPIDコントローラを採用している。同グラフ図に
おいて、周波数領域の低域のゲインが低ければ低いほ
ど、床振動などの外乱によって生じる鏡筒支持体4の挙
動に対して、偏差なくステージを追従させることができ
ステージ位置決め精度が損なわれない望ましい制御系で
あり、一点鎖線で示した従来例の特性曲線と比較し、実
線で示す本実施形態の特性が優れたものであることが分
かる。特に従来例の共振点付近を除く周波数領域におい
て、優れた追従特性が得られている。
位置決めするＸステージ制御系のモデルを示す概念図で
あり、先の図７のモデル図でのバネ系100が存在しない
か存在したとしても極めて小さいことを特徴とする。位
置決めの基準である鏡筒支持体4の挙動をＸｒ、Ｘステ
ージ9,10の挙動をＸとしたとき、偏差であるＸｒ−Ｘ＝
０ となるようにリニアモータで力ｆを与えてＸステー
ジを制御する。この制御系の追従特性Ｇ＝（Ｘｒ−Ｘ）
／Ｘｒをプロットした結果を図３のグラフ図の実線で示
す。また併せて図６の従来例のステージ装置の追従特性
の結果を一点鎖線で示す。なお、制御系のコントローラ
としてPIDコントローラを採用している。同グラフ図に
おいて、周波数領域の低域のゲインが低ければ低いほ
ど、床振動などの外乱によって生じる鏡筒支持体4の挙
動に対して、偏差なくステージを追従させることができ
ステージ位置決め精度が損なわれない望ましい制御系で
あり、一点鎖線で示した従来例の特性曲線と比較し、実
線で示す本実施形態の特性が優れたものであることが分
かる。特に従来例の共振点付近を除く周波数領域におい
て、優れた追従特性が得られている。
【００１５】また図２のモデル図において、ステージベ
ース12の挙動をＸｄとすると、Ｘステージのステップ時
の加減速に伴って生じる反力がＸｄを励起するが、ステ
ージを非接触型の静圧軸受けで支持すると共に非接触ダ
イレクト駆動型のリニアモータで駆動するため、送り方
向の機械的なバネがないため、このＸｄ'はＸステージ
の挙動Ｘ'に影響を及ぼさず、ステージの位置決め精度
を損なうことがない。
ース12の挙動をＸｄとすると、Ｘステージのステップ時
の加減速に伴って生じる反力がＸｄを励起するが、ステ
ージを非接触型の静圧軸受けで支持すると共に非接触ダ
イレクト駆動型のリニアモータで駆動するため、送り方
向の機械的なバネがないため、このＸｄ'はＸステージ
の挙動Ｘ'に影響を及ぼさず、ステージの位置決め精度
を損なうことがない。
【００１６】なお、上記例では計測基準を鏡筒支持体に
設けたが、レチクルを保持するレチクルステージに計測
基準を設けるようにしてもよい。
設けたが、レチクルを保持するレチクルステージに計測
基準を設けるようにしてもよい。
【００１７】また、上記例では、光軸に直行する平面内
におけるステージの動作すわなちＸ方向、Ｙ方向につい
て機構構成を説明したが、Ｘ方向、Ｙ方向以外の自由度
（光軸と平行する軸であるＺ軸、Ｘ軸回転、Ｙ軸回転、
Ｚ軸回転）においても弱い機械的な剛性で支持すること
によって、各自由度における基準となる鏡筒支持体、も
しくはレチクルを保持するレチクルステージの挙動に対
しても、ステージの追従性を向上させることができる。
におけるステージの動作すわなちＸ方向、Ｙ方向につい
て機構構成を説明したが、Ｘ方向、Ｙ方向以外の自由度
（光軸と平行する軸であるＺ軸、Ｘ軸回転、Ｙ軸回転、
Ｚ軸回転）においても弱い機械的な剛性で支持すること
によって、各自由度における基準となる鏡筒支持体、も
しくはレチクルを保持するレチクルステージの挙動に対
しても、ステージの追従性を向上させることができる。
【００１８】以上の例によれば、以下のような優れた露
光装置を得ることができる。 （１）ステージを駆動する際に生じる反力が、投影レン
ズを保持する鏡筒支持体に伝わらない。 （２）ステージのＸＹ位置が移動することに伴う露光装
置全体の姿勢変動が無くなる。 （３）ステージを非接触型の静圧軸受けで案内すると共
に、非接触型のリニアモータで駆動するため、これらで
の機械的抵抗が小さく優れたステージ制御特性が得られ
る。
光装置を得ることができる。 （１）ステージを駆動する際に生じる反力が、投影レン
ズを保持する鏡筒支持体に伝わらない。 （２）ステージのＸＹ位置が移動することに伴う露光装
置全体の姿勢変動が無くなる。 （３）ステージを非接触型の静圧軸受けで案内すると共
に、非接触型のリニアモータで駆動するため、これらで
の機械的抵抗が小さく優れたステージ制御特性が得られ
る。
【００１９】＜デバイス生産の実施形態＞次に上記説明
した露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を
説明する。図４は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導
体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイ
クロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回
路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステ
ップ２（マスク製作）では設計した回路パターンを形成
したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製
造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記
用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術に
よってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ
５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって
作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行な
う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これ
を出荷（ステップ７）する。
した露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を
説明する。図４は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導
体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイ
クロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回
路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステ
ップ２（マスク製作）では設計した回路パターンを形成
したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製
造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記
用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術に
よってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ
５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって
作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行な
う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これ
を出荷（ステップ７）する。
【００２０】図５は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。本実施例の製造方法を
用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導体デ
バイスを低コストに製造することができる。
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。本実施例の製造方法を
用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導体デ
バイスを低コストに製造することができる。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、各種振動等に対しても
優れたステージ制御特性を可能にする構造を備えた露光
装置を提供することができるため高精度な露光動作が可
能となる。この露光装置を利用してデバイスを生産すれ
ば、従来よりも高集積度のデバイスを生産することがで
きる。
優れたステージ制御特性を可能にする構造を備えた露光
装置を提供することができるため高精度な露光動作が可
能となる。この露光装置を利用してデバイスを生産すれ
ば、従来よりも高集積度のデバイスを生産することがで
きる。
【図１】露光装置の正面図
【図２】露光装置のステージ制御系のモデルを示す概念
図
図
【図３】露光装置のステージ制御系の追従特性を示す図
【図４】半導体デバイスの製造フローを示す図
【図５】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図
【図６】従来の露光装置の正面図
【図７】従来の露光装置のステージ制御系のモデルを示
す概念図
す概念図
【図８】従来の露光装置のステージ制御系の追従特性を
示す図
示す図
１ 照明部 ２ レチクル ３ 投影レンズ ４ 鏡筒支持体 ５ 鏡筒支持体を支持するエアマウント ６ 台盤 ７ ウエハ ９ トップステージ １０ Ｘステージ １１ Ｙステージ １２ ステージベース １４ ステージ用マウント １５ レーザ干渉計システム ２０，２１，２２ 静圧パッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１６Ｂ
Claims (6)
- 【請求項１】 投影レンズを保持する構造体と、基板を
載置して所定方向の自由度にて位置決めするステージ
と、前記ステージを搭載する固定部とを有し、前記構造
体と前記固定部とは分離して支持すると共に、前記所定
方向において前記ステージを前記固定部より機械的に弱
い剛性で支持したことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 投影レンズを保持する構造体と、基板を
載置して所定方向の自由度にて位置決めするステージ
と、前記ステージを搭載する固定部とを有し、前記構造
体と前記固定部とは分離して支持すると共に、前記ステ
ージを非接触型の静圧軸受けで案内したことを特徴とす
る露光装置。 - 【請求項３】 投影レンズを保持する構造体と、基板を
載置して所定方向の自由度にて位置決めするステージ
と、前記ステージを搭載する固定部とを有し、前記構造
体と前記固定部とは分離して支持すると共に、前記ステ
ージを非接触ダイレクト駆動型のリニアモータで駆動す
ることを特徴とする露光装置。 - 【請求項４】 前記ステージを非接触で案内する静圧軸
受けを有することを特徴とする請求項３記載の露光装
置。 - 【請求項５】 前記所定方向は、前記投影レンズの光軸
に対して直交する平面内方向であることを特徴とする請
求項１〜４のいずれか記載の露光装置。 - 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか記載の露光装置
を用いてデバイスを生産する工程を有することを特徴と
するデバイス生産方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12158396A JPH09306815A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 露光装置とこれを利用したデバイス生産方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12158396A JPH09306815A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 露光装置とこれを利用したデバイス生産方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09306815A true JPH09306815A (ja) | 1997-11-28 |
Family
ID=14814842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12158396A Withdrawn JPH09306815A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 露光装置とこれを利用したデバイス生産方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09306815A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000014779A1 (fr) * | 1998-09-03 | 2000-03-16 | Nikon Corporation | Appareil et procede d'exposition, dispositif et procede de production dudit appareil |
-
1996
- 1996-05-16 JP JP12158396A patent/JPH09306815A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000014779A1 (fr) * | 1998-09-03 | 2000-03-16 | Nikon Corporation | Appareil et procede d'exposition, dispositif et procede de production dudit appareil |
| US6538719B1 (en) | 1998-09-03 | 2003-03-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and device and method for producing the same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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