JPH09306013A

JPH09306013A - 光ピックアップ

Info

Publication number: JPH09306013A
Application number: JP8123035A
Authority: JP
Inventors: So Maruyama; 創丸山
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1996-05-17
Filing date: 1996-05-17
Publication date: 1997-11-28

Abstract

(57)【要約】【課題】基板厚の異なる記録媒体に対して、光の利用
効率を何ら低下させることなく、収差を有効に低減し
て、選択的に確実に記録および／または再生を行い得る
光ピックアップを提供する。【解決手段】記録媒体41に対して情報を光学的に記録
および／または再生する光ピックアップにおいて、偏光
を射出する光源手段31と、この光源手段31から射出され
た偏光の状態を、ネマティック液晶のＴＮ効果を用いて
選択的に９０°変換する偏光切り換え手段(36,37) と、
この偏光切り換え手段(36,37) を経た偏光を、その偏光
状態に応じて、中央部と周辺部とで位相を異ならせる位
相調整手段38と、この位相調整手段38を経た偏光を記録
媒体41に照射する集光手段40とを有することを特徴とす
るものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、基板厚が異なる
記録媒体に情報を光学的に記録したり、あるいはこのよ
うな記録媒体に記録されている情報を光学的に再生する
のに用いる光ピックアップに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】かかる光ピックアップとして、例えば、
特開平８−４５１０５号公報には、対物レンズとして、
基板厚０．６ｍｍの光ディスクに対して、球面収差が小
さくなるように設計されたもの（開口数０．６）を用
い、基板厚０．６ｍｍの光ディスクを再生する場合に
は、対物レンズの開口数を０．６とし、基板厚１．２ｍ
ｍの光ディスクを再生する場合には、可動開口制限板や
液晶可変開口板を有する選択的開口変化手段により、対
物レンズの開口数を０．４５に制御することにより、球
面収差を低減するようにしたものが提案されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平８−４５１０５号公報に開示された光ピックアッ
プにあっては、光ディスクの基板厚に応じて対物レンズ
の開口数を制御するようにしているため、開口数を小さ
くして、基板厚の厚い光ディスクに対して情報の記録あ
るいは再生を行う場合には、光の利用効率が低下して再
生信号のＳＮ比が低くなると共に、記録においては、所
望の記録パワーを得ることが困難になるという問題があ
る。

【０００４】この発明は、このような従来の問題点に着
目してなされたもので、基板厚の異なる記録媒体に対し
て、光の利用効率を何ら低下させることなく、収差を有
効に低減して、選択的に確実に記録および／または再生
を行い得るよう適切に構成した光ピックアップを提供す
ることを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、記録媒体に対して情報を光学的に記録
および／または再生する光ピックアップにおいて、偏光
を射出する光源手段と、この光源手段から射出された偏
光の状態を、ネマティック液晶のＴＮ効果を用いて選択
的に９０°変換する偏光切り換え手段と、この偏光切り
換え手段を経た偏光を、その偏光状態に応じて、中央部
と周辺部とで位相を異ならせる位相調整手段と、この位
相調整手段を経た偏光を前記記録媒体に照射する集光手
段とを有することを特徴とするものである。

【０００６】前記位相調整手段は、周辺部に、入射光の
偏光方向によって屈折率が異なる複屈折性部材を有する
平板状に構成するのが、安価に構成する点で好ましい。

【０００７】前記位相調整手段は、入射光の偏光方向に
よって屈折率が異なる凸面状の複屈折性部材と、凹面状
の等方性部材とを貼り合わせて平板状に構成するのが、
球面収差をより小さくする点で好ましい。

【０００８】

【発明の実施の形態】図１〜図５は、この発明の原理を
説明するための図である。図１および図２に示すよう
に、偏光切り換え手段１は、二枚の透明電極板２，３間
に、誘電異方性が正のネマティック液晶４を数μｍ〜数
百μｍの厚さにサンドイッチし、その分子配向を二枚の
透明電極板２，３間で９０°連続的に捩じらせて作製し
たＴＮ配列セル５と、このＴＮ配列セル５の透明電極板
２，３間に接続したスイッチ６、電源７および可変抵抗
８の直列回路を有する。

【０００９】ＴＮ配列セル５は、光源手段からの例えば
入射直線偏光９の偏光面を、印加電圧によって選択的に
９０°回転させて出射させるＴＮ効果を有する。すなわ
ち、図１に示すように、スイッチ６をオフとして、印加
電圧を閾値Ｖ₀（Ｖ）未満（この場合は、０Ｖ）にする
と、ネマティック液晶４は、二枚の透明電極板２，３間
で９０°連続的に捩じれた分子配向を維持し、入射直線
偏光９を、その偏光面を９０°回転して、直線偏光１０
として出射させる。これに対して、図２に示すように、
スイッチ６をオンとして、閾値Ｖ₀（Ｖ）を超える電圧
を印加すると、ネマティック液晶４は、その分子配向が
電場方向に傾いて９０°の旋光性を消失し、入射直線偏
光９を、その偏光面を回転させることなく出射させる。

【００１０】ＴＮ配列セル５を経た偏光は、例えば、図
３に示すように、平行光束として位相調整手段１１を経
て集光手段１２に入射させて、記録媒体１３に集光させ
る。位相調整手段１１は、例えば、屈折率がｎ₁のガラ
ス等の等方性部材からなる中央部１１ａと、水晶、ルチ
ル、ＬｉＮｂＯ₃、ＢＢＯ（ＢａＢＯ₃）等の複屈折性
を有する結晶からなる周辺部１１ｂとを有する平板状に
形成する。ここで、周辺部１１ｂは、ある偏光（例え
ば、図１，図２に示す直線偏光９）に対しては、ｎ_eの
屈折率を有し、それと直交する方向の偏光（例えば、図
１に示す直線偏光１０）に対しては、ｎ_oの屈折率を有
する（ただし、ｎ_o＜ｎ₁＜ｎ_e）。また、集光手段１
２は、通常の集光レンズを用いる。

【００１１】図４は、図３に示す位相調整手段１１およ
び集光手段１２を有する無限光学系によって、偏光を記
録媒体１３上に合焦状態で集光させた場合の球面収差を
示すもので、横軸は球面収差を、縦軸は光線高をそれぞ
れ示す。図４において、曲線１５は、位相調整手段１１
の周辺部１１ｂの屈折率がｎ_oとなる偏光の場合の球面
収差を示し、曲線１６は、周辺部１１ｂの屈折率がｎ_e
となる偏光の場合の球面収差を示す。また、曲線１７
は、位相調整手段１１の屈折率を、一様にｎ₁とした場
合の球面収差を示す。なお、球面収差以外の収差は、微
小であるのでゼロとする。

【００１２】図４から明らかなように、位相調整手段１
１に入射させる偏光を、ＴＮ配列セル５によって直線偏
光１０とすると、周辺部１１ｂはｎ_oの屈折率をもつの
で、該周辺部１１ｂに入射する光束は、中央部１１ａに
入射する光束よりも位相が進み、記録媒体１３上の収差
は、曲線１５に示すように、−側にシフトすることにな
る。これに対して、位相調整手段１１に直線偏光９を入
射させると、周辺部１１ｂはｎ_eの屈折率をもつので、
該周辺部１１ｂに入射する光束は、中央部１１ａに入射
する光束よりも位相が遅れ、記録媒体１３上の収差は、
曲線１６に示すように、＋側にシフトすることになる。

【００１３】したがって、集光手段１２として、例え
ば、図５に示すように、基板厚が薄い記録媒体（例え
ば、カバーガラス厚さが０．６ｍｍのＤＶＤ用ディス
ク）に合焦させた場合には曲線２１で示す収差を有し、
基板厚が厚い記録媒体（例えば、カバーガラス厚さが
１．２ｍｍのＣＤ用ディスク）に合焦させた場合には曲
線２２で示す収差を有する集光レンズを用い、位相調整
手段１１および集光手段１２を経て記録媒体１３に入射
させる偏光を、記録媒体１３の基板厚に応じて偏光切り
換え手段１により制御して、すなわち基板厚が薄い場合
には直線偏光９とし、基板厚が厚い場合には直線偏光１
０とすれば、光の利用効率を何ら低下させることなく、
それぞれの記録媒体上の収差を、曲線２３および曲線２
４で示すように、全体的に低減して、選択的に記録／再
生を行うことが可能となる。

【００１４】

【実施例】図６は、この発明の第１実施例を示すもので
ある。この実施例では、半導体レーザ３１から放射され
る直線偏光を、コリメータレンズ３２により平行ビーム
に変換し、その平行ビームをビーム整形プリズム３３に
より断面ほぼ円形のビームに整形して、偏光ビームスプ
リッタ３４に直線偏光３５（この直線偏光３５は、偏光
ビームスプリッタ３４に対してＰ偏光とする）で入射さ
せる。偏光ビームスプリッタ３４は、例えば、Ｐ偏光の
透過率が８０％、反射率が２０％となるように構成し、
この偏光ビームスプリッタ３４を透過した直線偏光を、
ネマティック液晶を有するＴＮ配列セル３６に入射させ
る。

【００１５】ＴＮ配列セル３６は、液晶制御回路３７に
より印加電圧を制御するようにし、これにより入射直線
偏光の偏光面を選択的に９０°回転させて出射させる。
このＴＮ配列セル３６を出射した直線偏光は、位相調整
部材３８、立ち上げミラー３９および対物レンズ４０を
経て記録媒体（光ディスク）４１に照射する。

【００１６】位相調整部材３８は、図３において説明し
たと同様に構成する。すなわち、図７ＡおよびＢに正面
図および断面図をもそれぞれ示すように、屈折率がｎ₁
のガラス等の等方性部材からなる中央部３８ａと、水
晶、ルチル、ＬｉＮｂＯ₃、ＢＢＯ（ＢａＢＯ₃）等の
複屈折性を有する結晶からなる周辺部１１ｂとを有する
平板状に形成して、周辺部１１ｂにおいて、ある偏光
（この実施例ではＰ偏光３５）に対しては、ｎ_eの屈折
率を持たせ、それと直交する方向の偏光（Ｓ偏光とす
る）に対しては、ｎ_oの屈折率を持たせるようにする。
ただし、ｎ_o＜ｎ₁＜ｎ_eとする。

【００１７】また、対物レンズ４０は、基板厚Ｔ₁の薄
い光ディスク４１に合焦させた場合には、図８に曲線４
５で示す球面収差を有し、基板厚Ｔ₂の厚い光ディスク
４１に合焦させた場合には、図８に曲線４６で示す球面
収差を有するものを用いる。この対物レンズ４０は、光
ディスク４１に対して、公知のように、図示しないフォ
ーカス駆動手段およびトラッキング駆動手段によりそれ
ぞれフォーカス方向およびトラッキング方向に変位可能
に光ピックアップ本体に支持する。

【００１８】ディスク４１で反射される戻り光は、対物
レンズ４０、立ち上げミラー３９、位相調整部材３８お
よびＴＮ配列セル３６を経て偏光ビームスプリッタ３４
に入射させ、ここで反射される戻り光を、集光レンズ５
１およびシリンドリカルレンズ５２を経て光検出器５３
で受光する。光検出器５３は、例えば、４分割した受光
領域をもって構成し、それらの出力に基づいて、図示し
ない信号処理回路において、再生信号、プッシュプル法
によるトラッキングエラー信号および非点収差法による
フォーカスエラー信号を検出するようにする。

【００１９】この実施例は、基板厚Ｔ₁のＤＶＤや基板
厚Ｔ₂のＣＤ等の異なる厚さの光ディスク４１に対し
て、選択的に情報の記録または再生を行うもので、基板
厚Ｔ₂の光ディスク４１の場合には、図９に詳細に示す
ように、液晶制御回路３７によるＴＮ配列セル３６への
印加電圧を０（Ｖ）として、偏光ビームスプリッタ３４
を透過したＰ偏光３５を、ＴＮ配列セル３６で偏光面を
９０°回転させてＳ偏光５５として、位相調整部材３８
を経て対物レンズ４０により集光させる。また、基板厚
Ｔ₁の光ディスク４１の場合には、図１０に詳細に示す
ように、液晶制御回路３７によるＴＮ配列セル３６への
印加電圧を、閾値Ｖ₀（Ｖ）よりも高いＶ ₁（Ｖ）とし
て、偏光ビームスプリッタ３４を透過したＰ偏光３５
を、ＴＮ配列セル３６で偏光面を回転させることなく透
過させて、位相調整部材３８を経て対物レンズ４０によ
り集光させる。なお、図９および図１０では、立ち上げ
ミラー３９の図示を省略してある。

【００２０】このように、ＴＮ配列セル３６により基板
厚に応じて選択的に偏光面を９０°回転させると、位相
調整部材３８の周辺部３８ｂは、Ｓ偏光５５のときは屈
折率がｎ_oとなって、屈折率ｎ₁の中央部３８ａよりも
位相が進み、Ｐ偏光３５のときは屈折率がｎ_eとなっ
て、中央部３８ａよりも位相が遅れる。したがって、図
１１に示すように、位相調整部材３８に矢印方向から入
射する波面５７は、Ｓ偏光のときは、波面５８で示すよ
うに周辺部の波面が−側にシフトし、Ｐ偏光のときは、
波面５９で示すように周辺部の波面が＋側にシフトして
出射されることになる。これにより、基板厚Ｔ₁の光デ
ィスク４１上の合焦状態での球面収差は、図８に曲線６
１で示すように周辺部で＋側にシフトし、基板厚Ｔ₂の
光ディスク４１上の合焦状態での球面収差は、図８に曲
線６２で示すように周辺部で−側にシフトして、それぞ
れ球面収差が低減される。

【００２１】図１２は、図６に示した光ピックアップを
装着した記録／再生装置の要部の構成を示すものであ
る。図１２において、光ピックアップ本体６５は、図６
において説明した各構成部品を収容するが、ここでは、
ＴＮ配列セル３６、対物レンズ４０、光検出器５３、お
よびフォーカス駆動手段を構成するフォーカスコイル６
６のみを示し、その他の構成部品は図示を省略してあ
る。この光ピックアップ本体６５は、ボイスコイルモー
タ等の移動手段６７により、光ディスク４１のトラック
を横切る方向に移動可能に、記録／再生装置に組み込ま
れる。

【００２２】この記録／再生装置では、光ディスク４１
の装着により、対物レンズ４０をフォーカス方向に変位
させ、その際のフォーカスエラー信号に基づいて、装着
された光ディスク４１が基板厚Ｔ₁のものか、Ｔ₂のも
のかを判別し、その判別結果に基づいて液晶制御回路３
７を介してＴＮ配列セル３６への印加電圧を制御する。
このため、記録／再生装置への光ディスク４１の装着を
光ディスクセンサ７１で検出し、その出力に基づいて、
光ピックアップにより光ディスク４１に再生光を照射し
ながら、コントローラ７２およびフォーカス駆動回路７
３を介してフォーカスコイル６６に所要の電流を供給し
て、対物レンズ４０をフォーカス方向に変位させる。な
お、この際のＴＮ配列セル３６への印加電圧は０（Ｖ）
として、対物レンズ４０にＳ偏光を入射させる。

【００２３】また、再生信号、フォーカスエラー信号お
よびトラッキングエラー信号を得るために、光ピックア
ップの光検出器５３の出力を処理する信号処理回路７４
から得られるフォーカスエラー信号（Ｖ_F）は、比較回
路７５に供給して、予め設定した基準信号（Ｖ_F0）と比
較し、その比較結果に基づいて液晶制御回路３７を介し
てＴＮ配列セル３６への印加電圧を制御するようにす
る。ここで、基準信号（Ｖ_F0）は、対物レンズ４０にＳ
偏光を入射させたとき、基板厚Ｔ₂の厚い光ディスクに
対して得られるフォーカスエラー信号（Ｖ_F）のピーク
値よりも低く、かつ基板厚Ｔ₁の薄い光ディスクに対し
て得られるフォーカスエラー信号（Ｖ_F）のピーク値よ
りも高い値に設定する。

【００２４】以下、この記録／再生装置の動作につい
て、図１３に示すフローチャートを参照しながら説明す
る。先ず、記録／再生装置への光ディスク４１の挿入
後、光ディスクセンサ７１により光ディスク４１が所定
の位置に装着されたか否かを検出する。光ディスク４１
が所定の位置に装着されたのが検出されたら、液晶制御
回路３７によるＴＮ配列セル３６への印加電圧を０
（Ｖ）とした状態で、対物レンズ４０を経て光ディスク
４１にＳ偏光の再生光を照射しながら、コントローラ７
２によりフォーカス駆動回路７３を制御して、フォーカ
スコイル６６に所要の電流を供給し、対物レンズ４０を
フォーカス方向に変位させる。この対物レンズ４０のフ
ォーカス方向の変位によるフォーカスエラー信号
（Ｖ_F）は、光検出器５３の出力に基づいて信号処理回
路７４で検出して、比較回路７５で基準信号（Ｖ_F0）と
比較する。

【００２５】ここで、装着された光ディスク４１が、基
板厚Ｔ₂の厚いものである場合には、信号処理回路７４
から得られるフォーカスエラー信号（Ｖ_F）のピーク値
は、基準信号（Ｖ_F0）よりも高くなる。これに対し、装
着された光ディスク４１が、基板厚Ｔ₁の薄いものであ
る場合には、収差の影響が大きくなり、光検出器５３に
入射する戻り光は、スポットの中心部と周辺部とで合焦
位置が変わるため、信号処理回路７４から得られるフォ
ーカスエラー信号（Ｖ_F）のピーク値は、基準信号（Ｖ
_F0）よりも低くなる。

【００２６】比較回路７５において、Ｖ_F＞Ｖ_F0が検出
された場合には、装着された光ディスク４１は、基板厚
Ｔ₂の厚いものであるので、ＴＮ配列セル３６への印加
電圧をそのまま、すなわち０（Ｖ）とし、その後、公知
のようにフォーカスサーチ、フォーカス引き込み、トラ
ッキングサーチ、トラッキング引き込みを行ってから、
記録または再生動作を実行する。これに対し、比較回路
７５で、Ｖ_F＞Ｖ_F0が検出されない場合には、装着され
た光ディスク４１は、基板厚Ｔ₁の薄いものであるの
で、液晶制御回路３７によりＴＮ配列セル３６への印加
電圧をＶ₁として、対物レンズ４０を経て光ディスク４
１にＰ偏光を入射させて、その状態で同様に、フォーカ
スサーチ、フォーカス引き込み、トラッキングサーチ、
トラッキング引き込みを行ってから、記録または再生動
作を実行する。

【００２７】以上のように、この実施例によれば、ＴＮ
配列セル３６および位相調整部材３８を用い、ＴＮ配列
セル３６への印加電圧を制御する簡単な構成で、厚さの
異なる２種類の光ディスクに対して、光の利用効率を何
ら低下させることなく、球面収差を低減することができ
る。したがって、厚さの異なる２種類の光ディスクに対
して、選択的に確実に記録および／または再生動作を行
うことができる。

【００２８】なお、上記の実施例では、偏光ビームスプ
リッタ３４を、Ｐ偏光の透過率が８０％、反射率が２０
％となるように構成したが、これらＰ偏光の透過率およ
び反射率は適宜設定することができる。また、偏光ビー
ムスプリッタ３４に代えて、入射する光を５０％透過、
残りの５０％を反射させるハーフミラーを用いることも
できる。このようにハーフミラーを用いれば、ＴＮ配列
セル３６を、ハーフミラーの前段（半導体レーザ３１と
ハーフミラーとの間）または後段（ハーフミラーと位相
調整部材３８との間）の任意の光路中に配置することが
できるので、光学系の設計の自由度を向上できると共
に、偏光ビームスプリッタを用いる場合に比べて安価に
できる利点がある。

【００２９】図１４ＡおよびＢは、この発明の第２実施
例の要部の構成を示す正面図および断面図である。この
実施例は、図６に示す光ピックアップにおいて、位相調
整部材として、入射光の偏光方向によって屈折率が異な
る、水晶、ルチル、ＬｉＮｂＯ₃、ＢＢＯ（ＢａＢ
Ｏ₃）等の複屈折性部材からなる凸面部材８１ａと、ガ
ラス等の等方性部材からなる凹面部材８１ｂとを、貼り
合わせて平板状に構成した位相調整部材８１を用いたも
のである。ここで、凸面部材８１ａは、上述した実施例
と同様に、ある偏光（この実施例ではＰ偏光）に対して
はｎ_eの屈折率を有し、それと直交する方向の偏光（Ｓ
偏光）に対してはｎ_oの屈折率を有する。なお、凹面部
材８１ｂの屈折率は、ｎ₁とする（ただし、ｎ_o＜ｎ₁
＜ｎ_e）。

【００３０】図１５は、この実施例による光ディスク上
での球面収差を説明するための図である。図１５におい
て、曲線８３は、位相調整部材８１の屈折率を一様にｎ
₁としたときの基板厚Ｔ₁の薄い光ディスクに対する球
面収差を示し、曲線８４は、同様に、位相調整部材８１
の屈折率を一様にｎ₁としたときの基板厚Ｔ₂の厚い光
ディスクに対する球面収差を示す。

【００３１】ここで、位相調整部材８１は、図７に示し
たものと異なり、凸面部材８１ａの厚みが中央部で厚
く、周辺部で薄いので、屈折率がｎ_eとなるＰ偏光で
は、相対的に中央部の位相が周辺部の位相よりも遅れる
ことになり、屈折率がｎ_oとなるＳ偏光では、相対的に
中央部の位相が周辺部の位相よりも進むことになる。し
たがって、図１６に示すように、位相調整部材８１に矢
印方向から入射する波面５７は、Ｓ偏光のときは、波面
５８で示すように波面が−側にシフトし、Ｐ偏光のとき
は、波面５９で示すように波面が＋側にシフトして出射
されることになる。

【００３２】そこで、この実施例では、第１実施例とは
異なり、基板厚Ｔ₁の薄い光ディスクの場合には、図６
において、液晶制御回路３７によるＴＮ配列セル３６へ
の印加電圧を０（Ｖ）として、偏光ビームスプリッタ３
４を透過したＰ偏光３５を、ＴＮ配列セル３６で偏光面
を９０°回転させてＳ偏光として、位相調整部材８１を
経て対物レンズ４０により集光させる。また、基板厚Ｔ
₂の厚い光ディスクの場合には、液晶制御回路３７によ
るＴＮ配列セル３６への印加電圧を、閾値Ｖ₀（Ｖ）よ
りも高いＶ₁（Ｖ）として、偏光ビームスプリッタ３４
を透過したＰ偏光３５を、ＴＮ配列セル３６で偏光面を
回転させることなく透過させて、位相調整部材８１を経
て対物レンズ４０により集光させる。

【００３３】このようにすれば、基板厚Ｔ₁の薄い光デ
ィスク上の合焦状態での球面収差は、図１５に曲線８５
で示すように全体的に＋側にシフトし、基板厚Ｔ₂の厚
い光ディスク上の合焦状態での球面収差は、図１５に曲
線８６で示すように全体的に−側にシフトして、それぞ
れ球面収差が低減される。

【００３４】この実施例によれば、第１実施例における
よりも球面収差を全体的に小さくすることができるの
で、厚さの異なる２種類の光ディスクに対して、選択的
により確実に記録および／または再生動作を行うことが
できる。

【００３５】付記項１．請求項１、２または３記載の光ピックアップにおい
て、前記偏光切り換え手段は、ネマティック液晶を有す
るＴＮ配列セルと、このＴＮ配列セルに印加する電圧を
制御する制御回路とを有することを特徴とする光ピック
アップ。２．付記項１記載の光ピックアップにおいて、前記記録
媒体で反射される偏光の反射光を、前記集光手段を経て
受光する受光手段と、この受光手段の出力に基づいてフ
ォーカスエラー信号（Ｖ_F）を検出する信号処理回路
と、この信号処理回路で検出したフォーカスエラー信号
（Ｖ_F）と、予め設定した基準信号（Ｖ_F0）とを比較す
る比較回路とを有し、この比較回路の出力に基づいて前
記制御回路による前記ＴＮ配列セルへの印加電圧を制御
するよう構成したことを特徴とする光ピックアップ。３．付記項２記載の光ピックアップにおいて、前記制御
回路により、前記ＴＮ配列セルに偏光状態を９０°変換
するための閾値（Ｖ₀）未満の電圧を印加して、前記フ
ォーカスエラー信号（Ｖ_F）を検出するよう構成したこ
とを特徴とする光ピックアップ。４．付記項２または３記載の光ピックアップにおいて、
前記光源手段と前記集光手段との間の光路中に、前記記
録媒体からの反射光を前記受光手段に向ける光路変更手
段を有することを特徴とする光ピックアップ。５．付記項４記載の光ピックアップにおいて、前記光路
変更手段を、ハーフミラーをもって構成したことを特徴
とする光ピックアップ。６．付記項４記載の光ピックアップにおいて、前記光路
変更手段を、偏光ビームスプリッタをもって構成し、こ
の偏光ビームスプリッタを前記光源手段と前記偏光切り
換え手段との間の光路中に配置して、前記記録媒体から
の反射光を、前記集光手段、位相調整手段および偏光切
り換え手段を経て、前記光路変更手段により前記受光手
段に向けるよう構成したことを特徴とする光ピックアッ
プ。

【００３６】

【発明の効果】この発明によれば、記録媒体の基板厚に
応じて、偏光切り換え手段によりネマティック液晶のＴ
Ｎ効果を用いて選択的に９０°変換し、この偏光切り換
え手段を経た偏光を、その偏光状態に応じて、中央部と
周辺部とで位相を異ならせる位相調整手段を経て集光手
段により記録媒体に照射するようにしたので、光の利用
効率を何ら低下させることなく、異なる基板厚の記録媒
体に対してそれぞれ収差を有効に低減することができ
る。したがって、異なる基板厚の記録媒体の各々に対し
て、記録および／または再生動作を確実に行うことがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】偏光切り換え手段の作用を説明するための図で
ある。

【図２】同じく、偏光切り換え手段の作用を説明するた
めの図である。

【図３】位相調整手段の作用を説明するための図であ
る。

【図４】記録媒体上の球面収差を示す図である。

【図５】異なる基板厚の記録媒体上の球面収差をそれぞ
れ示す図である。

【図６】この発明の第１実施例を示す図である。

【図７】図６に示す位相調整部材の構成を示す図であ
る。

【図８】第１実施例による異なる基板厚の記録媒体上の
球面収差をそれぞれ示す図である。

【図９】第１実施例の作用を説明するための図である。

【図１０】同じく、第１実施例の作用を説明するための
図である。

【図１１】図６に示す位相調整部材の作用を説明するた
めの図である。

【図１２】図６に示す光ピックアップを装着した記録／
再生装置の要部の構成を示す図である。

【図１３】図１２の動作を説明するためのフローチャー
トである。

【図１４】この発明の第２実施例の要部の構成を示す図
である。

【図１５】第２実施例による異なる基板厚の記録媒体上
の球面収差をそれぞれ示す図である。

【図１６】図１４に示す位相調整部材の作用を説明する
ための図である。

【符号の説明】

１偏光切り換え手段２，３透明電極板４ネマティック液晶５ＴＮ配列セル６スイッチ７電源８可変抵抗９，１０直線偏光１１位相調整手段１１ａ中央部１１ｂ周辺部１２集光手段１３記録媒体３１半導体レーザ３２コリメータレンズ３３ビーム整形プリズム３４偏光ビームスプリッタ３５Ｐ偏光３６ＴＮ配列セル３７液晶制御回路３８位相調整部材３８ａ中央部３８ｂ周辺部３９立ち上げミラー４０対物レンズ４１記録媒体（光ディスク）５１集光レンズ５２シリンドリカルレンズ５３光検出器５５Ｓ偏光８１位相調整部材８１ａ凸面部材８１ｂ凹面部材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録媒体に対して情報を光学的に記録お
よび／または再生する光ピックアップにおいて、偏光を射出する光源手段と、この光源手段から射出された偏光の状態を、ネマティッ
ク液晶のＴＮ効果を用いて選択的に９０°変換する偏光
切り換え手段と、この偏光切り換え手段を経た偏光を、その偏光状態に応
じて、中央部と周辺部とで位相を異ならせる位相調整手
段と、この位相調整手段を経た偏光を前記記録媒体に照射する
集光手段とを有することを特徴とする光ピックアップ。
【請求項２】請求項１記載の光ピックアップにおい
て、前記位相調整手段は、周辺部に、入射光の偏光方向によ
って屈折率が異なる複屈折性部材を有する平板状に構成
したことを特徴とする光ピックアップ。
【請求項３】請求項１記載の光ピックアップにおい
て、前記位相調整手段は、入射光の偏光方向によって屈折率
が異なる凸面状の複屈折性部材と、凹面状の等方性部材
とを貼り合わせて平板状に構成したことを特徴とする光
ピックアップ。