JPH09305930A

JPH09305930A - 磁気記録再生ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH09305930A
Application number: JP9058673A
Authority: JP
Inventors: Hiroaki Yoda; 博明與田; Akio Hori; 昭男堀; Michiko Okubo; 通子大久保; Naoyuki Inoue; 直行井上; Yuichi Osawa; 裕一大沢; Susumu Hashimoto; 進橋本; Norio Ozawa; 則雄小沢; Takeo Sakakubo; 武男坂久保; Teruo Sashiyou; 輝夫佐粧
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1996-03-15
Filing date: 1997-03-13
Publication date: 1997-11-28
Anticipated expiration: 2017-03-13
Also published as: JP3222081B2

Abstract

(57)【要約】【課題】シールド型ＭＲヘッドと誘導型磁気記録ヘッ
ドとを積層して構成した磁気記録再生ヘッドにおいて、
上側に位置する記録ヘッドの記録コイル及び記録トラッ
ク幅の形成精度を向上させる。【解決手段】下側シールド層３２上に下側再生磁気ギ
ャップ膜３３を介して、一対のリード３５を有するＭＲ
膜３４が形成され、このＭＲ膜３４上に上側再生磁気ギ
ャップ膜３６を介して上側シールド層３７が形成され
て、シールド型ＭＲヘッドからなる再生ヘッド３０が構
成されている。上側シールド層３７を兼ねる磁性体層か
らなる下側磁極上に、記録磁気ギャップ膜４１を介して
上側磁極４２が形成されていると共に、これら磁極３
７、４２に記録磁束を供給する記録コイル４３が形成さ
れて、誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッド４０が構成
されている。上側シールド層を兼ねる下側磁極３７に
は、ＭＲ素子のリード３５を引出すための電極引き出し
穴４６が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
等に用いられる磁気記録再生ヘッド及びその製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化が進み、ＶＴ
Ｒでは500Mb/inch² 、ＨＤＤでは 200Mb/inch ² という
高記録密度システムが実用化されており、これらのシス
テムでは主に誘導型の磁気ヘッドが用いられてきた。し
かし、情報処理の高度化や高速化に対する要望はさらに
強まっており、磁気記録システムにはより一層高記録密
度化を達成することが望まれている。

【０００３】一方、ある種の磁性薄膜や磁性多層薄膜等
の電気抵抗が外部磁界によって変化するという、磁気抵
抗効果を利用した再生ヘッドが知られている。この磁気
抵抗効果を利用した磁気ヘッド（以下、ＭＲヘッドと記
す。）は、ヘッドと記録媒体との相対速度が遅いシステ
ムでも高出力が得られることから、高記録密度システム
における再生ヘッドとして注目されている。

【０００４】そこで、磁気抵抗効果膜（ＭＲ膜）の上下
に磁気シールド層を配置したシールド型ＭＲヘッドから
なる再生ヘッドと、誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッ
ドとを組合せた磁気記録再生ヘッドが、今後の高記録密
度対応システムとして期待されている。シールド型ＭＲ
ヘッドと誘導型磁気ヘッドとを組み合わせて使用する場
合、通常、基板上にシールド型ＭＲヘッドを形成し、そ
の上に誘導型磁気ヘッドを積層形成することが一般的で
ある。

【０００５】図１３（ａ）乃至図１３（ｄ）は、従来の
シールド型ＭＲヘッドからなる再生ヘッドと誘導型磁気
ヘッドからなる記録ヘッドとを積層形成した磁気記録再
生ヘッドの製造工程を示す図である。同図に従って、従
来の磁気記録再生ヘッドの製造方法について説明する。

【０００６】すなわち、まず図示を省略したＡｌ₂ Ｏ₃
付きＡｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＣ基板１等の上に、軟磁性膜を成
膜した後にパターニングし、下側シールド層２を形成す
る。次いで、下側シールド層２上に、Ａｌ₂ Ｏ₃ 膜等か
らなる下側再生磁気ギャップ膜３を介して、異方性磁気
抵抗効果膜やスピンバルブ膜等からなるＭＲ膜４を形成
する。このＭＲ膜４を所定形状にパターニングした後、
その両端にＣｕ等からなる一対のリ−ド５を形成して、
ＭＲ素子を作製する（図１３（ａ））。

【０００７】次いで、Ａｌ₂ Ｏ₃ 膜等からなる上側再生
磁気ギャップ膜６を介して軟磁性膜を成膜した後にパタ
ーニングして、記録ヘッドの下側磁極を兼ねる上側シー
ルド層７を作製する。このようにして、再生ヘッドとな
るシールド型ＭＲヘッド８が形成される（図１３
（ｂ））。

【０００８】このパターニングした下側磁極兼上側シー
ルド層７上にＡｌ₂ Ｏ₃ 膜等からなる記録磁気ギャップ
膜９を形成した後、平面型コイルからなる記録コイル１
０をレジストを用いためっき工程で作製すると同時に、
ＭＲ素子からの引き出し電極１１をリ−ド５に接続する
ように形成する（図１３（ｃ））。

【０００９】この後、記録コイル１０を絶縁層１２で覆
い、その上に軟磁性膜を成膜した後にパターニングして
上側磁極１３を形成する（図１３（ｄ））。このように
して、記録ヘッドとなる誘導型磁気ヘッド１４を形成す
ることによって、磁気記録再生ヘッド１５が完成する。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の磁気記録再生ヘッド１５の製造方法では、記録コイ
ル１０を形成する前に、下側磁極兼上側シールド層７を
パターニングしていることから、少なくとも下側磁極兼
上側シールド層７の厚さ分の 3〜 4μm の段差が存在し
ている為、記録コイル１０の形成精度が低下するという
問題がある。すなわち、上記した下側磁極兼上側シール
ド層７の厚さ分の段差は、記録コイル１０をパターニン
グする際のレジストの厚膜化、厚さの不均一性等をもた
らし、ＰＥＰ交差によって、高記録密度化への対応を図
るために多数回巻回した微細形状の記録コイル１０を形
成する際に微細かつ高精細なレジストパターンを形成す
ることは困難である。従って、記録コイル１０の製造歩
留りの低下を招くことが予想される。

【００１１】さらに、上側磁極１３の形成にあたって
は、記録コイル段差 3〜 5μm 、及び下側磁極兼上側シ
ールド層７の厚さ分の 3〜 4μm の段差に加えて、予め
パターニングされている下側シールド層２の厚さも影響
するため、合せて10〜15μm の段差を有する部分に上側
磁極１３を形成することになる。このような状況では、
上述の記録コイルと同様に、上側磁極１３の媒体に望む
先端部により規定される記録トラック幅の精度を確保す
ることは難しい。特に、３Ｇｂｐｓｉ程度以上の高記録
密度を達成するために狭トラック化しても、十分な精度
は得難くなると予想される。

【００１２】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、再生ヘッドと記録ヘッドの複数のヘ
ッドを積層してなる磁気記録再生ヘッドにおいて、上側
に位置する磁気再生ヘッド、または磁気記録ヘッドのト
ラック幅の精度を向上させた薄膜型の磁気記録再生ヘッ
ドを提供することを目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録再生ヘ
ッドは、請求項１に記載したように、（１）積層形成された磁気再生ヘッドと磁気記録ヘッド
とを有する磁気記録再生ヘッドにおいて、前記磁気再生
ヘッドと磁気記録ヘッドのうち、上層に形成された磁気
ヘッドには、その下層の磁気ヘッドの電極引き出し穴が
上層の磁気ヘッドを構成する導電体の一部を貫通して設
けられていることを特徴とする。本発明の磁気記録再生
ヘッドは、より具体的には請求項２に記載したように、（２）前記上層に形成された磁気ヘッドは記録ヘッド
であり、前記下層の磁気ヘッドは磁気抵抗効果膜、及び
この磁気抵抗効果膜に接続するリードが備えられた再生
ヘッドであり、前記電極引き出し穴には前記再生ヘッド
の引き出し電極が形成されていることを特徴とする。さ
らに好ましくは、（２―１）再生ヘッドは下側シールド層と、この下側シ
ールド層上に下層の再生磁気ギャップを介して形成され
た磁気抵抗効果膜と、この磁気抵抗効果膜に接続するリ
ードと、磁気抵抗効果膜上に上側再生磁気ギャップを介
して形成された上側シールド層とを備え、記録ヘッドは
上側シールド層と共通の磁性体層からなる下側磁極と、
この下側磁極層上に形成された記録磁気ギャップと、媒
体に対向する先端部において記録磁気ギャップを介して
下側磁極と対向する上側磁極と、下側磁極及び上側磁極
に信号磁界を供給する磁気コイルとを備えることを特徴
とする。（２―２）上側磁極及び下側磁極のうち少なくとも一の
磁極は媒体対向面に近接する先端部と、この先端部と接
続し、媒体対向面と平行な方向の幅が先端部よりも広い
後端部とからなることを特徴とする。（２―２―１）上側磁極の後部は前記先端部よりも媒体
対向面から後方に形成されていることを特徴とする。（２―２―２）先端部は前記記録コイルを覆う絶縁層よ
りも媒体対向面に近く形成されていることを特徴とす
る。（２―２―３）電極引き出し穴は前記磁極先端部よりも
媒体対向面から後方に形成されていることを特徴とす
る。（１−１）上層に形成された磁気ヘッドは磁気抵抗効果
素子を備える再生ヘッドであり、下層の磁気ヘッドは記
録ヘッドであり、電極引き出し穴には記録ヘッドの記録
コイルに接続する電極が形成されていることを特徴とす
る。（１―２）前記記録ヘッドは媒体対向面に近接する先端
部において記録磁気ギャップを介して対向する下側磁極
及び上側磁極と、この下側及び上側磁極に信号磁界を与
える記録コイルとを備え、再生ヘッドは上側磁極と共通
の磁性体層からなる下側シールド層と、この下側シール
ド層上に下側再生磁気ギャップを介して形成された磁気
抵抗効果膜と、この磁気抵抗効果膜に接続するリード
と、磁気抵抗効果膜上に上側再生磁気ギャップを介して
形成された上側シールド層とを備えることを特徴とす
る。（１−３）電極引き出し穴は磁気抵抗効果素子よりも媒
体対向面から後方に形成されていることを特徴とする。（１−４）下層の磁気ヘッドは他の領域よりも微細なパ
ターンからなる領域を備え、電極引き出し穴は他の領域
に設けられていることを特徴とする。（１―５）上層の磁気ヘッドは、媒体対向面に近接する
領域に幅が1 μｍ以下のパターンを備えることを特徴と
する。又、本発明の磁気記録再生ヘッドの製造方法は、（３）磁気再生ヘッドと磁気記録ヘッドを積層形成する
工程と、磁気再生ヘッドと磁気記録ヘッドのうち、その
下層の磁気ヘッドの電極引き出し穴を上層に形成した磁
気ヘッドを構成する導電体の一部を貫通するように形成
する工程と、電極引き出し穴の内壁に絶縁膜を形成する
工程と、内壁に前記絶縁膜が形成された電極引き出し穴
に下層に形成された磁気ヘッドの引き出し電極を形成す
る工程とを具備することを特徴とする。又、本発明の磁
気記録再生ヘッドの製造方法はより具体的には、（４）下側シールド層と、前記下側シールド層上に下側
再生磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一対のリー
ドを有する磁気抵抗効果膜と、磁気抵抗効果膜上に上側
再生磁気ギャップを介して形成した上側シールド層とを
有する再生ヘッドを形成する工程と、上側シールド層と
共通の磁性体層により構成された下側磁極と、下側磁極
上に形成された記録磁気ギャップと、記録磁気ギャップ
膜上に形成され、た記録コイルと、少なくとも先端部が
記録磁気ギャップ上に形成され、かつ記録コイルの一部
を覆うように設けた上側磁極とを有する記録ヘッドとを
形成する工程とを具備し、記録コイルを形成した後に、
上側シールド層及び下側磁極に共通の磁性体層を加工し
て、電極引き出し穴を形成することを特徴とする。（４―１）少なくとも記録コイルを形成した後に、下側
シールド層を加工してパターニングすることを特徴とす
る。（５）下側シールド層と、下側シールド層上に下側再生
磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一対のリードを
有する磁気抵抗効果膜と、磁気抵抗効果膜上に上側再生
磁気ギャップ膜を介して形成された上側シールド層とを
有する再生ヘッドと、上側シールド層と共通の磁性体層
により構成された下側磁極と、下側磁極上に形成された
記録磁気ギャップ膜と、記録磁気ギャップ膜の上側に形
成された記録コイルと、少なくとも先端部が記録磁気ギ
ャップ膜上に形成され、かつ前記記録コイルの一部を覆
うように設けられた上側磁極とを有する記録ヘッドとを
具備する磁気記録再生ヘッドを製造するにあたり、少な
くとも前記記録ギャップ膜を形成した後に、上側シール
ド層及び下側磁極共通の磁性体層に電極引き出し穴を形
成し、少なくとも前記記録コイルを形成した後に、電極
取出し穴を介して磁気抵抗効果膜のリードを引出すこと
を特徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法を提供す
る。

【００１４】又、本発明の磁気記録再生ヘッドの製造方
法はより具体的には、（６）下側シールド層と、下側シールド層上に下側再生
磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一対のリードを
有する磁気抵抗効果膜と、磁気抵抗効果膜上に上側再生
磁気ギャップを介して形成した上側シールド層とを有す
る再生ヘッドを形成する工程と、前記下側シールド層と
共通の磁性体層により構成された上側磁極と、記録磁気
ギャップを介して上側磁極と対向する下側磁極と、上側
磁極及び下側磁極に電流磁界を与える記録コイルとを有
する記録ヘッドを形成する工程とを具備し、前記リー
ド、又は前記磁気抵抗効果膜を形成した後に、下側シー
ルド層及び上側磁極に共通の磁性体層を貫通する電極引
き出し穴を形成することを特徴とする。

【００１５】本発明の磁気記録再生ヘッドによれば、上
側に位置する例えば記録ヘッドに、下側に位置する例え
ば再生ヘッドの電極を引出す電極引き出し穴が設けられ
ているため、記録ヘッドの記録コイルや上側磁極、特に
記録媒体に対向する磁極先端部のように、微細加工が必
要とされる部分に高精度かつ微細な記録または再生トラ
ック幅を備えることが可能となる。その結果、３Ｇｂｐ
ｓｉ以上の高記録密度化に対応することが可能となる。

【００１６】また、本発明の第１の磁気記録再生ヘッド
の製造方法においては、予め記録コイル等を形成した後
に、上側シールド層及び下側磁極共通の磁性体層を加工
して、磁気抵抗効果膜のリードを引出しているため、記
録コイル等は平坦な面上に形成することができる。これ
によって、記録コイル等のＰＥＰ工程等による形成精度
が向上し、その結果高記録密度化に対応した微細な記録
コイルや上側磁極を高精度に形成することができる。さ
らに、下側シールド層も記録コイル等を形成した後に加
工することによって、より一層記録コイル等の形成精度
の向上を図ることが可能となる。

【００１７】本発明の第２の磁気記録再生ヘッドの製造
方法においては、上側シールド層および下側磁極共通の
磁性体層に前記磁気抵抗効果膜のリード引出し用の電極
引き出し穴を形成し、記録コイル等を形成した後に電極
引き出し穴を介して磁気抵抗効果膜のリードを引出すた
め、小さな電極引き出し穴を除いて平坦な面上に記録コ
イル等を形成することができる。これによって、記録コ
イル等のＰＥＰ工程等による形成精度が向上し、その結
果高記録密度化に対応した微細な記録コイルや上側磁極
を高精度に形成することができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について説明する。図１及び図２は、本発明の一実施
形態による薄膜型の磁気記録再生ヘッドの構成を示す図
である。図１は図２のＡ−Ａ' 線に沿った断面を示し、
図２は図１の保護膜４５の堆積前に、上方より観察した
平面図である。これらの図に示す磁気記録再生ヘッド２
０は、シールド型磁気抵抗効果ヘッド（ＭＲヘッド）か
らなる再生ヘッド３０と、この再生ヘッド３０上に積層
形成された誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッド４０と
により構成される。

【００１９】シールド型ＭＲヘッドからなる再生ヘッド
３０は、まず主表面にＡｌ₂ Ｏ₃ 層等の非磁性層（図示
せず）が形成されたＡｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＣ等の基板３１上
に、軟磁性材料からなる厚さ 0.5〜 3μm 程度の下側シ
ールド層３２が形成されている。この下側シールド層３
２上には、非磁性絶縁材料からなる厚さ50〜 200nm程度
の下側再生磁気ギャップ膜３３を介して、磁気抵抗効果
膜（ＭＲ膜）３４が形成されている。

【００２０】ＭＲ膜３４の両端部には、ＭＲ膜３４にセ
ンス電流を供給するＣｕ等からなる一対のリード３５
（図１には片方のリードのみを示す。）が接続されてお
り、一対のリード３５により挟まれたＭＲ膜３４の感磁
領域の幅が実質的な再生トラック幅（紙面垂直方向）で
ある。これらＭＲ膜３４及び一対のリード３５からなる
ＭＲ素子上には、下側再生磁気ギャップ膜３３と同様な
非磁性絶縁材料からなる上側再生磁気ギャップ膜３６を
介して、下側シールド層３２と同様な軟磁性材料からな
る厚さ 0.5〜 3μm 程度の上側シールド層３７が形成さ
れており、これらによってシールド型ＭＲヘッドからな
る再生ヘッド３０が構成されている。

【００２１】上述したシールド型ＭＲヘッドの上側シー
ルド層３７は、誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッド４
０の下側磁極を兼ねており、この上側シールド層兼下側
磁極３７上には、Ａｌ2 Ｏ3 等の非磁性絶縁材料からな
る厚さ 200nm程度の記録磁気ギャップ膜４１、記録コイ
ル４３、及び記録コイル４３を覆う絶縁層４４を介し
て、上側磁極４２が形成されている。上側磁極４２の媒
体対向面ＡＢＳ側に位置する先端部４２ａの幅（紙面垂
直方向）は、記録ヘッド４０の記録トラック幅（媒体対
向面において、上側磁極の先端部４２ａと下側磁極３７
が記録ギャップ膜４１を介して対向する幅。）を規定す
る。

【００２２】下側磁極３７と上側磁極４２との間には、
これらにより形成される磁気回路に電流磁界を供給する
Ｃｕ等からなる記録コイル４３が形成されている。記録
コイル４３は、記録磁気ギャップ膜４１上に形成されて
おり、塗布型の有機絶縁材料等からなる絶縁層４４内に
埋め込まれている。上側磁極４２の後部４２ｂは記録コ
イル４３の一部を覆うように形成されており、媒体対向
面より後方にて下側磁極３７と記録磁気ギャップ膜４１
を介して接続する。尚、本発明において、後方での磁気
的な接続は磁気ャップ膜４１を介さずに両磁極を直接接
続することも可能である。

【００２３】上側磁極４２、絶縁層４４及び、及び引き
出し電極４６上には保護膜４５が形成されている。ここ
で、上記再生ヘッド３０と記録ヘッド４０のうち、下側
に位置する再生ヘッド３０からの電極の引出しは、上側
シールド層を兼ねる下側磁極３７に設けられた電極引き
出し穴４６を介して行われている。すなわち、上側に位
置する記録ヘッド４０の上側シールド層兼下側磁極３７
には、 2つの電極引き出し穴４６がＭＲ素子の一対のリ
ード３５にそれぞれ接続するように形成されている。上
側シールド層兼下側磁極３７には、通常導電性材料が用
いられるため、これら電極引き出し穴４６の側壁面は絶
縁層４７により覆われている。そして、このような電極
引き出し穴４６を介して、ＭＲ素子の一対のリード３５
とそれぞれ電気的に接続するように、再生ヘッド引き出
し電極３８、３８' 形成されている。

【００２４】このように、コイル４３、及び上部磁極４
２、特に先端部４２ａは実質的な段差のない表面に形成
されている為、厚いレジスト塗布によるパターンくずれ
等の弊害が低減されている。従って、第１の実施形態の
磁気記録再生ヘッドによれば、磁気記録再生ヘッドの記
録コイルのパターン精度、及びトラック幅は微細かつ高
精度のものであり、製造歩留まりの向上、良好な記録特
性が得られる。

【００２５】記録磁極先端部の微細形状については、３
μｍ以下、特に１μｍ以下の微細なトラック幅Ｔｗが要
求される高密度ヘッドに適する。さらに、本発明者らに
よる多数回の試作の結果、従来法によるトラック幅の加
工限界は０．６μｍであることがわかった。従って、
０．６μｍ以下のトラック幅で本発明は顕著な効果を発
揮する。又、これらの微細形状については、後述する再
生トラック幅Ｔｗ' や、媒体対向面に近接する先端部で
の微細パターン、相互間距離が微細な複数のパターンに
ついても同様にいえる。

【００２６】さらに又、媒体対向面における微細なパタ
ーンについても、上述の実施形態の磁気記録再生ヘッド
に限られず、例えば、特開平７―２９６３２８に記載さ
れているように、下側磁極及び上側磁極の先端部をメッ
キ法等に形成するにあたって、微細なトラック幅を得る
為のノッチ構造体、特開平７−３０７０１２に記載され
るような、媒体対向面において微細なシールドの対向
幅、リード間距離、及び磁気抵抗効果素子の磁界応答部
の幅を備える磁気ヘッド等についても適用できる。

【００２７】次に、上述した第１の実施形態の磁気記録
再生ヘッド２０は、例えば以下に示すような各製造方法
により製造される。まず、図３（ａ）乃至図３（ｄ）を
参照して磁気記録再生ヘッド２０の製造方法の第１の実
施形態について述べる。

【００２８】Ａｌ₂Ｏ₃等の非磁性層（図示せず）が主表
面に形成されたＡｌ₂Ｏ₃・ＴｉＣ基板３１上に軟磁性膜
を成膜し、この軟磁性膜を所定形状にパターニングし
て、下側磁気シールド層３２とする。このパターニング
形成した下側磁気シールド層３２上に下側再生磁気ギャ
ップ膜３３を成膜した後、ＭＲ膜３４の形成とパターニ
ング、及び一対のリード３５となる良導体膜の成膜とパ
ターニングを順に行う。次いで、ＭＲ膜３４及びリード
３５とからなるＭＲ素子上に上側再生磁気ギャップ膜３
６を成膜した後、記録ヘッド４０の下側磁極兼上側磁気
シールド層３７となる軟磁性層３７′を成膜する。な
お、この時点では軟磁性層３７′はパターニングしな
い。そして、この軟磁性層３７′上に記録磁気ギャップ
膜４１を成膜する（図３（ａ））。

【００２９】次に、上記した記録磁気ギャップ膜４１及
び軟磁性層３７′に電極引き出し穴４６を、ＭＲ素子の
リード３５の表面が露出するまで、例えば通常のＰＥＰ
工程及びミリングやＲＩＥ等のエッチングを用いて形成
する（図３（ｂ））。ここで、この電極引き出し穴４６
は、例えば一辺が 5μm 程度の形状とし、次の記録コイ
ル４３の作製工程において塗布するレジストの粘度を調
整することにより容易に埋めることができ、レジスト表
面の平坦性が保たれる。従って、記録コイル４３の作製
工程に悪影響を及ぼすことはない。電極引き出し穴４６
を形成した後、記録磁気ギャップ膜４１上に記録コイル
４３を例えばフレームメッキ法で作製するためのメッキ
シード層（図示せず）及びレジストパターン（図示せ
ず）を形成し、記録コイル４３となる良導体膜を形成す
る。この際、電極引き出し穴４６は塗布したレジスト膜
により埋まっているため、下側磁極兼上側磁気シールド
層３７の厚さに起因する段差は生じていない。従って、
微細なパターンが要求される記録コイル４３の形状精度
等を低下させることがない。

【００３０】次いで、レジストパターンをオフし、レジ
ストパターンの下に残置したメッキシード層を除去して
記録コイル４３を形成する（図３（ｃ））。この際、電
極引き出し穴４６内のレジストも除去される。この後、
記録コイル４３上に形状追従性に優れる塗布型の有機絶
縁材料の絶縁層４４を形成する。この際、同時に、電極
引き出し穴４６の側壁に絶縁層４７を形成する（図３
（ｃ））。

【００３１】この後、導電性軟磁性膜を成膜し、この軟
磁性膜を所定形状にパターニングして先端部４２ａ及び
後部４２ｂからなる上側磁極４２の形成と同時に、側壁
が絶縁層４７で覆われた電極引き出し穴４６を介して、
ＭＲ素子のリード３５に再生ヘッド引き出し電極３８を
接続形成する。

【００３２】上述した磁気記録ヘッド２０の製造方法に
よれば、電極引き出し穴４６が小さく、レジストを塗布
すると容易に埋ってしまうために、薄いレジストの不均
一性を発生させることがなく、又、表面の平坦性が確保
できる。さらに、記録コイル４３及び上側磁極４２の形
成時に下側磁極を兼ねる上側磁気シールド層３７分の段
差が実質上存在しないため、記録コイル４３を形成する
ためのレジストの厚さの不均一性を改善することができ
る。従って、記録コイル４３及び上側磁極４２、特に先
端部４２ａを形成する際のＰＥＰ公差が小さくなり、こ
れにより微細化が望まれている記録コイル４３及び狭ト
ラック化が求められている上側磁極４２の先端部４２ａ
を、高精度に形成することが可能となる。

【００３３】言い換えると、本実施形態の製造方法によ
れば、軟磁性層３７′を予めパーニングする必要がなく
なり、従って平坦な軟磁性層３７′上で記録コイル４３
及び上側磁極４２を形成することができる。これによっ
て、記録ヘッド４０の記録コイル４３及び上側磁極４２
の形成精度を向上させることが可能となる。また、本実
施形態の製造方法によれば、記録コイル４３の絶縁層４
４と電極取出し穴４６の側壁を覆う絶縁層４７、さらに
上側磁極４２と再生ヘッド引き出し電極３８とを同時に
形成することにより、製造工数の低減が図られている。

【００３４】なお、本実施形態の製造方法において、記
録ヘッド４０の上側磁極４２を形成した後に電極引き出
し穴４６を形成してもよく、この場合には記録コイル４
６及び上側磁極４２の形成時には電極引き出し穴４６も
ないため、電極引き出し穴のサイズや、塗布するレジス
トの粘度等を制御することなく、形成することができ
る。ただし、この場合には電極引き出し穴４６の側壁を
覆う絶縁層４７と再生ヘッド引き出し電極３８を、記録
コイル４３の絶縁層４４や上側磁極４２とは別途形成し
なければならない。

【００３５】次に、図４（ａ）乃至図４（ｄ）を参照し
て図１及び図２に示した磁気記録再生ヘッド２０の製造
方法の第２の実施形態について述べる。まず、上述した
第１の実施形態による製造工程と同様にして、基板３１
上に下側磁気シールド層３２となる軟磁性層３２′の成
膜、下側再生磁気ギャップ膜３３の成膜、ＭＲ膜３４の
形成とパターニング、一対のリード３５の成膜とパター
ニング、上側再生磁気ギャップ膜３３の成膜、記録ヘッ
ド４０の下側磁極を兼ねる上側磁気シールド層３７とな
る軟磁性層３７′の成膜、記録磁気ギャップ膜４１の成
膜を順に行う。この実施形態の製造方法では、下側磁
気シールド層３２も予めパターニングしておらず、平坦
な軟磁性層３２′上に上述した各層を形成している。従
って、下側磁気シールド層３２の厚さに相当する段差も
実質上存在していない。そして、このような平坦な記録
磁気ギャップ膜４１上に記録コイル４３を形成する（図
４（ａ））。

【００３６】このように、軟磁性層３７' の厚さに加え
て、下側シールド層３２の厚さ分の段差も実質的に解消
され、記録磁気ギャップ膜４１の上面は平坦であるた
め、記録コイル４３作製の際に用いるレジストの表面を
より一層平坦にかつその厚さを均一に薄く形成すること
ができる。従って、後に形成する記録コイル４３を微細
かつ高精度に形成することができる。また、上側磁極４
２も同様であり、高記録密度化を達成するために狭トラ
ック化された先端部４２ａを十分な精度で形成すること
ができる。

【００３７】次いで、記録磁気ギャップ膜４１及び軟磁
性層３７′に対して電極引き出し穴４６を、前述した実
施形態と同様にして形成した（図４（ｂ））後、記録コ
イル４３上に絶縁層４４を形成すると同時に、電極引き
出し穴４６の側壁に絶縁層４７を形成する（図４
（ｃ））。

【００３８】この後、上側磁極４２となる軟磁性膜を成
膜し、この軟磁性膜を所定形状にパターニングして上側
磁極４２を形成すると同時に、側壁が絶縁層４７で覆わ
れた電極引き出し穴４６を介して、ＭＲ素子のリード３
５に再生ヘッド引き出し電極３８を接続形成する（図４
（ｄ））。

【００３９】この第２の実施形態の製造方法によれば、
記録コイル４３及び上側磁極４２の形成時には下側シー
ルド層３２分及び下側磁極兼上側磁気シールド層３７分
の段差が実質上存在しないため、微細な記録コイル４３
及び狭トラック化された上側磁極４２の形成がより一層
高精度に行うことができる。

【００４０】すなわち、この実施形態の製造方法におい
ては、記録磁気ギャップ膜４１及び下側磁極を兼ねる上
側磁気シールド層３７となる軟磁性層３７′に対して電
極引き出し穴４６を形成し、この電極引き出し穴４６を
介して再生ヘッド３０の電極を引き出しているため、軟
磁性層３７′を予めパーニングする必要がなくなり、さ
らに下側磁気シールド層３２となる軟磁性層３２′のパ
ターニングも上側磁極４２形成後としているため、より
一層平坦化された面上に記録コイル４３及び上側磁極４
２を形成することができる。これによって、パターニン
グの為のレジスト厚は薄くでき、又、その表面は平坦と
なるから、記録ヘッド４０の記録コイル４３及び上側磁
極４２の形成精度を大幅に向上させることが可能とな
る。

【００４１】また、第２の実施形態の製造方法によれ
ば、記録コイル４３の絶縁層４４と電極引き出し穴４６
の側壁を覆う絶縁層４７、さらに上側磁極４２と再生ヘ
ッド引き出し電極３８とを同時に形成しているため、製
造工数の低減が図られている。

【００４２】また、例えば図５に示すように、予め上側
磁極４２まで形成し（図５（ａ））、この後、電極引き
出し穴４６の形成（図５（ｂ））、及び電極引き出し穴
４６の側壁への絶縁層４７の形成と引き出し電極３８の
接続形成（図５（ｃ））を行ってもよい。このような製
造工程によれば、上側磁極４２を形成する際に電極引き
出し穴４６も存在していないため、上側磁極４２の形成
精度をより一層向上させることができる。但し、この場
合には電極引き出し穴４６の側壁を覆う絶縁層４７と再
生ヘッド引き出し電極３８を、記録コイル４３の絶縁層
４４や上側磁極４２とは別途形成しなければならない。

【００４３】次に、図１及び図２に示す磁気記録再生ヘ
ッドの製造方法の第３の実施形態について、図６を参照
して説明する。まず、前述した第２の実施形態による製
造工程と同様にして、Ａｌ₂Ｏ₃等の非磁性材料層（図示
せず）が主表面に形成された基板３１上に下側磁気シー
ルド層３２となる軟磁性層３２′の成膜、下側再生磁気
ギャップ膜３３の成膜、ＭＲ膜３４の形成とパターニン
グ、一対のリード３５の成膜とパターニング、上側再生
磁気ギャップ膜３３の成膜、記録ヘッド４０の下側磁極
を兼ねる上側磁気シールド層３７となる軟磁性層３７′
の成膜、記録磁気ギャップ膜４１の成膜を順に実施す
る。

【００４４】上記した記録磁気ギャップ膜４１の上面
は、前述した実施形態と同様に極めて平坦であり、この
平坦な面上で記録コイル４３の形成、及び記録コイル４
３上への絶縁層４４の形成を実施する（図６（ａ））。
上述のように、平坦な面上では必要なレジストの厚さは
薄く、又、その厚さは均一にできることから、微細な記
録コイル４３を精度よく形成することができる。また、
上側磁極４２についても同様に、高記録密度化を達成す
るために狭トラック化された先端部４２ａを十分な精度
で形成することができる。

【００４５】次いで、下側磁極を兼ねる上側磁気シール
ド層３７及び上側再生磁気ギャップ膜３６をパターニン
グし、その後方部分を除去してＭＲ素子のリード３５の
表面を露出させる（図６（ｂ））。この後、露出したリ
ード３５の表面に、再生ヘッド取出し電極３８を接続形
成する（図６（ｃ））。

【００４６】このような製造方法によっても、記録コイ
ル４３及び上側磁極４２を高精度に形成することができ
る。なお、上記実施形態では下側シールド層３２のパタ
ーニングも記録コイル４３及び上側磁極４２の形成後と
したが、少なくとも下側磁極を兼ねる上側磁気シールド
層３７のパターニングを記録コイル４３及び上側磁極４
２の形成後とすることによって、従来の製造工程に比べ
て記録コイル４３及び上側磁極４２の形成精度を高める
ことができる。

【００４７】次に、本発明の第２の実施形態による磁気
記録再生ヘッド及び製造方法の第４の実施形態につい
て、図７（ａ）乃至図７（ｃ）及び図８（ａ）乃至図８
（ｂ）の工程別断面図を参照して説明する。

【００４８】この実施形態の磁気記録再生ヘッドは、図
８（ｂ）に示すように、記録ヘッドの上側磁極４２を、
磁極先端部４２ａと磁極後部４２ｂと上下磁極連結部４
２ｃとに分けて形成したものである。このような構造の
磁気記録再生ヘッドにおいては、後に詳述するように、
上側磁極先端部を上下のシールド層３２' 、３７' に起
因する段差だけでなく、記録コイル４３及びその絶縁層
４４の厚さに相当する段差もない状態で磁極先端部４２
ａを形成することができるため、より一層微細なトラッ
ク幅Ｔｗが得られる。従って、この磁気記録再生ヘッド
によれば、狭トラックであり高精度で高い記録密度を達
成することができる。

【００４９】まず、前述した各実施形態による製造工程
と同様にして、下側磁気シールド層３２となる軟磁性層
３２′の成膜、下側磁気再生ギャップ膜３３の成膜、Ｍ
Ｒ膜３４の形成とパターニング、一対のリード３５の成
膜とパターニング、上側磁気再生ギャップ膜３３の成
膜、記録ヘッド４０の下側磁極を兼ねる上側磁気シール
ド層３７となる軟磁性層３７′の成膜、記録磁気ギャッ
プ膜４１の成膜を順に行う。

【００５０】上記した記録磁気ギャップ膜４１の上面
は、前述した実施形態と同様に極めて平坦であり、この
平坦な面上に上側磁極４２の磁極先端部４２ａと上下磁
極連結部４２ｃを形成する。すなわち、平坦な記録磁気
ギャップ膜４１上に、上側磁極先端部４２ａと上下磁極
連結部４２ｃとなる軟磁性膜を成膜し、この軟磁性膜を
イオンミリング等でパターニングして上側磁極先端部４
２ａと上下磁極連結部４２ｃを形成する。次いで、これ
ら上側磁極先端部４２ａ及び上下磁極連結部４２ｃ上を
含めてＳｉＯx 等からなる絶縁層４８を成膜し、エッチ
バックあるいはポリシングにより、上部磁極先端部４２
ａ及び上下磁極連結部４２ｃの表面が表れるまで平坦化
する（図７（ａ））。

【００５１】あるいは、平坦な記録磁気ギャップ膜４１
上にＳｉＯx 等からなる絶縁層４８を成膜し、この絶縁
層４８に上側磁極先端部４２ａ及び上下磁極連結部４２
ｃに相当する部分に反応性イオンエッチング等でトレン
チ（溝）を形成した後、そこに上側磁極先端部４２ａ及
び上下磁極連結部４２ｃとなる軟磁性材料を埋め込み成
膜し、エッチバックあるいはポリシングにより平坦化し
てもよい。又、軟磁性材料の埋め込みは、磁気ギャップ
膜４１の表面にシード層となる金属層を形成してメッキ
成長法により形成してもよい。

【００５２】次に、エッチバックやポリシングで平坦化
した上側磁極先端部４２ａ、上下磁極連結部４２ｃ及び
絶縁層４８の上面を含む平面上に、前述した各実施形態
と同様にして記録コイル４３を形成する（図７
（ｂ））。これによって、微細な記録コイル４３を高精
度に形成することができる。

【００５３】次いで、絶縁層４８、記録磁気ギャップ膜
４１及び軟磁性層３７′に対して電極引き出し穴４６
を、前述した実施形態と同様にして形成（図７（ｃ））
した後、記録コイル４３上に絶縁層４４を形成すると同
時に、電極引き出し穴４６の側壁に絶縁層４７を形成す
る（図８（ａ））。

【００５４】この後、上側磁極４２の磁極後部４２ｂと
なる軟磁性膜を、磁極先端部４２ａと上下磁極連結部４
２ｃと磁気的に接続するように成膜し、この軟磁性膜を
所定形状にパターニングして、磁極先端部４２ａ、磁極
後部４２ｂ及び上下磁極連結部４２ｃからなる上側磁極
４２を形成すると同時に、側壁が絶縁層４７で覆われた
電極引き出し穴４６を介して、ＭＲ素子のリード３５に
再生ヘッド引き出し電極３８を接続形成する。

【００５５】図８（ｃ）は保護膜４５を形成し、媒体対
向面ＡＢＳを研磨等により表出させた本実施形態の磁気
記録再生ヘッドの先端部断面図である。上側磁極先端部
４２ａは、絶縁層４８により囲まれており、上述のよう
に、その媒体対向面における幅Ｔｗはリソグラフィーに
より確定され、この記録ヘッドによる記録トラック幅Ｔ
ｗを与える。

【００５６】この第４の実施形態の製造方法によれば、
記録コイル４３及び上側磁極４２の形成時に下側シール
ド層３２の段差及び下側磁極を兼ねる上側磁気シールド
層３７分の段差が実質上存在せず、さらに記録トラック
幅を決定する磁極先端部４２ａの形成時には記録コイル
４３及びその絶縁層４４分の厚さに相当する段差も存在
しておらず、ＭＲ膜３４とリード３５に起因する〜100n
m 程度の段差しかないため、記録コイル４３及び上側磁
極４２の形成精度が飛躍的に向上する。従って、微細化
が望まれている記録コイル４３及び狭トラック化が求め
られている上側磁極４２を、極めて高精度に形成するこ
とが可能となる。

【００５７】また、記録磁気ギャップ膜４１の成膜前
に、下側磁極を兼ねる上側磁気シールド層３７上に例え
ば低分子量のレジンをスピンコートし、473K程度の雰囲
気中でベークしてレジン表面を平坦化処理した後、イオ
ンミリングにより入射角40゜程度でエッチバックする
と、下側磁極兼上側磁気シールド層３７となる軟磁性層
３７′と上記レジンとを同速度でエッチングできるた
め、平坦なレジン表面形状を軟磁性膜３７′表面に転写
することができる。これによって、上述したＭＲ膜３４
とリード３５に起因する段差をさらに減少させることが
でき、記録コイル４３及び上側磁極４２の形成精度を向
上させることが可能となる。この平坦化工程は、下側磁
気シールド層３２及び下側磁極を兼ねる上側磁気シール
ド層３７共にパターニングしていない場合の方が、上記
レジンを均一にコーティングできることから有効であ
る。

【００５８】なお、上述した磁気記録再生ヘッドを製造
する際においても、少なくとも下側磁極を兼ねる上側磁
気シールド層３７のパターニングを記録コイル４３及び
上側磁極４２の形成後とすることによって、従来の製造
工程に比べて記録コイル４３及び上側磁極４２の形成精
度を高めることができる。また、電極引き出し穴４６の
形成工程は、上側磁極４２の磁極後部４２ｂを形成した
後に行ってもよく、この場合には磁極後部４２ｂの加工
精度やアライメント精度も向上し、磁極先端部４２ａ磁
極後部４２ｂとの接触面積を正確に制御することができ
る。さらに、上述した磁気記録再生ヘッドについても、
例えば図６に示した製造工程と同様にして、再生ヘッド
引き出し電極３８を形成することができる。

【００５９】又、図９（ａ）乃至（ｂ）に示すように、
コイル絶縁層の先端よりも媒体よりに上側磁極先端部４
２ａを形成して、先端部４２ａの媒体対向面より後方へ
の深さ（スロートハイトＬｓ）を可能な限り浅くすると
記録効率が向上する。このように、浅くするためには、
微細なレジストパターンを形成する必要あり、第１乃至
４の実施形態による製造方法を用いることにより、浅い
スロートハイトＬａが得られる。

【００６０】次に、本発明の磁気記録再生ヘッドの第３
の実施形態を図１０（ａ）及び図１０（ｂ）を用いて説
明する。図１０（ａ）は図１０（ｂ）のＡ−Ａ' 断面を
示す。本実施形態の磁気記録再生ヘッドは、Ａｌ₂Ｏ₃等
の非磁性薄膜層が主表面に形成されたＡｌ₂Ｏ₃・ＴｉＣ
等の基板上に、磁気記録ヘッド９０、及びその上層に積
層形成された磁気再生ヘッド９１からなる。磁気記録ヘ
ッド９０は、下側磁極となる軟磁性層６２、その表面に
形成された記録ギャップ層６３、媒体対向面ＡＢＳに凹
部を備え、その凹部には記録先端部６７ａが埋め込まれ
る絶縁層６４、この絶縁層６４上に多数巻回されて形成
されたＣｕ等の金属層からなるコイル６５、及びこのコ
イル６５を被覆し、コイルとその上層に形成される軟磁
性層等の導電体層とを絶縁するコイル絶縁層６６と、こ
の上層に形成される軟磁性層からなる上側磁極６７と、
この上部磁極６７に形成された、コイルの両端部に到達
する穴に絶縁層７１を介して形成されたコイル電極７
２、７２' とからなる。又、磁気再生ヘッド９１は、磁
気記録ヘッド９０の上側磁極６７として下側シールド層
６７、この上層に形成された非磁性絶縁層からなる再生
磁気ギャップ６８、再生磁気ギャップ上に形成されたＭ
Ｒ素子６９、このＭＲ素子６９の両端に接続される一対
のリード７０，７０' 、この表面及び下側シールド層６
７上に形成された非磁性絶縁層８０、及びこれらの表面
に形成された上側シールド層７５とからなる。この磁気
再生ヘッド９１の再生トラック幅は図１０（ａ）に示す
ように、媒体対向面でのリード７０，７０' の間隔によ
り画定する。

【００６１】本実施形態では、コイル６５及びコイル絶
縁層６６を形成した後、その表面を上側磁極６７により
平坦化された表面に形成された一対のリード７０，７
０' が形成され、その間隔（再生トラック幅Ｔｗ' ）は
微細かつ高精度である。これは、コイル６５に接続する
コイル電極７２，７２' をリード上の絶縁層８０の表面
から引き出し形成し、媒体対向面ＡＢＳより後方で、絶
縁層８０、下側シールド層６７、コイル絶縁層６６を引
き出し穴に形成されることにより可能となる。引き出し
穴の内壁には絶縁層７１が形成され、コイル電極７２，
７２' と下側シールド層６７は互いに絶縁されている。

【００６２】次に、この磁気記録再生ヘッドの製造方法
を図１１（ａ）乃至（ｄ）を用いて説明する。Ａｌ₂Ｏ₃
等の非磁性層（図示せず）を主表面に形成したＡｌ₂Ｏ₃
・ＴｉＣ基板６１に軟磁性材料をスパッタ法等により形
成し、下側シールド層６２を形成する。この下側シール
ド層６２の表面に記録磁気ギャップ６３となる非磁性層
をスパッタ法等により形成し、さらにＳｉＯ２等の非磁
性絶縁層をＣＶＤ法等により形成し、ＰＥＰ工程及びＲ
ＩＥ、ミリング等の異方性エッチングを行って、媒体対
向面ＡＢＳに望む溝を有する絶縁層６４とする。この絶
縁層の上には、メッキ成長のシード層となる金属層（図
示せず）を形成し、コイルの外周にメッキ成長のフレー
ムとなるレジストパターンをＰＥＰ工程により形成す
る。そして、フレームパターンに囲まれたシード層から
Ｃｕ等の導電性膜を形成し、フレームを除去することに
より、コイル６５を形成する。このコイル６５の表面は
ＣＶＤ法、及びＰＥＰ工程、エッチングによるパターニ
ングにより形成されたコイル絶縁膜６６により被覆す
る。

【００６３】そして、前記溝にスパッタ法等により高い
飽和磁束密度を有する軟磁性層を埋め込み、上側磁極の
先端部６７ａを形成する。その後、先端部６７ａに面接
触する上側磁極の後部６７をスパッタ法等により形成す
る（図１１（ａ））。本実施形態では、上側磁極の後部
６７は磁気再生ヘッド９１の下側シールド層６７を兼ね
る為、少なくとも、ＭＲ素子の幅よりも広範囲に形成さ
れる必要がある。

【００６４】次に、下側シールド層６７の表面に再生磁
気ギャップである非磁性絶縁層６８を形成し、さらに、
媒体対向面に面してＭＲ素子６９を形成し、その両端に
接続するリードを７０，７０' を形成する（図１１
（ｂ））。リード７０，７０' の間隔は再生トラック幅
Ｔｗ' を確定する為、高密度化に伴って、ＰＥＰ工程、
エッチング精度による最小加工寸法まで、微細化すると
予想される。このように微細化が進むと、より薄いレジ
ストによりパターニングすることが望まれる。本実施形
態では、リード７０，７０' のパターニングは下側磁気
シールド層の平坦面で行うから、薄いレジストによるパ
ターニングが可能であり、より高精度かつ微細なトラッ
ク幅Ｔｗ' が得られる。

【００６５】次に、ＭＲ素子６９、リード７０，７０'
を覆う非磁性絶縁層８０を形成した後、媒体対向面ＡＢ
Ｓより後方で再生磁気ギャップ６８、下側シールド層６
７、及びコイル絶縁層６６を貫通して、コイル６５に至
る引き出し穴をＰＥＰ工程及びＲＩＥ等のエッチングで
形成する（図１１（ｃ））。

【００６６】続いて、穴の内表面を絶縁層７１で被覆
し、コイル６５に接続するコイル電極７２、７２' を形
成する。このコイル電極７２、７２' を覆う絶縁層を形
成し、さらに、ＭＲ素子６９を覆う上側シールド層７５
を形成する。さらに、上側シールド層７５の表面を保護
膜（図示せず）により被覆し、本実施形態の磁気記録再
生ヘッドが完成する。

【００６７】上述の各実施形態において、シールド層３
２、３７、６２、６７等を構成する軟磁性層は、ＮｉＦ
ｅ合金やＣｏＺｒＮｂアモルファス合金、ＡｌＡＢＳｉ
Ｆｅ系センダスト等を用いることができる。

【００６８】上述の各実施形態において、ＭＲ膜３４、
６９として、例えば電流の方向と磁性層の磁化モーメン
トの成す角度に依存して電気抵抗が変化するＮｉ80Ｆｅ
20等からなる異方性磁気抵抗効果膜、磁性膜と非磁性膜
との積層構造を有し、各磁性層の磁化の成す角度に依存
して電気抵抗が変化する、いわゆるスピンバルブ効果を
示すＣｏ90Ｆｅ10／Ｃｕ／Ｃｏ90Ｆｅ10積層膜等からな
るスピンバルブ膜、巨大磁気抵抗効果を示す人工格子
膜、グラニュラ膜、あるいはペロブスカイト系マンガン
酸化物等を用いたコロッサルＭＲ（ＣＭＲ）膜等が例示
される。

【００６９】次に、本発明の磁気記録再生ヘッドを搭載
した、磁気記録再生装置について図１２（ａ）及び図１
２（ｂ）を用いて説明する。図１２（ａ）は磁気記録再
生ヘッドのヘッド８０と媒体の位置関係を示し、図１２
（ｂ）は磁気記録再生装置の構成を示す図である。

【００７０】図１２（ａ）において、ヘッド８０を示
し、媒体のトラック１８２のトラックとトラック幅、及
び媒体進行方向の関係を示す。図１２（ｂ）の磁気記録
再生装置１４０では、回転可能なディスク支持盤１４２
上に磁気ディスク１４４が裁置され、磁気記録再生ヘッ
ド１５０は磁気ディスク１４４から一定の浮上量ｄを維
持するように、あるいは磁気ディスク１４４に接触する
ようにスライダ１４８に取り付けられている。スライダ
１４８は書き込み信号Ｓｏや読み取り信号Ｓｉを伝達す
るヘッドサスペンションアセンブリ１５５に接続され
る。ディスク支持盤１４２はモータ１４６により回転さ
せられ、その制御は磁気記録再生装置１４０の内部又は
外部に備えられた制御回路からモータへ送られる制御信
号Ｃにより行われる。本磁気記録再生装置は、上述の効
果を備える磁気記録再生ヘッドを搭載することにより、
微細かつ、高精度の記録再生が可能となる。

【００７１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
上側に位置する、例えば磁気ヘッドの記録コイルや上側
磁極等の形成精度を大幅に向上させることが可能となる
ため、高記録密度化に適した磁気記録再生ヘッドを安定
して提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態の磁気記録再生ヘッ
ドの概略構成を示す断面図である。

【図２】図１に示す磁気記録再生ヘッドの平面図であ
る。

【図３】図１に示す磁気記録再生ヘッドの製造方法の
第１の実施形態を説明するための工程別断面図である。

【図４】図１に示す磁気記録再生ヘッドの製造方法の
第２の実施形態を説明するための工程別断面図である。

【図５】第２の実施形態の製造方法の変形例を示す断
面図である。

【図６】図１に示す磁気記録再生ヘッドの製造方法の
第３の実施形態を説明するための、工程別断面図であ
る。

【図７】本発明の製造方法の第４の実施形態の製造方
法を説明するための工程別断面図である。

【図８】図７に示す要部製造工程以降の製造工程、及
び本発明の第３の実施形態の磁気記録再生ヘッドを示す
断面図である。

【図９】本発明の第３の実施形態の磁気記録再生ヘッ
ドの変形例を説明するための断面図である。

【図１０】本発明の磁気記録再生ヘッドの第４の実施形
態を説明するための断面図、及び平面図である。

【図１１】図１０に示す磁気記録再生ヘッドに関す
る製造方法を説明するための工程別断面図である。

【図１２】本発明の磁気記録再生ヘッドを搭載した磁
気記録再生装置の構成図を示す図である。

【図１３】従来の磁気記録再生ヘッドの製造工程別断
面図である。

【符号の説明】

１５、２０……磁気記録再生ヘッド８、３０、９１１…シールド型ＭＲヘッドからなる再生
ヘッド３２……下側シールド層６７・・・・・・上側磁極を兼ねる下側シールド層３３、６８……下側再生磁気ギャップ膜３４、６９……ＭＲ膜３５、３５' 、７０、７０' ……一対のリード３６、８０……上側再生磁気ギャップ膜３７……下側磁極を兼ねる上側シールド層３８、３８' ……再生ヘッド引き出し電極４０、９０……誘導型磁気ヘッドからなる記録ヘッド４１、６３……記録磁気ギャップ膜４２……上側磁極４３、６５……記録コイル４６……電極引き出し穴７２、７２' ・・・・・・コイル電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者井上直行神奈川県川崎市幸区堀川町72番地株式会社東芝川崎事業所内 (72)発明者大沢裕一神奈川県川崎市幸区堀川町72番地株式会社東芝川崎事業所内 (72)発明者橋本進神奈川県川崎市幸区堀川町72番地株式会社東芝川崎事業所内 (72)発明者小沢則雄神奈川県川崎市幸区堀川町72番地株式会社東芝川崎事業所内 (72)発明者坂久保武男神奈川県川崎市幸区堀川町72番地株式会社東芝川崎事業所内 (72)発明者佐粧輝夫大分市大字松岡3500番地株式会社東芝大分工場内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】積層形成された磁気再生ヘッドと磁気記録
ヘッドとを有する磁気記録再生ヘッドにおいて、前記磁
気再生ヘッドと前記磁気記録ヘッドのうち、上層に形成
された磁気ヘッドにはその下層の磁気ヘッドの電極引き
出し穴が前記上層の磁気ヘッドを構成する導電体の一部
を貫通して設けられていることを特徴とする磁気記録再
生ヘッド。
【請求項２】前記上層に形成された磁気ヘッドは記録磁
極及び記録コイルが備えられた記録ヘッドであり、前記
下層の磁気へッドは磁気抵抗効果膜、及びこの磁気抵抗
効果膜に接続するリードが備えられた再生ヘッドであ
り、前記電極引き出し穴には前記リードに電気的に接続
する引き出し電極が形成されていることを特徴とする請
求項１記載の磁気記録再生ヘッド。
【請求項３】前記磁気再生ヘッドは前記磁気抵抗効果膜
上に再生磁気ギャップを介して形成された上側シールド
層を備え、前記磁気記録ヘッドは前記上側シールド層と
共通の磁性体層からなる下側磁極と、この下側磁極に対
向する上側磁極と、これらの磁極間に介在する記録磁気
ギャップと、前記磁極に信号磁界を供給する前記磁気コ
イルとを備えることを特徴とする請求項２記載の磁気記
録再生ヘッド。
【請求項４】前記磁極は媒体対向面に近接する先端部
と、この先端部と磁気的に接続し、媒体対向面と平行な
方向の幅が前記先端部よりも広い領域を備える後部とか
らなることを特徴とする請求項２記載の磁気記録再生ヘ
ッド。
【請求項５】前記磁極後部は媒体に対向する面から所定
距離離間して形成されていることを特徴とする請求項４
記載の磁気記録再生ヘッド。
【請求項６】前記先端部は表面が互いに同一面となる絶
縁層により周囲を囲まれていることを特徴とする請求項
４記載の磁気記録再生ヘッド。
【請求項７】前記電極引き出し穴は媒体対向面から離間
して形成されていることを特徴とする請求項１記載の磁
気記録再生ヘッド。
【請求項８】前記上層に形成された磁気ヘッドは磁気抵
抗効果素子、及び前記磁気抵抗効果素子に電気的に接続
するリードを備える磁気再生ヘッドであり、前記下層の
磁気ヘッドは記録磁極及び記録コイルを備える磁気記録
ヘッドであり、前記電極引き出し穴には前記記録コイル
に電気的に接続する電極が形成されていることを特徴と
する請求項１記載の磁気記録再生ヘッド。
【請求項９】前記記録ヘッドは媒体対向面に近接する先
端部において記録磁気ギャップを介して対向する下側磁
極及び上側磁極と、この下側及び上側磁極に信号磁界を
与える記録コイルとを備え、前記再生ヘッドは前記上側
磁極と共通の磁性体層からなるシールド層と、このシー
ルド層上に再生磁気ギャップを介して形成された前記磁
気抵抗効果膜及び前記リードとを備え、前記導電層は前
記シールド層であることを特徴とする請求項８記載の磁
気記録再生ヘッド。
【請求項１０】前記上層の磁気ヘッドは前記電極引き出
し穴が形成された領域よりも微細なパターンからなる媒
体対向面に近接する先端部を備えることを特徴とする請
求項１記載の磁気記録再生ヘッド。
【請求項１１】前記上層の磁気ヘッドは、媒体対向面に
近接する先端部に幅が1 μｍ以下のパターンを備えるこ
とを特徴とする請求項１０記載の磁気記録再生ヘッド。
【請求項１２】磁気再生ヘッドと磁気記録ヘッドを積層
形成する工程と、前記磁気再生ヘッドと前記磁気記録ヘ
ッドのうち、その下層の磁気ヘッドの電極引き出し穴を
上層に形成した磁気ヘッドを構成する導電体の一部を貫
通するように形成する工程と、前記電極引き出し穴の内
壁に絶縁膜を形成する工程と、内壁に前記絶縁膜が形成
された前記電極引き出し穴に下層に形成された磁気ヘッ
ドの引き出し電極を形成する工程とを具備することを特
徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法。
【請求項１３】再生ヘッドの磁気抵抗効果膜と、この磁
気抵抗効果膜に接続するリードと、前記磁気抵抗効果膜
上に再生磁気ギャップを介して形成したシールド層とを
形成する工程と、前記シールド層と共通の磁性体層によ
り構成された下側磁極と、前記下側磁極上に形成された
記録磁気ギャップと、前記記録磁気ギャップ膜上に形成
された記録コイルと、少なくとも先端部が前記記録磁気
ギャップ上に形成され、かつ前記記録コイルの一部を覆
うように設けた上側磁極とを有する記録ヘッドとを形成
する工程とを具備し、前記記録コイルを形成した後に、
前記上側シールド層及び下側磁極に共通の磁性体層を加
工して、前記電極引き出し穴を形成することを特徴とす
る請求項１２記載の磁気記録再生ヘッドの製造方法。
【請求項１４】少なくとも前記記録コイルを形成した後
に、前記下側シールド層をパターニングすることを特徴
とする請求項１３記載の磁気記録再生ヘッドの製造方
法。
【請求項１５】下側シールド層と、前記下側シールド層
上に下側再生磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一
対のリードを有する磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効
果膜上に上側再生磁気ギャップ膜を介して形成された上
側シールド層とを有する再生ヘッドと、前記上側シール
ド層と共通の磁性体層により構成された下側磁極と、前
記下側磁極上に形成された記録磁気ギャップ膜と、前記
記録磁気ギャップ膜の上側に形成された記録コイルと、
少なくとも先端部が前記記録磁気ギャップ膜上に形成さ
れ、かつ前記記録コイルの一部を覆うように設けられた
上側磁極とを有する記録ヘッドとを具備する磁気記録再
生ヘッドを製造するにあたり、少なくとも前記記録ギャ
ップ膜を形成した後に、前記上側シールド層及び下側磁
極共通の磁性体層に電極引き出し穴を形成し、少なくと
も前記記録コイルを形成した後に、前記電極引き出し穴
を介して前記磁気抵抗効果膜のリードを引出すことを特
徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法。
【請求項１６】下側シールド層と、前記下側シールド層
上に下側再生磁気ギャップ膜を介して形成され、かつ一
対のリードを有する磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効
果膜上に上側再生磁気ギャップを介して形成した上側シ
ールド層とを有する再生ヘッドを形成する工程と、前記
下側シールド層と共通の磁性体層により構成された上側
磁極と、記録磁気ギャップを介して前記上側磁極と対向
する下側磁極と、前記上側磁極及び前記下側磁極に電流
磁界を与える記録コイルとを有する記録ヘッドを形成す
る工程とを具備し、前記リード、又は前記磁気抵抗効果
膜を形成した後に、前記下側シールド層及び上側磁極に
共通の磁性体層を貫通する前記電極引き出し穴を形成す
ることを特徴とする磁気記録再生ヘッドの製造方法。