JPH09301974A - 置換チオフェン誘導体およびこれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 - Google Patents
置換チオフェン誘導体およびこれを有効成分とする農園芸用殺菌剤Info
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- JPH09301974A JPH09301974A JP12138796A JP12138796A JPH09301974A JP H09301974 A JPH09301974 A JP H09301974A JP 12138796 A JP12138796 A JP 12138796A JP 12138796 A JP12138796 A JP 12138796A JP H09301974 A JPH09301974 A JP H09301974A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 各種作物の病原菌に対して広い病害スペクト
ラムを有し、しかも現在深刻化している耐性菌問題を解
決する新しい農園芸用殺菌剤を提供する。 【解決手段】 一般式（１）で表される置換チオフェン
誘導体、および、当該化合物を有効成分として含有する
農園芸用殺菌剤。 〔式中、ＱはＨ，ＣＨ３，ＣＦ３，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ，ＣＨ３Ｏ，ＣＨ３Ｓ（Ｏ）ｎ｛但し、ｎ＝０，１，
２｝，ＣＮ，ＮＯ２，ＣＨ３ＣＯ，ＮＨ２またはアルコ
キシカルボニル基を示し、Ａｒは式（Ａ２）で示される
基であり、ＲはＣ１〜Ｃ12アルキル基、Ｃ３〜Ｃ10シク
ロアルキル基、（置換されていてもよい）フェニル基等
を示し、Ｒ１はＣＦ３，ＣＨＦ２，ＣＨ３，Ｃ２Ｈ５，
Ｃｌ，ＢｒまたはＩであり、ＲとＮＨＣＯＡｒは互いに
隣り合っている〕
ラムを有し、しかも現在深刻化している耐性菌問題を解
決する新しい農園芸用殺菌剤を提供する。 【解決手段】 一般式（１）で表される置換チオフェン
誘導体、および、当該化合物を有効成分として含有する
農園芸用殺菌剤。 〔式中、ＱはＨ，ＣＨ３，ＣＦ３，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ，ＣＨ３Ｏ，ＣＨ３Ｓ（Ｏ）ｎ｛但し、ｎ＝０，１，
２｝，ＣＮ，ＮＯ２，ＣＨ３ＣＯ，ＮＨ２またはアルコ
キシカルボニル基を示し、Ａｒは式（Ａ２）で示される
基であり、ＲはＣ１〜Ｃ12アルキル基、Ｃ３〜Ｃ10シク
ロアルキル基、（置換されていてもよい）フェニル基等
を示し、Ｒ１はＣＦ３，ＣＨＦ２，ＣＨ３，Ｃ２Ｈ５，
Ｃｌ，ＢｒまたはＩであり、ＲとＮＨＣＯＡｒは互いに
隣り合っている〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な置換チオフ
ェン誘導体、これを有効成分として含有する農園芸用殺
菌剤およびこれによる植物病害防除方法に関する。
ェン誘導体、これを有効成分として含有する農園芸用殺
菌剤およびこれによる植物病害防除方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年開発された選択的作用を示す殺菌剤
は、それまで使用されてきた非選択的な殺菌剤と異なり
低薬量で安定した効果を示すが、繰り返し使用した場合
に薬剤耐性が出現し、効力の低下を来すという問題があ
る。例えば、ベンズイミダゾール系の殺菌剤は広い殺菌
スペクトラムを有し、灰色かび病に対しても優れた効果
を示すが、１９７０年代に入って耐性菌が出現し、大幅
な効力低下を引き起こした。これに替わるものとしてジ
カルボキシイミド系の殺菌剤が注目を浴びたが、１９８
０年代に入ってジカルボキシイミド系の薬剤に対しても
耐性菌が出現し、灰色かび病耐性菌の防除対策はわが国
のみならず世界的にも大きな問題となっている。一方、
アゾール系の殺菌剤は殺菌スペクトラムが広く、特に各
種作物のうどんこ病、さび病、リンゴ、ナシの黒星病な
どにこれまでにない低薬量で効果を示す優れた薬剤であ
るが、最近になって耐性菌の出現による大幅な効力の低
下が問題になっている。このような薬剤耐性菌は選択性
殺菌剤にとって避けては通れない問題となっており、従
って、新しい薬剤の開発が急務となっている。
は、それまで使用されてきた非選択的な殺菌剤と異なり
低薬量で安定した効果を示すが、繰り返し使用した場合
に薬剤耐性が出現し、効力の低下を来すという問題があ
る。例えば、ベンズイミダゾール系の殺菌剤は広い殺菌
スペクトラムを有し、灰色かび病に対しても優れた効果
を示すが、１９７０年代に入って耐性菌が出現し、大幅
な効力低下を引き起こした。これに替わるものとしてジ
カルボキシイミド系の殺菌剤が注目を浴びたが、１９８
０年代に入ってジカルボキシイミド系の薬剤に対しても
耐性菌が出現し、灰色かび病耐性菌の防除対策はわが国
のみならず世界的にも大きな問題となっている。一方、
アゾール系の殺菌剤は殺菌スペクトラムが広く、特に各
種作物のうどんこ病、さび病、リンゴ、ナシの黒星病な
どにこれまでにない低薬量で効果を示す優れた薬剤であ
るが、最近になって耐性菌の出現による大幅な効力の低
下が問題になっている。このような薬剤耐性菌は選択性
殺菌剤にとって避けては通れない問題となっており、従
って、新しい薬剤の開発が急務となっている。
【０００３】ところで、従来から芳香族アニリン誘導体
には殺菌活性を示すものが多く知られており、最近では
例えば、特開平５−２２１９９４号公報および特開平６
−１９９８０３号公報に種々のアニリン誘導体が灰色か
び病に効果を有することが記載されている。本発明者ら
はそこに具体的に開示された化合物について種々の植物
病原菌に対する殺菌活性を試験したが、その防除効果は
灰色かび病の場合でも低く、うどんこ病、赤さび病など
では全く効果が認められなかった。
には殺菌活性を示すものが多く知られており、最近では
例えば、特開平５−２２１９９４号公報および特開平６
−１９９８０３号公報に種々のアニリン誘導体が灰色か
び病に効果を有することが記載されている。本発明者ら
はそこに具体的に開示された化合物について種々の植物
病原菌に対する殺菌活性を試験したが、その防除効果は
灰色かび病の場合でも低く、うどんこ病、赤さび病など
では全く効果が認められなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は各種
作物の病原菌に対して広い病害スペクトラムを有し、し
かも現在深刻化している耐性菌問題を解決する新しい農
園芸用殺菌剤を提供することを課題とする。
作物の病原菌に対して広い病害スペクトラムを有し、し
かも現在深刻化している耐性菌問題を解決する新しい農
園芸用殺菌剤を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは種々のヘテ
ロ環アミン誘導体の有する生理活性に興味を持って研究
を行う中で、ある種のアミノチオフェンを有する誘導体
が種々の植物病害に対し強力な防除効果を示し、しかも
ベンズイミダゾール系およびジカルボキシイミド系薬剤
の感受性菌のみならず耐性菌、さらにはアゾール系薬剤
の感受性菌および耐性菌に対しても優れた防除効果を示
し、作物に対する安全性が高く、従って前記課題にかな
うものであることを見出し、本研究を完成した。すなわ
ち、本発明は一般式（１）（化７）
ロ環アミン誘導体の有する生理活性に興味を持って研究
を行う中で、ある種のアミノチオフェンを有する誘導体
が種々の植物病害に対し強力な防除効果を示し、しかも
ベンズイミダゾール系およびジカルボキシイミド系薬剤
の感受性菌のみならず耐性菌、さらにはアゾール系薬剤
の感受性菌および耐性菌に対しても優れた防除効果を示
し、作物に対する安全性が高く、従って前記課題にかな
うものであることを見出し、本研究を完成した。すなわ
ち、本発明は一般式（１）（化７）
【０００６】
【化７】 ［式中、Ｑは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｒは炭素数
１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１
２の直鎖または分岐のハロゲノアルキル基、炭素数２〜
１０の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数２〜１０
の直鎖または分岐のハロゲノアルケニル基、炭素数２〜
１０のアルキルチオアルキル基、炭素数２〜１０のアル
キルオキシアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキ
ル基、炭素数３〜１０のハロゲノ置換シクロアルキル
基、または１〜３個の置換基により置換されていてもよ
いフェニル基であり、該フェニル基の置換基は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケ
ニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６の
シクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素
数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のアル
キルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、炭
素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のアル
コキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３の
アルキル基で置換されたアミノ基であり、Ｒと−ＮＨＣ
ＯＡｒは互いに隣り合っており、Ａｒは以下の（Ａ２）
（化８）
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｒは炭素数
１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１
２の直鎖または分岐のハロゲノアルキル基、炭素数２〜
１０の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数２〜１０
の直鎖または分岐のハロゲノアルケニル基、炭素数２〜
１０のアルキルチオアルキル基、炭素数２〜１０のアル
キルオキシアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキ
ル基、炭素数３〜１０のハロゲノ置換シクロアルキル
基、または１〜３個の置換基により置換されていてもよ
いフェニル基であり、該フェニル基の置換基は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケ
ニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６の
シクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素
数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のアル
キルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、炭
素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のアル
コキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３の
アルキル基で置換されたアミノ基であり、Ｒと−ＮＨＣ
ＯＡｒは互いに隣り合っており、Ａｒは以下の（Ａ２）
（化８）
【０００７】
【化８】 （式中、Ｒ1 はトリフルオルメチル基、ジフルオロメチ
ル基、メチル基、エチル基、塩素原子、臭素原子または
ヨウ素原子である）で表される基を意味する］で表され
る置換チオフェン誘導体、これを有効成分として含有す
る農園芸用殺菌剤、これによる植物病害防除方法に関す
る。
ル基、メチル基、エチル基、塩素原子、臭素原子または
ヨウ素原子である）で表される基を意味する］で表され
る置換チオフェン誘導体、これを有効成分として含有す
る農園芸用殺菌剤、これによる植物病害防除方法に関す
る。
【０００８】本発明の一般式（１）で表されるチオフェ
ン誘導体の置換基Ｒは、具体的には、イソプロピル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、１ーメチルブチル、
１−メチルヘキシル、１−エチルプロピル、１，２−ジ
メチルブチル、１，３−ジメチルブチル、１−エチル−
３−メチルブチル、１，２−ジメチルヘキシル、１，３
−ジメチルオクチル、３−メチルブチル、３ーメチルペ
ンチル、４−メチルオクチル、１、２、２、３ーテトラ
メチルブチル、１，３，３−トリメチルブチル、１，
２，３−トリメチルブチル、１，３−ジメチルペンチ
ル、１，３−ジメチルヘキシル、５−メチル−３−ヘキ
シル、２−メチル−４−ヘプチル、２，６−ジメチル−
４−ヘプチル、１−メチル−２−シクロプロピルエチ
ル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１〜１２の
直鎖アルキル基または分岐アルキル基；３−クロロ−１
−メチルブチル、２−クロロ−１−メチルブチル、１−
クロロブチル、３，３−ジクロロ−１−メチルブチル、
３−クロロ−１−メチルブチル、１−メチル−３−トリ
フルオロメチルブチル、３−メチル−１−トリフルオロ
メチルブチル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐の
ハロゲノアルキル基；プロペニル、１−メチル−１−プ
ロペニル、１−エチル−１−ブテニル、２，４−ジメチ
ル−１−ペンテニル、２，４−ジメチル−２−ペンテニ
ル基等の炭素数２〜１０の直鎖または分岐のアルケニル
基；２−クロロ−１−メチル−１−ブテニル等の炭素数
２〜１０の直鎖または分岐のハロゲノアルケニル基；シ
クロプロピル、シクロヘキシル、２−エチルシクロヘキ
シル、２−イソプロピルシクロヘキシル基等の炭素数３
〜１０のシクロアルキル基；１−メチルチオメチル、１
−メチルチオエチル、１−エチルチオエチル、１−メチ
ルチオプロピル、１−イソプロピルチオエチル基等の炭
素数２〜１０のアルキルチオアルキル基；１−イソプロ
ピルオキシエチル基等の炭素数２〜１０のアルキルオキ
シアルキル基；２−クロロシクロヘキシル、３−クロロ
シクロヘキシル基等の炭素数３〜１０のハロゲノ置換シ
クロアルキル基；または１〜３個の置換基により置換さ
れていてもよいフェニル基であり、フェニル基の置換基
として具体的には、水素原子；メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；ビニル
基、イソプロペニル基、１−メチルプロペニル基等の炭
素数２〜４のアルケニル基；エチニル基、１−プロピニ
ル基等の炭素数２〜４のアルキニル基；シクロプロピル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３
〜６のシクロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオ
ロメトキシ基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエ
トキシ基等の炭素数１〜４のハロゲノアルコキシ基；メ
チルチオ基、エチルチオ基等の炭素数１〜４のアルキル
チオ基；メチルスルホキシ基、ブチルスルホキシ基等の
炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基；メチルスルホニ
ル基、イソプロピルスルホニル基等の炭素数１〜４のア
ルキルスルホニル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；シアノ基；アセチル
基、プロピオニル基等の炭素数２〜４のアシル基；メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数２
〜４のアルコキシカルボニル基；アミノ基；または、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基
等の炭素数１〜３のアルキル基で置換された置換アミノ
基等が挙げられる。特にＲが炭素数３〜１２の分岐アル
キル基が好ましい。
ン誘導体の置換基Ｒは、具体的には、イソプロピル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、１ーメチルブチル、
１−メチルヘキシル、１−エチルプロピル、１，２−ジ
メチルブチル、１，３−ジメチルブチル、１−エチル−
３−メチルブチル、１，２−ジメチルヘキシル、１，３
−ジメチルオクチル、３−メチルブチル、３ーメチルペ
ンチル、４−メチルオクチル、１、２、２、３ーテトラ
メチルブチル、１，３，３−トリメチルブチル、１，
２，３−トリメチルブチル、１，３−ジメチルペンチ
ル、１，３−ジメチルヘキシル、５−メチル−３−ヘキ
シル、２−メチル−４−ヘプチル、２，６−ジメチル−
４−ヘプチル、１−メチル−２−シクロプロピルエチ
ル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１〜１２の
直鎖アルキル基または分岐アルキル基；３−クロロ−１
−メチルブチル、２−クロロ−１−メチルブチル、１−
クロロブチル、３，３−ジクロロ−１−メチルブチル、
３−クロロ−１−メチルブチル、１−メチル−３−トリ
フルオロメチルブチル、３−メチル−１−トリフルオロ
メチルブチル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐の
ハロゲノアルキル基；プロペニル、１−メチル−１−プ
ロペニル、１−エチル−１−ブテニル、２，４−ジメチ
ル−１−ペンテニル、２，４−ジメチル−２−ペンテニ
ル基等の炭素数２〜１０の直鎖または分岐のアルケニル
基；２−クロロ−１−メチル−１−ブテニル等の炭素数
２〜１０の直鎖または分岐のハロゲノアルケニル基；シ
クロプロピル、シクロヘキシル、２−エチルシクロヘキ
シル、２−イソプロピルシクロヘキシル基等の炭素数３
〜１０のシクロアルキル基；１−メチルチオメチル、１
−メチルチオエチル、１−エチルチオエチル、１−メチ
ルチオプロピル、１−イソプロピルチオエチル基等の炭
素数２〜１０のアルキルチオアルキル基；１−イソプロ
ピルオキシエチル基等の炭素数２〜１０のアルキルオキ
シアルキル基；２−クロロシクロヘキシル、３−クロロ
シクロヘキシル基等の炭素数３〜１０のハロゲノ置換シ
クロアルキル基；または１〜３個の置換基により置換さ
れていてもよいフェニル基であり、フェニル基の置換基
として具体的には、水素原子；メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；ビニル
基、イソプロペニル基、１−メチルプロペニル基等の炭
素数２〜４のアルケニル基；エチニル基、１−プロピニ
ル基等の炭素数２〜４のアルキニル基；シクロプロピル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３
〜６のシクロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオ
ロメトキシ基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエ
トキシ基等の炭素数１〜４のハロゲノアルコキシ基；メ
チルチオ基、エチルチオ基等の炭素数１〜４のアルキル
チオ基；メチルスルホキシ基、ブチルスルホキシ基等の
炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基；メチルスルホニ
ル基、イソプロピルスルホニル基等の炭素数１〜４のア
ルキルスルホニル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；シアノ基；アセチル
基、プロピオニル基等の炭素数２〜４のアシル基；メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の炭素数２
〜４のアルコキシカルボニル基；アミノ基；または、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基
等の炭素数１〜３のアルキル基で置換された置換アミノ
基等が挙げられる。特にＲが炭素数３〜１２の分岐アル
キル基が好ましい。
【０００９】（Ａ２）として具体的には、３位にトリフ
ルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチ
ル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原
子が置換し、１位にメチル基が置換した４−ピラゾリル
基；例えば１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−
ピラゾリル、１−メチル−３−ジフルオロメチル−４−
ピラゾリル、１，３ージメチルー４ーピラゾリル基、１
−メチル−３−クロロ−４−ピラゾリル、１−メチル−
３−ブロモ−４−ピラゾリル、１−メチル−３−ヨード
−４−ピラゾリル基等があげられる。
ルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチ
ル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原
子が置換し、１位にメチル基が置換した４−ピラゾリル
基；例えば１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−
ピラゾリル、１−メチル−３−ジフルオロメチル−４−
ピラゾリル、１，３ージメチルー４ーピラゾリル基、１
−メチル−３−クロロ−４−ピラゾリル、１−メチル−
３−ブロモ−４−ピラゾリル、１−メチル−３−ヨード
−４−ピラゾリル基等があげられる。
【００１０】本発明の一般式（１）で表される置換チオ
フェン誘導体は新規な化合物であり、以下の反応式（化
９）に示した公知の方法と類似の方法により、一般式
（４）で表される置換アミノチオフェンと一般式（５）
で表されるカルボン酸ハライドとを溶融状態または溶媒
中で反応させることにより製造できる。
フェン誘導体は新規な化合物であり、以下の反応式（化
９）に示した公知の方法と類似の方法により、一般式
（４）で表される置換アミノチオフェンと一般式（５）
で表されるカルボン酸ハライドとを溶融状態または溶媒
中で反応させることにより製造できる。
【００１１】
【化９】 （式中、Ｑ、ＲおよびＡｒは前記の意味を表し、Ｘは塩
素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。） 本反応に使用される溶媒としては反応に不活性なもので
あればよく、例えば、ヘキサン、石油エーテル等の脂肪
族炭化水素；ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ア
ニソール等の芳香族類；ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル等のエーテル類；アセトニトリ
ル、プロピオニトリルのようなニトリル類；酢酸エチル
等のエステル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，
２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性
溶媒等があげられ、これらの混合溶媒も使用される。
素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。） 本反応に使用される溶媒としては反応に不活性なもので
あればよく、例えば、ヘキサン、石油エーテル等の脂肪
族炭化水素；ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ア
ニソール等の芳香族類；ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル等のエーテル類；アセトニトリ
ル、プロピオニトリルのようなニトリル類；酢酸エチル
等のエステル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，
２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性
溶媒等があげられ、これらの混合溶媒も使用される。
【００１２】本反応はまた塩基の存在下に行ってもよ
く、塩基として例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の水酸化物；酸化カルシウム、酸化マグネシ
ウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の酸化物；水
素化ナトリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属お
よびアルカリ土類金属の水素化物；リチウムアミド、ナ
トリウムアミド等のアルカリ金属のアミド；炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ム等の金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩；炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属および
アルカリ土類金属の炭酸水素塩；メチルリチウム、ブチ
ルリチウム、フェニルリチウム、メチルマグネシウムク
ロライド等のアルカリ金属アルキル；ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシ
ド、ジメトキシマグネシウム等のアルカリ金属およびア
ルカリ土類金属のアルコキシド；トリエチルアミン、ピ
リジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン等の種々
の有機塩基類があげられ、特に好ましくはトリエチルア
ミン、ピリジンである。これらの塩基の使用量は特に制
限されるものではないが、好ましくは一般式（５）で表
されるカルボン酸ハライド類に対して５モル％から２０
モル％過剰に使用される。
く、塩基として例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の水酸化物；酸化カルシウム、酸化マグネシ
ウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の酸化物；水
素化ナトリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属お
よびアルカリ土類金属の水素化物；リチウムアミド、ナ
トリウムアミド等のアルカリ金属のアミド；炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ム等の金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩；炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属および
アルカリ土類金属の炭酸水素塩；メチルリチウム、ブチ
ルリチウム、フェニルリチウム、メチルマグネシウムク
ロライド等のアルカリ金属アルキル；ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシ
ド、ジメトキシマグネシウム等のアルカリ金属およびア
ルカリ土類金属のアルコキシド；トリエチルアミン、ピ
リジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン等の種々
の有機塩基類があげられ、特に好ましくはトリエチルア
ミン、ピリジンである。これらの塩基の使用量は特に制
限されるものではないが、好ましくは一般式（５）で表
されるカルボン酸ハライド類に対して５モル％から２０
モル％過剰に使用される。
【００１３】上記反応において、一般式（４）で表され
る置換アミノチオフェン類と一般式（５）で表されるカ
ルボン酸ハライド類は一般的には等モル量使用される
が、収率改善のため一方を他方に対して１モル％から２
０モル％過剰に使用することもある。反応温度は通常−
２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜４０℃である。
反応時間は特に制限はないが、通常３０分〜５時間であ
る。
る置換アミノチオフェン類と一般式（５）で表されるカ
ルボン酸ハライド類は一般的には等モル量使用される
が、収率改善のため一方を他方に対して１モル％から２
０モル％過剰に使用することもある。反応温度は通常−
２０〜１５０℃であり、好ましくは０〜４０℃である。
反応時間は特に制限はないが、通常３０分〜５時間であ
る。
【００１４】次に本発明の中間体である一般式（４）で
表される化合物の合成法について述べる。 １）２−置換−３−アミノチオフェンの合成（置換基が
フェニル以外の場合） これらの化合物は例えば以下の反応式（化１０）に示し
たような方法で合成できるが、これらの方法に限定され
るものではない。
表される化合物の合成法について述べる。 １）２−置換−３−アミノチオフェンの合成（置換基が
フェニル以外の場合） これらの化合物は例えば以下の反応式（化１０）に示し
たような方法で合成できるが、これらの方法に限定され
るものではない。
【００１５】（Ａ法）：一般式（１１）で表される２−
置換−３−オキソテトラヒドロチオフェン（式中、Ｒ3
は直鎖アルキルまたは分岐アルキル基、ハロゲノアルキ
ル基、アルキルチオアルキル基、アルキルオキシアルキ
ル基、シクロアルキル基、ハロゲノ置換シクロアルキル
基を意味する）をエタノール中、水酸化バリウムの存在
下にヒドロキシルアミン塩酸塩でオキシム化したのち、
エチルエーテル中、塩化水素で処理することにより式
（１２）のアミンを得る方法（米国特許、４３１７９１
５号公報；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５２、２６１１
（１９８７））
置換−３−オキソテトラヒドロチオフェン（式中、Ｒ3
は直鎖アルキルまたは分岐アルキル基、ハロゲノアルキ
ル基、アルキルチオアルキル基、アルキルオキシアルキ
ル基、シクロアルキル基、ハロゲノ置換シクロアルキル
基を意味する）をエタノール中、水酸化バリウムの存在
下にヒドロキシルアミン塩酸塩でオキシム化したのち、
エチルエーテル中、塩化水素で処理することにより式
（１２）のアミンを得る方法（米国特許、４３１７９１
５号公報；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５２、２６１１
（１９８７））
【００１６】（Ｂ−１およびＢ−２法）：式（１３）で
表されるメルカプトアセトン類（式中、Ｒ4は直鎖アル
キルまたは分岐アルキル基、アルキルチオアルキル基、
シクロアルキル基を意味する）とα−クロロアクリロニ
トリルとの縮合（Ｂ−１法、Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，９，７３１（１９７９））、または３−アセチル
アミノチオフェンを無水塩化アルミニウムの存在下にア
シルクロリドでアシル化した後、加水分解（Ｂ−２法、
Ｂｕｌｌ．ｓｏｃ．ｃｈｉｍ．Ｆｒ．，１９７６，１５
１）して得られる式（１４）の２−アシル−３−アミノ
チオフェンをトリエチルアミン存在下、ジ−ｔ−ブチル
ジカーボネートを用いてｔ−ブチルオキシカルボニル基
で保護し、グリニャール試薬などのアルキル化剤（式
中、Ｒ5 はアルキル基を意味する）でアルキル化して式
（１５）の化合物とした後、トリフルオロ酢酸中、トリ
エチルシランで還元して式（１６）のアミンを得る方法
表されるメルカプトアセトン類（式中、Ｒ4は直鎖アル
キルまたは分岐アルキル基、アルキルチオアルキル基、
シクロアルキル基を意味する）とα−クロロアクリロニ
トリルとの縮合（Ｂ−１法、Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，９，７３１（１９７９））、または３−アセチル
アミノチオフェンを無水塩化アルミニウムの存在下にア
シルクロリドでアシル化した後、加水分解（Ｂ−２法、
Ｂｕｌｌ．ｓｏｃ．ｃｈｉｍ．Ｆｒ．，１９７６，１５
１）して得られる式（１４）の２−アシル−３−アミノ
チオフェンをトリエチルアミン存在下、ジ−ｔ−ブチル
ジカーボネートを用いてｔ−ブチルオキシカルボニル基
で保護し、グリニャール試薬などのアルキル化剤（式
中、Ｒ5 はアルキル基を意味する）でアルキル化して式
（１５）の化合物とした後、トリフルオロ酢酸中、トリ
エチルシランで還元して式（１６）のアミンを得る方法
【００１７】（Ｃ法）：３−アミノチオフェン−２−カ
ルボン酸エステルをトリエチルアミン存在下、ジ−ｔ−
ブチルジカーボネートを用いてｔ−ブチルオキシカルボ
ニル基で保護し、グリニャール試薬などのアルキル化剤
（式中、Ｒ5 は前記と同様の意味を示す）でアルキル化
して（１７）とした後、トリフルオロ酢酸中、トリエチ
ルシランで還元して式（１８）のアミンを得る方法
ルボン酸エステルをトリエチルアミン存在下、ジ−ｔ−
ブチルジカーボネートを用いてｔ−ブチルオキシカルボ
ニル基で保護し、グリニャール試薬などのアルキル化剤
（式中、Ｒ5 は前記と同様の意味を示す）でアルキル化
して（１７）とした後、トリフルオロ酢酸中、トリエチ
ルシランで還元して式（１８）のアミンを得る方法
【００１８】（Ｄ法）：式（２０）で表される化合物を
ＤＭＦ中、無水酢酸と硫酸水素カリウムで脱水して式
（２１）とした後、トリフルオロ酢酸でＢｏｃ基を脱離
することにより式（１９）のアミンを得る方法等により
合成できる。
ＤＭＦ中、無水酢酸と硫酸水素カリウムで脱水して式
（２１）とした後、トリフルオロ酢酸でＢｏｃ基を脱離
することにより式（１９）のアミンを得る方法等により
合成できる。
【００１９】
【化１０】
【００２０】このようにして得られる２−置換−３−ア
ミノチオフェンから（化９）に前記した方法により一般
式（１）で表される本発明の化合物を合成できる。ま
た、式（２２）で表される３−アシルアミノ−２−アル
ケニル置換チオフェン（式中、Ａｒは前記一般式（１）
と同様の意味を示す）を直接還元して式（２３）の３−
アシルアミノ−２−アルキルチオフェンを合成すること
も出来る。
ミノチオフェンから（化９）に前記した方法により一般
式（１）で表される本発明の化合物を合成できる。ま
た、式（２２）で表される３−アシルアミノ−２−アル
ケニル置換チオフェン（式中、Ａｒは前記一般式（１）
と同様の意味を示す）を直接還元して式（２３）の３−
アシルアミノ−２−アルキルチオフェンを合成すること
も出来る。
【００２１】２）４−アルキル−３−アミノチオフェン
の合成 （Ｅ法）：これらの化合物は以下の（化１１）に示した
ように、式（２４）の３−オキソテトラヒドロチオフェ
ン−４−カルボン酸エステル（米国特許、４３１７９１
５号公報およびＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５２、２６１
１（１９８７））を炭酸カリウム存在下にアルキルハラ
イドでアルキル化した後、加水分解・脱炭酸して得られ
る式（２５）の３−オキソテトラヒドロチオフェン（式
中、Ｒ6 はアルキル基を示す）をエタノール中、水酸化
バリウムの存在下にヒドロキシルアミン塩酸塩でオキシ
ム化したのち、エチルエーテル中、塩化水素で処理する
ことにより式（２６）の４−アルキル−３−アミノチオ
フェンを得ることが出来る。
の合成 （Ｅ法）：これらの化合物は以下の（化１１）に示した
ように、式（２４）の３−オキソテトラヒドロチオフェ
ン−４−カルボン酸エステル（米国特許、４３１７９１
５号公報およびＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５２、２６１
１（１９８７））を炭酸カリウム存在下にアルキルハラ
イドでアルキル化した後、加水分解・脱炭酸して得られ
る式（２５）の３−オキソテトラヒドロチオフェン（式
中、Ｒ6 はアルキル基を示す）をエタノール中、水酸化
バリウムの存在下にヒドロキシルアミン塩酸塩でオキシ
ム化したのち、エチルエーテル中、塩化水素で処理する
ことにより式（２６）の４−アルキル−３−アミノチオ
フェンを得ることが出来る。
【００２２】このようにして得られる４−アルキル−３
−アミノチオフェンから（化１３）に前記した方法によ
り一般式（１）で表される本発明の化合物を合成でき
る。
−アミノチオフェンから（化１３）に前記した方法によ
り一般式（１）で表される本発明の化合物を合成でき
る。
【００２３】
【化１１】 以下の第１表〜第７表（表１〜表７）に一般式（８）
（化１２）で示される２−置換−３−アミノチオフェン
誘導体の例を、第８表（表８）に一般式（９）（化１
３）で示される４−アルキル−３−アミノチオフェン誘
導体の例を例示した。
（化１２）で示される２−置換−３−アミノチオフェン
誘導体の例を、第８表（表８）に一般式（９）（化１
３）で示される４−アルキル−３−アミノチオフェン誘
導体の例を例示した。
【００２４】
【化１２】
【００２５】
【表１】 （(1S)は１位が(S)配置であることを意味し、特に記載のないものはラセ ミ体を意味する。）
【００２６】
【表２】
【００２７】
【表３】
【００２８】
【表４】
【００２９】
【表５】
【００３０】
【表６】
【００３１】
【表７】 （(1S)は１位が(S)配置であることを意味し、特に記載のないものはラセ ミ体を意味する。）
【００３２】
【化１３】
【００３３】
【表８】
【００３４】３）Ｒが置換されていてもよいフェニル基
の場合 一般式（１）の中間体である一般式（２）（化１４）
の場合 一般式（１）の中間体である一般式（２）（化１４）
【００３５】
【化１４】 （式中、Ｑは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｙｍは水素
原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアル
ケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６
のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭
素数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のア
ルキルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、
炭素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、
シアノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のア
ルコキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３
のアルキル基で置換されたアミノ基であり、ｍは１〜３
の整数であり、フェニル基とアミノ基は互いに隣り合っ
ている）、で表されるアミノチオフェン誘導体および一
般式（３）（化１５）
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｙｍは水素
原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアル
ケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６
のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭
素数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のア
ルキルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、
炭素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、
シアノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のア
ルコキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３
のアルキル基で置換されたアミノ基であり、ｍは１〜３
の整数であり、フェニル基とアミノ基は互いに隣り合っ
ている）、で表されるアミノチオフェン誘導体および一
般式（３）（化１５）
【００３６】
【化１５】 （式中、Ｑは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｙｍは水素
原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアル
ケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６
のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭
素数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のア
ルキルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、
炭素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、
シアノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のア
ルコキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３
のアルキル基で置換されたアミノ基であり、ｍは１〜３
の整数であり、フェニル基とニトロ基は互いに隣り合っ
ている）で表されるニトロチオフェン誘導体はいずれも
新規な化合物であり、例えば下記反応式（化１６）に示
した方法により製造することができる。
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｙｍは水素
原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアル
ケニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６
のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭
素数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のア
ルキルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、
炭素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、
シアノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のア
ルコキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３
のアルキル基で置換されたアミノ基であり、ｍは１〜３
の整数であり、フェニル基とニトロ基は互いに隣り合っ
ている）で表されるニトロチオフェン誘導体はいずれも
新規な化合物であり、例えば下記反応式（化１６）に示
した方法により製造することができる。
【００３７】
【化１６】 （式中、Ｑは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホニル基、シアノ
基、アセチル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基ま
たはアミノ基を示し、Ｚは塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示し、Ｙmは水素原子、炭素数１〜４のアル
キル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４の
アルキニル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素
数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のハロゲノアル
コキシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、炭素数１〜
４のアルキルスルホキシ基、炭素数１〜４のアルキルス
ルホニル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数２〜４の
アシル基、炭素数２〜４のアルコキシカルボニル基、ア
ミノ基または炭素数１〜３のアルキル基で置換されたア
ミノ基を意味し、ｍは１〜３の整数であり、式（３）に
おけるフェニル基とアミノ基または式（２）におけるフ
ェニル基とニトロ基は互いに隣り合っていることを示
す。） 即ち、一般式（３）で表されるニトロチオフェン誘導体
は、例えば鈴木らによる方法（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，１１，５１３（１９８１）；Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，６１，３００８（１９８８）；
Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９８９，１４０５；Ｄ．Ｐｅ
ｔｅｒｓら、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，
２８、１６１３（１９９１））と類似の方法により、
（６）で表されるハロゲノニトロチオフェンをＰｄ触媒
および塩基の存在下、（７）で表されるフェニルホウ酸
誘導体と反応させることにより製造できるが、この方法
に限定されるものではない。
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホニル基、シアノ
基、アセチル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基ま
たはアミノ基を示し、Ｚは塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示し、Ｙmは水素原子、炭素数１〜４のアル
キル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４の
アルキニル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素
数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のハロゲノアル
コキシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、炭素数１〜
４のアルキルスルホキシ基、炭素数１〜４のアルキルス
ルホニル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数２〜４の
アシル基、炭素数２〜４のアルコキシカルボニル基、ア
ミノ基または炭素数１〜３のアルキル基で置換されたア
ミノ基を意味し、ｍは１〜３の整数であり、式（３）に
おけるフェニル基とアミノ基または式（２）におけるフ
ェニル基とニトロ基は互いに隣り合っていることを示
す。） 即ち、一般式（３）で表されるニトロチオフェン誘導体
は、例えば鈴木らによる方法（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，１１，５１３（１９８１）；Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，６１，３００８（１９８８）；
Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９８９，１４０５；Ｄ．Ｐｅ
ｔｅｒｓら、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，
２８、１６１３（１９９１））と類似の方法により、
（６）で表されるハロゲノニトロチオフェンをＰｄ触媒
および塩基の存在下、（７）で表されるフェニルホウ酸
誘導体と反応させることにより製造できるが、この方法
に限定されるものではない。
【００３８】本反応に使用される溶媒としては反応に不
活性なものであればよく、例えば、ヘキサン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、アニソール等の芳香族類；ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類；アセトニ
トリル、プロピオニトリルのようなニトリル類；酢酸エ
チル等のエステル類；ジクロロメタン、クロロホルム、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロト
ン性溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール類、
水等があげられ、これらの混合溶媒も使用される。
活性なものであればよく、例えば、ヘキサン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、アニソール等の芳香族類；ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類；アセトニ
トリル、プロピオニトリルのようなニトリル類；酢酸エ
チル等のエステル類；ジクロロメタン、クロロホルム、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロト
ン性溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール類、
水等があげられ、これらの混合溶媒も使用される。
【００３９】使用される塩基として例えば、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物；酸化カルシ
ウム、酸化マグネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土
類金属の酸化物；水素化ナトリウム、水素化カルシウム
等のアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水素化物；
リチウムアミド、ナトリウムアミド等のアルカリ金属の
アミド；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム等の金属およびアルカリ土類金属
の炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の
アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸水素塩；メ
チルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム、メ
チルマグネシウムクロライド等のアルカリ金属アルキ
ル；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム−ｔ−ブトキシド、ジメトキシマグネシウム等の
アルカリ金属およびアルカリ土類金属のアルコキシド；
トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ−メチルピペリジン、ルチジン、４−ジメチルア
ミノピリジン等の種々の有機塩基類があげられ、特に好
ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウムである。これら
の塩基の使用量は特に制限されるものではないが、好ま
しくは一般式（６）で表されるハロゲノニトロチオフェ
ンに対して１．０５から１０倍モル、好ましくは１．５
から３倍モル過剰に使用される。
リウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物；酸化カルシ
ウム、酸化マグネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土
類金属の酸化物；水素化ナトリウム、水素化カルシウム
等のアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水素化物；
リチウムアミド、ナトリウムアミド等のアルカリ金属の
アミド；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム等の金属およびアルカリ土類金属
の炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の
アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸水素塩；メ
チルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム、メ
チルマグネシウムクロライド等のアルカリ金属アルキ
ル；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム−ｔ−ブトキシド、ジメトキシマグネシウム等の
アルカリ金属およびアルカリ土類金属のアルコキシド；
トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ−メチルピペリジン、ルチジン、４−ジメチルア
ミノピリジン等の種々の有機塩基類があげられ、特に好
ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウムである。これら
の塩基の使用量は特に制限されるものではないが、好ま
しくは一般式（６）で表されるハロゲノニトロチオフェ
ンに対して１．０５から１０倍モル、好ましくは１．５
から３倍モル過剰に使用される。
【００４０】Ｐｄ触媒として例えば、Ｐｄ（ＰＰ
ｈ3）4，ＰｄＣｌ2，Ｐｄ（ＯＡｃ）2等が使用される。
ｈ3）4，ＰｄＣｌ2，Ｐｄ（ＯＡｃ）2等が使用される。
【００４１】上記一般式（６）で表されるハロゲノニト
ロチオフェン類と一般式（７）で表されるフェニルホウ
酸誘導体は一般的には等モル量使用されるが、収率改善
のため一方を他方に対して１モル％から１００モル％過
剰に使用することもある。反応温度は通常、室温から１
５０℃であり、好ましくは８０〜１１０℃である。反応
時間は特に制限はないが、通常３０分〜７時間である。
ロチオフェン類と一般式（７）で表されるフェニルホウ
酸誘導体は一般的には等モル量使用されるが、収率改善
のため一方を他方に対して１モル％から１００モル％過
剰に使用することもある。反応温度は通常、室温から１
５０℃であり、好ましくは８０〜１１０℃である。反応
時間は特に制限はないが、通常３０分〜７時間である。
【００４２】一方、一般式（２）で表されるアミノチオ
フェン誘導体は（３）を例えばメタノール、エタノール
等のアルコール中、Ｐｄ／炭素の存在下で接触還元する
か、または酢酸等の溶媒中、Ｆｅ粉で還元することによ
り合成出来るが、それ以外に例えば［新実験化学講座、
１５、酸化と還元ＩＩ（日本化学会編、丸善、１９７
６）］に示されたような一般的な方法で還元することに
よっても合成できる。
フェン誘導体は（３）を例えばメタノール、エタノール
等のアルコール中、Ｐｄ／炭素の存在下で接触還元する
か、または酢酸等の溶媒中、Ｆｅ粉で還元することによ
り合成出来るが、それ以外に例えば［新実験化学講座、
１５、酸化と還元ＩＩ（日本化学会編、丸善、１９７
６）］に示されたような一般的な方法で還元することに
よっても合成できる。
【００４３】以下の第９表〜第１１表（表９〜表１１）
に一般式（３）（化１７）の新規なニトロチオフェン誘
導体の例を、第１２表〜第１９表（表１２〜表１９）に
一般式（２）（化１８）の新規なアミノチオフェン誘導
体の例を示した。後者の場合に於いて、アミノ基の置換
位置が２−位の化合物は一般的に不安定なため、還元後
の反応溶液を直接にアミド化した。尚、第９表〜第１９
表において、一般式（３）（化１７）、一般式（２）
（化１８）のＱは水素原子を表す。
に一般式（３）（化１７）の新規なニトロチオフェン誘
導体の例を、第１２表〜第１９表（表１２〜表１９）に
一般式（２）（化１８）の新規なアミノチオフェン誘導
体の例を示した。後者の場合に於いて、アミノ基の置換
位置が２−位の化合物は一般的に不安定なため、還元後
の反応溶液を直接にアミド化した。尚、第９表〜第１９
表において、一般式（３）（化１７）、一般式（２）
（化１８）のＱは水素原子を表す。
【００４４】
【化１７】
【００４５】
【表９】
【００４６】
【表１０】
【００４７】
【表１１】
【００４８】
【化１８】
【００４９】
【表１２】 ＊不安定なため、接触還元後に単離せず、そのままアミド化を行った。
【００５０】
【表１３】
【００５１】
【表１４】
【００５２】
【表１５】
【００５３】
【表１６】
【００５４】
【表１７】
【００５５】
【表１８】
【００５６】
【表１９】
【００５７】本発明の一般式（１）で表される化合物を
有効成分として含有する農園芸用殺菌剤は、イネのいも
ち病(Pyricularia oryzae)、ごま葉枯病(Cochliobolus
miyabeanus)、紋枯病(Rhizoctonia solani)、馬鹿苗病
(Gibberella fujikuroi)、ムギ類のうどんこ病(Erysiph
e graminis f.sp.hordei; f.sp.tritici)、斑葉病(Pyre
nophora graminea)、網斑病(Pyrenophora teres)、赤か
び病(Gibberella zeae)、さび病(Puccinia striiformi
s; P. graminis; P.recondita; P.hordei、雪腐病(Typh
ula sp.; Micronectriella nivalis)、裸黒穂病(Ustila
go tritici; U.nuda)、眼紋病(Pseudocercosporella he
rpotrichoides)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉
枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Leptosphaeria nodor
um)、ブドウのうどんこ病(Uncinula necator)、黒とう
病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Glomerella cingulat
a)、さび病(Phakopsora ampelopsidis)、リンゴのうど
んこ病(Podosphaera leucotricha)、黒星病(Venturia i
naequalis)、斑点落葉病(Alternaria mali)、赤星病(Gy
mnosporangium yamadae)、モニリア病(Sclerotinia mal
i)、腐らん病(Valsa mali)、ナシの黒斑病(Alternaria
kikuchiana)、黒星病(Venturia nashicola)、赤星病(Gy
mnosporangium haraeanum)、モモの灰星病(Sclerotinia
cinerea)、黒星病(Cladosporium carpophilum)、フォ
モプシス腐敗病(Phomopsis sp.)、カキの炭そ病(Gloeos
porium kaki)、落葉病(Cercospora kaki; Mycosphaerel
la nawae)、ウリ類のうどんこ病(Sphaerotheca fuligin
ea)、炭そ病(Colletotrichum lagenarium)、つる枯病(M
ycosphaerella melonis)、トマトの輪紋病(Alternaria
solani)、葉かび病(Cladosporium fulvam)、ナスのうど
んこ病(Erysiphe cichoracoarum)、アブラナ科野菜の黒
斑病(Alternaria japonica)、白斑病(Cerocosporella b
arassicae)、ネギのさび病(Puccinia allii)、ダイズの
紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glyc
ines)、黒点病(Diaporthe phaseololum)、インゲンの炭
そ病(Colletotrichum lindemuthianum)、ラッカセイの
黒渋病(Mycosphaerella personatum)、褐斑病(Cercospo
ra arachidicola)、エンドウのうどんこ病(Erysiphe pi
si)、ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、チャの
網もち病(Exobasidium reticulatum)、白星病(Elsinoe
leucospila)、タバコの赤星病(Alternaria longipes)、
うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭そ病(Colleto
trichum tabacum)、テンサイの褐斑病(Cercospora beti
cola)、バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病
(Sphaerotheca pannosa)、キクの褐斑病(Septoria chry
santhemi-indici)、白さび病(Puccinia horiana)、イチ
ゴうどんこ病(Sphaerotheca humuli)、キュウリ、トマ
ト、イチゴ、ブドウ等の灰色かび病(Botrytis cinere
a)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)等に対し優れた
防除効果を示す。
有効成分として含有する農園芸用殺菌剤は、イネのいも
ち病(Pyricularia oryzae)、ごま葉枯病(Cochliobolus
miyabeanus)、紋枯病(Rhizoctonia solani)、馬鹿苗病
(Gibberella fujikuroi)、ムギ類のうどんこ病(Erysiph
e graminis f.sp.hordei; f.sp.tritici)、斑葉病(Pyre
nophora graminea)、網斑病(Pyrenophora teres)、赤か
び病(Gibberella zeae)、さび病(Puccinia striiformi
s; P. graminis; P.recondita; P.hordei、雪腐病(Typh
ula sp.; Micronectriella nivalis)、裸黒穂病(Ustila
go tritici; U.nuda)、眼紋病(Pseudocercosporella he
rpotrichoides)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉
枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Leptosphaeria nodor
um)、ブドウのうどんこ病(Uncinula necator)、黒とう
病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Glomerella cingulat
a)、さび病(Phakopsora ampelopsidis)、リンゴのうど
んこ病(Podosphaera leucotricha)、黒星病(Venturia i
naequalis)、斑点落葉病(Alternaria mali)、赤星病(Gy
mnosporangium yamadae)、モニリア病(Sclerotinia mal
i)、腐らん病(Valsa mali)、ナシの黒斑病(Alternaria
kikuchiana)、黒星病(Venturia nashicola)、赤星病(Gy
mnosporangium haraeanum)、モモの灰星病(Sclerotinia
cinerea)、黒星病(Cladosporium carpophilum)、フォ
モプシス腐敗病(Phomopsis sp.)、カキの炭そ病(Gloeos
porium kaki)、落葉病(Cercospora kaki; Mycosphaerel
la nawae)、ウリ類のうどんこ病(Sphaerotheca fuligin
ea)、炭そ病(Colletotrichum lagenarium)、つる枯病(M
ycosphaerella melonis)、トマトの輪紋病(Alternaria
solani)、葉かび病(Cladosporium fulvam)、ナスのうど
んこ病(Erysiphe cichoracoarum)、アブラナ科野菜の黒
斑病(Alternaria japonica)、白斑病(Cerocosporella b
arassicae)、ネギのさび病(Puccinia allii)、ダイズの
紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glyc
ines)、黒点病(Diaporthe phaseololum)、インゲンの炭
そ病(Colletotrichum lindemuthianum)、ラッカセイの
黒渋病(Mycosphaerella personatum)、褐斑病(Cercospo
ra arachidicola)、エンドウのうどんこ病(Erysiphe pi
si)、ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、チャの
網もち病(Exobasidium reticulatum)、白星病(Elsinoe
leucospila)、タバコの赤星病(Alternaria longipes)、
うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭そ病(Colleto
trichum tabacum)、テンサイの褐斑病(Cercospora beti
cola)、バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病
(Sphaerotheca pannosa)、キクの褐斑病(Septoria chry
santhemi-indici)、白さび病(Puccinia horiana)、イチ
ゴうどんこ病(Sphaerotheca humuli)、キュウリ、トマ
ト、イチゴ、ブドウ等の灰色かび病(Botrytis cinere
a)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)等に対し優れた
防除効果を示す。
【００５８】本発明の一般式（１）で表される化合物を
農園芸用殺菌剤として使用する場合は、処理する植物に
対して原体をそのまま使用してもよいが、一般には不活
性な液体担体または固体担体と混合し、通常用いられる
製剤形態である粉剤、水和剤、フロワブル剤、乳剤、粒
剤およびその他の一般に慣用される形態の製剤として使
用される。更に製剤上必要ならば補助剤を添加すること
もできる。
農園芸用殺菌剤として使用する場合は、処理する植物に
対して原体をそのまま使用してもよいが、一般には不活
性な液体担体または固体担体と混合し、通常用いられる
製剤形態である粉剤、水和剤、フロワブル剤、乳剤、粒
剤およびその他の一般に慣用される形態の製剤として使
用される。更に製剤上必要ならば補助剤を添加すること
もできる。
【００５９】ここでいう担体とは、処理すべき部位への
有効成分の到達を助け、また有効成分化合物の貯蔵、輸
送、取扱いを容易にするために配合される合成または天
然の無機または有機物質を意味する。担体としては、通
常農園芸用薬剤に使用されるものであるならば固体また
は液体のいずれでも使用でき、特定のものに限定される
ものではない。
有効成分の到達を助け、また有効成分化合物の貯蔵、輸
送、取扱いを容易にするために配合される合成または天
然の無機または有機物質を意味する。担体としては、通
常農園芸用薬剤に使用されるものであるならば固体また
は液体のいずれでも使用でき、特定のものに限定される
ものではない。
【００６０】例えば、固体担体としては、モンモリロナ
イト、カオリナイト等の粘土類；珪藻土、白土、タル
ク、バ−ミュキュライト、石膏、炭酸カルシウム、シリ
カゲル、硫安等の無機物質；大豆粉、鋸屑、小麦粉等の
植物性有機物質および尿素等があげられる。
イト、カオリナイト等の粘土類；珪藻土、白土、タル
ク、バ−ミュキュライト、石膏、炭酸カルシウム、シリ
カゲル、硫安等の無機物質；大豆粉、鋸屑、小麦粉等の
植物性有機物質および尿素等があげられる。
【００６１】液体担体としては、トルエン、キシレン、
クメン等の芳香族炭化水素類；ケロシン、鉱油などのパ
ラフィン系炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン
などのケトン類；ジオキサン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルなどのエーテル類；メタノール、エタノ
ール、プロパノール、エチレングリコールなどのアルコ
ール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性溶媒および水等があげられる。
クメン等の芳香族炭化水素類；ケロシン、鉱油などのパ
ラフィン系炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン
などのケトン類；ジオキサン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルなどのエーテル類；メタノール、エタノ
ール、プロパノール、エチレングリコールなどのアルコ
ール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性溶媒および水等があげられる。
【００６２】更に本発明化合物の効力を増強するため
に、製剤の剤型、適用場面等を考慮して目的に応じてそ
れぞれ単独に、または組み合わせて次の様な補助剤を使
用することもできる。補助剤としては、通常農園芸用薬
剤に使用される界面活性剤、結合剤（例えば、リグニン
スルホン酸、アルギン酸、ポリビニルアルコール、アラ
ビアゴム、ＣＭＣナトリウム等）、安定剤（例えば、酸
化防止用にフェノール系化合物、チオール系化合物また
は高級脂肪酸エステル等を用いたり、ｐＨ調整剤として
燐酸塩を用いたり、時に光安定剤も用いる）等を必要に
応じて単独または組み合わせて使用できる。更に場合に
よっては防菌防黴のために工業用殺菌剤、防菌防黴剤な
どを添加することもできる。
に、製剤の剤型、適用場面等を考慮して目的に応じてそ
れぞれ単独に、または組み合わせて次の様な補助剤を使
用することもできる。補助剤としては、通常農園芸用薬
剤に使用される界面活性剤、結合剤（例えば、リグニン
スルホン酸、アルギン酸、ポリビニルアルコール、アラ
ビアゴム、ＣＭＣナトリウム等）、安定剤（例えば、酸
化防止用にフェノール系化合物、チオール系化合物また
は高級脂肪酸エステル等を用いたり、ｐＨ調整剤として
燐酸塩を用いたり、時に光安定剤も用いる）等を必要に
応じて単独または組み合わせて使用できる。更に場合に
よっては防菌防黴のために工業用殺菌剤、防菌防黴剤な
どを添加することもできる。
【００６３】補助剤について更に詳しく述べる。乳化、
分散、拡展、湿潤、結合、安定化等の目的ではリグニン
スルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキ
ル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸
塩、ポリオキシアルキレンアルキルリン酸エステル塩等
のアニオン性界面活性剤；ポリオキシアルキレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエ
ーテル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ポリオ
キシアルキレンアルキルアミド、ポリオキシアルキレン
アルキルアミド、ポリオキシアルキレンアルキルチオエ
ーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、グリセ
リン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリ
オキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シプロピレンポリオキシエチレンブロックポリマー等の
非イオン性界面活性剤；ステアリン酸カルシウム、ワッ
クス等の滑剤；イソプロピルヒドロジエンホスフェート
等の安定剤、その他メチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、カゼイン、アラビアゴム等があげられ
る。しかし、これらの成分は以上のものに限定されるも
のではない。
分散、拡展、湿潤、結合、安定化等の目的ではリグニン
スルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキ
ル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸
塩、ポリオキシアルキレンアルキルリン酸エステル塩等
のアニオン性界面活性剤；ポリオキシアルキレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエ
ーテル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ポリオ
キシアルキレンアルキルアミド、ポリオキシアルキレン
アルキルアミド、ポリオキシアルキレンアルキルチオエ
ーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、グリセ
リン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリ
オキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シプロピレンポリオキシエチレンブロックポリマー等の
非イオン性界面活性剤；ステアリン酸カルシウム、ワッ
クス等の滑剤；イソプロピルヒドロジエンホスフェート
等の安定剤、その他メチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、カゼイン、アラビアゴム等があげられ
る。しかし、これらの成分は以上のものに限定されるも
のではない。
【００６４】本発明に係わる農園芸用殺菌剤における一
般式（１）で表される化合物の含有量は、製剤形態によ
っても異なるが、通常粉剤では０．０５〜２０重量％、
水和剤では０．１〜８０重量％、粒剤では０．１〜２０
重量％、乳剤では１〜５０重量％、フロワブル製剤では
１〜５０重量％、ドライフロワブル製剤では１〜８０重
量％であり、好ましくは、粉剤では０．５〜５重量％、
水和剤では５〜８０重量％、粒剤では０．５〜８重量
％、乳剤では５〜２０重量％、フロワブル製剤では５〜
５０重量％およびドライフロワブル製剤では５〜５０重
量％である。補助剤の含有量は０〜８０重量％であり、
担体の含有量は１００重量％から有効成分化合物および
補助剤の含有量を差し引いた量である。
般式（１）で表される化合物の含有量は、製剤形態によ
っても異なるが、通常粉剤では０．０５〜２０重量％、
水和剤では０．１〜８０重量％、粒剤では０．１〜２０
重量％、乳剤では１〜５０重量％、フロワブル製剤では
１〜５０重量％、ドライフロワブル製剤では１〜８０重
量％であり、好ましくは、粉剤では０．５〜５重量％、
水和剤では５〜８０重量％、粒剤では０．５〜８重量
％、乳剤では５〜２０重量％、フロワブル製剤では５〜
５０重量％およびドライフロワブル製剤では５〜５０重
量％である。補助剤の含有量は０〜８０重量％であり、
担体の含有量は１００重量％から有効成分化合物および
補助剤の含有量を差し引いた量である。
【００６５】本発明組成物の施用方法としては種子消
毒、茎葉散布等があげられるが、通常当業者が利用する
どの様な施用方法にても十分な効力を発揮する。施用量
および施用濃度は対象作物、対象病害、病害の発生程
度、化合物の剤型、施用方法および各種環境条件等によ
って変動するが、散布する場合には有効成分量としてヘ
クタール当たり５０〜１，０００ｇが適当であり、望ま
しくはヘクタール当り１００〜５００ｇである。また水
和剤、フロワブル剤または乳剤を水で希釈して散布する
場合、その希釈倍率は２００〜２０，０００倍が適当で
あり、望ましくは１，０００〜５，０００倍である。
毒、茎葉散布等があげられるが、通常当業者が利用する
どの様な施用方法にても十分な効力を発揮する。施用量
および施用濃度は対象作物、対象病害、病害の発生程
度、化合物の剤型、施用方法および各種環境条件等によ
って変動するが、散布する場合には有効成分量としてヘ
クタール当たり５０〜１，０００ｇが適当であり、望ま
しくはヘクタール当り１００〜５００ｇである。また水
和剤、フロワブル剤または乳剤を水で希釈して散布する
場合、その希釈倍率は２００〜２０，０００倍が適当で
あり、望ましくは１，０００〜５，０００倍である。
【００６６】本発明の農園芸用殺菌剤は他の殺菌剤、殺
虫剤、除草剤および植物成長調節剤等の農薬、土壌改良
剤または肥効物質との混合使用は勿論のこと、これらと
の混合製剤も可能である。殺菌剤としては例えば、トリ
アジメホン、ヘキサコナゾール、プロクロラズ、トリフ
ルミゾール等のアゾール系殺菌剤；メタラキシル、オキ
サディキシル等のアシルアラニン系殺菌剤；チオファネ
ートメチル、ベノミル等のベンズイミダゾール系殺菌
剤；マンゼブ等のジチオカーバメート系殺菌剤およびテ
トラクロロイソフタロニトリル、硫黄等があげられ、殺
虫剤としては例えば、フェニトロチオン、ダイアジノ
ン、ピリダフェンチオン、クロルピリホス、マラソン、
フェントエート、ジメトエート、メチルチオメトン、プ
ロチオホス、ＤＤＶＰ、アセフェート、サリチオン、Ｅ
ＰＮ等のリン系殺虫剤；ＮＡＣ、ＭＴＭＣ、ＢＰＭＣ、
ピリミカーブ、カルボスルファン、メソミル等のカーバ
メート系殺虫剤およびエトフェンプロックス、ペルメト
リン、フェンバレレート等のピレスロイド系殺虫剤等が
あげられるが、これに限定されるものではない。
虫剤、除草剤および植物成長調節剤等の農薬、土壌改良
剤または肥効物質との混合使用は勿論のこと、これらと
の混合製剤も可能である。殺菌剤としては例えば、トリ
アジメホン、ヘキサコナゾール、プロクロラズ、トリフ
ルミゾール等のアゾール系殺菌剤；メタラキシル、オキ
サディキシル等のアシルアラニン系殺菌剤；チオファネ
ートメチル、ベノミル等のベンズイミダゾール系殺菌
剤；マンゼブ等のジチオカーバメート系殺菌剤およびテ
トラクロロイソフタロニトリル、硫黄等があげられ、殺
虫剤としては例えば、フェニトロチオン、ダイアジノ
ン、ピリダフェンチオン、クロルピリホス、マラソン、
フェントエート、ジメトエート、メチルチオメトン、プ
ロチオホス、ＤＤＶＰ、アセフェート、サリチオン、Ｅ
ＰＮ等のリン系殺虫剤；ＮＡＣ、ＭＴＭＣ、ＢＰＭＣ、
ピリミカーブ、カルボスルファン、メソミル等のカーバ
メート系殺虫剤およびエトフェンプロックス、ペルメト
リン、フェンバレレート等のピレスロイド系殺虫剤等が
あげられるが、これに限定されるものではない。
【００６７】
【実施例】次に実施例をあげて本発明の化合物を更に具
体的に説明する。 実施例１ Ｎ−［２−｛３−（４−トリル）｝チエニ
ル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール
−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．３．９） １）２−ニトロ−３−（４−トリル）チオフェン ３−ブロモ−２−ニトロチオフェン（０．８ｇ）、４−
トリルホウ酸（０．５２ｇ）、２Ｍ−炭酸カリウム水溶
液（５ｍｌ）、エタノール（２．５ｍｌ）をトルエン
（３０ｍｌ）と混合し、窒素気流下に室温で３０分攪拌
後、Ｐｄ（ＰＰｈ 3）4（０．１５ｇ）を加え、７時間加
熱還流した。二層分離後、水洗、有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去、残査をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物（０．５
６ｇ）を黄色結晶として得た（収率：７０％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):2.42(s,3H),7.01(d,J=5.1,1H),7.2
5(d,J=8.1,2H),7.37(d,J=8.1,2H),7.47(d,J=5.1,1H) ２）２−アミノ− ３−（４−トリル）チオフェン ２−ニトロ−３−（４−トリル）チオフェン（０．５
ｇ）をジオキサン（２０ｍｌ）に溶解し、５％Ｐｄ／Ｃ
（０．２５ｇ）を加え、室温で５時間接触還元を行っ
た。この溶液を濾過後、そのまま次の反応に用いた。 ３）Ｎ−［２−｛３−（４−トリル）｝チエニル］−３
−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カ
ルボン酸アミド 上記２）で得られた反応液を濾過後、ピリジン（０．７
３ｇ）、３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ルカルボン酸クロライド（０．４５ｇ）を加え、室温で
１時間攪拌した。酢酸エチルで抽出、飽和炭酸水素ナト
リウム溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物（０．４ｇ）を得た（収率：
４７％：ニトロ体から）。
体的に説明する。 実施例１ Ｎ−［２−｛３−（４−トリル）｝チエニ
ル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール
−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．３．９） １）２−ニトロ−３−（４−トリル）チオフェン ３−ブロモ−２−ニトロチオフェン（０．８ｇ）、４−
トリルホウ酸（０．５２ｇ）、２Ｍ−炭酸カリウム水溶
液（５ｍｌ）、エタノール（２．５ｍｌ）をトルエン
（３０ｍｌ）と混合し、窒素気流下に室温で３０分攪拌
後、Ｐｄ（ＰＰｈ 3）4（０．１５ｇ）を加え、７時間加
熱還流した。二層分離後、水洗、有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去、残査をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的物（０．５
６ｇ）を黄色結晶として得た（収率：７０％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):2.42(s,3H),7.01(d,J=5.1,1H),7.2
5(d,J=8.1,2H),7.37(d,J=8.1,2H),7.47(d,J=5.1,1H) ２）２−アミノ− ３−（４−トリル）チオフェン ２−ニトロ−３−（４−トリル）チオフェン（０．５
ｇ）をジオキサン（２０ｍｌ）に溶解し、５％Ｐｄ／Ｃ
（０．２５ｇ）を加え、室温で５時間接触還元を行っ
た。この溶液を濾過後、そのまま次の反応に用いた。 ３）Ｎ−［２−｛３−（４−トリル）｝チエニル］−３
−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カ
ルボン酸アミド 上記２）で得られた反応液を濾過後、ピリジン（０．７
３ｇ）、３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ルカルボン酸クロライド（０．４５ｇ）を加え、室温で
１時間攪拌した。酢酸エチルで抽出、飽和炭酸水素ナト
リウム溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物（０．４ｇ）を得た（収率：
４７％：ニトロ体から）。
【００６８】実施例２ Ｎ−［２−｛３−（４−クロロ
フェニル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１
−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化
合物Ｎｏ．３．２） １）２−ニトロ−３−（４−クロロフェニル）チオフェ
ン 実施例１において４−トリルホウ酸の代わりに４−クロ
ロフェニルホウ酸を使用した以外は全く同様の方法で合
成した（収率：９１％）。 mp:108〜110℃1 H-NMR(CDCl3,δ値):7.00(d,J=5.1,1H),7.37〜7.44(m,4
H),7.50(d,J=5.1,1H) ２）２−アミノ− ３−（４−クロロフェニル）チオフ
ェン 実施例１において２−ニトロ−３−（４−トリル）チオ
フェンの代わりに２−ニトロ−３−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方法で合成
し、これをそのまま次の反応に用いた。 ３）Ｎ−［２−｛３−（４−クロロフェニル）｝チエニ
ル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール
−４−カルボン酸アミド 実施例１において２−アミノ−３−（４−トリル）チオ
フェンの代わりに２−アミノ−３−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方法で合成
した（収率：４１％：ニトロ体から）。
フェニル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１
−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化
合物Ｎｏ．３．２） １）２−ニトロ−３−（４−クロロフェニル）チオフェ
ン 実施例１において４−トリルホウ酸の代わりに４−クロ
ロフェニルホウ酸を使用した以外は全く同様の方法で合
成した（収率：９１％）。 mp:108〜110℃1 H-NMR(CDCl3,δ値):7.00(d,J=5.1,1H),7.37〜7.44(m,4
H),7.50(d,J=5.1,1H) ２）２−アミノ− ３−（４−クロロフェニル）チオフ
ェン 実施例１において２−ニトロ−３−（４−トリル）チオ
フェンの代わりに２−ニトロ−３−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方法で合成
し、これをそのまま次の反応に用いた。 ３）Ｎ−［２−｛３−（４−クロロフェニル）｝チエニ
ル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール
−４−カルボン酸アミド 実施例１において２−アミノ−３−（４−トリル）チオ
フェンの代わりに２−アミノ−３−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方法で合成
した（収率：４１％：ニトロ体から）。
【００６９】実施例３ Ｎ−［３−｛２−（４−クロロ
フェニル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１
−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化
合物Ｎｏ．１．６１） １）３−ニトロ−２−（４−クロロフェニル）チオフェ
ン トルエン５０ｍｌ中に２−ブロモ−３−ニトロチオフェ
ン１ｇ、４−クロロフェニルホウ酸０．７５ｇ、２Ｍ−
炭酸カリウム水溶液５ｍｌ、エタノール２ｍｌを加え、
窒素気流下に室温で３０分攪拌後、Ｐｄ（ＰＰｈ3）
4０．２８ｇを加え、２時間加熱還流した。二層分離
後、水洗、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に溶媒を留去、残査をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、目的物１．１ｇを黄色結晶として得た
（収率：９８％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):7.29(d,J=5.9,1H),7.43(s,4H),7.6
6(d,J=5.9,1H) ２）３−アミノ− ２−（４−クロロフェニル）チオフ
ェン ３−ニトロ−２−（４−クロロフェニル）チオフェン１
ｇ、鉄粉０．９３ｇを酢酸２０ｍｌに加え、６０℃で２
時間加熱した。反応液をセライトで濾過した後、酢酸エ
チルを加え、５％の塩酸水溶液で５回抽出した。この水
層を炭酸水素ナトリウムで中和後、酢酸エチルで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、目的物０．５４ｇを黄褐色結晶として得た（収率：
６２％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):3.82(brs,2H),6.64(d,J=5.1,1H),
7.12(d,J=5.1,1H),7.34〜7.39(m,2H),7.43〜7.48(m,2H) ３）Ｎ−［３−｛２−（４−クロロフェニル）｝チエニ
ル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール
−４−カルボン酸アミド ３−アミノ−２−（４−クロロフェニル）チオフェン
０．２５ｇ、ピリジン０．３８ｇを塩化メチレン２０ｍ
ｌに溶解した溶液に攪拌下、３−トリフルオロメチル−
１−メチルピラゾール−４−カルボン酸クロライド０．
３ｇを塩化メチレン５ｍｌに溶解した溶液を滴下した。
室温で１時間攪拌後、５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、目的物０．３７ｇを無色結
晶として得た（収率：８１％）。
フェニル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１
−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化
合物Ｎｏ．１．６１） １）３−ニトロ−２−（４−クロロフェニル）チオフェ
ン トルエン５０ｍｌ中に２−ブロモ−３−ニトロチオフェ
ン１ｇ、４−クロロフェニルホウ酸０．７５ｇ、２Ｍ−
炭酸カリウム水溶液５ｍｌ、エタノール２ｍｌを加え、
窒素気流下に室温で３０分攪拌後、Ｐｄ（ＰＰｈ3）
4０．２８ｇを加え、２時間加熱還流した。二層分離
後、水洗、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に溶媒を留去、残査をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、目的物１．１ｇを黄色結晶として得た
（収率：９８％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):7.29(d,J=5.9,1H),7.43(s,4H),7.6
6(d,J=5.9,1H) ２）３−アミノ− ２−（４−クロロフェニル）チオフ
ェン ３−ニトロ−２−（４−クロロフェニル）チオフェン１
ｇ、鉄粉０．９３ｇを酢酸２０ｍｌに加え、６０℃で２
時間加熱した。反応液をセライトで濾過した後、酢酸エ
チルを加え、５％の塩酸水溶液で５回抽出した。この水
層を炭酸水素ナトリウムで中和後、酢酸エチルで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、目的物０．５４ｇを黄褐色結晶として得た（収率：
６２％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):3.82(brs,2H),6.64(d,J=5.1,1H),
7.12(d,J=5.1,1H),7.34〜7.39(m,2H),7.43〜7.48(m,2H) ３）Ｎ−［３−｛２−（４−クロロフェニル）｝チエニ
ル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール
−４−カルボン酸アミド ３−アミノ−２−（４−クロロフェニル）チオフェン
０．２５ｇ、ピリジン０．３８ｇを塩化メチレン２０ｍ
ｌに溶解した溶液に攪拌下、３−トリフルオロメチル−
１−メチルピラゾール−４−カルボン酸クロライド０．
３ｇを塩化メチレン５ｍｌに溶解した溶液を滴下した。
室温で１時間攪拌後、５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、目的物０．３７ｇを無色結
晶として得た（収率：８１％）。
【００７０】実施例４ Ｎ−［３−｛２−（４−トリ
ル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１−メチ
ルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎ
ｏ．１．６８） １）３−ニトロ−２−（４−トリル）チオフェン 実施例３において４−クロロフェニルホウ酸の代わりに
４−トリルホウ酸を使用した以外は全く同様の方法で合
成した（収率：７８％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):2.41(s,3H),7.23〜7.27(m,3H),7.3
7(dd,J=2.2,8.1,2H)),7.64(d,J=5.9,1H) ２）３−アミノ− ２−（４−トリル）チオフェン 実施例３において３−ニトロ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−ニトロ−２−（４−トリ
ル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方法で合成
した（収率：６８％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):2.37(s,3H),3.79(brs,2H),6.54(d,
J=5.1),7.09(d,J=5.1,1H),7.22((d,J=8.1,2H),7.41(d,J
=8.1,2H) ３）Ｎ−［３−｛２−（４−トリル）｝チエニル］−３
−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カ
ルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ −２−（４−クロロフェ
ニル）チオフェンの代わりに３−アミノ −２−（４−
トリル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方法で
合成した（収率：８５％）。
ル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１−メチ
ルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎ
ｏ．１．６８） １）３−ニトロ−２−（４−トリル）チオフェン 実施例３において４−クロロフェニルホウ酸の代わりに
４−トリルホウ酸を使用した以外は全く同様の方法で合
成した（収率：７８％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):2.41(s,3H),7.23〜7.27(m,3H),7.3
7(dd,J=2.2,8.1,2H)),7.64(d,J=5.9,1H) ２）３−アミノ− ２−（４−トリル）チオフェン 実施例３において３−ニトロ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−ニトロ−２−（４−トリ
ル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方法で合成
した（収率：６８％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):2.37(s,3H),3.79(brs,2H),6.54(d,
J=5.1),7.09(d,J=5.1,1H),7.22((d,J=8.1,2H),7.41(d,J
=8.1,2H) ３）Ｎ−［３−｛２−（４−トリル）｝チエニル］−３
−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カ
ルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ −２−（４−クロロフェ
ニル）チオフェンの代わりに３−アミノ −２−（４−
トリル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方法で
合成した（収率：８５％）。
【００７１】実施例５ Ｎ−［３−｛２−（４−メトキ
シフェニル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−
１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成
（化合物Ｎｏ．１．６４） １）３−ニトロ−２−（４−メトキシフェニル）チオフ
ェン 実施例３において４−クロロフェニルホウ酸の代わりに
４−メトキシフェニルホウ酸を使用した以外は全く同様
の方法で合成した（収率：９６％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):3.86(s,3H),6.96(d,J=7.3,2H),7.2
0(d,J=5.1,1H),7.44(d,J=7.3,2H),7.63(d,J=5.1,1H) ２）３−アミノ− ２−（４−メトキシフェニル）チオ
フェン 実施例３において３−ニトロ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−ニトロ−２−（４−メト
キシフェニル）チオフェンを使用した以外は全く同様の
方法で合成した（収率：７９％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):3.77(brs,2H),3.83((s,3H),6.65
((d,J=5.9,1H),6.96(d,J=8.8,2H),7.07(d,J=5.9,1H),7.
43(d,J=8.8,2H) ３）Ｎ−［３−｛２−（４−メトキシフェニル）｝チエ
ニル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ル−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ −２−（４−クロロフェ
ニル）チオフェンの代わりに３−アミノ −２−（４−
メトキシフェニル）チオフェンを使用した以外は全く同
様の方法で合成した（収率：７５％）。
シフェニル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−
１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成
（化合物Ｎｏ．１．６４） １）３−ニトロ−２−（４−メトキシフェニル）チオフ
ェン 実施例３において４−クロロフェニルホウ酸の代わりに
４−メトキシフェニルホウ酸を使用した以外は全く同様
の方法で合成した（収率：９６％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):3.86(s,3H),6.96(d,J=7.3,2H),7.2
0(d,J=5.1,1H),7.44(d,J=7.3,2H),7.63(d,J=5.1,1H) ２）３−アミノ− ２−（４−メトキシフェニル）チオ
フェン 実施例３において３−ニトロ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−ニトロ−２−（４−メト
キシフェニル）チオフェンを使用した以外は全く同様の
方法で合成した（収率：７９％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):3.77(brs,2H),3.83((s,3H),6.65
((d,J=5.9,1H),6.96(d,J=8.8,2H),7.07(d,J=5.9,1H),7.
43(d,J=8.8,2H) ３）Ｎ−［３−｛２−（４−メトキシフェニル）｝チエ
ニル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ル−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ −２−（４−クロロフェ
ニル）チオフェンの代わりに３−アミノ −２−（４−
メトキシフェニル）チオフェンを使用した以外は全く同
様の方法で合成した（収率：７５％）。
【００７２】実施例６ Ｎ−（２−イソプロペニル−３
−チエニル）−３−トリフルオロメチル−１−メチルピ
ラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．
１．７１） １）３−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）チオフェン
−２−カルボン酸メチルエステル ３−アミノチオフェン−２−カルボン酸メチルエステル
１０ｇ、トリエチルアミン７．７２ｇを塩化メチレン５
０ｍｌに溶解した溶液にジ−ｔ−ブチルジカーボネート
１３．９ｇの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を滴下した後、
４−ジメチルアミノピリジンを触媒量加えた。室温で５
時間攪拌後、二層分離、水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去した後、析出する結晶をろ
別、ろ液をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、目
的物４．２ｇを無色結晶として得た（収率：７５％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):1.52(s,9H),3.88(s,3H),7.43(d,J=
5.1,1H),7.88(d,J=5.1,1H),9.35(brs,1H) ２）２−（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−３−
（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）チオフェン 窒素雰囲気下、ＭｅＭｇＢｒの３Ｍ−エーテル溶液６．
５ｍｌをＴＨＦ ５ｍｌで希釈、１０℃に冷却し、３−
（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）チオフェン−２−カ
ルボン酸メチルエステル１ｇのＴＨＦ５ｍｌ溶液を滴下
した。室温で３時間攪拌後、塩化アンモニウム水溶液に
排出した後、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、
目的物を黄色オイルとして得た（収率：定量的）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):1.50(s,9H),1.65(s,6H),7.02(d,J=
5.1,1H),7.27(d,J=5.1,1H),8.09(brs,1H) ３）３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−イソプロ
ペニルチオフェン ２−（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−３−（ｔ
−ブトキシカルボニルアミノ）チオフェン１．８ｇ、無
水酢酸１．４ｇ、硫酸水素カリウム０．０６ｇをＤＭＦ
１０ｍｌに加え、６０℃で２時間加熱した。水を加え、
酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、残査をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、目的物１．０４
ｇを橙色オイルとして得た（収率：６０％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):1.50(s,9H),2.11(s,3H),5.18((s,1
H),5.27(m,1H),6.71(brs,1H),7.13(d,J=5.9,1H),7.56
(d,J=5.9,1H) ４）３−アミノ−２−イソプロペニルチオフェン塩酸塩 ３−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−２−イソプロ
ペニルチオフェン０．３ｇを塩化メチレン７ｍｌに溶解
させた溶液を０℃に冷却し、４Ｎ−塩化水素のジオキサ
ン溶液３ｍｌを徐々に加え、これを次の反応にそのまま
用いた。 ５）Ｎ−（２−イソプロペニル−３−チエニル）−３−
トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カル
ボン酸アミド 上記の溶液を０℃に冷却し、ピリジン５ｍｌを加え、こ
れに３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−
４−カルボン酸クロライド０．２７ｇを塩化メチレン５
ｍｌに溶解した溶液を滴下した。室温で１時間攪拌後、
５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、目的物０．１２ｇを結晶として得た（収率：３０
％）。
−チエニル）−３−トリフルオロメチル−１−メチルピ
ラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．
１．７１） １）３−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）チオフェン
−２−カルボン酸メチルエステル ３−アミノチオフェン−２−カルボン酸メチルエステル
１０ｇ、トリエチルアミン７．７２ｇを塩化メチレン５
０ｍｌに溶解した溶液にジ−ｔ−ブチルジカーボネート
１３．９ｇの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を滴下した後、
４−ジメチルアミノピリジンを触媒量加えた。室温で５
時間攪拌後、二層分離、水洗し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去した後、析出する結晶をろ
別、ろ液をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、目
的物４．２ｇを無色結晶として得た（収率：７５％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):1.52(s,9H),3.88(s,3H),7.43(d,J=
5.1,1H),7.88(d,J=5.1,1H),9.35(brs,1H) ２）２−（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−３−
（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）チオフェン 窒素雰囲気下、ＭｅＭｇＢｒの３Ｍ−エーテル溶液６．
５ｍｌをＴＨＦ ５ｍｌで希釈、１０℃に冷却し、３−
（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）チオフェン−２−カ
ルボン酸メチルエステル１ｇのＴＨＦ５ｍｌ溶液を滴下
した。室温で３時間攪拌後、塩化アンモニウム水溶液に
排出した後、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、
目的物を黄色オイルとして得た（収率：定量的）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):1.50(s,9H),1.65(s,6H),7.02(d,J=
5.1,1H),7.27(d,J=5.1,1H),8.09(brs,1H) ３）３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−イソプロ
ペニルチオフェン ２−（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−３−（ｔ
−ブトキシカルボニルアミノ）チオフェン１．８ｇ、無
水酢酸１．４ｇ、硫酸水素カリウム０．０６ｇをＤＭＦ
１０ｍｌに加え、６０℃で２時間加熱した。水を加え、
酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、残査をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、目的物１．０４
ｇを橙色オイルとして得た（収率：６０％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):1.50(s,9H),2.11(s,3H),5.18((s,1
H),5.27(m,1H),6.71(brs,1H),7.13(d,J=5.9,1H),7.56
(d,J=5.9,1H) ４）３−アミノ−２−イソプロペニルチオフェン塩酸塩 ３−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−２−イソプロ
ペニルチオフェン０．３ｇを塩化メチレン７ｍｌに溶解
させた溶液を０℃に冷却し、４Ｎ−塩化水素のジオキサ
ン溶液３ｍｌを徐々に加え、これを次の反応にそのまま
用いた。 ５）Ｎ−（２−イソプロペニル−３−チエニル）−３−
トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カル
ボン酸アミド 上記の溶液を０℃に冷却し、ピリジン５ｍｌを加え、こ
れに３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−
４−カルボン酸クロライド０．２７ｇを塩化メチレン５
ｍｌに溶解した溶液を滴下した。室温で１時間攪拌後、
５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、目的物０．１２ｇを結晶として得た（収率：３０
％）。
【００７３】実施例７ Ｎ−［３−｛２−（４−トリフ
ルオロメチルフェニル）｝チエニル］−３−トリフルオ
ロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミ
ドの合成（化合物Ｎｏ．１．７７） １）３−ニトロ−２−（４−トリフオロメチルフェニ
ル）チオフェン 実施例３において４−クロロフェニルホウ酸の代わりに
４−トリフルオロメチルフェニルホウ酸を使用した以外
は全く同様の方法で合成した（収率：定量的）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):7.35(d,J=5.9,1H),7.61(d,J=8.1,2
H),7.69〜7.76(m,3H) ２）３−アミノ− ２−（４−トリフルオロメチルフェ
ニル）チオフェン 実施例３において３−ニトロ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−ニトロ−２−（４−トリ
フルオロメチルフェニル）チオフェンを使用した以外は
全く同様の方法で合成した（収率：７０％）1 H-NMR(CDCl3,δ値):4.00(brs,2H),6.67(d,J=5.1,1H),
7.18(d,J=5.1,1H),7.64(s,1H) ３）Ｎ−［３−｛２−（４−トリフルオロメチルフェニ
ル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１−メチ
ルピラゾール−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−（４−トリ
フルオロメチルフェニル）チオフェンを使用した以外は
全く同様の方法で合成した（収率：５８％）。
ルオロメチルフェニル）｝チエニル］−３−トリフルオ
ロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミ
ドの合成（化合物Ｎｏ．１．７７） １）３−ニトロ−２−（４−トリフオロメチルフェニ
ル）チオフェン 実施例３において４−クロロフェニルホウ酸の代わりに
４−トリフルオロメチルフェニルホウ酸を使用した以外
は全く同様の方法で合成した（収率：定量的）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):7.35(d,J=5.9,1H),7.61(d,J=8.1,2
H),7.69〜7.76(m,3H) ２）３−アミノ− ２−（４−トリフルオロメチルフェ
ニル）チオフェン 実施例３において３−ニトロ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−ニトロ−２−（４−トリ
フルオロメチルフェニル）チオフェンを使用した以外は
全く同様の方法で合成した（収率：７０％）1 H-NMR(CDCl3,δ値):4.00(brs,2H),6.67(d,J=5.1,1H),
7.18(d,J=5.1,1H),7.64(s,1H) ３）Ｎ−［３−｛２−（４−トリフルオロメチルフェニ
ル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１−メチ
ルピラゾール−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−（４−トリ
フルオロメチルフェニル）チオフェンを使用した以外は
全く同様の方法で合成した（収率：５８％）。
【００７４】実施例８ Ｎ−［３−｛２−（３−クロロ
フェニル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１
−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化
合物Ｎｏ．１．７５） １）３−ニトロ−２−（３−クロロフェニル）チオフェ
ン 実施例３において４−クロロフェニルホウ酸の代わりに
３−クロロフェニルホウ酸を使用した以外は全く同様の
方法で合成した（収率：８４％）。1 H-NMR(CDCl,δ値):7.31(d,J=5.9,1H),7.36〜7.46(m,3
H),7.48(s,1H),7.66(d,J=5.9,1H) ２）３−アミノ− ２−（３−クロロフェニル）チオフ
ェン 実施例３において３−ニトロ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−ニトロ−２−（３−クロ
ロフェニル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方
法で合成した（収率：７１％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):3.84(brs,2H),6.65(d,J=5.1,1H),
7.14(d,J=5.1,1H),7.21(dd,J=1.5,8.8,1H),7.35(dt,J=
1.5,8.8,1H),7.41(dd,J=1.5,8.8,1H),7.51〜7.53(m,1H) ３）Ｎ−［３−｛２−（３−クロロフェニル）｝チエニ
ル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール
−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−（３−クロ
ロフェニル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方
法で合成した（収率：７９％）。
フェニル）｝チエニル］−３−トリフルオロメチル−１
−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化
合物Ｎｏ．１．７５） １）３−ニトロ−２−（３−クロロフェニル）チオフェ
ン 実施例３において４−クロロフェニルホウ酸の代わりに
３−クロロフェニルホウ酸を使用した以外は全く同様の
方法で合成した（収率：８４％）。1 H-NMR(CDCl,δ値):7.31(d,J=5.9,1H),7.36〜7.46(m,3
H),7.48(s,1H),7.66(d,J=5.9,1H) ２）３−アミノ− ２−（３−クロロフェニル）チオフ
ェン 実施例３において３−ニトロ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−ニトロ−２−（３−クロ
ロフェニル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方
法で合成した（収率：７１％）。1 H-NMR(CDCl3,δ値):3.84(brs,2H),6.65(d,J=5.1,1H),
7.14(d,J=5.1,1H),7.21(dd,J=1.5,8.8,1H),7.35(dt,J=
1.5,8.8,1H),7.41(dd,J=1.5,8.8,1H),7.51〜7.53(m,1H) ３）Ｎ−［３−｛２−（３−クロロフェニル）｝チエニ
ル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール
−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−（３−クロ
ロフェニル）チオフェンを使用した以外は全く同様の方
法で合成した（収率：７９％）。
【００７５】実施例９ Ｎ−｛３−（２−フェニル）チ
エニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾ
ール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．１．
６０） ３−アミノ−２−（４−クロロフェニル）チオフェン
０．２ｇ、ピリジン０．３５ｇを塩化メチレン２０ｍｌ
に溶解した溶液に攪拌下、３−トリフルオロメチル−１
−メチルピラゾール−４−カルボン酸クロライド０．２
９ｇを塩化メチレン５ｍｌに溶解した溶液を滴下した。
室温で２時間攪拌後、５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、目的物０．２８ｇを無色結
晶として得た（収率：６６％）。
エニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾ
ール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．１．
６０） ３−アミノ−２−（４−クロロフェニル）チオフェン
０．２ｇ、ピリジン０．３５ｇを塩化メチレン２０ｍｌ
に溶解した溶液に攪拌下、３−トリフルオロメチル−１
−メチルピラゾール−４−カルボン酸クロライド０．２
９ｇを塩化メチレン５ｍｌに溶解した溶液を滴下した。
室温で２時間攪拌後、５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、目的物０．２８ｇを無色結
晶として得た（収率：６６％）。
【００７６】実施例１０ Ｎ−［２−｛（１Ｓ）−１−
メチルプロピル）｝−３−チエニル］−３−トリフルオ
ロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミ
ドの合成（化合物Ｎｏ．１．２、Ａ法） １）３−アミノ−２−｛（１Ｓ）−１−メチルプロピ
ル）｝チオフェン ２−｛（１Ｓ）−１−メチルプロピル｝テトラヒドロチ
オフェン−３−オン（１．７ｇ）とヒドロキシルアミン
塩酸塩（１．１ｇ）をエタノール（５０ｍｌ）に溶解
し、水酸化バリウム８水和物（３．４ｇ）を加えて３．
５時間加熱還流した。冷却・ろ過後、溶媒を減圧留去
し、エチルエーテルを加え水洗、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去してオキシム体を得た。これに
エチルエーテル（５０ｍｌ）を加えた後、６．５Ｎ−塩
化水素のメタノール溶液（１．７ｍｌ）を加えて室温で
３時間攪拌し、その後室温で１２時間放置した。飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和後、エチルエーテルで抽
出し、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、目的物０．４４ｇを黄色オイ
ルとして得た（収率：２６％）。 ２）Ｎ−［２−｛（１Ｓ）−１−メチルプロピル）｝−
３−チエニル］−３−トリフルオロメチル−１−メチル
ピラゾール−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−｛（１Ｓ）
−１−メチルプロピル）｝チオフェンを使用した以外は
全く同様の方法で合成した（収率：７５％）。
メチルプロピル）｝−３−チエニル］−３−トリフルオ
ロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミ
ドの合成（化合物Ｎｏ．１．２、Ａ法） １）３−アミノ−２−｛（１Ｓ）−１−メチルプロピ
ル）｝チオフェン ２−｛（１Ｓ）−１−メチルプロピル｝テトラヒドロチ
オフェン−３−オン（１．７ｇ）とヒドロキシルアミン
塩酸塩（１．１ｇ）をエタノール（５０ｍｌ）に溶解
し、水酸化バリウム８水和物（３．４ｇ）を加えて３．
５時間加熱還流した。冷却・ろ過後、溶媒を減圧留去
し、エチルエーテルを加え水洗、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去してオキシム体を得た。これに
エチルエーテル（５０ｍｌ）を加えた後、６．５Ｎ−塩
化水素のメタノール溶液（１．７ｍｌ）を加えて室温で
３時間攪拌し、その後室温で１２時間放置した。飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和後、エチルエーテルで抽
出し、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残査をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、目的物０．４４ｇを黄色オイ
ルとして得た（収率：２６％）。 ２）Ｎ−［２−｛（１Ｓ）−１−メチルプロピル）｝−
３−チエニル］−３−トリフルオロメチル−１−メチル
ピラゾール−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−｛（１Ｓ）
−１−メチルプロピル）｝チオフェンを使用した以外は
全く同様の方法で合成した（収率：７５％）。
【００７７】実施例１１ Ｎ−｛２−（１，３−ジメチ
ルブチル）−３−チエニル｝−３−トリフルオロメチル
−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成
（化合物Ｎｏ．１．１３、Ｂ法） １）２−（１−ヒドロキシ−１，３−ジメチルブチル）
−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチオフェン ２−メチルプロピルマグネシウムブロミドのテトラヒド
ロフラン溶液（２−メチルプロピルブロミド２．９ｇ、
マグネシウム０．４７ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌ
より調製）を１０℃に冷却し、２−アセチル−３−ｔ−
ブチルオキシカルボニルアミノチオフェン （１ｇ）の
テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）溶液を１５℃以下で滴
下し、室温で２時間攪拌後、冷却下に飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を滴下した。酢酸エチルで抽出、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去して目的物１．２ｇを得た（収率：９８％）。 ２）３−アミノ−２−（１，３−ジメチルブチル）チオ
フェン ２−（１−ヒドロキシ−１，３−ジメチルブチル）−３
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチオフェン１．２ｇを
塩化メチレン（１０ｍｌ）に溶解し、トリエチルシラン
（０．４４ｇ）、トリフルオロ酢酸（４．３ｇ）を加
え、室温で２０時間攪拌後、飽和炭酸水素ナトリウムで
中和、抽出（酢酸エチル）、洗浄（飽和食塩水）、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）した。溶媒を減圧留去後、残
査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目
的物０．４３ｇを結晶として得た。 ３）Ｎ−｛２−（１，３−ジメチルブチル）−３−チエ
ニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ル−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−（１，３−
ジメチルブチル）チオフェンを使用した以外は全く同様
の方法で合成した（収率：４１％）。
ルブチル）−３−チエニル｝−３−トリフルオロメチル
−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成
（化合物Ｎｏ．１．１３、Ｂ法） １）２−（１−ヒドロキシ−１，３−ジメチルブチル）
−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチオフェン ２−メチルプロピルマグネシウムブロミドのテトラヒド
ロフラン溶液（２−メチルプロピルブロミド２．９ｇ、
マグネシウム０．４７ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌ
より調製）を１０℃に冷却し、２−アセチル−３−ｔ−
ブチルオキシカルボニルアミノチオフェン （１ｇ）の
テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）溶液を１５℃以下で滴
下し、室温で２時間攪拌後、冷却下に飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を滴下した。酢酸エチルで抽出、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去して目的物１．２ｇを得た（収率：９８％）。 ２）３−アミノ−２−（１，３−ジメチルブチル）チオ
フェン ２−（１−ヒドロキシ−１，３−ジメチルブチル）−３
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチオフェン１．２ｇを
塩化メチレン（１０ｍｌ）に溶解し、トリエチルシラン
（０．４４ｇ）、トリフルオロ酢酸（４．３ｇ）を加
え、室温で２０時間攪拌後、飽和炭酸水素ナトリウムで
中和、抽出（酢酸エチル）、洗浄（飽和食塩水）、乾燥
（無水硫酸マグネシウム）した。溶媒を減圧留去後、残
査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目
的物０．４３ｇを結晶として得た。 ３）Ｎ−｛２−（１，３−ジメチルブチル）−３−チエ
ニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ル−４−カルボン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−（１，３−
ジメチルブチル）チオフェンを使用した以外は全く同様
の方法で合成した（収率：４１％）。
【００７８】実施例１２ Ｎ−｛２−イソプロピル−３
−チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピ
ラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．
１．１，Ｃ法） １）３−アミノ−２−イソプロピルチオフェン 実施例６の中間体である２−（１−ヒドロキシ−１−メ
チル）エチル−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチオ
フェン（０．９ｇ）を塩化メチレン（１０ｍｌ）に溶解
し、トリエチルシラン（０．４１ｇ），トリフルオロ酢
酸（４ｇ）を加え、室温で２０時間攪拌後、飽和炭酸水
素ナトリウムで中和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で
洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、目的物０．２９ｇを結晶として得た（収率：６２
％）。 ２）Ｎ−｛２−イソプロピル−３−チエニル｝−３−ト
リフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボ
ン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−イソプロピ
ルチオフェンを使用した以外は全く同様の方法で合成し
た（収率：５３％）。
−チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピ
ラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．
１．１，Ｃ法） １）３−アミノ−２−イソプロピルチオフェン 実施例６の中間体である２−（１−ヒドロキシ−１−メ
チル）エチル−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチオ
フェン（０．９ｇ）を塩化メチレン（１０ｍｌ）に溶解
し、トリエチルシラン（０．４１ｇ），トリフルオロ酢
酸（４ｇ）を加え、室温で２０時間攪拌後、飽和炭酸水
素ナトリウムで中和、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で
洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、目的物０．２９ｇを結晶として得た（収率：６２
％）。 ２）Ｎ−｛２−イソプロピル−３−チエニル｝−３−ト
リフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボ
ン酸アミド 実施例３において３−アミノ−２−（４−クロロフェニ
ル）チオフェンの代わりに３−アミノ−２−イソプロピ
ルチオフェンを使用した以外は全く同様の方法で合成し
た（収率：５３％）。
【００７９】実施例１３ Ｎ−｛２−イソプロピル−３
−チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピ
ラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．
１．１、Ｄ法） 実施例６の化合物（化合物Ｎｏ１．７１）１ｇをメタノ
ール（１０ｍｌ）に溶解し、５％Ｐｄ／炭素（０．２
ｇ）を加え、常圧下に接触還元を室温で８時間かけて行
った。ろ過、メタノール洗浄後、ろ液を減圧濃縮し、得
られたオイル状物をヘキサンでスラッジングして、目的
物０．８ｇを結晶として得た（収率：７９％）。
−チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピ
ラゾール−４−カルボン酸アミドの合成（化合物Ｎｏ．
１．１、Ｄ法） 実施例６の化合物（化合物Ｎｏ１．７１）１ｇをメタノ
ール（１０ｍｌ）に溶解し、５％Ｐｄ／炭素（０．２
ｇ）を加え、常圧下に接触還元を室温で８時間かけて行
った。ろ過、メタノール洗浄後、ろ液を減圧濃縮し、得
られたオイル状物をヘキサンでスラッジングして、目的
物０．８ｇを結晶として得た（収率：７９％）。
【００８０】その他実施例と同様の方法で合成した一般
式（１）の化合物の例を以下の第２０表〜第６０表（表
２０〜表６０）にまとめた。
式（１）の化合物の例を以下の第２０表〜第６０表（表
２０〜表６０）にまとめた。
【００８１】
【化１９】
【００８２】
【表２０】
【００８３】
【表２１】
【００８４】
【表２２】
【００８５】
【表２３】
【００８６】
【表２４】
【００８７】
【表２５】
【００８８】
【表２６】
【００８９】
【表２７】
【００９０】
【表２８】
【００９１】
【表２９】
【００９２】
【表３０】
【００９３】
【表３１】
【００９４】
【表３２】
【００９５】
【表３３】
【００９６】
【表３４】
【００９７】
【表３５】
【００９８】
【表３６】
【００９９】
【表３７】
【０１００】
【表３８】
【０１０１】
【表３９】
【０１０２】
【表４０】
【０１０３】
【表４１】
【０１０４】
【表４２】
【０１０５】
【表４３】
【０１０６】
【表４４】
【０１０７】
【表４５】
【０１０８】
【表４６】
【０１０９】
【表４７】
【０１１０】
【表４８】
【０１１１】
【表４９】
【０１１２】
【表５０】
【０１１３】
【表５１】
【０１１４】
【表５２】
【０１１５】
【表５３】
【０１１６】
【化２０】
【０１１７】
【表５４】
【０１１８】
【表５５】
【０１１９】
【化２１】
【０１２０】
【表５６】
【０１２１】
【表５７】
【０１２２】
【表５８】
【０１２３】
【化２２】
【０１２４】
【表５９】
【０１２５】
【表６０】
【０１２６】次に本発明に係わる農園芸用殺菌剤の製剤
例および試験例を示す。 製剤例１ 粉剤 化合物番号１．２の化合物３部、ケイソウ土２０部、ク
レー７７部を均一に粉砕混合して粉剤１００部を得た。
例および試験例を示す。 製剤例１ 粉剤 化合物番号１．２の化合物３部、ケイソウ土２０部、ク
レー７７部を均一に粉砕混合して粉剤１００部を得た。
【０１２７】製剤例２ 水和剤 化合物番号１．１３の化合物２５部、ケイソウ土７２
部、リグニンスルホン酸ナトリウム１部およびアルキル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム２部を均一に粉砕混合し
て水和剤１００部を得た。
部、リグニンスルホン酸ナトリウム１部およびアルキル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム２部を均一に粉砕混合し
て水和剤１００部を得た。
【０１２８】製剤例３ 水和剤 化合物番号１．２４の化合物５０部、クレー３０部、ホ
ワイトカーボン１０部、ラウリルリン酸ナトリウム５部
およびアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム５部を
混合し、水和剤１００部を得た。
ワイトカーボン１０部、ラウリルリン酸ナトリウム５部
およびアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム５部を
混合し、水和剤１００部を得た。
【０１２９】製剤例４ 水和剤 化合物番号１．６１の化合物５０部、リグニンスルホン
酸ナトリウム１０部、アルキルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム５部、ホワイトカーボン１０部およびケイソウ
土２５部を混合粉砕し、水和剤１００部を得た。
酸ナトリウム１０部、アルキルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム５部、ホワイトカーボン１０部およびケイソウ
土２５部を混合粉砕し、水和剤１００部を得た。
【０１３０】製剤例５ 乳剤 化合物番号１．７７の化合物１０部、シクロヘキサン１
０部、キシレン６０部およびソルポール（東邦化学製界
面活性剤）２０部を均一に溶解混合し、乳剤１００部を
得た。
０部、キシレン６０部およびソルポール（東邦化学製界
面活性剤）２０部を均一に溶解混合し、乳剤１００部を
得た。
【０１３１】製剤例６ フロワブル剤 化合物番号１．１３の化合物４０部、カルボキシメチル
セルロース３部、リグニンスルホン酸ナトリウム２部、
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩１部および
水５４部をサンドグラインダーで湿式粉砕し、フロワブ
ル剤１００部を得た。
セルロース３部、リグニンスルホン酸ナトリウム２部、
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩１部および
水５４部をサンドグラインダーで湿式粉砕し、フロワブ
ル剤１００部を得た。
【０１３２】次に本発明化合物の農園芸用殺菌剤として
の効力を試験例によって説明する。 試験例１ インゲン灰色かび病防除試験（１） 温室内で直径７．５ｃｍのプラスチックポットに子葉の
展開まで２本ずつ生育させたインゲン（品種：つるなし
トップクロップ）に、製剤例３に準じて調製した水和剤
を所定濃度（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、
４ポット当たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後
ＰＤＡ培地上で培養した灰色かび菌（ＭＢＣ耐性、ＲＳ
菌）から調製した分生胞子懸濁液（１×１０5個／ｍ
ｌ）を子葉上に噴霧接種し、２０〜２３℃、湿度９５％
以上の温室に７日間保った。接種７日後、インゲン１葉
当たりに灰色かび病の病斑が占める面積を次の指標に従
って調査した。結果を第６１表〜第７０表（表６１〜表
７０）に示す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
の効力を試験例によって説明する。 試験例１ インゲン灰色かび病防除試験（１） 温室内で直径７．５ｃｍのプラスチックポットに子葉の
展開まで２本ずつ生育させたインゲン（品種：つるなし
トップクロップ）に、製剤例３に準じて調製した水和剤
を所定濃度（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、
４ポット当たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後
ＰＤＡ培地上で培養した灰色かび菌（ＭＢＣ耐性、ＲＳ
菌）から調製した分生胞子懸濁液（１×１０5個／ｍ
ｌ）を子葉上に噴霧接種し、２０〜２３℃、湿度９５％
以上の温室に７日間保った。接種７日後、インゲン１葉
当たりに灰色かび病の病斑が占める面積を次の指標に従
って調査した。結果を第６１表〜第７０表（表６１〜表
７０）に示す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
【０１３３】試験例２ インゲン灰色かび病防除試験
（２） 温室内で直径７．５ｃｍのプラスチックポットに子葉の
展開まで２本ずつ生育させたインゲン（品種：つるなし
トップクロップ）に、製剤例３に準じて調製した水和剤
を所定濃度（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、
４ポット当たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後
ＰＤＡ培地上で培養した灰色かび菌（ＭＢＣ耐性・ジカ
ルボキシイミド系薬剤耐性、ＲＲ菌）から調製した分生
胞子懸濁液（１×１０5個／ｍｌ）を子葉上に噴霧接種
し、２０〜２３℃、湿度９５％以上の温室に７日間保っ
た。接種７日後、インゲン１葉当たりに灰色かび病の病
斑が占める面積を次の指標に従って調査した。結果を第
６１表〜第７０表（表６１〜表７０）に示す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
（２） 温室内で直径７．５ｃｍのプラスチックポットに子葉の
展開まで２本ずつ生育させたインゲン（品種：つるなし
トップクロップ）に、製剤例３に準じて調製した水和剤
を所定濃度（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、
４ポット当たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後
ＰＤＡ培地上で培養した灰色かび菌（ＭＢＣ耐性・ジカ
ルボキシイミド系薬剤耐性、ＲＲ菌）から調製した分生
胞子懸濁液（１×１０5個／ｍｌ）を子葉上に噴霧接種
し、２０〜２３℃、湿度９５％以上の温室に７日間保っ
た。接種７日後、インゲン１葉当たりに灰色かび病の病
斑が占める面積を次の指標に従って調査した。結果を第
６１表〜第７０表（表６１〜表７０）に示す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
【０１３４】試験例３ キュウリうどんこ病防除試験 温室内で直径７．５ｃｍのプラスチックポットに１．５
葉期まで２本ずつ生育させたキュウリ（品種：相模半
白）に、製剤例３に準じて調製した水和剤を所定濃度
（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、３ポット当
たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後、少量の展
着剤を加えた水にキュウリうどんこ病分生胞子を懸濁し
て調製した分生胞子懸濁液（１×１０6個／ｍｌ）を噴
霧接種し温室に７日間保った。接種７日後、キュウリ１
葉当たりにうどんこ病の病斑が占める面積を次の指標に
従って調査した。結果を第６１表〜第７０表（表６１〜
表７０）に示す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
葉期まで２本ずつ生育させたキュウリ（品種：相模半
白）に、製剤例３に準じて調製した水和剤を所定濃度
（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、３ポット当
たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後、少量の展
着剤を加えた水にキュウリうどんこ病分生胞子を懸濁し
て調製した分生胞子懸濁液（１×１０6個／ｍｌ）を噴
霧接種し温室に７日間保った。接種７日後、キュウリ１
葉当たりにうどんこ病の病斑が占める面積を次の指標に
従って調査した。結果を第６１表〜第７０表（表６１〜
表７０）に示す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
【０１３５】試験例４ コムギうどんこ病（ＥＢＩ剤耐
性菌）防除試験 温室内で直径６ｃｍのプラスチックポットに１．５葉期
まで１５〜２０本ずつ生育させたコムギ（品種：チホ
ク）に、製剤例３に準じて調製した水和剤を所定濃度
（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、３ポット当
たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後、コムギう
どんこ病（ＥＢＩ剤耐性菌）分生胞子を散布した後１８
℃の部屋に放置した。接種７日後、コムギ１葉目にうど
んこ病の病斑が占める面積を次の指標に従って調査し
た。結果を第６１表〜第７０表（表６１〜表７０）に示
す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
性菌）防除試験 温室内で直径６ｃｍのプラスチックポットに１．５葉期
まで１５〜２０本ずつ生育させたコムギ（品種：チホ
ク）に、製剤例３に準じて調製した水和剤を所定濃度
（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、３ポット当
たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後、コムギう
どんこ病（ＥＢＩ剤耐性菌）分生胞子を散布した後１８
℃の部屋に放置した。接種７日後、コムギ１葉目にうど
んこ病の病斑が占める面積を次の指標に従って調査し
た。結果を第６１表〜第７０表（表６１〜表７０）に示
す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
【０１３６】試験例５ コムギ赤さび病防除試験 温室内で直径６ｃｍのプラスチックポットに１．５葉期
まで１５〜２０本ずつ生育させたコムギ（品種：農林６
４号）に、製剤例３に準じて調製した水和剤を所定濃度
（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、３ポット当
たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後、コムギ赤
さび病の夏胞子を散布し加湿状態に２日間置いた後１８
℃の部屋に移した。接種１０日後、コムギ１葉目に赤さ
び病の病斑が占める面積を次の指標に従って調査した。
結果を第６１表〜第７０表（表６１〜表７０）に示す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
まで１５〜２０本ずつ生育させたコムギ（品種：農林６
４号）に、製剤例３に準じて調製した水和剤を所定濃度
（有効成分濃度２００ｐｐｍ）に希釈して、３ポット当
たり５０ｍｌずつ散布した。薬液が乾いた後、コムギ赤
さび病の夏胞子を散布し加湿状態に２日間置いた後１８
℃の部屋に移した。接種１０日後、コムギ１葉目に赤さ
び病の病斑が占める面積を次の指標に従って調査した。
結果を第６１表〜第７０表（表６１〜表７０）に示す。 各処理区および無処理区の平均値を発病度とした。 防除価（％）＝（１−処理区の発病度／無処理区の発病
度）×１００
【０１３７】
【表６１】 表中の数値は防除価を表す。また−−−は未供試を表
す。
す。
【０１３８】
【表６２】
【０１３９】
【表６３】
【０１４０】
【表６４】
【０１４１】
【表６５】
【０１４２】
【表６６】
【０１４３】
【表６７】
【０１４４】
【表６８】
【０１４５】
【表６９】
【０１４６】
【表７０】 対照化合物１：プロシミドン、商品名＝スミレックス、化学名＝Ｎ−（３，５− ジクロロフェニル）−１，２−ジメチルシクロプロパン−１，２−ジカルボキシ イミド 対照化合物２：トリアジメホン、商品名＝バイレトン、化学名＝１−（４−クロ ロフェノキシ）−３，３−ジメチル−１−（１，２，４−トリアゾール−１−イ ル）−２−ブタノン 対照化合物３：特開平５−２２１９９４号公報に記載（Ｎｏ．１０．１の化合物 ）、化学名＝Ｎ−（２−イソプロピルフェニル）−５−クロロ−１，３−ジメチ ルピラゾール−４−カルボン酸アミド 対照化合物４：特開平５−２２１９９４号公報に記載（Ｎｏ．９．２の化合物） 、化学名＝Ｎ−（２−プロピルフェニル）−２−メチル−４−トリフルオロメチ ルチアゾール−５−カルボン酸アミド
【０１４７】
【発明の効果】本発明の一般式（１）で表される化合物
は各種作物の灰色かび病、うどんこ病、さび病等の種々
の病害に対し優れた防除効果を示し、しかも現在深刻化
している薬剤耐性菌にも効果を示すことから、農園芸用
殺菌剤として有用である。
は各種作物の灰色かび病、うどんこ病、さび病等の種々
の病害に対し優れた防除効果を示し、しかも現在深刻化
している薬剤耐性菌にも効果を示すことから、農園芸用
殺菌剤として有用である。
フロントページの続き (72)発明者 川島 秀雄 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 高橋 完 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 稲見 俊一 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 柳瀬 勇次 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 貴志 淳郎 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 下鳥 均 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 戸村 直文 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内
Claims (12)
- 【請求項１】 一般式（１）（化１） 【化１】 ［式中、Ｑは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｒは炭素数
１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１
２の直鎖または分岐のハロゲノアルキル基、炭素数２〜
１０の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数２〜１０
の直鎖または分岐のハロゲノアルケニル基、炭素数２〜
１０のアルキルチオアルキル基、炭素数２〜１０のアル
キルオキシアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキ
ル基、炭素数３〜１０のハロゲノ置換シクロアルキル
基、または１〜３個の置換基により置換されていてもよ
いフェニル基であり、該フェニル基の置換基は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケ
ニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６の
シクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素
数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のアル
キルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、炭
素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のアル
コキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３の
アルキル基で置換されたアミノ基であり、Ｒと−ＮＨＣ
ＯＡｒは互いに隣り合っており、Ａｒは以下の（Ａ２）
（化２） 【化２】 （式中、Ｒ1はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
ル基、メチル基、エチル基、塩素原子、臭素原子または
ヨウ素原子である）で表される基である］で表される置
換チオフェン誘導体。 - 【請求項２】 Ｑが水素原子であり、Ｒが炭素数１〜１
２の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１２の直
鎖または分岐のハロゲノアルキル基、または炭素数３〜
１０のシクロアルキル基である請求項１記載の置換チオ
フェン誘導体。 - 【請求項３】 Ｒが炭素数３〜１２の分岐のアルキル基
である請求項２記載の置換チオフェン誘導体。 - 【請求項４】 Ｑが水素原子であり、Ｒが１〜３個の置
換基により置換されていてもよいフェニル基であり、該
フェニル基の置換基は水素原子、炭素数１〜４のアルキ
ル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４のア
ルキニル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数
１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のハロゲノアルコ
キシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、炭素数１〜４
のアルキルスルホキシ基、炭素数１〜４のアルキルスル
ホニル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数２〜４のア
シル基、炭素数２〜４のアルコキシカルボニル基、アミ
ノ基、または炭素数１〜３のアルキル基で置換されたア
ミノ基である請求項１記載の置換チオフェン誘導体。 - 【請求項５】 一般式（１）（化３） 【化３】 ［式中、Ｑは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｒは炭素数
１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１
２の直鎖または分岐のハロゲノアルキル基、炭素数２〜
１０の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数２〜１０
の直鎖または分岐のハロゲノアルケニル基、炭素数２〜
１０のアルキルチオアルキル基、炭素数２〜１０のアル
キルオキシアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキ
ル基、炭素数３〜１０のハロゲノ置換シクロアルキル
基、または１〜３個の置換基により置換されていてもよ
いフェニル基であり、該フェニル基の置換基は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケ
ニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６の
シクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素
数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のアル
キルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、炭
素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のアル
コキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３の
アルキル基で置換されたアミノ基であり、Ｒと−ＮＨＣ
ＯＡｒは互いに隣り合っており、Ａｒは以下の（Ａ２）
（化４） 【化４】 （式中、Ｒ1はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
ル基、メチル基、エチル基、塩素原子、臭素原子または
ヨウ素原子である）で表される基である］で表される置
換チオフェン誘導体を有効成分として含有する農園芸用
殺菌剤。 - 【請求項６】 Ｑが水素原子であり、Ｒが炭素数１〜１
２の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１２の直
鎖または分岐のハロゲノアルキル基、または炭素数３〜
１０のシクロアルキル基である請求項５記載の農園芸用
殺菌剤。 - 【請求項７】 Ｒが炭素数３〜１２の分岐のアルキル基
である請求項６記載の農園芸用殺菌剤。 - 【請求項８】 Ｑが水素原子であり、Ｒが１〜３個の置
換基により置換されていてもよいフェニル基であり、該
フェニル基の置換基は水素原子、炭素数１〜４のアルキ
ル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４のア
ルキニル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数
１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のハロゲノアルコ
キシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、炭素数１〜４
のアルキルスルホキシ基、炭素数１〜４のアルキルスル
ホニル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数２〜４のア
シル基、炭素数２〜４のアルコキシカルボニル基、アミ
ノ基、または炭素数１〜３のアルキル基で置換されたア
ミノ基である請求項５記載の農園芸用殺菌剤。 - 【請求項９】 一般式（１）（化５） 【化５】 ［式中、Ｑは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メ
トキシ基、メチルチオ基、メチルスルホキシ基、メチル
スルホニル基、シアノ基、アセチル基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基またはアミノ基を示し、Ｒは炭素数
１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１
２の直鎖または分岐のハロゲノアルキル基、炭素数２〜
１０の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数２〜１０
の直鎖または分岐のハロゲノアルケニル基、炭素数２〜
１０のアルキルチオアルキル基、炭素数２〜１０のアル
キルオキシアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキ
ル基、炭素数３〜１０のハロゲノ置換シクロアルキル
基、または１〜３個の置換基により置換されていてもよ
いフェニル基であり、該フェニル基の置換基は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケ
ニル基、炭素数２〜４のアルキニル基、炭素数３〜６の
シクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素
数１〜４のハロゲノアルコキシ基、炭素数１〜４のアル
キルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスルホキシ基、炭
素数１〜４のアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭素数２〜４のアシル基、炭素数２〜４のアル
コキシカルボニル基、アミノ基、または炭素数１〜３の
アルキル基で置換されたアミノ基であり、Ｒと−ＮＨＣ
ＯＡｒは互いに隣り合っており、Ａｒは以下の（Ａ２）
（化６） 【化６】 （式中、Ｒ1はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
ル基、メチル基、エチル基、塩素原子、臭素原子または
ヨウ素原子である）で表される基である］で表される置
換チオフェン誘導体を使用して、植物病害を防除する方
法。 - 【請求項１０】 Ｑが水素原子であり、Ｒが炭素数１〜
１２の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１２の
直鎖または分岐のハロゲノアルキル基、または炭素数３
〜１０のシクロアルキル基である請求項９記載の植物病
害の防除方法。 - 【請求項１１】 Ｒが炭素数３〜１２の分岐のアルキル
基である請求項１０記載の植物病害の防除方法。 - 【請求項１２】 Ｑが水素原子であり、Ｒが１〜３個の
置換基により置換されていてもよいフェニル基であり、
該フェニル基の置換基は水素原子、炭素数１〜４のアル
キル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜４の
アルキニル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素
数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のハロゲノアル
コキシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、炭素数１〜
４のアルキルスルホキシ基、炭素数１〜４のアルキルス
ルホニル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数２〜４の
アシル基、炭素数２〜４のアルコキシカルボニル基、ア
ミノ基、または炭素数１〜３のアルキル基で置換された
アミノ基である請求項９記載の植物病害の防除方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12138796A JPH09301974A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 置換チオフェン誘導体およびこれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12138796A JPH09301974A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 置換チオフェン誘導体およびこれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09301974A true JPH09301974A (ja) | 1997-11-25 |
Family
ID=14809947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12138796A Pending JPH09301974A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 置換チオフェン誘導体およびこれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09301974A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2009539909A (ja) * | 2006-06-16 | 2009-11-19 | シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト | 殺微生物剤として有用なエテニルカルボキサミド誘導体 |
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-
1996
- 1996-05-16 JP JP12138796A patent/JPH09301974A/ja active Pending
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