JPH09301930A - 粗製エステルの分離法およびジメチルテレフタレートの製造法 - Google Patents
粗製エステルの分離法およびジメチルテレフタレートの製造法Info
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- JPH09301930A JPH09301930A JP9022615A JP2261597A JPH09301930A JP H09301930 A JPH09301930 A JP H09301930A JP 9022615 A JP9022615 A JP 9022615A JP 2261597 A JP2261597 A JP 2261597A JP H09301930 A JPH09301930 A JP H09301930A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
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- C07C67/52—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
- C07C67/54—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation by distillation
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- B01D3/141—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column where at least one distillation column contains at least one dividing wall
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C69/80—Phthalic acid esters
- C07C69/82—Terephthalic acid esters
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ジメチルテレフタレートの製造において、少
ないエネルギで実施できる粗製エステルの分離法を提供
する。 【解決手段】 主にパラ−キシレンおよびパラ−トルイ
ル酸メチルエステルを接触酸化し、引き続き酸化からの
反応生成物をメタノールを用いてエステル化することに
より得られる粗製エステルを、ｐ−ＴＥの多いフラクシ
ョン、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の残留物フ
ラクションに分離し、その際、仕切り壁カラム、または
前カラムを有する蒸留カラム、または後カラムを有する
蒸留カラムを有する分離ユニット中で粗製エステルを分
離する。
ないエネルギで実施できる粗製エステルの分離法を提供
する。 【解決手段】 主にパラ−キシレンおよびパラ−トルイ
ル酸メチルエステルを接触酸化し、引き続き酸化からの
反応生成物をメタノールを用いてエステル化することに
より得られる粗製エステルを、ｐ−ＴＥの多いフラクシ
ョン、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の残留物フ
ラクションに分離し、その際、仕切り壁カラム、または
前カラムを有する蒸留カラム、または後カラムを有する
蒸留カラムを有する分離ユニット中で粗製エステルを分
離する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ジメチルテレフタ
レート（ＤＭＴ）を製造する際に、主にパラ−キシレン
（ｐ−Ｘ）およびパラ−トルイル酸メチルエステル（ｐ
−ＴＥ）を接触酸化し、引き続き酸化からの反応生成物
をメタノールを用いてエステル化することにより得られ
る、いわゆる粗製エステルを、ｐ−ＴＥの多いフラクシ
ョン、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の残留物フ
ラクションに分離する方法およびこれと結びついたジメ
チルテレフタレート（ＤＭＴ）を製造する方法に関す
る。
レート（ＤＭＴ）を製造する際に、主にパラ−キシレン
（ｐ−Ｘ）およびパラ−トルイル酸メチルエステル（ｐ
−ＴＥ）を接触酸化し、引き続き酸化からの反応生成物
をメタノールを用いてエステル化することにより得られ
る、いわゆる粗製エステルを、ｐ−ＴＥの多いフラクシ
ョン、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の残留物フ
ラクションに分離する方法およびこれと結びついたジメ
チルテレフタレート（ＤＭＴ）を製造する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】現在のウィッテン−ＤＭＴ法（Witten−
ＤＭＴ process）が主に、一般に後方接続された排ガス
浄化装置中でパラ−キシレン（ｐ−Ｘ）およびパラ−ト
ルイル酸メチルエステル（ｐ−ＴＥ）を酸化する、酸化
からの反応生成物をメタノールを用いてエステル化す
る、生じた、いわゆる粗製エステル（ＤＭＴ粗製）を、
一般に酸化に戻されるｐ−ＴＥの多いフラクション、一
般に８５重量％より多いＤＭＴを含有する粗製ＤＭＴフ
ラクションおよび高沸点の残留物フラクションに分離
し、場合によりたとえば後方接続されたメタノリシスま
たは熱分解および引き続く触媒の回収により後処理す
る、粗製ＤＭＴフラクションを、たとえば洗浄、再結晶
および蒸留により精製する工程からなることは公知であ
る（“dimethylterepthalate”,Ullmann Vol.22,4th ed
ition、529-533頁、欧州特許公告第０４６４０４６号明
細書、ドイツ特許出願公開第４０２６７３３号明細
書）。ＤＭＴ、すなわち特にＤＭＴの多いフラクション
もしくはきわめて純粋のＤＭＴから意図的な加水分解に
より相当する特性を有するテレフタル酸を製造すること
も可能である。
ＤＭＴ process）が主に、一般に後方接続された排ガス
浄化装置中でパラ−キシレン（ｐ−Ｘ）およびパラ−ト
ルイル酸メチルエステル（ｐ−ＴＥ）を酸化する、酸化
からの反応生成物をメタノールを用いてエステル化す
る、生じた、いわゆる粗製エステル（ＤＭＴ粗製）を、
一般に酸化に戻されるｐ−ＴＥの多いフラクション、一
般に８５重量％より多いＤＭＴを含有する粗製ＤＭＴフ
ラクションおよび高沸点の残留物フラクションに分離
し、場合によりたとえば後方接続されたメタノリシスま
たは熱分解および引き続く触媒の回収により後処理す
る、粗製ＤＭＴフラクションを、たとえば洗浄、再結晶
および蒸留により精製する工程からなることは公知であ
る（“dimethylterepthalate”,Ullmann Vol.22,4th ed
ition、529-533頁、欧州特許公告第０４６４０４６号明
細書、ドイツ特許出願公開第４０２６７３３号明細
書）。ＤＭＴ、すなわち特にＤＭＴの多いフラクション
もしくはきわめて純粋のＤＭＴから意図的な加水分解に
より相当する特性を有するテレフタル酸を製造すること
も可能である。
【０００３】パラ−キシレン（ｐ−Ｘ）およびパラ−ト
ルイル酸メチルエステル（ｐ−ＴＥまたはｐＴ−エステ
ル）からなる混合物の酸化は一般に液相中で約１４０〜
１８０℃の温度および約４〜８バール絶対の圧力で重金
属触媒の存在下で（ドイツ特許第２０１０１３７号明細
書）空気酸素を用いて実施する。酸化工程から、主にモ
ノメチルテレフタレート（ＭＭＴ）、ｐ−トルイル酸
（ｐ−ＴＡ）およびテレフタル酸（ＴＡ）をｐ−ＴＥ中
に溶解してまたは懸濁して含有し、約２５０〜２８０℃
の温度および約２０〜２５バール絶対の圧力でメタノー
ルでエステル化される反応混合物が生じる。以下に“粗
製エステル蒸留”と称される分離ユニット中で、今や得
られた粗製エステルを蒸留によりｐ−ＴＥフラクショ
ン、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の、触媒を含
有する残留物フラクションに分離する。ｐ−ＴＥフラク
ションは酸化に戻し、粗製ＤＭＴフラクションを以下の
精製工程を介して所望の生成物特性に移行する。粗製エ
ステル蒸留から生じる残留物フラクションをメタノリシ
スまたは熱分解することができ、その際生じる価値生成
物を製造工程に戻す。
ルイル酸メチルエステル（ｐ−ＴＥまたはｐＴ−エステ
ル）からなる混合物の酸化は一般に液相中で約１４０〜
１８０℃の温度および約４〜８バール絶対の圧力で重金
属触媒の存在下で（ドイツ特許第２０１０１３７号明細
書）空気酸素を用いて実施する。酸化工程から、主にモ
ノメチルテレフタレート（ＭＭＴ）、ｐ−トルイル酸
（ｐ−ＴＡ）およびテレフタル酸（ＴＡ）をｐ−ＴＥ中
に溶解してまたは懸濁して含有し、約２５０〜２８０℃
の温度および約２０〜２５バール絶対の圧力でメタノー
ルでエステル化される反応混合物が生じる。以下に“粗
製エステル蒸留”と称される分離ユニット中で、今や得
られた粗製エステルを蒸留によりｐ−ＴＥフラクショ
ン、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の、触媒を含
有する残留物フラクションに分離する。ｐ−ＴＥフラク
ションは酸化に戻し、粗製ＤＭＴフラクションを以下の
精製工程を介して所望の生成物特性に移行する。粗製エ
ステル蒸留から生じる残留物フラクションをメタノリシ
スまたは熱分解することができ、その際生じる価値生成
物を製造工程に戻す。
【０００４】ウィッテン−ＤＭＴ法においては、粗製エ
ステルの蒸留を、一般にフラッシュ室装置（flash cham
ber system、図１参照）および２個のカラム装置（図２
参照）を使用して実施する。３個のカラム装置も同様に
開示されている（ドイツ特許出願公開第３０１１８５８
号明細書）。しかしながらこれらの装置においては、ｐ
−ＴＥの多いフラクションのほかに粗製ＤＭＴフラクシ
ョンを頭部から排出しなければならず、それにより高い
エネルギ需要が生じることが欠点である。更に前記の装
置においては、カラム底部の高い滞留時間に促進されて
著しい量の好ましくない副生成物が形成され、これが製
造収率を著しく低下する。更にフラッシュ室装置および
２個または３個のカラム装置はＤＭＴ装置の設置、作動
および維持に関する著しい費用の原因である。
ステルの蒸留を、一般にフラッシュ室装置（flash cham
ber system、図１参照）および２個のカラム装置（図２
参照）を使用して実施する。３個のカラム装置も同様に
開示されている（ドイツ特許出願公開第３０１１８５８
号明細書）。しかしながらこれらの装置においては、ｐ
−ＴＥの多いフラクションのほかに粗製ＤＭＴフラクシ
ョンを頭部から排出しなければならず、それにより高い
エネルギ需要が生じることが欠点である。更に前記の装
置においては、カラム底部の高い滞留時間に促進されて
著しい量の好ましくない副生成物が形成され、これが製
造収率を著しく低下する。更にフラッシュ室装置および
２個または３個のカラム装置はＤＭＴ装置の設置、作動
および維持に関する著しい費用の原因である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、製造中のエネルギの需要を低下することができ、従
って経済効率を高めることができる、ＤＭＴ法において
粗製エステルを分離する方法を提供することであった。
は、製造中のエネルギの需要を低下することができ、従
って経済効率を高めることができる、ＤＭＴ法において
粗製エステルを分離する方法を提供することであった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明によ
り、請求項１に記載の方法により解決される。
り、請求項１に記載の方法により解決される。
【０００７】今や、仕切り壁を有する蒸留カラム、省略
して仕切り壁カラム、または前カラム（precolumn）を
有する蒸留カラム、または後カラム（aftercolumn）を
有する蒸留カラムを有する分離ユニット中で粗製エステ
ルの分離を実施すると、ＤＭＴ法において著しい量のエ
ネルギを節約できることが判明した。
して仕切り壁カラム、または前カラム（precolumn）を
有する蒸留カラム、または後カラム（aftercolumn）を
有する蒸留カラムを有する分離ユニット中で粗製エステ
ルの分離を実施すると、ＤＭＴ法において著しい量のエ
ネルギを節約できることが判明した。
【０００８】仕切り壁を有する蒸留カラムと、付加的に
結合した補助カラムを有するカラムとを有するカラム装
置は原則的に知られており、その機能の一般的形式は開
示されている。 ECN 2-8 October 1995, p.26 “BASF d
istils energy savings”, Chem.Eng.Res.Des.（1993）
71 （3） p.307,“The control of dividing wall col
umn”,米国特許第２４７１１３４号明細書、Chem.Eng.R
es.Des.Part A TransIChem E,Sep.1993,pp.639-644,“H
eat transfer across the wall of dividingwall”,Che
m.Eng.Res.Des.Part A ：Trans I Chem E,March 1992,p
p118-132,“The design and optimisation of fully th
ermally coupled distillation columns”。
結合した補助カラムを有するカラムとを有するカラム装
置は原則的に知られており、その機能の一般的形式は開
示されている。 ECN 2-8 October 1995, p.26 “BASF d
istils energy savings”, Chem.Eng.Res.Des.（1993）
71 （3） p.307,“The control of dividing wall col
umn”,米国特許第２４７１１３４号明細書、Chem.Eng.R
es.Des.Part A TransIChem E,Sep.1993,pp.639-644,“H
eat transfer across the wall of dividingwall”,Che
m.Eng.Res.Des.Part A ：Trans I Chem E,March 1992,p
p118-132,“The design and optimisation of fully th
ermally coupled distillation columns”。
【０００９】本発明の方法の特別の利点は、粗製ＤＭＴ
フラクションを側面の取り出し口から除去することがで
き、もはや頭部から排出する必要がないことから生じ
る。これにより、粗製エステル蒸留の公知の方法と比較
して、そうでなければ未変化の粗製ＤＭＴ特性において
著しいエネルギの節約が達成される。更に生成物に対し
て比較的温和な条件下で達成可能な、加熱カラム底部の
価値生成物の滞留時間の減少により、収率に不利に影響
する好ましくない副生成物が減少する。
フラクションを側面の取り出し口から除去することがで
き、もはや頭部から排出する必要がないことから生じ
る。これにより、粗製エステル蒸留の公知の方法と比較
して、そうでなければ未変化の粗製ＤＭＴ特性において
著しいエネルギの節約が達成される。更に生成物に対し
て比較的温和な条件下で達成可能な、加熱カラム底部の
価値生成物の滞留時間の減少により、収率に不利に影響
する好ましくない副生成物が減少する。
【００１０】従って本発明は、ジメチルテレフタレート
（ＤＭＴ）を製造する際に、主にパラ−キシレン（ｐ−
Ｘ）およびパラ−トルイル酸メチルエステル（ｐ−Ｔ
Ｅ）を接触酸化し、引き続き酸化からの反応生成物をメ
タノールを用いてエステル化することにより得られる、
いわゆる粗製エステルを、ｐ−ＴＥの多いフラクショ
ン、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の残留物フラ
クションに分離する方法に関し、この方法は、粗製エス
テルの分離を、仕切り壁カラム、または前カラムを有す
る蒸留カラム、または後カラムを有する蒸留カラムを有
する分離ユニット中で実施することを特徴とする。
（ＤＭＴ）を製造する際に、主にパラ−キシレン（ｐ−
Ｘ）およびパラ−トルイル酸メチルエステル（ｐ−Ｔ
Ｅ）を接触酸化し、引き続き酸化からの反応生成物をメ
タノールを用いてエステル化することにより得られる、
いわゆる粗製エステルを、ｐ−ＴＥの多いフラクショ
ン、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の残留物フラ
クションに分離する方法に関し、この方法は、粗製エス
テルの分離を、仕切り壁カラム、または前カラムを有す
る蒸留カラム、または後カラムを有する蒸留カラムを有
する分離ユニット中で実施することを特徴とする。
【００１１】本発明の方法において、粗製エステルの分
離は一般に１００〜２８０℃、有利には１３０〜２６０
℃の範囲内の温度でおよび５０〜５００ミリバール絶対
の範囲内の圧力で実施する。
離は一般に１００〜２８０℃、有利には１３０〜２６０
℃の範囲内の温度でおよび５０〜５００ミリバール絶対
の範囲内の圧力で実施する。
【００１２】本発明の分離ユニットの特に良好な分離効
率を達成し、同時に装置に関する圧力の上昇をできるだ
け低くするために、いわゆる構造化した充填物を仕切り
壁カラム、または前カラムもしくは後カラムを有する蒸
留カラムおよび／または前カラムもしくは後カラムに組
み込むことができる。
率を達成し、同時に装置に関する圧力の上昇をできるだ
け低くするために、いわゆる構造化した充填物を仕切り
壁カラム、または前カラムもしくは後カラムを有する蒸
留カラムおよび／または前カラムもしくは後カラムに組
み込むことができる。
【００１３】有利には本発明の方法において、粗製エス
テルの分離を１個のカラム装置中で実施する。これには
好ましくは付加的に接続された前カラムもしくは後カラ
ムを有する蒸留カラムを装備した分離ユニットが含まれ
るべきである。
テルの分離を１個のカラム装置中で実施する。これには
好ましくは付加的に接続された前カラムもしくは後カラ
ムを有する蒸留カラムを装備した分離ユニットが含まれ
るべきである。
【００１４】一般に粗製エステルの分離の際に生じた粗
製ＤＭＴフラクションを更に処理し、有利にはより高い
純度のジメチルテレフタレート、たとえばきわめて純粋
なＤＭＴを生じ、および相当する特性のテレフタル酸
（ＴＡ）、たとえばＰＴＡまたはＰＴＡ−ｐを生じ、こ
れは有利には相当するＤＭＴ特性の加水分解により得ら
れる。粗製ＤＭＴフラクションを更に処理するために、
冒頭に記載の方法で処理することができる。
製ＤＭＴフラクションを更に処理し、有利にはより高い
純度のジメチルテレフタレート、たとえばきわめて純粋
なＤＭＴを生じ、および相当する特性のテレフタル酸
（ＴＡ）、たとえばＰＴＡまたはＰＴＡ−ｐを生じ、こ
れは有利には相当するＤＭＴ特性の加水分解により得ら
れる。粗製ＤＭＴフラクションを更に処理するために、
冒頭に記載の方法で処理することができる。
【００１５】従って本発明は、請求項１から６までのい
ずれか１項記載の、パラ−キシレン（ｐ−Ｘ）およびパ
ラ−トルイル酸メチルエステル（ｐ−ＴＥ）を酸化す
る、酸化からの反応生成物をメタノールを用いてエステ
ル化する、生じた、いわゆる粗製エステルをｐ−ＴＥの
多いフラクション、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸
点の残留物フラクションに分離する、粗製ＤＭＴフラク
ションを精製する、工程からなるジメチルテレフタレー
ト（ＤＭＴ）を製造する方法に関し、この方法は、粗製
エステルの分離を、仕切り壁カラム、または前カラムを
有する蒸留カラム、または後カラムを有する蒸留カラム
を装備した分離ユニット中で実施することを特徴とす
る。
ずれか１項記載の、パラ−キシレン（ｐ−Ｘ）およびパ
ラ−トルイル酸メチルエステル（ｐ−ＴＥ）を酸化す
る、酸化からの反応生成物をメタノールを用いてエステ
ル化する、生じた、いわゆる粗製エステルをｐ−ＴＥの
多いフラクション、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸
点の残留物フラクションに分離する、粗製ＤＭＴフラク
ションを精製する、工程からなるジメチルテレフタレー
ト（ＤＭＴ）を製造する方法に関し、この方法は、粗製
エステルの分離を、仕切り壁カラム、または前カラムを
有する蒸留カラム、または後カラムを有する蒸留カラム
を装備した分離ユニット中で実施することを特徴とす
る。
【００１６】本発明の方法の利点は、一般に本発明の分
離ユニットに関する投入費用が匹敵する一般的な装置よ
りも著しく低いことである。
離ユニットに関する投入費用が匹敵する一般的な装置よ
りも著しく低いことである。
【００１７】
【実施例】本発明を図面により説明する。
【００１８】図１は、従来の方法により、フラッシュ室
装置と称される、ＤＭＴ法において粗製エステルを蒸留
するブロック図である。参照符号は以下のものを表す。
装置と称される、ＤＭＴ法において粗製エステルを蒸留
するブロック図である。参照符号は以下のものを表す。
【００１９】物質流 １.エステル化からの粗製エステル ２.後処理用高沸点の、触媒を含有する残留物フラクシ
ョン ３.酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 ４.更に精製するための粗製ＤＭＴ 装置部材 ５.フラッシュ室 ６.粗製エステル蒸留カラム 図２は２個のカラム装置と称される、ＤＭＴ法において
粗製エステルを蒸留するブロック図である。参照符号は
以下のものを表す。
ョン ３.酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 ４.更に精製するための粗製ＤＭＴ 装置部材 ５.フラッシュ室 ６.粗製エステル蒸留カラム 図２は２個のカラム装置と称される、ＤＭＴ法において
粗製エステルを蒸留するブロック図である。参照符号は
以下のものを表す。
【００２０】物質流 １.エステル化からの粗製エステル ２.酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 ３.更に精製するための粗製ＤＭＴフラクション ４.後処理用高沸点の、触媒を含有する残留物フラクシ
ョン 装置部材 ５.ｐ−ＴＥ蒸留カラム ６.粗製ＤＭＴ蒸留カラム 図３は本発明による、ＤＭＴ法において粗製エステルを
分離する分離ユニットの有利な実施態様のブロック図で
あり、参照符号は以下のものを表し、該ユニットは側面
の取り出し口を有する仕切り壁カラムとして構成されて
いる。有利には粗製エステルをまず仕切り壁の側面で仕
切り壁カラムに添加する。仕切り壁カラムの頭部で、Ｄ
ＭＴより容易に沸騰するｐ−ＴＥフラクションを取り出
し、酸化に戻すことができる。有利には仕切り壁カラム
中の仕切り壁は残留物フラクションの高沸点成分および
重金属触媒が粗製ＤＭＴフラクションに達することを阻
止する。粗製ＤＭＴフラクションは側面の取り出し口を
介して、有利には仕切り壁の高さで仕切り壁カラムを離
れる。高沸点残留物フラクションは一般に仕切り壁カラ
ムの底部で取り出される。
ョン 装置部材 ５.ｐ−ＴＥ蒸留カラム ６.粗製ＤＭＴ蒸留カラム 図３は本発明による、ＤＭＴ法において粗製エステルを
分離する分離ユニットの有利な実施態様のブロック図で
あり、参照符号は以下のものを表し、該ユニットは側面
の取り出し口を有する仕切り壁カラムとして構成されて
いる。有利には粗製エステルをまず仕切り壁の側面で仕
切り壁カラムに添加する。仕切り壁カラムの頭部で、Ｄ
ＭＴより容易に沸騰するｐ−ＴＥフラクションを取り出
し、酸化に戻すことができる。有利には仕切り壁カラム
中の仕切り壁は残留物フラクションの高沸点成分および
重金属触媒が粗製ＤＭＴフラクションに達することを阻
止する。粗製ＤＭＴフラクションは側面の取り出し口を
介して、有利には仕切り壁の高さで仕切り壁カラムを離
れる。高沸点残留物フラクションは一般に仕切り壁カラ
ムの底部で取り出される。
【００２１】物質流 １.エステル化からの粗製エステル ２. 後処理用高沸点の、触媒を含有する残留物フラクシ
ョン ３.更に精製するための粗製ＤＭＴフラクションの側面
の取り出し口 ４. 酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 装置部材 ５.仕切り壁蒸留カラム 本発明により、前カラムまたは後カラムと称される、補
助カラムの蒸留カラムへの適当な前方接続または後方接
続により、粗製エステルを分離する際に前記の残留物フ
ラクションの成分が粗製ＤＭＴフラクションに達するこ
とが同様に阻止される。これに関しては図４および５を
参照。
ョン ３.更に精製するための粗製ＤＭＴフラクションの側面
の取り出し口 ４. 酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 装置部材 ５.仕切り壁蒸留カラム 本発明により、前カラムまたは後カラムと称される、補
助カラムの蒸留カラムへの適当な前方接続または後方接
続により、粗製エステルを分離する際に前記の残留物フ
ラクションの成分が粗製ＤＭＴフラクションに達するこ
とが同様に阻止される。これに関しては図４および５を
参照。
【００２２】図４は本発明による、ＤＭＴ法において粗
製エステルを分離する分離ユニットのもう１つの有利な
実施態様のブロック図であり、参照符号は以下のものを
表し、該ユニットは粗製ＤＭＴフラクションの側面の取
り出し口および付加的に接続された前カラムを有する蒸
留カラムとして構成されている。有利には粗製エステル
をまず側面で前カラムに供給する。
製エステルを分離する分離ユニットのもう１つの有利な
実施態様のブロック図であり、参照符号は以下のものを
表し、該ユニットは粗製ＤＭＴフラクションの側面の取
り出し口および付加的に接続された前カラムを有する蒸
留カラムとして構成されている。有利には粗製エステル
をまず側面で前カラムに供給する。
【００２３】物質流 １.エステル化からの粗製エステル ２.後処理用高沸点の、触媒を含有する残留物フラクシ
ョン ３. 更に精製するための粗製ＤＭＴフラクションの側面
の取り出し口 ４.酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 装置部材 ５. 粗製エステル蒸留カラム ６.前カラム 図５は本発明による、ＤＭＴ法において粗製エステルを
分離する分離ユニットのもう１つの有利な実施態様のブ
ロック図であり、参照符号は以下のものを表し、該ユニ
ットは粗製ＤＭＴフラクションの側面の取り出し口を含
む付加的に接続された後カラムを有する蒸留カラムとし
て構成されている。
ョン ３. 更に精製するための粗製ＤＭＴフラクションの側面
の取り出し口 ４.酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 装置部材 ５. 粗製エステル蒸留カラム ６.前カラム 図５は本発明による、ＤＭＴ法において粗製エステルを
分離する分離ユニットのもう１つの有利な実施態様のブ
ロック図であり、参照符号は以下のものを表し、該ユニ
ットは粗製ＤＭＴフラクションの側面の取り出し口を含
む付加的に接続された後カラムを有する蒸留カラムとし
て構成されている。
【００２４】物質流 １.エステル化からの粗製エステル ２.後処理用高沸点の、触媒を含有する残留物フラクシ
ョン ３. 更に精製するための粗製ＤＭＴフラクションの側面
の取り出し口 ４.酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 装置部材 ５. 粗製エステル蒸留カラム ６.後カラム 略号の説明 ｐ−Ｘ：パラ−キシレン ｐ−ＴＡ：パラ−トルイル酸 ｐ−ＴＥ：パラ−トルイル酸メチルエステル（ｐＴ−エ
ステル） ＢＭＥ：安息香酸メチルエステル ＨＭ−ＢＭＥ：ヒドロキシメチル安息香酸メチルエステ
ル ＭＭ−ＢＭＥ：メトキシメチル安息香酸メチルエステル ＤＭＴ：ジメチルテレフタレート ＤＭＴ−粗製：粗製エステル（エステル化後のＤＭＴ−
粗製エステル流） 粗製−ＤＭＴ：粗製エステル蒸留後のジメチルテレフタ
レートフラクション きわめて純粋なＤＭＴ：きわめて純粋なジメチルテレフ
タレート（高純粋のＤＭＴ中間生成物または最終生成
物） ＤＭＯ：ジメチルオルトフタル酸 ＤＭＩ：ジメチルイソフタル酸 ＤＭＰ：ジメチルフタレート＝ＤＭＴ、ＤＭＯおよびＤ
ＭＩからなる異性体混合物 ＭＭＴ：モノメチルテレフタレート（テレフタル酸モノ
メチルエステル） ＴＡ：テレフタル酸 ＭＴＡ：中純度テレフタル酸 ＰＴＡ：高純度テレフタル酸 ＰＴＡ−ｐ：きわめて高い、すなわち最高純度のテレフ
タル酸（合わせて５０重量ｐｐｍ未満のＭＭＴおよびｐ
−ＴＡ含量） ＴＡＳ：テレフタルアルデヒド酸（４−ＣＢＡ） ＴＡＥ：テレフタルアルデヒド酸メチルエステル
ョン ３. 更に精製するための粗製ＤＭＴフラクションの側面
の取り出し口 ４.酸化へのｐ−ＴＥフラクションの返送 装置部材 ５. 粗製エステル蒸留カラム ６.後カラム 略号の説明 ｐ−Ｘ：パラ−キシレン ｐ−ＴＡ：パラ−トルイル酸 ｐ−ＴＥ：パラ−トルイル酸メチルエステル（ｐＴ−エ
ステル） ＢＭＥ：安息香酸メチルエステル ＨＭ−ＢＭＥ：ヒドロキシメチル安息香酸メチルエステ
ル ＭＭ−ＢＭＥ：メトキシメチル安息香酸メチルエステル ＤＭＴ：ジメチルテレフタレート ＤＭＴ−粗製：粗製エステル（エステル化後のＤＭＴ−
粗製エステル流） 粗製−ＤＭＴ：粗製エステル蒸留後のジメチルテレフタ
レートフラクション きわめて純粋なＤＭＴ：きわめて純粋なジメチルテレフ
タレート（高純粋のＤＭＴ中間生成物または最終生成
物） ＤＭＯ：ジメチルオルトフタル酸 ＤＭＩ：ジメチルイソフタル酸 ＤＭＰ：ジメチルフタレート＝ＤＭＴ、ＤＭＯおよびＤ
ＭＩからなる異性体混合物 ＭＭＴ：モノメチルテレフタレート（テレフタル酸モノ
メチルエステル） ＴＡ：テレフタル酸 ＭＴＡ：中純度テレフタル酸 ＰＴＡ：高純度テレフタル酸 ＰＴＡ−ｐ：きわめて高い、すなわち最高純度のテレフ
タル酸（合わせて５０重量ｐｐｍ未満のＭＭＴおよびｐ
−ＴＡ含量） ＴＡＳ：テレフタルアルデヒド酸（４−ＣＢＡ） ＴＡＥ：テレフタルアルデヒド酸メチルエステル
【図１】ＤＭＴ法において粗製エステルを蒸留するブロ
ック図である。
ック図である。
【図２】ＤＭＴ法において粗製エステルを蒸留するもう
１つのブロック図である。
１つのブロック図である。
【図３】本発明の方法によりＤＭＴ法において粗製エス
テルを蒸留するブロック図である。
テルを蒸留するブロック図である。
【図４】本発明の方法によりＤＭＴ法において粗製エス
テルを蒸留する第２のブロック図である。
テルを蒸留する第２のブロック図である。
【図５】本発明の方法によりＤＭＴ法において粗製エス
テルを蒸留する第３のブロック図である。
テルを蒸留する第３のブロック図である。
１ 粗製エステル、 ２ 残留物フラクション、 ３
側面取り出し口、 ４フラクション、 ５ 蒸留カラ
ム、 ６ カラム
側面取り出し口、 ４フラクション、 ５ 蒸留カラ
ム、 ６ カラム
Claims (7)
- 【請求項１】 ジメチルテレフタレート（ＤＭＴ）を製
造する際に、主にパラ−キシレン（ｐ−Ｘ）およびパラ
−トルイル酸メチルエステル（ｐ−ＴＥ）を接触酸化
し、引き続き酸化からの反応生成物をメタノールを用い
てエステル化することにより得られる、いわゆる粗製エ
ステルを、ｐ−ＴＥの多いフラクション、粗製ＤＭＴフ
ラクションおよび高沸点の残留物フラクションに分離す
る方法において、粗製エステルの分離を、仕切り壁カラ
ム、または前カラムを有する蒸留カラム、または後カラ
ムを有する蒸留カラムを有する分離ユニット中で実施す
ることを特徴とする粗製エステルの分離法。 - 【請求項２】 粗製エステルの分離を100〜280℃の範囲
内の温度および５０〜５００ミリバール絶対の範囲内の
圧力で実施する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 仕切り壁カラム、または前カラムもしく
は後カラムを有する蒸留カラムおよび／または前カラム
もしくは後カラムに構造化した充填物を組み込む請求項
１または２記載の方法。 - 【請求項４】 ｐ−ＴＥの多いフラクションを酸化に戻
す請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項５】 高沸点の残留物フラクションをメタノリ
シスまたは熱分解におよび触媒を回収するために作動ユ
ニットに供給する請求項１から４までのいずれか１項記
載の方法。 - 【請求項６】 粗製ＤＭＴフラクションをより高い純度
のジメチルテレフタレートおよび／またはテレフタル酸
に更に加工する請求項１から５までのいずれか１項記載
の方法。 - 【請求項７】 請求項１から６までのいずれか１項記載
の、 パラ−キシレン（ｐ−Ｘ）およびパラ−トルイル酸メチ
ルエステル（ｐ−ＴＥ）を酸化する、 酸化からの反応生成物をメタノールを用いてエステル化
する、 生じた、いわゆる粗製エステルをｐ−ＴＥの多いフラク
ション、粗製ＤＭＴフラクションおよび高沸点の残留物
フラクションに分離する、 粗製ＤＭＴフラクションを精製する、工程からなるジメ
チルテレフタレート（ＤＭＴ）を製造する方法におい
て、粗製エステルの分離を、仕切り壁カラム、または前
カラムを有する蒸留カラム、または後カラムを有する蒸
留カラムを装備した分離ユニット中で実施することを特
徴とする、ジメチルテレフタレートの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19618152A DE19618152C1 (de) | 1996-05-07 | 1996-05-07 | Verfahren zur Trennung von Rohester im DMT-Prozeß |
| DE19618152.6 | 1996-05-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09301930A true JPH09301930A (ja) | 1997-11-25 |
Family
ID=7793486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9022615A Pending JPH09301930A (ja) | 1996-05-07 | 1997-02-05 | 粗製エステルの分離法およびジメチルテレフタレートの製造法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0806406A1 (ja) |
| JP (1) | JPH09301930A (ja) |
| KR (1) | KR970074745A (ja) |
| BG (1) | BG101136A (ja) |
| CZ (1) | CZ11097A3 (ja) |
| DE (1) | DE19618152C1 (ja) |
| TR (1) | TR199700142A2 (ja) |
| TW (1) | TW397818B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015530416A (ja) * | 2012-09-28 | 2015-10-15 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 高純度グリコールエステル類の生成のための方法 |
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| DE10100552A1 (de) * | 2001-01-09 | 2002-07-11 | Basf Ag | Verfahren und Vorrichtung zur destillativen Aufarbeitung von 1,6-Hexandiol, 1,5-Pentandiol ung Caprolacton |
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| US7525004B2 (en) | 2007-05-23 | 2009-04-28 | Uop Llc | Process for producing ethylbenzene |
| US7525005B2 (en) | 2007-05-23 | 2009-04-28 | Uop Llc | Process for producing cumene |
| US7498471B2 (en) | 2007-05-23 | 2009-03-03 | Uop Llc | Process for producing cumene |
| US7498472B2 (en) | 2007-05-23 | 2009-03-03 | Uop Llc | Process for producing ethylbenzene |
| US7525003B2 (en) | 2007-05-23 | 2009-04-28 | Uop Llc | Process for producing ethylbenzene |
| US7525006B2 (en) | 2007-05-23 | 2009-04-28 | Uop Llc | Process for producing cumene |
| WO2023140986A1 (en) | 2022-01-19 | 2023-07-27 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Compositions containing tri-cyclopentadiene and processes for making same |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2992168A (en) * | 1959-07-09 | 1961-07-11 | Eastman Kodak Co | Process of purifying dimethyl terephthalate and other compounds which sublime |
| DE3011858C2 (de) * | 1979-04-21 | 1982-11-25 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur Herstellung von Terephtalsäure aus Roh-Dimethylterephthalat durch kontinuierliche Hydrolyse mit Wasser |
| DE3045332C2 (de) * | 1980-12-02 | 1982-11-25 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur Gewinnung und Wiederverwendung von Schwermetalloxidationskatalysator aus Rückständen im Witten-DMT-Prozeß |
| DE3407925C1 (de) * | 1984-03-03 | 1985-09-05 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur Herstellung von Terephthalsaeuredimethylester aus p-Xylol und Methanol |
| DE3904586A1 (de) * | 1989-02-16 | 1990-08-23 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung von dmt-zwischenprodukt bestimmter reinheit sowie dessen weiterverarbeitung zu reinst-dmt und/oder mittel- oder hochreiner terephthalsaeure |
| EP0464064B1 (de) * | 1989-03-21 | 1995-01-04 | Josef Hobelsberger | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von eisfiguren |
-
1996
- 1996-05-07 DE DE19618152A patent/DE19618152C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-14 CZ CZ97110A patent/CZ11097A3/cs unknown
- 1997-01-16 BG BG101136A patent/BG101136A/xx unknown
- 1997-01-17 EP EP97100725A patent/EP0806406A1/de not_active Withdrawn
- 1997-01-21 KR KR1019970001551A patent/KR970074745A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-02-05 JP JP9022615A patent/JPH09301930A/ja active Pending
- 1997-02-14 TW TW086101710A patent/TW397818B/zh active
- 1997-02-20 TR TR97/00142A patent/TR199700142A2/xx unknown
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015530416A (ja) * | 2012-09-28 | 2015-10-15 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 高純度グリコールエステル類の生成のための方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW397818B (en) | 2000-07-11 |
| CZ11097A3 (cs) | 1998-04-15 |
| KR970074745A (ko) | 1997-12-10 |
| BG101136A (en) | 1998-04-30 |
| TR199700142A2 (xx) | 1997-11-21 |
| DE19618152C1 (de) | 1997-08-14 |
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