JPH09297012A - 共焦点光学装置におけるピーク処理方法 - Google Patents
共焦点光学装置におけるピーク処理方法Info
- Publication number
- JPH09297012A JPH09297012A JP11141396A JP11141396A JPH09297012A JP H09297012 A JPH09297012 A JP H09297012A JP 11141396 A JP11141396 A JP 11141396A JP 11141396 A JP11141396 A JP 11141396A JP H09297012 A JPH09297012 A JP H09297012A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- output waveform
- light source
- confocal optical
- height
- optical device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/002—Scanning microscopes
- G02B21/0024—Confocal scanning microscopes (CSOMs) or confocal "macroscopes"; Accessories which are not restricted to use with CSOMs, e.g. sample holders
- G02B21/008—Details of detection or image processing, including general computer control
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/002—Scanning microscopes
- G02B21/0024—Confocal scanning microscopes (CSOMs) or confocal "macroscopes"; Accessories which are not restricted to use with CSOMs, e.g. sample holders
- G02B21/0052—Optical details of the image generation
- G02B21/0056—Optical details of the image generation based on optical coherence, e.g. phase-contrast arrangements, interference arrangements
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コヒーレント性の強い光源を用いた共焦点光
学装置において、Ｚ−Ｖプロファイリングにおける実出
力波形Ｖｓの振動の影響をどのサンプリング位置でも均
等に出るようにする。 【解決手段】 複数の共焦点光学系を２次元方向に配列
してなり、光源にコヒーレント性の強い光源を用い、理
論的共焦点出力波形Ｖｔに上記光源の周期的振動波形Ｖ
ｃが重畳されたＺ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓを
高さ方向にサンプリングしてピーク部の高さを求めるよ
うにした共焦点光学装置におけるピーク処理方法におい
て、どの高さ方向のサンプル点においても上記実出力波
形Ｖｓの周期Ｚｔの振動の影響が同じく出るように、上
記サンプル周期をＺ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓ
の周期Ｚｔの整数倍とし、この間欠的に出力されるＺ−
Ｖ出力に対してピーク部の高さの値を求める。
学装置において、Ｚ−Ｖプロファイリングにおける実出
力波形Ｖｓの振動の影響をどのサンプリング位置でも均
等に出るようにする。 【解決手段】 複数の共焦点光学系を２次元方向に配列
してなり、光源にコヒーレント性の強い光源を用い、理
論的共焦点出力波形Ｖｔに上記光源の周期的振動波形Ｖ
ｃが重畳されたＺ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓを
高さ方向にサンプリングしてピーク部の高さを求めるよ
うにした共焦点光学装置におけるピーク処理方法におい
て、どの高さ方向のサンプル点においても上記実出力波
形Ｖｓの周期Ｚｔの振動の影響が同じく出るように、上
記サンプル周期をＺ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓ
の周期Ｚｔの整数倍とし、この間欠的に出力されるＺ−
Ｖ出力に対してピーク部の高さの値を求める。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３次元形状、例え
ば、被計測物体のおよその表面形状が既知であるＩＣ実
装用ハンダバンブ等の被計測物体の形状を高速で検査す
る３次元形状検査装置に用いる共焦点光学装置で、特に
複数の共焦点光学系を２次元方向に配列してなる、いわ
ゆるタンデム型の共焦点光学装置に関するものである。
ば、被計測物体のおよその表面形状が既知であるＩＣ実
装用ハンダバンブ等の被計測物体の形状を高速で検査す
る３次元形状検査装置に用いる共焦点光学装置で、特に
複数の共焦点光学系を２次元方向に配列してなる、いわ
ゆるタンデム型の共焦点光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の共焦点光学装置は図１に示すよ
うになっており、光源１の光は拡大レンズ２ａ，２ｂを
介して平行光となってホログラム３に参照光として入射
する。ホログラム３はピンホールアレイ４の各ピンホー
ル位置から出射する点光源と等価な光を、上記参照光を
回折することにより再生する。
うになっており、光源１の光は拡大レンズ２ａ，２ｂを
介して平行光となってホログラム３に参照光として入射
する。ホログラム３はピンホールアレイ４の各ピンホー
ル位置から出射する点光源と等価な光を、上記参照光を
回折することにより再生する。
【０００３】この再生光は、第１対物レンズ５ａによっ
て物体（被計測物体）６に投光され、物体６で散乱し、
反射し、第１対物レンズ５ａ、ホログラム３を透過し、
第２対物レンズ５ｂを介してピンホールアレイ４に集光
する。この図１は１つのピンホール位置の光を代表して
表現している。
て物体（被計測物体）６に投光され、物体６で散乱し、
反射し、第１対物レンズ５ａ、ホログラム３を透過し、
第２対物レンズ５ｂを介してピンホールアレイ４に集光
する。この図１は１つのピンホール位置の光を代表して
表現している。
【０００４】図２，図３，図４は投光の第１対物レンズ
５ａによる集光点と、物体６の表面の光軸方向（Ｚ方
向）の位置関係に対して、反射光がピンホールアレイ４
付近でどのように結像するかを示したものである。これ
によれば、図３に示すように、集光点と物体６の表面が
一致（合焦）したときのみ反射光がピンホールアレイ４
のピンホール４ａを通過するが、それ以外のとき、すな
わち、図２に示すように集光点が物体６に反射した後に
ある場合（後ピン）、あるいは図４に示すように、反射
する前にある場合（前ピン）には、反射光はピンホール
アレイ４に遮蔽されて殆ど、通過できなくなり、いわゆ
る受光絞り作用がなされる。
５ａによる集光点と、物体６の表面の光軸方向（Ｚ方
向）の位置関係に対して、反射光がピンホールアレイ４
付近でどのように結像するかを示したものである。これ
によれば、図３に示すように、集光点と物体６の表面が
一致（合焦）したときのみ反射光がピンホールアレイ４
のピンホール４ａを通過するが、それ以外のとき、すな
わち、図２に示すように集光点が物体６に反射した後に
ある場合（後ピン）、あるいは図４に示すように、反射
する前にある場合（前ピン）には、反射光はピンホール
アレイ４に遮蔽されて殆ど、通過できなくなり、いわゆ
る受光絞り作用がなされる。
【０００５】この特性を利用すれば、物体６を光軸方向
（Ｚ方向）に移動しながらピンホール４ａを通過する反
射光の光量を図１に示すように、第１，第２のリレーレ
ンズ７ａ，７ｂを介して２次元用の光検出器アレイ８に
て計測することにより、最大の光量が得られた位置が物
体の表面であること、すなわち、物体６の表面の位置が
計測できることになる。これをピーク処理という。
（Ｚ方向）に移動しながらピンホール４ａを通過する反
射光の光量を図１に示すように、第１，第２のリレーレ
ンズ７ａ，７ｂを介して２次元用の光検出器アレイ８に
て計測することにより、最大の光量が得られた位置が物
体の表面であること、すなわち、物体６の表面の位置が
計測できることになる。これをピーク処理という。
【０００６】図１は図２〜図４で説明した共焦点光学系
を２次元的に配列したものであるから、物体６をＺ方向
に移動させながら、各ピンホール４ａを通過する反射光
の光量を計測し、これをピーク処理してやれば、ピンホ
ールに対応した部分の物体６の表面の形状計測をするこ
とができる。実際には、第１，第２の対物レンズ５ａ，
５ｂを共にテレセントリック系（アフォーカル系あるい
はタンデム配置ともいう）で構成し、物体６をＺ方向に
移動するかわりに第１対物レンズ５ａをＺ方向へ移動し
て計測する。
を２次元的に配列したものであるから、物体６をＺ方向
に移動させながら、各ピンホール４ａを通過する反射光
の光量を計測し、これをピーク処理してやれば、ピンホ
ールに対応した部分の物体６の表面の形状計測をするこ
とができる。実際には、第１，第２の対物レンズ５ａ，
５ｂを共にテレセントリック系（アフォーカル系あるい
はタンデム配置ともいう）で構成し、物体６をＺ方向に
移動するかわりに第１対物レンズ５ａをＺ方向へ移動し
て計測する。
【０００７】ピンホール４ａを通過する光は、第１，第
２のリレーレンズ７ａ，７ｂを介して２次元の光を検出
する光検出器アレイ８に結像し、個々のピンホール４ａ
を通過する光は、独立した光検出部分に結像して計測さ
れ制御装置９にて制御と処理される。この制御装置９
は、物体６を載置するステージ１０のＸＹ位置（必要が
あればＺ方向のオフセット位置）を制御して計測視野を
決め、第１対物レンズ５ａをＺ方向に移動しながら光検
出器アレイ８の計測値を読み出してピーク処理し、その
結果を表示、出力あるいは記録する。
２のリレーレンズ７ａ，７ｂを介して２次元の光を検出
する光検出器アレイ８に結像し、個々のピンホール４ａ
を通過する光は、独立した光検出部分に結像して計測さ
れ制御装置９にて制御と処理される。この制御装置９
は、物体６を載置するステージ１０のＸＹ位置（必要が
あればＺ方向のオフセット位置）を制御して計測視野を
決め、第１対物レンズ５ａをＺ方向に移動しながら光検
出器アレイ８の計測値を読み出してピーク処理し、その
結果を表示、出力あるいは記録する。
【０００８】次に上記ホログラム３の製造工程を図５を
参照して説明する。光源１１はレーザなどのコヒーレン
トな光源であり、ビームスプリッタ１２により波面分割
され、それぞれホログラム３の参照光、物体光の光源と
なる。光源１１の光が直線偏光の特性を示す場合には、
第１の１／２波長板１３ａの回転により直線偏光の偏光
方向を回転させ、ビームスプリッタ１２に偏光ビームス
プリッタを採用することにより、分割の強度比を所望の
値に設定する。
参照して説明する。光源１１はレーザなどのコヒーレン
トな光源であり、ビームスプリッタ１２により波面分割
され、それぞれホログラム３の参照光、物体光の光源と
なる。光源１１の光が直線偏光の特性を示す場合には、
第１の１／２波長板１３ａの回転により直線偏光の偏光
方向を回転させ、ビームスプリッタ１２に偏光ビームス
プリッタを採用することにより、分割の強度比を所望の
値に設定する。
【０００９】ビームスプリッタ１２にて分割した参照光
と物体光は、第１，第２及び第３，第４の拡大レンズ１
４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄにより拡大されて、それ
ぞれ、ホログラム３、ピンホールアレイ４に入射され
る。ピンホールアレイ４を透過する光は、それぞれのピ
ンホールで回折し、点光源と等価な光になり、対物レン
ズ５ｂにより平行光に変換され、ホログラム３に物体光
として入射される。第２，第３の１／２波長板１３ｂ，
１３ｃの調節により、参照光、物体光の偏光方向が所望
の方向（一般的には同じ方向になるようにする）に設定
され、ホログラム露光の準備が完了する。
と物体光は、第１，第２及び第３，第４の拡大レンズ１
４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄにより拡大されて、それ
ぞれ、ホログラム３、ピンホールアレイ４に入射され
る。ピンホールアレイ４を透過する光は、それぞれのピ
ンホールで回折し、点光源と等価な光になり、対物レン
ズ５ｂにより平行光に変換され、ホログラム３に物体光
として入射される。第２，第３の１／２波長板１３ｂ，
１３ｃの調節により、参照光、物体光の偏光方向が所望
の方向（一般的には同じ方向になるようにする）に設定
され、ホログラム露光の準備が完了する。
【００１０】図６から図８はホログラムを用いない第１
の他の共焦点光学装置を示すもので、図６は特開平４−
２６５９１８号公報、米国特許第５，２３９，１７８号
に示される、第１の従来型のものであり、光源１からの
光は拡大レンズ２により拡大されて、ピンホールアレイ
４に入射し、この各ピンホール４ａにて回折した光はビ
ームスプリッタ１５を通過し、第２，第１の対物レンズ
５ｂ，５ａによって物体６に投光されるようになってい
る。
の他の共焦点光学装置を示すもので、図６は特開平４−
２６５９１８号公報、米国特許第５，２３９，１７８号
に示される、第１の従来型のものであり、光源１からの
光は拡大レンズ２により拡大されて、ピンホールアレイ
４に入射し、この各ピンホール４ａにて回折した光はビ
ームスプリッタ１５を通過し、第２，第１の対物レンズ
５ｂ，５ａによって物体６に投光されるようになってい
る。
【００１１】そして物体６に投光されて反射散乱した光
は、第１，第２の対物レンズ５ａ，５ｂを逆に通ってビ
ームスプリッタ１５に入り、ここで反射して光検出器ア
レイ８に結像するようになっている。
は、第１，第２の対物レンズ５ａ，５ｂを逆に通ってビ
ームスプリッタ１５に入り、ここで反射して光検出器ア
レイ８に結像するようになっている。
【００１２】図７は米国特許第４，８０６，００４号に
示される第２の他の共焦点光学装置であり、光源１から
の光は拡大レンズ２により拡大されて、ピンホールアレ
イ４に入射し、ピンホール４ａで回折した光は第２，第
１の対物レンズ５ｂ，５ａによって物体６に投光される
ようになっている。
示される第２の他の共焦点光学装置であり、光源１から
の光は拡大レンズ２により拡大されて、ピンホールアレ
イ４に入射し、ピンホール４ａで回折した光は第２，第
１の対物レンズ５ｂ，５ａによって物体６に投光される
ようになっている。
【００１３】物体６に投光されて反射散乱した光は対物
レンズ５ａ，５ｂを介し、受光絞りの作用を奏するピン
ホールアレイ４に集光される。そして各ピンホール４ａ
を通過する光をリレーレンズ７を介して１対１で光検出
器アレイ８に結像する。この構成は、投光の点光源を作
るピンホールアレイ４と受光絞りのピンホールアレイ４
が同一の構造になっている。ただし、ピンホールアレイ
４の背後から光を入射する必要があるので、ピンホール
マスクの反射光Ｒによる迷光を何らかの方法で検出器ア
レイ８に到達しないようにしている。
レンズ５ａ，５ｂを介し、受光絞りの作用を奏するピン
ホールアレイ４に集光される。そして各ピンホール４ａ
を通過する光をリレーレンズ７を介して１対１で光検出
器アレイ８に結像する。この構成は、投光の点光源を作
るピンホールアレイ４と受光絞りのピンホールアレイ４
が同一の構造になっている。ただし、ピンホールアレイ
４の背後から光を入射する必要があるので、ピンホール
マスクの反射光Ｒによる迷光を何らかの方法で検出器ア
レイ８に到達しないようにしている。
【００１４】なおこの上記第２の他の共焦点光学装置は
ピンホール４ａと検出器アレイの画素は１対１で対応し
ておらず、そのかわり、ピンホールアレイ４をＸＹ面内
でスキャニングし、ピンホール間の画像を得るようにし
ており、このような共焦点光学系をタンデム型走査共焦
点光学系という。
ピンホール４ａと検出器アレイの画素は１対１で対応し
ておらず、そのかわり、ピンホールアレイ４をＸＹ面内
でスキャニングし、ピンホール間の画像を得るようにし
ており、このような共焦点光学系をタンデム型走査共焦
点光学系という。
【００１５】図８は特開平１−５０３４９３号公報、米
国特許第４，９２７，２５４号公報に示されるもので、
上記第２の共焦点光学装置と同種のタンデム型走査光学
系で、ピンホールアレイ４がニップコウディスク（Ｎｉ
ｐｋｏｗ Ｄｉｓｃ）と呼ばれる、円盤上にピンホール
４ａをスパイラル状に配置したものを採用し、それを回
転させるようにしている。このディスク状のピンホール
アレイ４を回転することにより、ピンホール間の画像を
スキャニングして得るようにしている。
国特許第４，９２７，２５４号公報に示されるもので、
上記第２の共焦点光学装置と同種のタンデム型走査光学
系で、ピンホールアレイ４がニップコウディスク（Ｎｉ
ｐｋｏｗ Ｄｉｓｃ）と呼ばれる、円盤上にピンホール
４ａをスパイラル状に配置したものを採用し、それを回
転させるようにしている。このディスク状のピンホール
アレイ４を回転することにより、ピンホール間の画像を
スキャニングして得るようにしている。
【００１６】上記した各構成の共焦点光学装置では光路
内での収差を少なくすること、及び計測精度の向上の見
地から、参照光の光源にコヒーレント性の強いレーザ光
が用いられる場合がある。そしてこのレーザ光による参
照光を用いて物体６の表面の位置を計測する際の光検出
器アレイ８による検出光量Ｖは上記したように、共焦点
光学系と物体と間隔、すなわち、物体６の表面高さＺに
よって変化し、最も高い位置（合焦位置）で反射したと
きの光量が最大となり、これをピーク処理することによ
り、物体６の物体６の高さを計測するようにしている。
内での収差を少なくすること、及び計測精度の向上の見
地から、参照光の光源にコヒーレント性の強いレーザ光
が用いられる場合がある。そしてこのレーザ光による参
照光を用いて物体６の表面の位置を計測する際の光検出
器アレイ８による検出光量Ｖは上記したように、共焦点
光学系と物体と間隔、すなわち、物体６の表面高さＺに
よって変化し、最も高い位置（合焦位置）で反射したと
きの光量が最大となり、これをピーク処理することによ
り、物体６の物体６の高さを計測するようにしている。
【００１７】上記物体６の表面高さＺに対する光量Ｖの
変化の様子を示す理論的共焦点出力波形Ｖｔは図９に示
す出力Ｖ−Ｚプロファイルにおいて、なだらかな山形に
なる。一方このときの光源はレーザ光であることにより
光量Ｖによって振幅が変化する周期的振動波形Ｖｃを有
している。その結果、光検出器アレイ８に入力される実
出力波形Ｖｓは、上記理論的共焦点出力波形Ｖｔに周期
的振動波形Ｖｃが重畳された波形になる。
変化の様子を示す理論的共焦点出力波形Ｖｔは図９に示
す出力Ｖ−Ｚプロファイルにおいて、なだらかな山形に
なる。一方このときの光源はレーザ光であることにより
光量Ｖによって振幅が変化する周期的振動波形Ｖｃを有
している。その結果、光検出器アレイ８に入力される実
出力波形Ｖｓは、上記理論的共焦点出力波形Ｖｔに周期
的振動波形Ｖｃが重畳された波形になる。
【００１８】上記Ｖｔ，Ｖｃ，Ｖｓは下記の式で求めら
れる。 Ｖｔ＝Ｆ（Ｚ） Ｖｃ＝Σ｛Ａｎ×Ｆｎ（Ｚ）×Ｓｉｎ（２π×Ｚ／（Ｍ
ｎ×λ）＋Ｃｎ）｝ Ｖｓ＝Ｖｔ＋Ｖｃ ただし、λ：コヒーレント光源の主波長 Ａｎ：振動成分の係数 Ｆｎ（Ｚ）：振動成分の係数 Ｍｎ：Ｏを含む正の整数あるいはＯを除く整数の逆数
（１／Ｎ） Ｃｎ：振動成分の位相
れる。 Ｖｔ＝Ｆ（Ｚ） Ｖｃ＝Σ｛Ａｎ×Ｆｎ（Ｚ）×Ｓｉｎ（２π×Ｚ／（Ｍ
ｎ×λ）＋Ｃｎ）｝ Ｖｓ＝Ｖｔ＋Ｖｃ ただし、λ：コヒーレント光源の主波長 Ａｎ：振動成分の係数 Ｆｎ（Ｚ）：振動成分の係数 Ｍｎ：Ｏを含む正の整数あるいはＯを除く整数の逆数
（１／Ｎ） Ｃｎ：振動成分の位相
【００１９】図９は説明を簡略化するために、振動成分
は１成分のみ記述してある。以下の説明においても同様
の理由により、１成分を示すこととするが、ｎ成分でも
本発明の作用効果において本質的に差はない。
は１成分のみ記述してある。以下の説明においても同様
の理由により、１成分を示すこととするが、ｎ成分でも
本発明の作用効果において本質的に差はない。
【００２０】図９は、理論的な共焦点におけるＺ−Ｖ出
力波長にコヒーレント性の強い光源の主波長λの整数
倍、あるいは１／整数の振動波形が重畳されることを示
している。特に、対物レンズ５ａを移動してピーク処理
を行う装置において、Ｍｎ＝１／２となり、Ｚｔ＝λ／
２となる。
力波長にコヒーレント性の強い光源の主波長λの整数
倍、あるいは１／整数の振動波形が重畳されることを示
している。特に、対物レンズ５ａを移動してピーク処理
を行う装置において、Ｍｎ＝１／２となり、Ｚｔ＝λ／
２となる。
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】このような共焦点光学
装置において、物体６（あるいは第１対物レンズ５ａ）
を光学系の光軸方向にゆっくり移動して、このときの出
力によりＶ−Ｚプロファイルのピーク処理をしたとき
に、単なるピーク部の光量Ｚを出力すると、検出したい
物体６の表面高さＺｎに対して周期的振動波形Ｖｃが重
畳された実出力波形Ｖｓによる検出高さＺｓが出力され
てしまい、｜Ｚｓ−Ｚｎ｜の検出誤差が生じてしまう。
装置において、物体６（あるいは第１対物レンズ５ａ）
を光学系の光軸方向にゆっくり移動して、このときの出
力によりＶ−Ｚプロファイルのピーク処理をしたとき
に、単なるピーク部の光量Ｚを出力すると、検出したい
物体６の表面高さＺｎに対して周期的振動波形Ｖｃが重
畳された実出力波形Ｖｓによる検出高さＺｓが出力され
てしまい、｜Ｚｓ−Ｚｎ｜の検出誤差が生じてしまう。
【００２２】さらに、上記図９に示すＺ−Ｖ特性が物体
６の移動に伴って間欠的なサンプリングによって出力さ
れる場合は、このサンプリング周期が周期的振動波形Ｖ
ｃの周期Ｚｔに同期していなければ上記出力誤差はさら
に拡大される。
６の移動に伴って間欠的なサンプリングによって出力さ
れる場合は、このサンプリング周期が周期的振動波形Ｖ
ｃの周期Ｚｔに同期していなければ上記出力誤差はさら
に拡大される。
【００２３】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来の技術
における問題を解決するためになされたもので、この発
明の共焦点光学装置におけるピーク処理方法は、複数の
共焦点光学系を２次元方向に配列してなり、光源にコヒ
ーレント性の強い光源を用い、理論的共焦点出力波形Ｖ
ｔに上記光源の周期的振動波形Ｖｃが重畳されたＺ−Ｖ
プロファイルの実出力波形Ｖｓを高さ方向にサンプリン
グしてピーク部の高さを求めるようにした共焦点光学装
置におけるピーク処理方法において、どの高さ方向のサ
ンプル点においても上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔの振
動の影響が同じく出るように、上記サンプル周期をＺ−
Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔの整数倍と
し、この間欠的に出力されるＺ−Ｖ出力に対してピーク
部の高さの値を求めるようにする。
における問題を解決するためになされたもので、この発
明の共焦点光学装置におけるピーク処理方法は、複数の
共焦点光学系を２次元方向に配列してなり、光源にコヒ
ーレント性の強い光源を用い、理論的共焦点出力波形Ｖ
ｔに上記光源の周期的振動波形Ｖｃが重畳されたＺ−Ｖ
プロファイルの実出力波形Ｖｓを高さ方向にサンプリン
グしてピーク部の高さを求めるようにした共焦点光学装
置におけるピーク処理方法において、どの高さ方向のサ
ンプル点においても上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔの振
動の影響が同じく出るように、上記サンプル周期をＺ−
Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔの整数倍と
し、この間欠的に出力されるＺ−Ｖ出力に対してピーク
部の高さの値を求めるようにする。
【００２４】また、上記Ｚ−Ｖプロファイルの高さ方向
に上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔの整数倍の間隔ごとの
光量を積分し、各積分Ｚ−Ｖ出力に対してピーク部の高
さの値を求める。
に上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔの整数倍の間隔ごとの
光量を積分し、各積分Ｚ−Ｖ出力に対してピーク部の高
さの値を求める。
【００２５】また、上記Ｚ−Ｖプロファイルの高さ方向
に上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔより十分大きな間隔ご
との光量を積分し、各積分Ｚ−Ｖ出力に対してピーク部
の高さの値を求める。
に上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔより十分大きな間隔ご
との光量を積分し、各積分Ｚ−Ｖ出力に対してピーク部
の高さの値を求める。
【００２６】さらに、上記光量を積分して各積分Ｚ−Ｖ
出力に対してピーク部の高さの値を求める処理方法にお
いて、Ｚ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓを高さ方向
にサンプリングするための移動手段にステップ移動手段
を用いて、その送りステップ量が実出力波形Ｖｓの周期
Ｚｔに対して２〜１０ステップにする。
出力に対してピーク部の高さの値を求める処理方法にお
いて、Ｚ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓを高さ方向
にサンプリングするための移動手段にステップ移動手段
を用いて、その送りステップ量が実出力波形Ｖｓの周期
Ｚｔに対して２〜１０ステップにする。
【００２７】
【作 用】上記構成において、Ｚ−Ｖプロファイルの
実出力波形Ｖｓを高さ方向にサンプリングする際に、こ
のサンプリング間隔が上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔの
整数倍であることにより、この実出力波形Ｖｓの振動の
影響がどのサンプリング位置でも均等に出るようにな
る。
実出力波形Ｖｓを高さ方向にサンプリングする際に、こ
のサンプリング間隔が上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔの
整数倍であることにより、この実出力波形Ｖｓの振動の
影響がどのサンプリング位置でも均等に出るようにな
る。
【００２８】また、上記実出力波形Ｖｓをこれの振動の
周期Ｚｔの整数倍にわたり、あるいはこの周期Ｚｔより
十分大きい周期で積分することにより、上記実出力波形
Ｖｓの振動が平滑化される。
周期Ｚｔの整数倍にわたり、あるいはこの周期Ｚｔより
十分大きい周期で積分することにより、上記実出力波形
Ｖｓの振動が平滑化される。
【００２９】そして上記積分区間内の高さ方向の移動
が、各積分範囲で２〜１０のステップで行われる。
が、各積分範囲で２〜１０のステップで行われる。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、タンデム型の共焦点光
学装置の光源にコヒーレント性の強い、例えばレーザ光
を用いた場合、これのコヒーレント性から光源の主波長
λの整数倍あるいは１／整数の振動現象が現われ、単純
なＺ−Ｖ特性のピーク処理では精度が悪く、微細な計測
・検査には適応できないが、上記本発明の方法によれ
ば、光源の振動現象が平均化されることにより、精度の
よい計測・検査が可能となり、従来適応できなかった微
細な計測・検査においても十分適応可能となる。
学装置の光源にコヒーレント性の強い、例えばレーザ光
を用いた場合、これのコヒーレント性から光源の主波長
λの整数倍あるいは１／整数の振動現象が現われ、単純
なＺ−Ｖ特性のピーク処理では精度が悪く、微細な計測
・検査には適応できないが、上記本発明の方法によれ
ば、光源の振動現象が平均化されることにより、精度の
よい計測・検査が可能となり、従来適応できなかった微
細な計測・検査においても十分適応可能となる。
【００３１】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図１０以下
を参照して説明する。図１０にて示す波形は実出力波形
Ｖｓであり、これの周期性に着目し、物体の移動方向に
上記実出力波形Ｖｓの周期と同期させた間隔をあけてＰ
1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 …で出力値をサンプリングし、それぞれ
のサンプリング高さＺｓ1 ，Ｚｓ2 ，Ｚｓ3 ，…Ｚｓn
を得る。そしてこの各サンプリング高さＺｓn をピーク
処理することにより、物体６の検出表面高さＺｈ′を得
る。この検出表面高さＺｈ′は実出力波形Ｖｓの周期的
な振動波形平均化されて実際の検出したい表面高さＺｈ
に近づけられる。
を参照して説明する。図１０にて示す波形は実出力波形
Ｖｓであり、これの周期性に着目し、物体の移動方向に
上記実出力波形Ｖｓの周期と同期させた間隔をあけてＰ
1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 …で出力値をサンプリングし、それぞれ
のサンプリング高さＺｓ1 ，Ｚｓ2 ，Ｚｓ3 ，…Ｚｓn
を得る。そしてこの各サンプリング高さＺｓn をピーク
処理することにより、物体６の検出表面高さＺｈ′を得
る。この検出表面高さＺｈ′は実出力波形Ｖｓの周期的
な振動波形平均化されて実際の検出したい表面高さＺｈ
に近づけられる。
【００３２】このような計測を物体６の最も低い部分か
ら最も高い部分にわたって、連続的に行われることによ
り、上記検出表面高さＺｈ′は最も低い部分からの相対
高さとして得られ、実質的に検出したい表面高さＺｈと
同じになる。
ら最も高い部分にわたって、連続的に行われることによ
り、上記検出表面高さＺｈ′は最も低い部分からの相対
高さとして得られ、実質的に検出したい表面高さＺｈと
同じになる。
【００３３】上記サンプリングとは物体６は高さ方向の
複数の位置における出力値であり、この出力値のサンプ
リングには、例えば、図１に示した共焦点光学装置にお
いて光源１の出射側に設けたシャッタ１６にて行うか、
あるいは光源１を点滅することによって行う。またサン
プリングするための物体６あるいは第１の物体レンズ５
ａの光軸方向（Ｚ方向）への移動手段は従来のものと同
じで、その方式は問わない。
複数の位置における出力値であり、この出力値のサンプ
リングには、例えば、図１に示した共焦点光学装置にお
いて光源１の出射側に設けたシャッタ１６にて行うか、
あるいは光源１を点滅することによって行う。またサン
プリングするための物体６あるいは第１の物体レンズ５
ａの光軸方向（Ｚ方向）への移動手段は従来のものと同
じで、その方式は問わない。
【００３４】上記サンプリングの周期は、実出力波形Ｖ
ｓの振動の周期Ｚｔと同じか、その整数倍にすることに
より、この実出力波形Ｖｓの振動の影響がサンプリング
位置でも均等に出ることになる。
ｓの振動の周期Ｚｔと同じか、その整数倍にすることに
より、この実出力波形Ｖｓの振動の影響がサンプリング
位置でも均等に出ることになる。
【００３５】図１１は上記サンプリングによる各検出値
のピーク処理する際の処理装置を示すもので、２０は物
体６を載置してＸ，Ｙ，Ｚ方向に移動可能にしたステー
ジ１０の上記各方向への移動を制御するステージコント
ローラ、２１は上記ステージ１０（あるいは第１対物レ
ンズ５ａ）のＺ軸（高さ方向）への移動量を検出するＺ
軸エンコーダ、２３は光検出器アレイ８からのアナログ
検出値をＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換器であり、これによ
りデジタル値に変換された検出値はコンパレータ２４に
てピーク値メモリされた値Ｐ11，Ｐ12…と比較し、それ
より高い値の場合にデータセクタ２６に入力し、ここか
らＺ値メモリ２７に入力するようになっている。また２
８は表示装置２９はＣＰＵ、３０は処理用メモリであ
る。
のピーク処理する際の処理装置を示すもので、２０は物
体６を載置してＸ，Ｙ，Ｚ方向に移動可能にしたステー
ジ１０の上記各方向への移動を制御するステージコント
ローラ、２１は上記ステージ１０（あるいは第１対物レ
ンズ５ａ）のＺ軸（高さ方向）への移動量を検出するＺ
軸エンコーダ、２３は光検出器アレイ８からのアナログ
検出値をＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換器であり、これによ
りデジタル値に変換された検出値はコンパレータ２４に
てピーク値メモリされた値Ｐ11，Ｐ12…と比較し、それ
より高い値の場合にデータセクタ２６に入力し、ここか
らＺ値メモリ２７に入力するようになっている。また２
８は表示装置２９はＣＰＵ、３０は処理用メモリであ
る。
【００３６】上記処理装置にて１つのサンプリングを行
う際のフローを示すと図１２のようになる。まずＺ値メ
モリ２７のメモリをクリアすると共に、これのＸ，Ｙ，
Ｚ方向のインディックスｉ，ｊ，ｋをクリアして初期化
する（ステップ１）。ついで、例えば図１０の光検出器
アレイ８の各画素Ｄ11，Ｄ12…の１つの画素における
ｋ，ｉ，ｊのインクリメントを行い（ステップ２，
３）、光検出器アレイ８における１つの画素におけるＤ
ｉｊを読み出し（ステップ４）、ついでこれをピーク値
メモリ２５の対応するメモリ値Ｐｉｊとコンパレータ２
４にて比較し（ステップ５）、その結果、検出値がメモ
リ値より大きい場合には、コンパレータ２４からデータ
セレクタ２６に信号が入力され、このときのＺ軸エンコ
ーダ２１の検出値がＺ値メモリ２７に書き込まれてピー
ク処理される（ステップ６）。
う際のフローを示すと図１２のようになる。まずＺ値メ
モリ２７のメモリをクリアすると共に、これのＸ，Ｙ，
Ｚ方向のインディックスｉ，ｊ，ｋをクリアして初期化
する（ステップ１）。ついで、例えば図１０の光検出器
アレイ８の各画素Ｄ11，Ｄ12…の１つの画素における
ｋ，ｉ，ｊのインクリメントを行い（ステップ２，
３）、光検出器アレイ８における１つの画素におけるＤ
ｉｊを読み出し（ステップ４）、ついでこれをピーク値
メモリ２５の対応するメモリ値Ｐｉｊとコンパレータ２
４にて比較し（ステップ５）、その結果、検出値がメモ
リ値より大きい場合には、コンパレータ２４からデータ
セレクタ２６に信号が入力され、このときのＺ軸エンコ
ーダ２１の検出値がＺ値メモリ２７に書き込まれてピー
ク処理される（ステップ６）。
【００３７】上記ピーク処理を光検出器アレイ８の全画
素（Ｌ×Ｍ＝計測視野）にて行ない（ステップ７）、こ
れをＺ方向の全サンプリング位置で行う（ステップ
８）。
素（Ｌ×Ｍ＝計測視野）にて行ない（ステップ７）、こ
れをＺ方向の全サンプリング位置で行う（ステップ
８）。
【００３８】図１３は本発明の第２の実施の形態を示す
もので、物体６あるいは第１対物レンズ５ａをＺ方向に
連続的に移動し、その間に、実出力波形Ｖｓの、例えば
２周期ごとの位置ｆ1 ，ｆ2 ，ｆ3 ，…で、この波形の
２周期分の積分を行って周期積分位置ｆ1 ，ｆ2 ，
ｆ3 ，…における各高さＺｓ1 ′，Ｚｓ2 ′，Ｚ
ｓ3 ′，…Ｚｓn ′を得る。これをピーク処理して表面
高さＺｈ′を得る。
もので、物体６あるいは第１対物レンズ５ａをＺ方向に
連続的に移動し、その間に、実出力波形Ｖｓの、例えば
２周期ごとの位置ｆ1 ，ｆ2 ，ｆ3 ，…で、この波形の
２周期分の積分を行って周期積分位置ｆ1 ，ｆ2 ，
ｆ3 ，…における各高さＺｓ1 ′，Ｚｓ2 ′，Ｚ
ｓ3 ′，…Ｚｓn ′を得る。これをピーク処理して表面
高さＺｈ′を得る。
【００３９】図１４は本発明の第３の実施の形態を示す
もので、積分の周期を実出力波形Ｖｓの振動の周期Ｚｔ
と非同期にした例である。そしてこのときの積分区間を
上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔより十分大きく、例え
ば、振動の周期Ｚｔの２倍以上にすることが有効であ
る。実際には周期Ｚｔの積分範囲が長いほど平滑化の効
果は大きくなるが、検出高さＺｓの分解能は悪くなり、
上限は１０倍程度が適当である。この積分は光検出器ア
レイ８にＣＣＤセンサなどの積分型光検出器を採用する
ことで実現できる。
もので、積分の周期を実出力波形Ｖｓの振動の周期Ｚｔ
と非同期にした例である。そしてこのときの積分区間を
上記実出力波形Ｖｓの周期Ｚｔより十分大きく、例え
ば、振動の周期Ｚｔの２倍以上にすることが有効であ
る。実際には周期Ｚｔの積分範囲が長いほど平滑化の効
果は大きくなるが、検出高さＺｓの分解能は悪くなり、
上限は１０倍程度が適当である。この積分は光検出器ア
レイ８にＣＣＤセンサなどの積分型光検出器を採用する
ことで実現できる。
【００４０】上記第２，第３の実施の形態においての周
期的積分は、光検出アレイ８にＣＣＤセンサなどの積分
型光検出器を採用することにより実現できる、このと
き、実出力波形Ｖｓの振動の影響を平滑化するために
は、積分範囲内でのＺ方向移動手段の移動速度が滑らか
に、あるいは一定であることが望ましく、この移動手段
のアクチュエータとして、ＤＣモータ、ピエゾ、ボイス
コイルモータが好適に用いられる。
期的積分は、光検出アレイ８にＣＣＤセンサなどの積分
型光検出器を採用することにより実現できる、このと
き、実出力波形Ｖｓの振動の影響を平滑化するために
は、積分範囲内でのＺ方向移動手段の移動速度が滑らか
に、あるいは一定であることが望ましく、この移動手段
のアクチュエータとして、ＤＣモータ、ピエゾ、ボイス
コイルモータが好適に用いられる。
【００４１】一方上記無段階駆動のアクチュエータに対
して送り量のセット等の制御が容易である等の理由で、
このアクチュエータにステップモータを用いることがあ
るが、この場合、上記積分範囲における移動ステップ数
は２以上の細かくステップすることが有効である。実際
には、積分範囲における移動ステップ数は５から１０程
度にする。なお、このステップ数が多くなる程平滑化の
効果は大きくなるが、Ｚ方向への移動速度は遅くなる。
して送り量のセット等の制御が容易である等の理由で、
このアクチュエータにステップモータを用いることがあ
るが、この場合、上記積分範囲における移動ステップ数
は２以上の細かくステップすることが有効である。実際
には、積分範囲における移動ステップ数は５から１０程
度にする。なお、このステップ数が多くなる程平滑化の
効果は大きくなるが、Ｚ方向への移動速度は遅くなる。
【図１】タンデム型の共焦点光学装置を示す構成説明図
である。
である。
【図２】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
明図である。
【図３】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
明図である。
【図４】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
明図である。
【図５】ホログラムを露光する際の構成説明図である。
【図６】他の構成のタンデム型の共焦点光学装置を示す
構成説明図である。
構成説明図である。
【図７】他の構成のタンデム型の共焦点光学装置を示す
構成説明図である。
構成説明図である。
【図８】他の構成のタンデム型の共焦点光学装置を示す
構成説明図である。
構成説明図である。
【図９】Ｚ−Ｖプロファイルを示す線図である。
【図１０】本発明方法における実出力波形に対するサン
プリングを示す線図である。
プリングを示す線図である。
【図１１】ピーク処理装置を示すブロック図である。
【図１２】ピーク処理を示すフロー図である。
【図１３】本発明の第２の実施の形態を示す線図であ
る。
る。
【図１４】本発明の第３の実施の形態を示す線図であ
る。
る。
１，１１…光源 ２，２ａ，２ｂ，１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ…拡
大レンズ ３…ホログラム ４…ピンホールアレイ ４ａ…ピンホール ５ａ，５ｂ…対物レンズ ６…物体 ７，７ａ，７ｂ…リレーレンズ ８…光検出器アレイ ９…制御装置 １０…ステージ １２…ビームスプリッタ １３ａ，１３ｂ，１３ｃ…１／２波長板 １５…シャッタ ２０…ステージコントローラ ２１…Ｚ軸エンコーダ ２３…Ａ／Ｄ変換器 ２４…コンパレータ ２５…ピーク値メモリ ２６…データセレクタ ２７…Ｚ値メモリ ２８…表示装置 ２９…ＣＰＵ ３０…処理用メモリ Ｖｓ…実出力波形
大レンズ ３…ホログラム ４…ピンホールアレイ ４ａ…ピンホール ５ａ，５ｂ…対物レンズ ６…物体 ７，７ａ，７ｂ…リレーレンズ ８…光検出器アレイ ９…制御装置 １０…ステージ １２…ビームスプリッタ １３ａ，１３ｂ，１３ｃ…１／２波長板 １５…シャッタ ２０…ステージコントローラ ２１…Ｚ軸エンコーダ ２３…Ａ／Ｄ変換器 ２４…コンパレータ ２５…ピーク値メモリ ２６…データセレクタ ２７…Ｚ値メモリ ２８…表示装置 ２９…ＣＰＵ ３０…処理用メモリ Ｖｓ…実出力波形
Claims (4)
- 【請求項１】 複数の共焦点光学系を２次元方向に配列
してなり、光源にコヒーレント性の強い光源を用い、理
論的共焦点出力波形Ｖｔに上記光源の周期的振動波形Ｖ
ｃが重畳されたＺ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓを
高さ方向にサンプリングしてピーク部の高さを求めるよ
うにした共焦点光学装置におけるピーク処理方法におい
て、 どの高さ方向のサンプル点においても上記実出力波形Ｖ
ｓの周期Ｚｔの振動の影響が同じく出るように、上記サ
ンプル周期をＺ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓの周
期Ｚｔの整数倍とし、この間欠的に出力されるＺ−Ｖ出
力に対してピーク部の高さの値を求めることを特徴とす
る共焦点光学装置におけるピーク処理方法。 - 【請求項２】 複数の共焦点光学系を２次元方向に配列
してなり、光源にコヒーレント性の強い光源を用い、理
論的共焦点出力波形Ｖｔに上記光源の周期的振動波形Ｖ
ｃが重畳されたＺ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓを
高さ方向にサンプリングしてピーク部の高さを求めるよ
うにした共焦点光学装置におけるピーク処理方法におい
て、 上記Ｚ−Ｖプロファイルの高さ方向に上記実出力波形Ｖ
ｓの周期Ｚｔの整数倍の間隔ごとの光量を積分し、各積
分Ｚ−Ｖ出力に対してピーク部の高さの値を求めること
を特徴とする共焦点光学装置におけるピーク処理方法。 - 【請求項３】 複数の共焦点光学系を２次元方向に配列
してなり、光源にコヒーレント性の強い光源を用い、理
論的共焦点出力波形Ｖｔに上記光源の周期的振動波形Ｖ
ｃが重畳されたＺ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓを
高さ方向にサンプリングしてピーク部の高さを求めるよ
うにした共焦点光学装置におけるピーク処理方法におい
て、 上記Ｚ−Ｖプロファイルの高さ方向に上記実出力波形Ｖ
ｓの周期Ｚｔより十分大きな間隔ごとの光量を積分し、
各積分Ｚ−Ｖ出力に対してピーク部の高さの値を求める
ことを特徴とする共焦点光学装置におけるピーク処理方
法。 - 【請求項４】 Ｚ−Ｖプロファイルの実出力波形Ｖｓを
高さ方向にサンプリングするための移動手段にステップ
移動手段を用いて、その送りステップ量が実出力波形Ｖ
ｓの周期Ｚｔに対して２〜１０ステップであることを特
徴とする請求項２または３記載の共焦点光学装置におけ
るピーク処理方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11141396A JPH09297012A (ja) | 1996-05-02 | 1996-05-02 | 共焦点光学装置におけるピーク処理方法 |
| PCT/JP1997/001517 WO1997042537A1 (fr) | 1996-05-02 | 1997-05-02 | Procede de traitement de cretes pour appareil optique confocal |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11141396A JPH09297012A (ja) | 1996-05-02 | 1996-05-02 | 共焦点光学装置におけるピーク処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09297012A true JPH09297012A (ja) | 1997-11-18 |
Family
ID=14560545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11141396A Pending JPH09297012A (ja) | 1996-05-02 | 1996-05-02 | 共焦点光学装置におけるピーク処理方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09297012A (ja) |
| WO (1) | WO1997042537A1 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0545588A (ja) * | 1991-08-14 | 1993-02-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 走査型顕微鏡 |
| JPH05272930A (ja) * | 1992-03-25 | 1993-10-22 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 非接触変位計 |
| JP3404607B2 (ja) * | 1993-09-30 | 2003-05-12 | 株式会社小松製作所 | 共焦点光学装置 |
| WO1996010728A1 (fr) * | 1994-09-30 | 1996-04-11 | Komatsu Ltd. | Dispositif optique confocal |
-
1996
- 1996-05-02 JP JP11141396A patent/JPH09297012A/ja active Pending
-
1997
- 1997-05-02 WO PCT/JP1997/001517 patent/WO1997042537A1/ja active Search and Examination
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1997042537A1 (fr) | 1997-11-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4509773B2 (ja) | 物体のトポグラフィ形状を三次元で測定する装置 | |
| JPH0117523B2 (ja) | ||
| JPH05107035A (ja) | 感度向上型の光学測定装置 | |
| JPH0540035A (ja) | 非接触高さ計測装置 | |
| JP7232895B2 (ja) | クロマティック共焦点エリアセンサ | |
| JPH08233544A (ja) | 共焦点光学装置 | |
| JP2000310518A (ja) | ３次元形状測定装置 | |
| JP3306858B2 (ja) | 立体形状計測装置 | |
| JPS61111402A (ja) | 位置検出装置 | |
| JPH1068616A (ja) | 形状計測装置 | |
| JP3457047B2 (ja) | 共焦点型三次元計測装置 | |
| JPH095046A (ja) | 立体形状測定装置 | |
| JPH09297012A (ja) | 共焦点光学装置におけるピーク処理方法 | |
| JP4148592B2 (ja) | 複屈折測定方法及び複屈折測定装置 | |
| JP2004279137A (ja) | 動的形状及び動的位置の同時測定装置 | |
| JP2002054910A (ja) | 表面性状測定器 | |
| JPH10103917A (ja) | 位置計測装置 | |
| JPH0425772A (ja) | 荷電粉体粒子の帯電量測定方法及び装置 | |
| JPH05133712A (ja) | 表面位置測定装置 | |
| JPS5815104A (ja) | 塗料層の層厚変化量測定方法 | |
| JPS62909A (ja) | 自動焦点制御装置 | |
| JPH0540012A (ja) | 干渉計及び干渉計のアライメント方法 | |
| JPH0414283B2 (ja) | ||
| JPH08304049A (ja) | レーザ表面計測装置 | |
| JP2000234916A (ja) | 光ビーム形状計測装置及びアライメント測定装置 |