JPH05272930A - 非接触変位計 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は非接触変位計に関し、変化の急な表
面を高速に測定できる非接触変位計の実現を目的とす
る。 【構成】 光源１と、光源１からの光を被測定物１００
の表面に集光する集光手段２と、集光手段２による光源
１からの光の集光位置の被測定物１００の表面に対する
位置関係を検出する焦点状態検出手段３と、焦点状態検
出手段３の検出した位置関係に基づいて集光位置が常時
被測定物１００の表面上にあるように集光手段２を移動
する移動手段４と、集光手段２に微小振幅の高周波振動
を印加する加振手段５と、集光手段２の位置を検出する
位置検出手段６とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、表面粗さ形状測定機や
輪郭形状測定機等に使用される非接触変位計に関する。

【０００２】

【従来の技術】物体の表面形状を測定する測定機が広く
利用されているが、これらの測定機においては測定する
表面の位置に応じて変位する触針の位置を検出するのが
一般的である。触針は、大きくは接触型と非接触型の二
つに分類される。接触型は触針の先端を測定する表面に
接触させる方式であり、もっとも一般的なものである。
これに対して非接触型は微小な光点を集光する光学系を
測定する表面に対して移動可能に保持し、この光点が常
時測定する表面上に集光されるように光学系を変位させ
てその位置を検出する方式であり、測定する表面に接触
しないため、表面に傷を付ける心配がなく、柔らかな物
体も測定できるという特徴がある。

【０００３】図９は非接触型変位計の一方式の基本構成
の例を示す図である。図において、９１は光源である半
導体レーザであり、９２２は半透鏡である。９２１はコ
リメータレンズであり、９２３は集光レンズである。９
５は集光レンズ９２３を測定する表面９００に対して上
下移動させるアクチュエータコイルである。９４１と９
４２はそれぞれナイフエッジと二分割素子であり、集光
レンズ９２３によって集光された光点の集光位置が表面
９００に対して上下方向のどのような位置関係にあるか
を検出する焦点位置検出部を構成する。実際には、ナイ
フエッジ９４１と二分割素子９４２は、光学的ナイフエ
ッジ効果のあるＶプリズムと２組の二分割素子の使用が
一般的である。９４３はサーボ制御部であり、二分割素
子９４２の出力する集光位置の関係を示す信号に基づい
てコイルアクチュエータ９５へサーボ信号を出力して駆
動し、集光位置が常時表面９００上にあるように集光レ
ンズ９２３を上下移動する。従ってサーボ制御部９４３
が出力するサーボ信号は、集光レンズ９２３の上下方向
の位置に対応している。光点は常時表面９００上に集光
するように移動しているため、集光レンズ９２３の上下
方向の位置は表面９００の位置に対応しており、最終的
にサーボ制御部９４３からのサーボ信号は表面９００の
位置を示しているといえる。

【０００４】図９に示す非接触変位計を測定する表面９
００に沿って移動させた時のサーボ制御部９４３からの
サーボ信号の変化を記録すれば、表面９００の凹凸形状
が測定される。図９では焦点位置検出部としてナイフエ
ッジ９４１と二分割素子９４２で構成するナイフエッジ
法、又はフーコー法と呼ばれる方式のものを示したが、
他に非点収差法や偏心光束法と呼ばれる方式を用いたも
のもある。いずれにしろこの部分は集光位置を表面上に
追随させるため、集光位置が測定する表面９００に対し
てどのような位置関係にあるかを検出できるものならば
よい。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】図９に示すように従来
の非接触変位計では、集光レンズ９２３を移動するアク
チュエータ９５へのサーボ信号をそのまま表面位置の検
出信号として出力していた。これは、集光位置が常時測
定する表面上にあり、且つ集光レンズ９２３がサーボ信
号に対応する位置にあるという前提に基づいている。

【０００６】しかし実際に集光レンズ９２３をアクチュ
エータ９５で移動させる時、集光レンズ９２３の質量と
アクチュエータ９５の駆動力で決定される応答特性が存
在する。そのため急激に変化するサーボ信号を印加した
場合には集光レンズ９２３は完全に追従して移動するこ
とはできず、遅れが生じる。測定する表面の凹凸形状が
あまり急激に変化せず非接触変位計の測定する表面に沿
っての移動速度も小さければ、上記の遅れは問題になら
ない。しかし測定する表面の凹凸形状は急激に変化した
り移動速度が大きい場合には、上記の遅れが問題にな
る。図１０は従来の非接触変位計を用いた表面形状測定
機で、表面の凹凸形状が急激に変化する物体を測定した
時の非接触変位計の追従状況を模式的に示した図であ
る。実際の表面形状を実線で示し、集光位置の軌跡を破
線で示している。

【０００７】図１０に示すように従来の非接触変位計を
用いた場合には集光レンズを実際の表面に沿って移動さ
せることは厳密には不可能であり、この差が測定誤差と
なる。本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであ
り、表面形状の状態にかかわらず表面形状を正確に検出
可能な非接触変位計の実現を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の非接触変位計の
基本構成を図１に示す。本発明の非接触変位計は、光源
１と、集光手段２と、焦点状態検出手段３と、移動手段
４と、加振手段５と、位置検出手段６とを備える。集光
手段２は光源１からの光を被測定物１００の表面に集光
する。焦点状態検出手段３は集光手段２による光源１か
らの光の集光位置の被測定物１００の表面に対する位置
関係を検出する。移動手段４は、焦点状態検出手段３の
検出した位置関係に基づいて、集光位置が常時被測定物
１００の表面上にあるように集光手段２を移動する。加
振手段５は、集光手段２に微小振幅の高周波振動を印加
する。位置検出手段６は集光手段２の位置を検出する。

【０００９】更に別の態様では、加振手段５の印加する
振動の各周期内で集光位置の被測定物１００の表面から
のずれが最小になる時の集光手段２の検出位置から被測
定物１００の表面位置を算出して出力する位置演算手段
を備える。

【００１０】

【作用】本発明の非接触変位計は、光源１と、集光手段
２と、焦点状態検出手段３と、移動手段４とを備える従
来の非接触変位計に、加振手段５と、位置検出手段６と
を更に付加したものである。本発明の非接触変位計の位
置検出原理を図２を参照して説明する。

【００１１】従来の非接触変位計と同様に、本発明の非
接触変位計を表面形状の測定に利用した場合、集光手段
２は集光位置が測定する表面上になるように表面に沿っ
て移動しようとする。本発明では、更に加振手段５によ
って微小振幅の高周波振動が印加されるため、集光位置
の軌跡は図２のようになる。もし追従状態が良好で周期
内の平均した集光位置と表面との差が小さく、且つ印加
される振動の振幅がその差以上に大きければ、図２の左
側部分に示すように集光位置は測定する表面を横切る。
従って焦点状態検出手段３で集光位置が表面を横切った
ことを検出した時に集光手段２の位置を検出すれば、そ
の検出位置は測定する表面に完全に対応している。

【００１２】通常は一周期内で集光位置が表面を横切る
が、図２の右側部分に示すように、印加する振動の振幅
に比べて、集光位置と測定する表面との差が大きい場合
には、この振動の一周期内で集光位置が表面を横切るこ
とがない。そのためこの場合には、精確に表面の位置を
検出することはできないが、一周期内で集光位置がもっ
とも表面に近づいた時の集光手段２の位置を検出すれ
ば、その検出位置の誤差は従来に比べて小さい。これは
従来の追従のための移動に比べて、加振手段５による振
動の変位は急激であり、一周期内ではより表面に接近し
た状態が起こり得るからである。

【００１３】集光位置が一周期内で表面を横切るかどう
かにかかわらず、本発明で得られる結果は離散的であ
り、横軸方向に対して等間隔ではない。この横軸方向
は、時間軸であり、表面形状測定機での変位計の移動距
離に相当する。出力は集光位置が表面を横切った時の集
光手段２の位置をそのまま出力するものでもよいが、上
記のように集光位置が表面を横切らない場合には検出位
置の間隔が広くなりすぎて好ましくない。そこで一周期
内で集光位置が表面にもっとも接近する時の集光手段２
の位置で近似することが望ましい。位置演算手段７がこ
のための演算を行う。

【００１４】更に離散的な出力を位置演算手段７が補間
法による連続的な出力としても、また加振する振動の各
周期の中心の結果を演算して等間隔の出力としてもよ
い。

【００１５】

【実施例】本発明の第一実施例の構成を図３に示す。本
実施例では、集光位置が測定する表面に対してどのよう
な位置関係にあるかを非点収差法で検出し、集光レンズ
の位置は差動トランスで検出する。また加振手段は移動
手段のアクチュエータコイルを共用し、サーボ信号に加
振信号を重畳して集光レンズの移動と振動を行う。図３
を参照して第一実施例を説明する。

【００１６】図において、３１は半導体レーザであり、
レーザ光を放射する。ここでは図示していないが、一定
の反射光量が得られるように光量調整機能が設けられて
いる。３２１はコリメータレンズであり、レーザ光を平
行ビームにする。３２２はビームスプリッタであり、光
束を二分割する。３２３は集光レンズであり、ビームス
プリッタ３２２を通過したレーザ光を測定する平面上に
集光する。集光レンズ３２３は上下移動するがこれにつ
いては後述する。測定する表面で反射した後再び集光レ
ンズ３２３に入り、ビームスプリッタ３２２でカップリ
ングレンズ３３１の方に反射され、シリンドリカルレン
ズ３３２を通して四分割素子３３３上に集光される。

【００１７】以上説明した光学系で、レーザ光の集光位
置が測定する表面に対してどのような位置関係にあるか
を検出する方法について、図４を参照して簡単に説明す
る。レーザ光はコリメータレンズ３２１により平行ビー
ムにされるため、集光レンズ３２３の焦点に集光され
る。いまこの集光位置が測定する表面上にあるとする
と、図４に示すように表面３００で反射したビームは集
光レンズ３２３で再び平行ビームにされた後、ビームス
プリッタ３２２で反射されてカップリングレンズ３３１
に入射し、更にシリンドリカルレンズ３３２に入射し、
図４のように集光される。すなわち二ケ所で異なる方向
に集光され、その間で円状になる所が存在する。そこで
円状になる所に四分割素子３３３を配置すれば、各素子
からは同じ出力が得られる。

【００１８】もし集光位置に対して表面３００が上下移
動すると、光点は方向が９０°異なる楕円になるため、
四分割素子３３３上の光点は破線で示したような形にな
る。そのためＡとＣの素子の組と、ＢとＤの素子の組の
出力を差動増幅器３４２で比較すれば、表面３００の変
位に応じて図示のような出力信号が得られる。すなわち
この出力信号により集光位置が表面に対してどのような
位置関係にあるかがわかる。従ってこの出力信号が常に
ゼロになるように集光レンズ３２３を移動させれば、集
光位置は常に表面上にあることになる。

【００１９】四分割素子３３３の出力は差動増幅器３４
２で増幅され、ローパスフィルタ３４５で高周波成分を
除去した後、加算回路３４３で高周波信号源３５からの
微小振幅の高周波信号を加えられ、アクチュエータコイ
ル３４１に印加される。アクチュエータコイル３４１に
集光レンズ３２３を支持しており、印加される信号に応
じて集光レンズ３２３を上下移動する。ここでは集光位
置が測定する表面上にあるように維持する信号に加振信
号を重畳した信号が印加されるため、集光位置は図２に
示したように変化することになる。

【００２０】３６は集光レンズ３２３の位置を検出する
ための差動トランス回路であり、集光レンズ３２３と一
体である差動トランスのコア３６１の変位を二次コイル
の出力差として検出し、交流増幅器３６２と平滑回路３
６３で処理して出力する。３７１から３７９はデータ処
理用のマイクロコンピュータとその周辺回路を形成する
部分である。集光レンズ３２３の位置を示す差動トラン
ス回路３６の出力はアナログディジタル（Ａ／Ｄ）変換
器３７４でディジタル変換して読み取られ、集光位置の
測定する表面に対する位置関係を示す四分割素子３３３
の出力は、差動増幅器３７８で処理された後に、Ａ／Ｄ
変換器３７５から読み取られる。また高周波信号源３５
の出力もコンパレータ３７９で方形波に変換された後
に、Ｉ／Ｏポート３７９から読み取られる。

【００２１】本実施例では、集光レンズ３２３に微小振
幅の高周波振動を印加して加振するのに、集光位置が表
面上になるように集光レンズ３２３を移動するためのア
クチュエータコイル３４１を利用している。この移動機
構は応答特性を有し、高周波の信号に対しては集光レン
ズに遅れが生じる問題があることを課題の項で述べた
が、一定サイクルで加振信号を印加した場合、遅れは生
じるが集光レンズ３２３を加振することは可能であり、
集光レンズ３２３の位置は差動トランス回路３６で検出
するため、加振できれば本実施例では問題はない。

【００２２】しかし集光レンズ３２３を加振することに
より、四分割素子３３３には加振による集光位置の変化
に対応する高周波信号が生じるため、この信号をそのま
まサーボ信号として使用することは好ましくないため、
ローパスフィルタ３４５で高周波成分を除去した後、新
たに加振用高周波信号を加えてアクチュエータコイル３
４１に印加している。

【００２３】次に本実施例での変位位置検出について説
明する。本実施例では、加振信号の各周期毎に、集光位
置が表面を通過した時の集光レンズ３２３の位置を検出
するか、もし集光位置が表面を通過しない時には集光位
置がもっとも表面に接近した時の集光レンズ３２３の位
置を検出する。図５は本実施例における位置検出を説明
するための図である。ＡからＩの各周期の間、表面位置
の変化に対して集光位置が図示のように変化したとす
る。周期ＥとＦを除く周期では、加振により集光位置は
表面を通過する。通過する回数は一周期で通常二回であ
るが、周期Ｄでは３回、周期Ｈでは一回だけ通過する。
通過した点は表面形状に精確に対応しており、すべて検
出位置データとなる。また周期ＥとＦでは、集光位置が
表面を通過しないためそれぞれの周期で集光位置が表面
にもっとも接近する時が検出位置データとなる。

【００２４】以上の検出動作は後で詳しく説明される
が、基本的にはＩ／Ｏポート３７６から加振信号の周期
を読み取り、Ａ／Ｄ変換器３７５の出力から集光位置が
表面を通過するか又はもっとも表面に接近した時を判定
して、その時の集光レンズの位置をＡ／Ｄ変換器３７４
から読み取って出力又は記憶することにより行われる。
表面形状の測定ではこの非接触変位計を測定する表面に
沿って移動して、変位計の出力を記録することにより表
面形状が測定されるため、図５のグラフの横軸は時間軸
である。そこで図示の点の集光レンズの位置とその時間
が表面形状を表わすデータとなる。

【００２５】しかし上記のデータは時間間隔が一定でな
いため後の処理が面倒である。そこで本実施例では各周
期の中心での表面形状の予測値を直線補間することで算
出し、一定の時間間隔のデータとして出力している。図
６はこの補間による検出位置算出の原理を示す図であ
る。図６の（ａ）は一周期内で二点又は三点の表面通過
点が存在し、しかも周期の中心を挟んで分布している時
である。この時は周期の中心を挟むもっとも近い二点間
で直線補間することで中心位置での値を算出する。ここ
では中心を挟んで両側に検出点が存在する内挿法で補間
できる場合に限ったが、一周期内で二点の通過点があれ
ばたとえ中心を挟んでいなくても外挿法で補間して中心
の値を算出してもよい。

【００２６】図６の（ｂ）は、周期間で集光位置が表面
を通過するのが一回だけか、又は通過しないため検出位
置のデータが一個だけの場合を示しており、周期ＡとＢ
がこれに相当する。周期Ｃは検出位置が二点存在する。
この場合には、周期ＡとＢのそれぞれの中心での値は、
検出点ａとｂ、及びｂとｃ１の直線補間により算出す
る。従って次の周期での補間のために検出位置のデータ
は保持される必要がある。周期Ｃでは（ａ）と同様に中
心での値を算出する。以上のように本実施例ではすべて
内挿法によって周期中心での値を算出している。

【００２７】本実施例では、各周期の中心での値を算出
して一定間隔の値として出力しているため離散的なデー
タである。連続したデータを出力する必要がある場合に
は、各周期の中心での値又は図６の（ｂ）に示したよう
な検出値で補間して連続的なデータとして出力するよう
にする。なお補間法としては直線補間を用いたが、曲線
補間で行うことも当然可能である。

【００２８】次に図３のマイクロコンピュータが集光位
置が表面を通過する時の集光レンズ３２３の位置及び通
過しない時には表面にもっとも接近する時の集光レンズ
３２３の位置を検出するための処理について、図７のフ
ローチャートに基づいて説明する。なおここでは加振す
る振動の周期に比べてマイクロコンピュータの処理速度
が充分に高速であるものとして説明する。

【００２９】前の振動の周期での検出が終了し、新しい
周期での測定を開始するものとする。まずステップ７０
１で、使用する差レジスタに最大の値を入れ、ｉレジス
タとｊレジスタにゼロを入れて初期化する。ステップ７
０２と７０３では、Ｉ／Ｏポート３７６で振動の周期変
化を読み取り、新しい周期の始まりとサンプルタイミン
グを合わせる。ステップ７０４は、周期内のサンプリン
グ回数が終了したかを判定する。ステップ７０５はサン
プリングの時間調整を行う。

【００３０】ステップ７０６では、Ａ／Ｄ変換器３７５
から集光位置と表面とのずれ量を読み取り、ステップ７
０７でそれがゼロであるかを判定する。もしゼロであれ
ば集光位置が表面上にあることを意味するから、ステッ
プ７０８でその時の集光レンズ３２３の位置をＡ／Ｄ変
換器３７４から読み取り、その時の周期の開始時点から
の時間もタイマで読み取り、ｉ番目のゼロ点データとし
て記憶する。ステップ７０９では、ゼロ点が検出された
のであるから、ゼロ点の発生回数を示すｉレジスタの値
を−増加させる。そしてゼロ点が存在したのであるから
差はゼロであるから差レジスタにゼロを入れる。

【００３１】ステップ７０７で差がゼロでなければ、ス
テップ７１１で差レジスタの値と比較する。もし差レジ
スタに記憶された値より小さければ、より表面に近づい
たことを意味するので、ステップ７１２で集光レンズの
位置と時間を読み取って記憶する。そしてステップ７１
３で差を新たに差レジスタに入れる。もし差レジスタの
値の方が小さければそのままステップ７１４に進む。従
って最初であれば、差レジスタには最大の値が入ってい
るためかならず最初に検出した差が小さく、この差がレ
ジスタに入れられその時の集光レンズの位置と時間が記
憶される。それ以後は差がより小さい時だけ記憶される
ので差がもっとも小さい時のデータが記憶される。もし
集光位置が表面を通過すれば、差はゼロであり、これが
差レジスタに入れられるため、以後は再度集光位置が表
面を通過しない限りデータが記憶されることはない。

【００３２】ステップ７１４ではｊを１だけ増加させ
る。以上の動作を周期内のサンプリング回数ｊ₀ だけ繰
り返す。するとステップ７０４でｊがｊ₀ になるのでス
テップ７１５に進む。ステップ７１５では周期内で集光
位置が表面を通過したかを判定し、それに応じてステッ
プ７１６と７１７でそれぞれもっとも近づいた時のデー
タかゼロ点データを読み出す。

【００３３】ステップ７１８以降は、図６で説明した各
周期の中心での値を算出する工程であり、補間により算
出可能な時は、ステップ７１９で値を算出して出力し、
ステップ７２０で次の周期のためにデータを保持する。
この時前の周期の値が算出されていなければ、その算出
も行う。同様にその期間のデータ算出ができないなら
ば、ステップ７２１でデータを保持し、次の周期の処理
に進む。

【００３４】以上が第一実施例であるが、データ処理の
方法は各種可能であり、集光位置が表面を通過した時の
集光レンズの位置を検出するのであれば、マイクロコン
ピュータを用いずにＡ／Ｄ変換器とラッチ素子等だけで
検出することが可能である。次に第二実施例の構成を図
８に示す。第二実施例の第一実施例と異なる点は、集光
位置の表面との関係をナイフエッジ法で検出する点と、
集光レンズ８２３の加振をアクチュエータコイル８４１
でなく、ピエゾ素子８５３で行っている点である。

【００３５】図８において、半導体レーザ８１、コリメ
ータレンズ８２１、ビームスプリッタ８２２、集光レン
ズ８２３、カップリングレンズ８３１、アクチュエータ
コイル８４１、差動トランス回路８６、マイクロコンピ
ュータ８７は図３の構成と同じである。図８において８
３２はナイフエッジであり、８３３は二分割素子であ
り、集光位置に応じてカップリングレンズ８３１による
集光位置がナイフエッジ８３２の前後に変位することに
より、ビームの一部が遮断され、二分割素子の光量が変
化する。この光量差を検出すれば集光位置と表面との関
係がわかる。二分割素子の出力差を差動増幅器８４２で
検出して、ローパスフィルタ８４５で高周波成分を除去
した後に、駆動素子８４３を介してアクチュエータコイ
ル８４１に印加する。

【００３６】８５３はピエド素子であり、アクチュエー
タコイル８４１に支持されている。そして集光レンズ８
２３を支持している。高周波信号源８５１の信号を駆動
素子８５２を介してピエゾ素子８５３に印加することに
より、集光レンズ８２３に微小振幅の高周波振動を印加
することができる。ピエゾ素子は大きな振幅の振動を発
生させることは難しいが、周波数応答性が良く、高周波
の振動を与えることができる。従って第一実施例に比べ
て振動の周波数を高くして、集光位置が頻繁に表面を通
過するようにすることで、検出の分解能を上げることが
できる。

【００３７】

【発明の効果】本発明により変化の急激な表面をより精
確に測定でき測定が高速に行える非接触変位計が実現で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の非接触変位計の基本構成を示す図であ
る。

【図２】本発明の位置検出原理を説明する図である。

【図３】第一実施例の構成を示す図である。

【図４】非点収差法による焦点位置検出原理を示す図で
ある。

【図５】第一実施例での位置検出の説明図である。

【図６】第一実施例での検出位置算出方法を示す図であ
る。

【図７】第一実施例での位置検出と算出の処理を示すフ
ローチャートである。

【図８】第二実施例の構成を示す図である。

【図９】従来の非接触変位計の一例を示す図である。

【図１０】表面形状が急激に変化した時の従来の非接触
変位計での追従状況を示す模式図である。

【符号の説明】

１…光源 ２…集光手段 ３…焦点状態検出手段 ４…移動手段 ５…加振手段 ６…位置検出手段

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源（１）と、 該光源（１）からの光を被測定物（１００）の表面に集
   光する集光手段（２）と、 前記集光手段（２）による前記光源（１）からの光の集
   光位置の前記被測定物（１００）の表面に対する位置関
   係を検出する焦点状態検出手段（３）と、 該焦点状態検出手段（３）の検出した位置関係に基づい
   て、前記集光位置が常時前記被測定物（１００）の表面
   上にあるように前記集光手段（２）を移動する移動手段
   （４）と、 前記集光手段（２）に微小振幅の高周波振動を印加する
   加振手段（５）と、 前記集光手段（２）の位置を検出する位置検出手段
   （６）とを備えることを特徴とする非接触変位計。
2. 【請求項２】 前記加振手段（５）の印加する振動の各
   周期内で、前記集光位置の前記被測定物（１００）の表
   面からのずれが最小になる時の前記集光手段（２）の検
   出位置から前記被測定物（１００）の表面位置を算出し
   て出力する位置演算手段を備えることを特徴とする請求
   項１に記載の非接触変位計。
3. 【請求項３】 前記焦点状態検出手段（３）の出力から
   前記加振手段（５）の印加する高周波成分を除去するロ
   ーパスフィルタ（３４５）を備えることを特徴とする請
   求項１又は２のいずれか一項に記載の非接触変位計。
4. 【請求項４】 前記加振手段（５）は、前記移動手段
   （４）を形成するアクチュエータコイルと高周波信号発
   生器とで構成されることを特徴とする請求項１から３の
   いずれか一項に記載の非接触変位計。
5. 【請求項５】 前記加振手段（５）は、ピエゾ素子を備
   えることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に
   記載の非接触変位計。
6. 【請求項６】 前記位置演算手段は、前記加振手段
   （５）の印加する振動の各周期内の前記表面位置の算出
   において、前後の周期の前記検出位置も含めて補間法に
   より前記表面位置を算出することを特徴とする請求項２
   から５のいずれか一項に記載の非接触変位計。