JPH09287874A - 被処理物の液切り方法 - Google Patents

被処理物の液切り方法

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JPH09287874A
JPH09287874A JP12261696A JP12261696A JPH09287874A JP H09287874 A JPH09287874 A JP H09287874A JP 12261696 A JP12261696 A JP 12261696A JP 12261696 A JP12261696 A JP 12261696A JP H09287874 A JPH09287874 A JP H09287874A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液体が表面に付着した被処理物に対して十分
かつむらのない液切りを行うことのできる被処理物の液
切り方法を提供する。 【解決手段】 気体噴射ノズル2より下方に位置する被
処理物(ワーク)Pに気体を吹きつけて液切りを行うに
あたり、気体噴射ノズル2が自らの気体噴射を動力とし
て水平旋回するように配設されており、気体噴射ノズル
2が旋回しながら下方の被処理物Pに対して気体を吹き
つけることにより、被処理物Pの表面に付着した水を除
去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体が表面に付着
したセラミックワークなどの被処理物に気体を吹き付け
て被処理物の表面の付着液を取り除くようにする被処理
物の液切り方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】例え
ば、電子部品の製造工程においては、図11に示すよう
に、網材からなるバケット80に入れられて水洗処理さ
れた、表面に水が付着した状態の多数のセラミック成形
体(ワーク)81に圧縮空気を吹き付けて水切りを行な
う場合がある。その場合、例えば、図12示すように、
多数の被処理物(ワーク)81を入れたバケット80を
処理液槽83に浸漬して必要な処理を行い、次に水洗槽
84に浸漬して一次洗浄し、続いて水洗槽85に浸漬し
て二次洗浄する。そして、水洗槽85から引き上げた
後、図13に示すように、バケット80に下方両側に配
設した2本の送気管86の直径1mm前後の噴射孔87
から、圧縮空気を被処理物81に吹き付けることにより
被処理物81の水切りを行っている。
【0003】あるいは、図15および図16に示すよう
に、バケット80の上方の噴射ノズル90のテーパーが
付けられた外周面に設けられた直径1mm前後の複数の
噴射孔91から、圧縮空気を被処理物81に吹き付ける
ことにより、被処理物81の水切りを行う方法もある。
【0004】なお、上記の処理液としては、クラック有
無の検査液やメッキ液などが例示される。前者は、検査
液のしみ込み状況から被処理物にクラックが生じている
か否かを判定するのに用いられるものであるが、二次水
洗処理のあと乾燥を早めるために水切りが行われる。後
者の場合も、メッキ液を洗い落とす水洗処理のあと乾燥
を早めるために水切りが行われる。
【0005】しかしながら、図11に示す水切り方法で
は、図14に示すように、下方より圧縮空気が吹き付け
られても、水が上方へ押し上げられるだけで被処理物の
表面に残留する付着水88も少なくないことから、水切
りが十分にできないという問題点がある。なお、この場
合、圧縮空気の吹付けが終われば残留した付着水88が
下方に移動してきて、圧縮空気の吹付け前に近い状態と
なってしまう。さらに、圧縮空気の吹き付けが、被処理
物81の支持材であるバケット80の網材越しとなり、
圧縮空気の力が弱められてしまうため水切りの効率が悪
いという問題点がある。
【0006】また、図15に示す水切り方法では、圧縮
空気の吹付け状態にばらつきが生じ、部分的に水切りが
十分に行われないという問題がある。すなわち、図17
に示すように、噴射孔91からの圧縮空気がよく当たる
一点鎖線内の領域92は水切りが進行しやすいが、一点
鎖線外の領域93では水切りの進行が遅れるため、水切
りむらが発生する。
【0007】本発明は、上記問題点を解決するものであ
り、液体が表面に付着した被処理物に対して十分かつむ
らのない液切りを行うことのできる被処理物の液切り方
法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の被処理物の液切り方法は、液体が表面に付
着した被処理物に乾燥用気体を吹き付けて、被処理物の
表面に付着した液体を除去する被処理物の液切り方法に
おいて、(a)乾燥用気体を供給する気体供給路と、(b)
所定の位置に気体噴射口が配設された気体噴射機構部
と、(c)前記気体供給路と前記気体噴射機構部を接続す
るとともに前記気体噴射機構部を前記旋回可能に保持す
る旋回保持部とを備えてなる気体吹付け手段を用い、前
記気体噴射口から乾燥用気体を噴射し、該気体噴射を動
力として前記気体噴射機構部を旋回させつつ、上方から
被処理物に乾燥用気体を吹き付けることにより、被処理
物の表面に付着した液体を除去することを特徴としてい
る。
【0009】また、前記気体噴射機構部が、被処理物の
上方に略水平に配設され、前記旋回保持手段により旋回
可能に保持された送気管と、送気管の両端側に配設さ
れ、乾燥用気体を被処理物に吹き付けるとともに送気管
を旋回させる推進力を生じさせるように、乾燥用気体を
斜め下方に噴射する気体噴射口とを備えて構成されてい
ることを特徴としている。
【0010】さらに、前記送気管が、その両端側に配設
された気体噴射口(第1の気体噴射口)の間に、乾燥用
気体を被処理物に向けて噴射する気体噴射口(第2の気
体噴射口)を備えていることを特徴としている。
【0011】また、前記第1及び第2の気体噴射口の少
なくとも一部が、乾燥用気体の噴射方向を変更すること
ができるように構成されていることを特徴としている。
【0012】また、前記第1及び第2の気体噴射口の少
なくとも一部が、気体噴射量を調節するための調節機構
を備えていることを特徴としている。
【0013】また、被処理物に吹き付ける乾燥用気体と
して、加熱及び乾燥の少なくとも一方の処理を予め施し
た気体を用いることを特徴としている。
【0014】
【作用】本発明の被処理物の液切り方法では、上方より
気体を被処理物に吹き付けることから、被処理物の表面
の付着液が、自身の重さも除去作用として働くかたちで
滴下し被処理物のまわりに留まることなく確実に除去さ
れる。また、被処理物の下方より被処理物に気体を吹き
付ける従来の場合、被処理物の支持材越しに気体を吹き
付けることになるため、被処理物の支持材に当たった際
に噴射気体の勢いが弱められてしまうが、被処理物の上
方より気体を吹き付ける本発明の場合には、被処理物に
気体を直接噴射することが可能で、噴射気体の勢いを無
駄なく液切りに利用することができるようになる。
【0015】さらに、気体噴射に伴って気体噴射機構部
が旋回して気体の吹付け位置を変化させながら被処理物
に気体を吹き付けてゆくことから、気体が被処理物全体
にまんべんなく行き渡るようになる。さらに、旋回に必
要な動力が気体噴射によってもたらされることから、気
体噴射機構部を旋回させるのに格別の構成や動力を必要
とせず、コストの上昇を招くことなく効率よく液切りを
行なうことができるようになる。
【0016】また、前記気体噴射機構部を、被処理物の
上方に略水平に配設され、旋回保持手段により旋回可能
に保持された送気管と、送気管の両端側に配設され、乾
燥用気体を被処理物に吹き付けるとともに送気管を旋回
させる推進力を生じさせるように、乾燥用気体を斜め下
方に噴射する気体噴射口とを備えてなる形態とした場
合、気体噴射による旋回力を大きくすることが可能にな
り、気体噴射機構部を効率よく旋回させることが可能に
なる。
【0017】さらに、送気管を、その両端側に配設され
た気体噴射口(第1の気体噴射口)の間に、乾燥用気体
を被処理物に向けて噴射する気体噴射口(第2の気体噴
射口)を備えた形態とした場合、第2の気体噴射口も、
送気管の水平旋回に伴って旋回して吹付け位置を変化さ
せながら被処理物に気体を吹き付けてゆくことから、噴
射気体の吹付けが、被処理物全体によりまんべんなく行
き渡る。
【0018】また、第1及び第2の気体噴射口の少なく
とも一部の噴射方向を変更することが可能な形態とした
場合、被処理物への気体の吹付け方向を被処理物の形状
や嵩などに適合したものとすることが可能になり、本発
明をより実行あらしめることができる。
【0019】また、気体噴射量の調節機構が設けられて
いる形態とした場合、被処理物に吹き付ける乾燥用気体
の量を被処理物の形状や嵩などに応じた適量とすること
が可能になる。
【0020】また、被処理物に吹き付ける気体として、
加熱および乾燥の少なくとも一方の処理が予めなされて
いる気体を用いることにより、吹き飛ばしによる除去作
用に乾燥や加熱による除去作用が加わり、さらに効率よ
く被処理物の液切りを行なうことが可能になる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を示し
てその特徴とするところをさらに詳しく説明する。な
お、ここでは被処理物としての電子部品用のセラミック
成形体(ワーク)に圧縮空気を吹き付けることにより水
切りを行う場合を例にとって、適宜に図面を参照しなが
ら説明する。
【0022】まず、実施例で使用する圧縮空気(乾燥用
気体)の吹付け装置について説明する。図1はこの実施
の形態で用いる吹付け装置1の要部断面図、図2は吹付
け装置1の要部斜視図、図3は吹付け装置1の要部平面
図、図4は吹付け装置1の要部側面図である。
【0023】吹付け装置1は、気体噴射口2(ここでは
気体噴射ノズルを用いている)と、この気体噴射口(気
体噴射ノズル)2に圧縮空気を送給する送気管3を備え
ている。
【0024】送気管3は、網状のバケットBの中の多数
の被処理物Pの上方に水平に配設されているとともに水
平旋回できるよう支持されている。すなわち、送気管3
は基部3aで元管(気体供給路)4に回転継手(旋回保
持部)5を介して接続されており、送気管3が長手方向
中央を通る鉛直部分を回転軸として回転し、水平旋回で
きるように構成されている。一方、気体噴射口(気体噴
射ノズル)2は送気管3の両端側に配設されており、送
気管3の長手方向に対して直角で、かつ噴出口2aが斜
め下方に向くように取り付けられている。
【0025】また、送気管3には、気体噴射口(気体噴
射ノズル)2の配設位置からみて支持位置側寄りとなる
位置に、圧縮空気を被処理物Pに向けて吹き付ける第2
の気体噴射ノズル(気体噴射口)6が複数配設されてい
る。そして、圧縮空気は、元管4から送気管3を経て第
1の気体噴射口(気体噴射ノズル)2及び第2の気体噴
射口6から噴射される。このとき、第2の気体噴射口6
からは真下に圧縮空気が噴射されるため、送気管3を旋
回させる作用は生じないが、第1の気体噴射口(気体噴
射ノズル)2からは斜めに圧縮空気が噴射されるため、
送気管3を旋回させる作用が生じる。なお、第1の気体
噴射口(気体噴射ノズル)2は送気管3の両端側に配設
されているため、気体噴射により、送気管3に作用する
旋回力は他の位置に配設した場合に比べて大きくなる。
その結果、格別の構成や動力を必要とせずに、送気管3
を確実に水平旋回させることが可能になる。
【0026】なお、送気管3の旋回速度は、圧縮空気の
噴射量、供給圧、あるいは、図4に示すように、第1の
気体噴射口(気体噴射ノズル)2の鉛直に対する角度
(取り付け角度)θを調節することなどにより変化させ
ることができる。なお、角度θは被処理物Pの形状や大
きさ、嵩高さなどに応じて適当に設定される。
【0027】また、この実施の形態においては、第1の
気体噴射口(気体噴射ノズル)2と第2の気体噴射口6
は、送気管3に固定されているため、送気管3の水平旋
回に伴って被処理物Pの上方で水平旋回すると同時に、
気体噴射口(気体噴射ノズル)2と気体噴射口6の両方
から被処理物Pへ圧縮空気が吹き付けられる。
【0028】図5に示すように、第1の気体噴射口(気
体噴射ノズル)2と第2の気体噴射口6によって、デッ
ドゾーンを生じることなく、一点鎖線で描く円C1が示
す範囲に対しては空気吹付けがムラなく行われて水切り
がなされることから、バケットBの大きさを円C1内と
なるように選定することにより、被処理物Pを十分に水
切りすることができる。特に、二点鎖線で描く円C2が
示す範囲に対しては、より強く空気が吹き付けられるた
め、さらに十分な水切りを行なうことができる。
【0029】上記のように構成された、吹付け装置1
は、図8に示すように、被処理物Pの処理ラインに設置
される。図8の処理ラインでは、多数の被処理物Pを入
れた網状のバケットBを処理液槽15に浸漬して必要な
処理を行った後、水洗槽16に浸漬して一次洗浄を行
い、続いて水洗槽17に浸漬して二次洗浄を行う。そし
て、水洗槽17の上方には吹付け装置1が配置されてお
り、バケットBの中の被処理物Pへ上方から圧縮空気を
吹き付けて水切りを行う。
【0030】バケットBとしては、例えば、縦25c
m、横25cm、深さ60cmのものを用い、縦4m
m、横4mm、深さ9mmの被処理物Pを4kgの量で
入れるとともに、送気管3の長さを12cmにした。そ
して、図9に示すように、バケットBの中央に送気管3
を位置させた。
【0031】第1の吹付け装置を配置して水切りを実施
したところ、むらなく十分に被処理物Pの水切りを行な
うことができた。
【0032】なお、吹付け装置としては、上述の第2の
気体噴射口6の代わりに、図6に一点鎖線円で示すよう
に気体噴射ノズル8を配設した構成を有する吹付け装置
を用いることも可能である。なお、3個の気体噴射ノズ
ル8は、それぞれO−リングと袋ナットなどを組み合わ
せることにより手動で簡単に向きを変えることができる
ように構成されている。この吹付け装置を用い、気体噴
射ノズル8の噴射方向を様々に変更して水切りを行った
ところ、よりむらのない均一な水切りを行なうことがで
きた。
【0033】さらに、第1の気体噴射口(気体噴射ノズ
ル)2及び第2の気体噴射ノズル8として、例えば、図
7に示すように気体噴射量の調節機構を備えたノズルを
用いた吹付け装置を用いることも可能である。なお、図
7に示す気体噴射量の調節機構は、噴射ノズル先端部の
外周面に長手方向に沿って付けられているネジ(詳細図
示省略)に絞り11の外周面に長手方向に沿って付けら
れているネジ(詳細図示省略)が螺合し、絞り11を回
すことにより、絞り11の位置が上下して絞り11の開
口とノズル先端2bの間隔が変化し、気体噴射量が変わ
るように構成されている。この吹付け装置を用い、絞り
11の位置を様々に変更することにより気体噴射量を調
節して水切りを行ったところ、さらに効率よく水切りを
行なうことができた。
【0034】また、乾燥用気体として、加熱および乾燥
の処理が予めなされている空気を用いたところ、さらに
効率よく被処理物の水切りを行なうことができた。な
お、加熱及び乾燥の処理は、例えば、元管4側に乾燥部
(図示省略)と加熱部(図示省略)を配設することによ
り容易に行なうことができる。
【0035】また、図10に示すように、気体噴射口
(気体噴射ノズル)2に対する角度(取り付け角度)θ
を30°に調節するとともに、エア圧力:0.5pa、
風量:3Nl/分として、水切りを行ったところ、従来
は1分程度を必要としたものが、20秒程度で十分かつ
むらのない水切りを実現することができた。
【0036】上記の実施の形態では、被処理物Pに付着
した水を除去する場合を例にとって説明したが、除去す
る対象は水以外の液体であってもよい。また、上記の実
施の形態では、被処理物Pがセラミック成形体(ワー
ク)である場合について説明したが、被処理物はセラミ
ック成形体に限られるものではなく、他の電子部品や機
械部品などであってもよい。
【0037】また、上記の実施の形態では、乾燥用気体
として空気を用いた場合について説明したが、乾燥用気
体は空気に限られるものではなく、例えばチッソガス等
の不活性ガスなどを乾燥用気体として用いることも可能
である。
【0038】また、上記の実施の形態では、気体噴射口
(気体噴射ノズル)2が送気管3の両端に設けられてい
る場合について説明したが、片端だけに気体噴射口(気
体噴射ノズル)2が設けられていてもよい。また、気体
噴射口(気体噴射ノズル)2の位置は送気管3の両端部
よりも内側であってもよい。さらに、気体噴射口(気体
噴射ノズル)2の間に気体噴射口6あるいは気体噴射ノ
ズル8を設けずに、気体噴射口(気体噴射ノズル)2だ
けを設けた構成とすることも可能である。
【0039】さらに、上記の実施の形態では、風量調節
用の絞り11を全ての気体噴射ノズルに設けるようにし
た場合について説明したが、特定のノズルだけに風量調
節用の絞り11を設けるようにしてもよい。
【0040】また、上記実施の形態では、加熱および乾
燥の両方の処理が予め施された空気を乾燥用気体として
用いたが、加熱と乾燥の一方だけの処理が予め施された
空気を用いてもよく、加熱や乾燥などの処理が施されて
いない空気を用いることも可能である。
【0041】本発明は、さらにその他の点においても上
記実施の形態に限定されるものではなく、吹付け装置の
構成や配置する設置ラインの種類などに関し、発明の要
旨の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが
可能である。
【0042】
【発明の効果】本発明の被処理物の液切り方法によれ
ば、被処理物の上方より気体を吹き付ける構成であるた
め、被処理物の表面の付着液を被処理物まわりに留まら
せることなく確実に追い出せるとともに、被処理物に気
体を直接噴射することが可能であることから、噴射気体
の勢いを効果的に液切りに利用できる上、気体噴射口が
気体の吹付け位置を変化させながら被処理物に気体を吹
き付けてゆくことから、乾燥気体が、被処理物全体にま
んべんなく行き渡り、十分でむらのない液切りを実現す
ることができる。さらに、送気管の水平旋回に格別の構
成や動力を必要としないため、本発明の実施は容易かつ
経済的に実施することが可能で、実用上きわめて有意義
である。
【0043】また、気体噴射機構部を、被処理物の上方
に略水平に配設された送気管の両端側に、乾燥用気体を
被処理物に吹き付けるとともに、送気管を旋回させる推
進力を生じさせるように乾燥用気体を斜め下方に噴射す
る気体噴射口を配設した形態とすることにより、気体噴
射により大きな旋回力を得ることが可能になるため、気
体噴射機構部を効率よく旋回させることが可能になる。
【0044】さらに、送気管を、その両端側に配設され
た気体噴射口(第1の気体噴射口)の間に、乾燥用気体
を被処理物に向けて噴射する気体噴射口(第2の気体噴
射口)を備えた形態とした場合、第2の気体噴射口も、
送気管の水平旋回に伴って旋回して吹付け位置を変化さ
せながら被処理物に気体を吹き付けてゆくことから、噴
射気体の吹付けが、被処理物全体によりまんべんなく行
き渡ることから、液切りをより十分でよりむらなく行え
るようになり、本発明を実効あらしめることができる。
【0045】また、第1及び第2の気体噴射口の少なく
とも一部の噴射方向を変更することが可能な形態とした
場合、被処理物への気体の吹付け方向を被処理物の形状
や嵩などに適合したものとすることが可能になり、液切
りをより効率よく行なうことができる。
【0046】また、気体噴射量の調節機構が設けられて
いる形態とした場合、被処理物に吹き付ける乾燥用気体
の量を被処理物の形状や嵩などに応じた適量とすること
が可能になり、液切りをさらに効率よく行なうことが可
能になる。
【0047】また、被処理物に吹き付ける気体として、
加熱および乾燥の少なくとも一方の処理が予めなされて
いる気体を用いることにより、吹き飛ばしによる除去作
用に乾燥や加熱による除去作用が加わり、さらに効率よ
く被処理物の液切りを行なうことが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施するのに用いる乾燥用気体の吹付
け装置の要部断面図である。
【図2】本発明を実施するのに用いる乾燥用気体の吹付
け装置の要部斜視図である。
【図3】本発明を実施するのに用いる乾燥用気体の吹付
け装置の要部平面図である。
【図4】本発明を実施するのに用いる乾燥用気体の吹付
け装置の要部側面図である。
【図5】図1〜4の乾燥用気体の吹付け装置の吹付け有
効領域を示す模式図である。
【図6】乾燥用気体の吹付け装置の他の例を示す要部正
面図である。
【図7】乾燥用気体の吹付け装置の気体噴射ノズルの構
成を示す部分断面図である。
【図8】本発明を実施する場合の被処理物の処理ライン
の例を示す説明図である。
【図9】被処理物収容バケットと送気管の位置関係を示
す平面図である。
【図10】気体噴射ノズルの鉛直に対する角度θを示す
説明図である。
【図11】被処理物とバケットを示す斜視図である。
【図12】従来の水切り方法を適用した処理ラインを示
す説明図である。
【図13】従来の水切り方法を示す斜視図である。
【図14】従来の水切り方法による処理状況を示す説明
図である。
【図15】従来の他の水切り方法を示す斜視図である。
【図16】従来の他の水切り方法を示す正面図である。
【図17】従来の他の水切り方法による処理状況を示す
説明図である。
【符号の説明】
1 圧縮空気の吹付け装置 2 第1の気体噴射口(気体噴射ノズ
ル) 2a 噴出口 2b ノズル先端 3 送気管 3a 送気管の基部 4 元管(気体供給路) 5 回転継手(旋回保持部) 6 第2の気体噴射口 8 第2の気体噴射口(気体噴射ノズ
ル) 11 絞り(気体噴射量の調節機構) P 被処理物(ワーク)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】液体が表面に付着した被処理物に乾燥用気
    体を吹き付けて、被処理物の表面に付着した液体を除去
    する被処理物の液切り方法において、 (a)乾燥用気体を供給する気体供給路と、(b)所定の位
    置に気体噴射口が配設された気体噴射機構部と、(c)前
    記気体供給路と前記気体噴射機構部を接続するとともに
    前記気体噴射機構部を前記旋回可能に保持する旋回保持
    部とを備えてなる気体吹付け手段を用い、 前記気体噴射口から乾燥用気体を噴射し、該気体噴射を
    動力として前記気体噴射機構部を旋回させつつ、上方か
    ら被処理物に乾燥用気体を吹き付けることにより、被処
    理物の表面に付着した液体を除去することを特徴とする
    被処理物の液切り方法。
  2. 【請求項2】前記気体噴射機構部が、 被処理物の上方に略水平に配設され、前記旋回保持手段
    により旋回可能に保持された送気管と、 送気管の両端側に配設され、乾燥用気体を被処理物に吹
    き付けるとともに送気管を旋回させる推進力を生じさせ
    るように、乾燥用気体を斜め下方に噴射する気体噴射口
    とを備えて構成されていることを特徴とする請求項1記
    載の被処理物の液切り方法。
  3. 【請求項3】さらに、前記送気管が、その両端側に配設
    された気体噴射口(第1の気体噴射口)の間に、乾燥用
    気体を被処理物に向けて噴射する気体噴射口(第2の気
    体噴射口)を備えていることを特徴とする請求項2記載
    の被処理物の液切り方法。
  4. 【請求項4】前記第1及び第2の気体噴射口の少なくと
    も一部が、乾燥用気体の噴射方向を変更することができ
    るように構成されていることを特徴とする請求項3記載
    の被処理物の液切り方法。
  5. 【請求項5】前記第1及び第2の気体噴射口の少なくと
    も一部が、気体噴射量を調節するための調節機構を備え
    ていることを特徴とする請求項4記載の被処理物の液切
    り方法。
  6. 【請求項6】被処理物に吹き付ける乾燥用気体として、
    加熱及び乾燥の少なくとも一方の処理を予め施した気体
    を用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記
    載の被処理物の液切り方法。
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JP2013007536A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Nippon Furnace Co Ltd ハニカム型蓄熱体の清掃装置及び清掃方法
CN111006490A (zh) * 2019-12-12 2020-04-14 安徽省含山民生瓷业有限责任公司 一种多级式陶瓷晒胚设备

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