JPH09281049A - Defect inspection apparatus - Google Patents

Defect inspection apparatus

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JPH09281049A
JPH09281049A JP11134096A JP11134096A JPH09281049A JP H09281049 A JPH09281049 A JP H09281049A JP 11134096 A JP11134096 A JP 11134096A JP 11134096 A JP11134096 A JP 11134096A JP H09281049 A JPH09281049 A JP H09281049A
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JP
Japan
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light
pellicle frame
wall surface
pellicle
defect inspection
Prior art date
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Application number
JP11134096A
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Japanese (ja)
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Fumitomo Hayano
史倫 早野
Kenji Yamamoto
兼士 山本
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Publication of JPH09281049A publication Critical patent/JPH09281049A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect inspection apparatus by which the reliability of the defect inspection of a pellicle frame can be enhanced. SOLUTION: A light irradiation means 11 and a light receiving means 11 are held in a constant positional relationship by a movement means 12. While they are being moved relatively with reference to a pellicle frame 2, the pellicle frame 2 is irradiated with light by the light irradiation means 11 from the side of an upper edge on which a pellicle 1 at the pellicle frame 2 is installed so as to be stretched or from the side of a lower edge faced with the upper edge. Reflected light obtained when the pellicle frame 2 is irradiated with the light is received by the light receiving means 11. On the basis of the output of the light receiving means 11, whether the defect of the pellicle frame 2 exists or not is discriminated. Thereby, it is possible to realize a defect inspection apparatus 10 by which the defect inspection of the pellicle frame 2 can be performed with high accuracy and in a short time and which can enhance the reliability of the defect inspection of the pellicle frame 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は欠陥検査装置に関
し、特に半導体露光工程において用いられるフオトマス
クに装着されるペリクルフレームの欠陥を検査する欠陥
検査装置に適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect inspection apparatus, and is particularly suitable for application to a defect inspection apparatus for inspecting defects of a pellicle frame mounted on a photomask used in a semiconductor exposure process.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、集積回路の製造工程の1つである
フオトリソグラフイ工程においては、フオトマスクに形
成された回路パターンを露光装置を用いて被露光基板上
に転写する際、フオトマスクに埃等の異物が付着するの
を防止するため、フオトマスク表面をペリクルと呼ばれ
る光透過性でなる厚さ数〔μm〕の薄膜(異物付着防止
膜)で覆うようになされたものがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a photolithography process, which is one of manufacturing processes of integrated circuits, when a circuit pattern formed on a photomask is transferred onto a substrate to be exposed by using an exposure device, dust or the like is caused on the photomask. In order to prevent foreign matter from adhering to the photomask, there is a photomask whose surface is covered with a light-transmitting thin film (foreign matter adhesion preventing film) having a thickness of several [μm] called a pellicle.

【0003】これは、図9に示すように、ペリクル1を
アルミニウム又はジユラルミンでなる支持枠(以下、こ
れをペリクルフレームと呼ぶ)2に張設し、ペリクルフ
レーム2とフオトマスク3とを粘着テープ状の接着剤4
(厚さ 0.1〔mm〕〜1〔mm〕)によつて接着固定して、
フオトマスク3の表面を被覆するように装着することに
より、フオトマスク3に直接異物が付着することを未然
に防止し得るようになされている。
As shown in FIG. 9, a pellicle 1 is stretched on a support frame 2 (hereinafter referred to as a pellicle frame) 2 made of aluminum or diuralumin, and the pellicle frame 2 and a photomask 3 are in the form of an adhesive tape. Adhesive 4
(Thickness 0.1 [mm] to 1 [mm])
By mounting the photomask 3 so as to cover the surface thereof, it is possible to prevent foreign substances from directly adhering to the photomask 3.

【0004】このペリクルフレーム2の形状としては、
図9に示ような正方形状のものの他に長方形、円形及び
長方形で4隅が円弧状に形成されたものなどがあり、一
般にペリクルフレーム2の厚さは2〜3〔mm〕、高さは
3〜6〔mm〕の所定の寸法に選定されている。また図1
0に示すように、通常、ペリクルフレーム2の下端面2
Aにはフオトマスク3との接着のために接着剤4が塗布
されていると共に、発埃を防止するために各稜2B、2
C、2D及び2Eが 0.2〜 0.4〔mm〕程度面取りされて
いる。
The shape of the pellicle frame 2 is as follows.
In addition to the square shape as shown in FIG. 9, there are a rectangular shape, a circular shape, and a rectangular shape in which four corners are formed in an arc shape. Generally, the pellicle frame 2 has a thickness of 2 to 3 [mm] and a height of It is selected to have a predetermined size of 3 to 6 [mm]. FIG.
As shown in 0, normally, the lower end surface 2 of the pellicle frame 2 is
A is coated with an adhesive 4 for adhering to the photo mask 3, and each edge 2B, 2 is provided to prevent dust generation.
C, 2D and 2E are chamfered by about 0.2 to 0.4 [mm].

【0005】さらにペリクルフレーム2は削り出し加工
によつて形成されるためペリクルフレーム2の表面には
フライス盤で加工したときのカツタの刃のあとである削
りあと2Fが残つており、その表面は露光光の乱反射を
低減するためにほぼ黒色に加工されている。さらにペリ
クルフレーム2の品種によつては、ペリクルフレーム2
の内壁面2Gに、当該内壁面2Gに付着した異物5が落
ちないように接着剤6が薄く塗布されている場合があ
る。
Further, since the pellicle frame 2 is formed by shaving, the surface of the pellicle frame 2 is left with a shaving 2F, which is after the blade of the cutter when processed by a milling machine, and the surface is exposed. It is processed to be almost black in order to reduce irregular reflection of light. Depending on the type of pellicle frame 2, pellicle frame 2
There is a case where the adhesive 6 is thinly applied to the inner wall surface 2G so that the foreign matter 5 attached to the inner wall surface 2G does not drop.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところでペリクル1に
よつてフオトマスク3に異物5が付着することを防止し
ても、フオトマスク3上に異物5が付着してしまうこと
がある。例えば、ペリクル1の表面(外面)に付着した
異物をエアーブローでパージした場合ペリクル1の振動
によつてペリクル1の裏面(内面)に付着していた異物
がフオトマスク3の表面にふるい落とされたり、またペ
リクルフレーム2の内壁面2Gに付着していた異物5が
フオトマスク3上に落ちてフオトマスク3に異物5が付
着する場合がある。
Even if the pellicle 1 prevents the foreign matter 5 from adhering to the photomask 3, the foreign matter 5 may still adhere to the photomask 3. For example, when foreign matter adhering to the front surface (outer surface) of the pellicle 1 is purged by air blow, the foreign matter adhering to the back surface (inner surface) of the pellicle 1 is filtered off by the vibration of the pellicle 1 onto the surface of the photomask 3. In addition, the foreign matter 5 attached to the inner wall surface 2G of the pellicle frame 2 may fall on the photomask 3 and attach to the photomask 3.

【0007】このためペリクルフレーム2をフオトマス
ク3に装着する前に、ペリクル1の表面及び裏面やペリ
クルフレーム2の特に内壁面2Gに異物が付着している
か否かを検査する必要がある。ところが現在、異物がペ
リクル1に付着しているかを検査するための検査装置は
考案されて市販されているものがあるが、ペリクルフレ
ーム2に異物等の欠陥があるか否かを検査するための検
査装置はなく、ペリクルフレーム2については、検査者
が目視によつて検査していた。
Therefore, before mounting the pellicle frame 2 on the photomask 3, it is necessary to inspect whether or not foreign matter is attached to the front and back surfaces of the pellicle 1 and especially to the inner wall surface 2G of the pellicle frame 2. However, at present, there are inspected and commercially available inspection devices for inspecting whether or not foreign matter is attached to the pellicle 1. However, in order to inspect whether or not the pellicle frame 2 has a defect such as foreign matter. There is no inspection device, and the inspector visually inspected the pellicle frame 2.

【0008】ここで上述のようにペリクルフレーム2の
品種によつては、ペリクルフレーム2の内壁面2Gに接
着剤6が塗布されているものがあり、このようなペリク
ルフレーム2の場合、内壁面2Gに対する光の当て方に
よつては接着剤6の散乱光が目立つて異物5を検出しに
にくなつたり、また検査者のペリクルフレーム2を見る
方向によつて異物5を見逃すおそれがあり、検査精度に
ばらつきが生ずる問題があつた。また検査者の熟練度に
よつても検査精度にばらつきが生じ、さらに目視検査の
ため検査に多大な時間を要する問題があるなど、ペリク
ルフレーム2の検査方法としては未だ不十分であつた。
As described above, depending on the type of the pellicle frame 2, there is a pellicle frame 2 on which the adhesive 6 is applied to the inner wall surface 2G, and in the case of such a pellicle frame 2, the inner wall surface 2G. Depending on how the light is applied to the 2G, the scattered light of the adhesive 6 may be noticeable and it may be difficult to detect the foreign matter 5, or the foreign matter 5 may be missed depending on the direction in which the inspector looks at the pellicle frame 2. However, there is a problem that the inspection accuracy varies. Further, the inspection accuracy varies depending on the skill of the inspector, and further, there is a problem that a large amount of time is required for the inspection due to the visual inspection. Therefore, the inspection method of the pellicle frame 2 is still insufficient.

【0009】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、ペリクルフレームの欠陥検査の信頼性を向上し得る
欠陥検査装置を提案しようとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and an object thereof is to propose a defect inspection apparatus capable of improving the reliability of defect inspection of a pellicle frame.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め第1の発明においては、マスク又はレチクルを防塵す
るペリクル(1)が張設されるペリクルフレーム(2)
の欠陥を検査する欠陥検査装置(10)において、ペリ
クルフレーム(2)のペリクル(1)が張設される上端
面(2H)側又は該上端面(2H)と対向する下端面
(2A)側からペリクルフレーム(2)に対して光(L
1 、L2 、L3 、L4 )を照射する光照射手段(11
A、11B1 、11B2 、11C1 、11C2 、11D
1 、11D2、21A1 、21A2 )と、ペリクルフレ
ーム(2)に光を照射して得られる反射光(L5
6 )を受光する受光手段(11E、11F、11G、
21B、21C、21D)と、光照射手段(11A、1
1B1 、11B2 、11C1 、11C2 、11D1 、1
1D2 、21A1 、21A2 )及び受光手段(11E、
11F、11G、21B、21C、21D)を一定の位
置関係に保持しながらペリクルフレーム(2)に対して
光照射手段(11A、11B1 、11B2 、11C1
11C2 、11D1 、11D2 、21A1 、21A2
及び受光手段(11E、11F、11G、21B、21
C、21D)を相対移動させる移動手段(12)と、受
光手段(11E、11F、11G、21B、21C、2
1D)の出力に基づいてペリクルフレーム(2)の欠陥
の有無を判別する欠陥判別手段(11H、21E)とを
設ける。
In order to solve such a problem, in the first invention, a pellicle frame (2) is stretched with a pellicle (1) for dust-proofing a mask or reticle.
In the defect inspection device (10) for inspecting defects of (1), the pellicle frame (2) has an upper end surface (2H) side on which the pellicle (1) is stretched, or a lower end surface (2A) side facing the upper end surface (2H). From the pellicle frame (2) to the light (L
Light irradiating means (11 for irradiating 1 , L 2 , L 3 , L 4 )
A, 11B 1 , 11B 2 , 11C 1 , 11C 2 , 11D
1 , 11D 2 , 21A 1 , 21A 2 ) and the reflected light (L 5 , obtained by irradiating the pellicle frame (2) with light.
L 6 ) light receiving means (11E, 11F, 11G,
21B, 21C, 21D) and light irradiation means (11A, 1C).
1B 1 , 11B 2 , 11C 1 , 11C 2 , 11D 1 , 1
1D 2 , 21A 1 , 21A 2 ) and light receiving means (11E,
11F, 11G, 21B, 21C, 21D) in a fixed positional relationship, the light irradiation means (11A, 11B 1 , 11B 2 , 11C 1 ,
11C 2 , 11D 1 , 11D 2 , 21A 1 , 21A 2 )
And light receiving means (11E, 11F, 11G, 21B, 21
Moving means (12) for relatively moving C, 21D) and light receiving means (11E, 11F, 11G, 21B, 21C, 2
Defect determining means (11H, 21E) for determining the presence or absence of a defect in the pellicle frame (2) based on the output of 1D).

【0011】このように、光照射手段(11A、11B
1 、11B2 、11C1 、11C2、11D1 、11D
2 、21A1 、21A2 )及び受光手段(11E、11
F、11G、21B、21C、21D)を移動手段(1
2)によつて一定の位置関係に保持してペリクルフレー
ム(2)に対して相対移動させながら、ペリクルフレー
ム(2)のペリクル(1)が張設される上端面(2H)
側又は該上端面(2H)と対向する下端面(2A)側か
らペリクルフレーム(2)に対して光照射手段より光を
照射し、ペリクルフレームに光を照射して得られる反射
光を受光手段(11A、11B1 、11B2 、11
1 、11C2 、11D1 、11D2 、21A1 、21
2 )で受光して、受光手段(11A、11B1 、11
2 、11C1 、11C2 、11D1 、11D2 、21
1 、21A2 )の出力に基づいてペリクルフレーム
(2)の欠陥の有無を判別するようにしたことにより、
ペリクルフレーム(2)の欠陥検査を高精度かつ短時間
に行うことができる。
As described above, the light irradiation means (11A, 11B)
1 , 11B 2 , 11C 1 , 11C 2 , 11D 1 , 11D
2 , 21A 1 , 21A 2 ) and light receiving means (11E, 11)
F, 11G, 21B, 21C, 21D) the moving means (1
The upper end surface (2H) on which the pellicle (1) of the pellicle frame (2) is stretched while being held in a fixed positional relationship by means of 2) and moving relative to the pellicle frame (2).
Side or the lower end surface (2A) side facing the upper end surface (2H), the pellicle frame (2) is irradiated with light from the light irradiation means, and the reflected light obtained by irradiating the pellicle frame with light is received. (11A, 11B 1 , 11B 2 , 11
C 1 , 11C 2 , 11D 1 , 11D 2 , 21A 1 , 21
A 2 ) receives light, and the light receiving means (11A, 11B 1 , 11
B 2 , 11C 1 , 11C 2 , 11D 1 , 11D 2 , 21
By determining whether or not there is a defect in the pellicle frame (2) based on the output of A 1 , 21A 2 ),
The defect inspection of the pellicle frame (2) can be performed with high accuracy and in a short time.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0013】(1)全体構成 図9及び図10との対応部分に同一符号を付して示す図
1において、10は全体として本発明の実施例による欠
陥検査装置を示し、この欠陥検査装置10は欠陥検出ユ
ニツト11及び該欠陥検出ユニツト11を駆動する駆動
部12によつて構成されており、ペリクル1が張設され
たペリクルフレーム2の内壁面2G側に配置されてい
る。欠陥検出ユニツト11は、後述するように、ペリク
ルフレーム2の内壁面2G、又は内壁面2G及び上端面
2Hに白色光を照射し、該内壁面2G、又は内壁面2G
及び上端面2Hで発生した散乱光に基づいてペリクルフ
レーム2における異物の有無を検査するようになされて
いる。
(1) Overall Structure In FIG. 1 in which parts corresponding to those in FIG. 9 and FIG. 10 are assigned the same reference numerals, numeral 10 generally indicates a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. Is composed of a defect detection unit 11 and a drive unit 12 that drives the defect detection unit 11, and is arranged on the inner wall surface 2G side of the pellicle frame 2 on which the pellicle 1 is stretched. The defect detection unit 11 irradiates the inner wall surface 2G, or the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 with white light so that the inner wall surface 2G or the inner wall surface 2G, as will be described later.
The presence or absence of foreign matter in the pellicle frame 2 is inspected based on the scattered light generated on the upper end surface 2H.

【0014】駆動部12はx軸方向駆動部材12Aと、
y軸方向駆動部材12Bと、回転方向駆動部材12Cと
によつて構成されている。x軸方向駆動部材12Aは駆
動モータ(図示せず)の駆動制御に基づいて、x方向及
び該x方向と反対方向に移動し得るようになされている
と共に、y軸方向駆動部材12Bに沿つてy軸方向及び
該y軸方向と反対方向に移動し得るようになされてい
る。
The drive unit 12 includes an x-axis direction drive member 12A,
It is composed of a y-axis direction driving member 12B and a rotation direction driving member 12C. The x-axis direction driving member 12A is configured to be movable in the x direction and a direction opposite to the x direction based on the drive control of a driving motor (not shown), and along the y axis direction driving member 12B. It can move in the y-axis direction and in the direction opposite to the y-axis direction.

【0015】回転方向駆動部材12Cはx軸方向駆動部
材12Aの下面に設けられた軸12C1 と、該軸12C
1 の他端に設けられた回転部12C2 と、回転部12C
2 に軸12C1 とほぼ直角となるように設けられ、欠陥
検出ユニツト11に取り付けられれた軸12C3 とによ
つて構成されている。回転部12C2 は駆動モータ(図
示せず)の駆動制御に基づいて、図にθで示す方向に回
転し得るようになされており、これにより欠陥検出ユニ
ツト11をθ方向に回転させ得るようになされている。
The rotation direction driving member 12C includes a shaft 12C 1 provided on the lower surface of the x-axis direction driving member 12A, and the shaft 12C.
Rotating part 12C 2 provided at the other end of 1 and rotating part 12C
2 is provided so as to be substantially perpendicular to the shaft 12C 1 and is constituted by a shaft 12C 3 attached to the defect detection unit 11. The rotator 12C 2 is designed to be rotatable in the direction indicated by θ in the figure based on the drive control of a drive motor (not shown), so that the defect detecting unit 11 can be rotated in the θ direction. Has been done.

【0016】実際上、この実施例においては、欠陥検出
ユニツト11は、該欠陥検出ユニツト11内部に収納さ
れた後述する1次元のCCD(Charge Coupled Device
)(図示せず)の内壁面2Gからの水平距離を常に一
定の距離ΔRに保持すると共に、ペリクルフレーム2の
上端面2Hからの高さを所定の距離に保持しながら図2
に示すような軌跡でペリクルフレーム2の内壁面2Gに
沿つて移動するようになされている。
In practice, in this embodiment, the defect detection unit 11 includes a one-dimensional CCD (Charge Coupled Device) which will be described later and is housed inside the defect detection unit 11.
2) while keeping the horizontal distance from the inner wall surface 2G (not shown) at a constant distance ΔR and the height from the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 at a predetermined distance.
It moves along the inner wall surface 2G of the pellicle frame 2 along a locus as shown in FIG.

【0017】すなわち欠陥検出ユニツト11は、まず検
査開始点Aから点Bまで(内壁面2G1 )を内壁面2G
からの距離ΔRを保持しながら移動した後、点Bから直
線AB上の点Cまで戻り、内壁面2Gからの距離ΔRを
保持しながら点Cから点Dまで円弧状に移動して内壁面
2Gのコーナ部2GA を検査する。この後、欠陥検出ユ
ニツト11は点Dから点Eまで移動した後、該点Eから
点Dを通つて点Fまで(内壁面2G2 )を内壁面2Gか
らの距離ΔRを保持しながら移動する。
In other words, the defect detection unit 11 first moves from the inspection starting point A to the point B (inner wall surface 2G 1 ) to the inner wall surface 2G.
From the point B to the point C on the straight line AB, while moving from the point C to the point D in an arc shape while keeping the distance ΔR from the inner wall surface 2G. Inspect the corner section 2G A of. After that, the defect detection unit 11 moves from the point D to the point E, and then moves from the point E through the point D to the point F (inner wall surface 2G 2 ) while maintaining the distance ΔR from the inner wall surface 2G. .

【0018】続いて欠陥検出ユニツト11は、点Fから
直線EF間上の点Gまで戻り、内壁面2Gからの距離Δ
Rを保持しながら点Gから点Hまで円弧状に移動してコ
ーナ部2GB を検査する。この後、欠陥検出ユニツト1
1は点Hから点Iまで移動した後、該点Iから点Hを通
つて点Jまで(内壁面2G3 )を内壁面2Gからの距離
ΔRを保持しながら移動する。
Subsequently, the defect detection unit 11 returns from the point F to the point G on the straight line EF, and the distance Δ from the inner wall surface 2G.
Go to arcuate while retaining the R from the point G to the point H to check the corner 2G B. After this, the defect detection unit 1
After moving from the point H to the point I, 1 moves from the point I through the point H to the point J (inner wall surface 2G 3 ) while maintaining the distance ΔR from the inner wall surface 2G.

【0019】以下、同様に点Kから点Lまで円弧状に移
動してコーナ部2GC を検査した後、点Mから点Lを通
つて点Nまで(内壁面2G4 )を内壁面2Gからの距離
ΔRを保持しながら移動し、点Oから点Pまで円弧状に
移動してコーナ部2G4 を検査し、内壁面2G全体の検
査を終了する。ここでコーナ部2GA からコーナ部2G
D を検査する際には、x軸方向駆動部材11A、y軸方
向駆動部材11B及び回転方向駆動部材11Cが同時に
駆動される。
After that, after similarly moving in an arc from the point K to the point L and inspecting the corner portion 2G C , from the point M to the point L to the point N (the inner wall surface 2G 4 ) from the inner wall surface 2G. Of the inner wall surface 2G, the corner portion 2G 4 is inspected by moving in an arc shape from the point O to the point P while maintaining the distance ΔR. Here, from corner 2G A to corner 2G
When inspecting D , the x-axis direction driving member 11A, the y-axis direction driving member 11B, and the rotation direction driving member 11C are simultaneously driven.

【0020】従つてこの欠陥検出ユニツト11は、x軸
方向駆動部材12A、y軸方向駆動部材12B及び又は
回転方向駆動部材12Cの駆動制御に基づいて、ペリク
ルフレーム2の内壁面2Gに沿つて距離ΔRを保持しな
がらペリクルフレーム2に対して相対的に移動すること
ができるようになされている。
Therefore, the defect detection unit 11 is moved along the inner wall surface 2G of the pellicle frame 2 based on the drive control of the x-axis direction driving member 12A, the y-axis direction driving member 12B and / or the rotation direction driving member 12C. It can move relative to the pellicle frame 2 while holding ΔR.

【0021】(2)第1実施例による欠陥検出ユニツト
の構成 ここで第1実施例による欠陥検出ユニツト11の構成を
図1との対応部分に同一符号を付した図3に示す。この
欠陥検出ユニツト11においては、ランプハウス11A
から射出された白色光は、光フアイバ11B1 及び11
2 を通つて口金11C1 及び11C2 からそれぞれ白
色光L1 及びL2 として射出される。この口金11C1
及び11C2 からそれぞれ射出された白色光L1 及びL
2 は、それぞれミラー11D1 及び11D2 に入射した
後、該ミラー11D1 及び11D2 によつてペリクルフ
レーム2の内壁面2Gにおけるほぼ同じ照射位置Pに照
射される。
(2) Structure of Defect Detection Unit According to First Embodiment Here, the structure of the defect detection unit 11 according to the first embodiment is shown in FIG. 3 in which parts corresponding to those in FIG. In this defect detection unit 11, the lamp house 11A
The white light emitted from the optical fiber is the optical fiber 11B 1 and 11B.
White light L 1 and L 2 are emitted from the bases 11C 1 and 11C 2 through B 2 , respectively. This base 11C 1
And white light L 1 and L emitted from 11C 2 respectively
After entering the mirrors 11D 1 and 11D 2 respectively, 2 is irradiated to almost the same irradiation position P on the inner wall surface 2G of the pellicle frame 2 by the mirrors 11D 1 and 11D 2 .

【0022】ここで図4に示すように、この欠陥検出ユ
ニツト11は、内壁面2Gに対して白色光L1 及びL2
を、照射位置Pを中心にほぼ対称な2つの異なる方向か
ら照射するようになされており、照射位置Pに入射した
白色光L1 及びL2 が照射位置Pで発生した散乱光のう
ち散乱光L3 を、yz平面においてミラー11D1 及び
11D2 間のほぼ中心に配置されたミラー11Eで受け
る。
As shown in FIG. 4, the defect detecting unit 11 has white light L 1 and L 2 for the inner wall surface 2G.
Are radiated from two different directions that are substantially symmetrical with respect to the irradiation position P, and the white lights L 1 and L 2 incident on the irradiation position P are scattered lights among the scattered lights generated at the irradiation position P. L 3 is received by mirror 11E, which is arranged approximately in the center between mirrors 11D 1 and 11D 2 in the yz plane.

【0023】欠陥検出ユニツト11はミラー11Eに入
射した散乱光L3 を受光レンズ11Fに導いて集光した
後、例えば1次元のCCD11Gに結像受光させる。こ
のCCD11Gは、xz平面内又はxz平面近傍に配置
され、かつCCD11Gと照射位置Pとが共役な関係と
なるように配置されており、欠陥検出ユニツト11の移
動時にも常に照射位置Pと共役な関係となるように内壁
面2Gからの距離ΔRを保持するようになされている。
またCCD11Gは内壁面2Gの高さ方向(z方向)を
結像し得るように配置されている。
The defect detection unit 11 guides the scattered light L 3 incident on the mirror 11E to the light receiving lens 11F and collects it. Then, the image is received by, for example, a one-dimensional CCD 11G. The CCD 11G is arranged in the xz plane or in the vicinity of the xz plane, and is arranged so that the CCD 11G and the irradiation position P are in a conjugate relationship, and the CCD 11G is always conjugated with the irradiation position P even when the defect detection unit 11 moves. The distance ΔR from the inner wall surface 2G is maintained so as to be in a relationship.
The CCD 11G is arranged so that an image can be formed in the height direction (z direction) of the inner wall surface 2G.

【0024】ここで白色光L1 及びL2 の内壁面2Gに
対する入射角α(α1 及びα2 )及びβと、内壁面2G
に対するミラー11Eの配置位置について説明する。こ
の欠陥検査装置10では、図5に示すように、白色光L
1 及びL2 のxz平面(すなわち内壁面2G)内におけ
るx軸方向への傾斜角βは0〜20°に設定されており、
内壁面2Gで反射した散乱光のうち反射角γが60°〜90
°の散乱光L3 を入射し得るようにミラー11Eが配置
されている。
Here, the incident angles α (α 1 and α 2 ) and β of the white lights L 1 and L 2 with respect to the inner wall surface 2G and the inner wall surface 2G
The arrangement position of the mirror 11E with respect to will be described. In this defect inspection device 10, as shown in FIG.
The inclination angle β of 1 and L 2 in the x-axis plane in the xz plane (that is, the inner wall surface 2G) is set to 0 to 20 °,
Of the scattered light reflected by the inner wall surface 2G, the reflection angle γ is 60 ° to 90
The mirror 11E is arranged so that the scattered light L 3 of 90 ° can enter.

【0025】すなわちペリクルフレーム2に存在する削
りあと2Fや接着剤6は、内壁面2Gとの段差が小さい
のに対して、異物5が付着した部分は凸状になるので、
異物5の内壁面2Gとの段差は削りあと2Fや接着剤6
の内壁面2Gとの段差より大きなる。従つて削りあと2
Fや接着剤6による散乱光と異物5による散乱光とを弁
別し得るような傾斜角β(β=0〜20°)に設定するこ
とにより、削りあと2Fや接着剤6による散乱光を目立
たなくすることができる。また削りあと2Fや接着剤6
による散乱光は光の正反射反向に強くでるので、削りあ
と2Fや接着剤6からの散乱光と異物5からの散乱光と
を弁別し得るように、内壁面2Gで発生した散乱光のう
ち内壁面2Gでの反射角γが60°〜90°の散乱光L3
入射し得るような位置にミラー11Eを配置している。
That is, the scraped 2F and the adhesive 6 existing on the pellicle frame 2 have a small step with the inner wall surface 2G, while the portion to which the foreign matter 5 adheres has a convex shape.
The step between the foreign material 5 and the inner wall surface 2G is scraped off, and then the second surface 2F and the adhesive 6
Is larger than the step with the inner wall surface 2G. Therefore, only 2 left
By setting the inclination angle β (β = 0 to 20 °) so that the scattered light from F or the adhesive 6 and the scattered light from the foreign matter 5 can be discriminated, the scattered light from the 2F after cutting and the adhesive 6 is conspicuous. It can be lost. 2F and 6 adhesive after scraping
Since the scattered light due to is strong in the opposite direction of the specular reflection of light, the scattered light generated on the inner wall surface 2G can be discriminated from the scattered light from the 2F or the adhesive 6 and the scattered light from the foreign matter 5 after shaving. reflection angle in among the wall 2G gamma are arranged mirror 11E in a position as may be incident scattered light L 3 of 60 ° to 90 °.

【0026】ここで図6に示すように、例えば稜2Bか
ら発生する散乱光はほとんどがxz平面付近に広がるた
め、稜2Bからの散乱光はCCD11Gに入射されるこ
とになるが、上述のように白色光L1 及びL2 はxz平
面内におけるx軸方向へ角度β分だけ傾斜して内壁面2
Gに入射するので、各稜2B、2C、2D及び2Eから
の散乱光がCCD11Gに入射することを未然に防止す
ることができる。
Here, as shown in FIG. 6, for example, most of the scattered light generated from the ridge 2B spreads in the vicinity of the xz plane, so the scattered light from the ridge 2B is incident on the CCD 11G, but as described above. The white lights L 1 and L 2 are inclined to the x-axis direction in the xz plane by an angle β and the inner wall surface 2
Since it is incident on G, it is possible to prevent the scattered light from each of the edges 2B, 2C, 2D and 2E from entering the CCD 11G.

【0027】さらにこの欠陥検査装置10では、図4に
示すように、口金11C1 及び11C2 から出射された
白色光L1 及びL2 を、照射位置Pを中心にほぼ対称な
2つの異なる方向から照射させ、かつ白色光L1 及びL
2 のxy平面に対する入射角α1 及びα2 (すなわち内
壁面2Gに対する高さ方向の入射角)をそれぞれほぼ−
10°〜−60°及び10°〜60°に設定している。
Further, in this defect inspection apparatus 10, as shown in FIG. 4, the white lights L 1 and L 2 emitted from the bases 11C 1 and 11C 2 are directed in two different directions which are substantially symmetrical with respect to the irradiation position P. From the white light L 1 and L
The incident angles α 1 and α 2 of 2 with respect to the xy plane (that is, the incident angle in the height direction with respect to the inner wall surface 2G) are approximately −
It is set to 10 ° to -60 ° and 10 ° to 60 °.

【0028】すなわち上述のようにペリクルフレーム2
の各稜2B、2C、2D及び2Eは面取りされているの
で、各稜2B、2C、2D及び2Eの面取り部分からの
散乱光を低減するために、白色光L1 及びL2 のxy平
面に対する入射角α1 及びα2 をそれぞれほぼ−10°〜
−60°及び10°〜60°に設定している。これにより白色
光L1 及びL2 を内壁面2Gに対して照射した場合の面
取り部分からの散乱光の受光を低減し、異物5による散
乱光との判別を容易にし得る。
That is, as described above, the pellicle frame 2
Since each of the ridges 2B, 2C, 2D and 2E is chamfered, in order to reduce the scattered light from the chamfered portion of each of the ridges 2B, 2C, 2D and 2E, the white light L 1 and L 2 with respect to the xy plane is reduced. Incident angles α 1 and α 2 are approximately -10 ° ~
It is set to -60 ° and 10 ° to 60 °. As a result, it is possible to reduce the reception of scattered light from the chamfered portion when the white light L 1 and L 2 is applied to the inner wall surface 2G, and to easily distinguish the scattered light from the foreign matter 5.

【0029】このように、この欠陥検査装置10では、
内壁面23Gに対して白色光L1 及びL2 のxz平面内
におけるx軸方向への傾斜角βを0〜20°に設定し、内
壁面2Gで反射した散乱光のうち反射角γが60°〜90°
の散乱光L3 を入射し得るようにミラー11Eを配置
し、白色光L1 及びL2 のxy平面に対する入射角α1
及びα2 をそれぞれ−10°〜−60°及び10°〜60°に設
定したことにより、削りあと2Fや接着剤6による散乱
光及び面取り部分からの散乱光の受光をほぼ回避するこ
とができるので、ほぼ異物5による散乱光だけをCCD
11Gに結像受光させることができる。
As described above, in the defect inspection apparatus 10,
The inclination angle β of the white light L 1 and L 2 with respect to the inner wall surface 23G in the xz plane in the xz plane is set to 0 to 20 °, and the reflection angle γ of the scattered light reflected by the inner wall surface 2G is 60. ° ~ 90 °
The mirror 11E is arranged so that the scattered light L 3 of the white light L 1 and L 2 is incident on the xy plane and the incident angle α 1
By setting α 2 and α 2 to −10 ° to −60 ° and 10 ° to 60 °, respectively, it is possible to substantially avoid the reception of the scattered light by the 2F or the adhesive 6 and the scattered light from the chamfered portion after cutting. Therefore, only the light scattered by the foreign matter 5 is transferred to the CCD.
The image can be received by 11G.

【0030】CCD11Gは結像受光した散乱光L3
電気信号S1に変換した後、この電気信号S1を欠陥判
別部11Hに送出する。欠陥判別部11HはCCD11
Gから送出される電気信号S1を、バツクグランドノイ
ズの大小や検出したい異物5の大きさに応じて予め定め
られたスライスレベルで2値化し、該スライスレベル以
上の電気信号S1を得た場合、内壁面2Gに異物5が付
着していると判定する。
The CCD 11G converts the scattered light L 3 that has been imaged and received into an electric signal S1 and then sends this electric signal S1 to the defect discriminating section 11H. The defect discrimination unit 11H is the CCD 11
When the electrical signal S1 sent from G is binarized at a slice level predetermined according to the size of the back ground noise and the size of the foreign matter 5 to be detected, and the electrical signal S1 above the slice level is obtained, It is determined that the foreign matter 5 is attached to the inner wall surface 2G.

【0031】(3)実施例の動作及び効果 以上の構成において、この欠陥検査装置10は、欠陥検
出ユニツト11から白色光L1 及びL2 をそれぞれα1
=−10°〜−60°、α2 =10°〜60°及びβ=0°〜20
°の入射角で内壁面2Gに照射しながら、図2に示すよ
うに、欠陥検出ユニツト11を順に内壁面2G1 、コー
ナ部2GA 、内壁面2G2 、コーナ部2GB 、内壁面2
3 、コーナ部2GC 、内壁面2G4 及びコーナ部2G
D に沿つて移動させて内壁面2Gに存在する異物5を検
出する。この場合、欠陥検出ユニツト11が内壁面2G
を周回している間、ハウスランプ11Aから発光された
白色光は光フアイバ11B1 及び11B2 で分岐されて
白色光L1 及びL2 として内壁面2Gに照射される。
(3) Operation and effect of the embodiment With the above configuration, the defect inspection apparatus 10 outputs the white lights L 1 and L 2 from the defect detection unit 11 to α 1 respectively.
= -10 ° to -60 °, α 2 = 10 ° to 60 ° and β = 0 ° to 20
While irradiating the inner wall 2G at an incident angle of °, as shown in FIG. 2, in order inner wall 2G 1 defect detection Yunitsuto 11, corners 2G A, the inner wall surface 2G 2, corner portions 2G B, the inner wall surface 2
G 3 , corner portion 2G C , inner wall surface 2G 4 and corner portion 2G
The foreign object 5 existing on the inner wall surface 2G is detected by moving along D. In this case, the defect detection unit 11 has the inner wall surface 2G
While circling around, the white light emitted from the house lamp 11A is branched by the optical fibers 11B 1 and 11B 2 and is applied to the inner wall surface 2G as white light L 1 and L 2 .

【0032】ここで内壁面2Gを検査する場合、常に白
色光L1 及びL2 の両方の光を用いて検査すると、例え
ば内壁面2G2 を検査する場合、直線EF上の後半部の
所定の位置よりペリクルフレーム2が壁になつて白色光
2 が内壁面2G2 に照射されなくなる。これを回避す
るためこの欠陥検査装置10では、図2に示すように、
直線AB、EF、IJ及びMN間を移動して内壁面2G
1 、2G2 、2G3 及び2G4 を検査する場合、各直線
AB、EF、IJ及びMN間の前半部までは白色光L2
だけを照射させ、各直線AB、EF、IJ及びMN間の
後半部は白色光L1 だけを照射するように制御する。
Here, when inspecting the inner wall surface 2G, if the light of both the white light L 1 and L 2 is always inspected, for example, when inspecting the inner wall surface 2G 2 , a predetermined part of the latter half portion on the straight line EF is determined. From the position, the pellicle frame 2 is attached to the wall, and the white light L 2 is not emitted to the inner wall surface 2G 2 . In order to avoid this, in the defect inspection apparatus 10, as shown in FIG.
Move between straight lines AB, EF, IJ, and MN to move the inner wall surface 2G
When inspecting 1 , 2G 2 , 2G 3 and 2G 4 , white light L 2 is received up to the first half between the straight lines AB, EF, IJ and MN.
Only the white light L 1 is irradiated to the latter half of the straight lines AB, EF, IJ, and MN.

【0033】例えば直線EF間の場合、点Eから直線E
F間の中間点Qまでは白色光L2 だけを照射させ、中間
点Qから点Fまでは白色光L1 だけを照射するように制
御する。これにより、内壁面2Gに常に同量の光量を照
射することができるので、内壁面2Gに付着した異物5
を精度良く検出することができる。
For example, in the case of the straight line EF, from the point E to the straight line E
It is controlled so that only the white light L 2 is emitted to the intermediate point Q between F and only the white light L 1 is emitted from the intermediate point Q to the point F. As a result, since the same amount of light can be constantly applied to the inner wall surface 2G, the foreign matter 5 attached to the inner wall surface 2G
Can be accurately detected.

【0034】内壁面2Gで発生した散乱光のうち散乱光
3 はミラー11Eに入射された後、受光レンズ11F
に導かれて集光され、CCD11Gに結像受光される。
CCD11Gはこの結像光を電気信号S1に変換して欠
陥判別部2Hに送出し、欠陥判別部2Hは電気信号S1
がスライスレベル以上であるか否かを判定し、スライス
レベル以上の場合に異物5が内壁面2Gに付着している
と判定する。
Of the scattered light generated on the inner wall surface 2G, the scattered light L 3 is incident on the mirror 11E and then the light receiving lens 11F.
Is guided to and condensed to form an image on the CCD 11G.
The CCD 11G converts this image forming light into an electric signal S1 and sends it to the defect discriminating section 2H, which in turn outputs the electric signal S1.
Is above the slice level, and if above the slice level, it is determined that the foreign matter 5 is attached to the inner wall surface 2G.

【0035】従つてこの欠陥検査装置10では、削りあ
と2Fや接着剤6による散乱光の受光をほぼ回避して異
物5による散乱光をCCD11Gに結像受光させること
ができるので、従来のような目視検査に比して検査精度
を格段的に向上させることができる。またこの欠陥検査
装置10では、欠陥検査ユニツト11から内壁面2Gに
対して白色光L1 及びL2 を照射させながら欠陥検査ユ
ニツト11を周回させたことにより、従来のような目視
検査に比して検査時間を格段的に短縮することができ
る。
Therefore, in the defect inspection apparatus 10, since the scattered light from the foreign material 5 can be focused and received on the CCD 11G by substantially avoiding the scattered light from being cut off by the 2F or the adhesive agent 6, it is possible to perform the conventional operation. The inspection accuracy can be significantly improved as compared with the visual inspection. Further, in this defect inspection apparatus 10, the defect inspection unit 11 is circulated while irradiating the inner wall surface 2G with the white light L 1 and L 2 from the defect inspection unit 11, so that it is possible to compare with the conventional visual inspection. Therefore, the inspection time can be significantly reduced.

【0036】以上の構成によれば、欠陥検出ユニツト1
1を駆動部12によつてペリクルフレーム2の内周を周
回させると同時に、白色光L1 及びL2 を、xz平面内
におけるx軸方向への傾斜角βを0〜20°、xy平面に
対する入射角α1 及びα2 をそれぞれ−10°〜−60°及
び10°〜60°で内壁面2Gに対して入射させ、内壁面2
Gで発生した散乱光のうち反射角γが60°〜90°の散乱
光L3 をミラー11E及び受光レンズ11Fを介してC
CD11Gで結像受光させ、CCD11Gの出力信号S
1がスライスレベル以上である場合に、内壁面2Gに異
物5が付着していると判定するようにしたことにより、
削りあと2Fや接着剤6による散乱光の受光をほぼ回避
して異物5による散乱光をCCD11Gに結像受光させ
ることができるので、従来のような目視検査に比して検
査精度を格段的に向上させることができ、かくしてペリ
クルフレーム2の欠陥検査の信頼性を向上し得る欠陥検
査装置を実現することができる。
According to the above configuration, the defect detection unit 1
1 is circulated on the inner circumference of the pellicle frame 2 by the driving unit 12, and at the same time, the white light L 1 and L 2 is inclined at an inclination angle β in the x-axis direction of 0 to 20 ° with respect to the xy plane. The incident angles α 1 and α 2 are made to fall on the inner wall surface 2G at −10 ° to −60 ° and 10 ° to 60 °, respectively.
Of the scattered light generated in G, the scattered light L 3 having a reflection angle γ of 60 ° to 90 ° is C through the mirror 11E and the light receiving lens 11F.
The image is received by the CD 11G, and the output signal S of the CCD 11G is received.
By determining that the foreign matter 5 is attached to the inner wall surface 2G when 1 is equal to or higher than the slice level,
Since the scattered light from the foreign matter 5 can be imaged and received on the CCD 11G by substantially avoiding the reception of the scattered light by the 2F or the adhesive 6 after the shaving, the inspection accuracy is remarkably higher than that of the conventional visual inspection. Therefore, it is possible to realize the defect inspection apparatus which can improve the reliability of the defect inspection of the pellicle frame 2.

【0037】(4)第2実施例による欠陥検出ユニツト
の構成 図3との対応部分に同一符号を付して示す図7におい
て、21は全体として本発明の第2実施例による欠陥検
出ユニツトを示し、この欠陥検出ユニツト21はペリク
ルフレーム2の内壁面2Gに加えて上端面2Hに存在す
る異物5を検査し得るようになされている。
(4) Structure of Defect Detection Unit According to Second Embodiment In FIG. 7 in which parts corresponding to those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, 21 indicates the defect detection unit according to the second embodiment of the present invention as a whole. As shown, the defect detection unit 21 can inspect the foreign matter 5 existing on the upper end surface 2H in addition to the inner wall surface 2G of the pellicle frame 2.

【0038】すなわち欠陥検出ユニツト21において
は、ランプハウス11A(図示せず)から光フアイバ1
1B1 及び11B2 (図示せず)を通つて口金11C1
及び11C2 (図示せず)から射出された白色光L1
びL2 (図示せず)は、それぞれレンズ群21A1 及び
21A2 (図示せず)によつて拡大されてペリクルフレ
ーム2の内壁面2G及び上端面2Hに照射されるように
なされている。ここでレンズ群21A1 及び21A
2 (図示ぜず)によつて拡大された白色光L3 及びL4
(図示せず)の照射角度α(α1 、α2 )及びβは欠陥
検出ユニツト11の場合と同じであり、内壁面2Gで反
射した散乱光のうち反射角γが60°〜90°の散乱光L5
がミラー11Eに入射するようになされている。
In other words, in the defect detection unit 21, the lamp fiber 11A (not shown) is connected to the optical fiber 1.
1B 1 and 11B 2 (not shown) through the base 11C 1
And white light L 1 and L 2 (not shown) emitted from 11C 2 (not shown) are magnified by the lens groups 21A 1 and 21A 2 (not shown), respectively, inside the pellicle frame 2. The wall surface 2G and the upper end surface 2H are irradiated. Here, the lens groups 21A 1 and 21A
2 white light L 3 and L 4 magnified by (not shown)
The irradiation angles α (α 1 , α 2 ) and β (not shown) are the same as those in the defect detection unit 11, and the reflection angle γ of the scattered light reflected by the inner wall surface 2G is 60 ° to 90 °. Scattered light L 5
Is incident on the mirror 11E.

【0039】他方、ペリクルフレーム2の上端面2Hで
反射した散乱光のうち反射角δが5°〜30°の散乱光L
6 を入射し得るようにミラー21Bが配置されている。
ここでペリクルフレーム2の上端面2Hにはペリクル1
が張設されいるので上端面2Hの最外表面はペリクル1
となり、上端面2Hの削りあと(図示せず)はペリクル
1の下に存在することになる。
On the other hand, of the scattered light reflected by the upper end surface 2H of the pellicle frame 2, the scattered light L having a reflection angle δ of 5 ° to 30 °.
The mirror 21B is arranged so that 6 can be incident.
Here, the pellicle 1 is attached to the upper end surface 2H of the pellicle frame 2.
The outermost surface of the upper end surface 2H is the pellicle 1
Therefore, the scraped upper end surface 2H (not shown) exists below the pellicle 1.

【0040】この場合、上端面2Hに対する白色光L3
及びL4 の入射角α(α1 、α2 )及びβを欠陥検出ユ
ニツト11の場合と同じ角度で入射させても、反射角δ
が5°〜30°の散乱光L6 をミラー21Bに入射させる
ようにすることにより、上端面2Hの削りあとによる散
乱光の受光をほぼ回避することができるので、削りあと
2Fや接着剤6による散乱光と異物5による散乱光とを
容易に弁別することができる。
In this case, the white light L 3 with respect to the upper end surface 2H is
Even if the incident angles α (α 1 , α 2 ) and β of L 4 and L 4 are incident at the same angle as in the defect detection unit 11, the reflection angle δ
By making the scattered light L 6 of 5 ° to 30 ° incident on the mirror 21B, it is possible to substantially avoid the reception of the scattered light due to the scraping of the upper end surface 2H. The scattered light due to and the scattered light due to the foreign matter 5 can be easily discriminated.

【0041】ミラー21Bに入射した散乱光L6 は受光
レンズ21Cで集光された後、上端面2Hと共役な関係
に配置され、ほぼxz平面内に配置されたCCD21D
で結像受光される。CCD21Dは結像光を電気信号S
2に変換した後、この電気信号S2を欠陥判別部21E
に送出する。欠陥判別部21EはCCD21Dから送出
される電気信号S2を、バツクグランドノイズの大小や
検出したい異物5の大きさに応じて予め定められたスラ
イスレベルで2値化し、該スライスレベル以上の電気信
号S2を得た場合、上端面2Hに異物が付着していると
判定する。内壁面2Gについては上述の欠陥検出ユニツ
ト11の場合と同様に判定する。
The scattered light L 6 incident on the mirror 21B is condensed by the light receiving lens 21C, and then is arranged in a conjugate relationship with the upper end surface 2H, and is arranged substantially in the xz plane.
The image is received at. The CCD 21D converts the image forming light into an electric signal S.
After being converted into 2, the electric signal S2 is converted into the defect discrimination section 21E.
To send to. The defect discriminator 21E binarizes the electric signal S2 sent from the CCD 21D at a predetermined slice level according to the size of the background noise and the size of the foreign matter 5 to be detected, and the electric signal S2 above the slice level. If it is obtained, it is determined that the foreign matter is attached to the upper end surface 2H. The inner wall surface 2G is determined in the same manner as in the defect detection unit 11 described above.

【0042】以上の構成において、欠陥検出ユニツト2
1から白色光L3 及びL4 をそれぞれ欠陥検出ユニツト
11の場合と同じ入射角α(α1 、α2 )及びβで内壁
面2G及び上端面2Hに対して照射しながら、欠陥検出
ユニツト21をペリクルフレーム2の内周に沿つて周回
させて、内壁面2G及び上端面2Hに存在する異物を検
出する。
In the above structure, the defect detection unit 2
The same incidence angle α (α 1, α 2) in the case of the white light L 3 and L 4, respectively from 1 defect detection Yunitsuto 11 and while irradiating the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H in beta, defect detection Yunitsuto 21 Is circulated along the inner circumference of the pellicle frame 2 to detect foreign matter present on the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H.

【0043】この場合、上端面2Hで発生した散乱光の
うち散乱光L6 がミラー21B及び受光レンズ21Cを
介してCCD21Dで結像受光されると共に、内壁面2
Gで発生した散乱光のうち散乱光L5 がミラー11E及
び受光レンズ11Fを介してCCD11Gで結像受光さ
れる。欠陥検出部21EはCCD21Dからの出力信号
S2がスライスレベル以上である場合に異物5が上端面
2Hに付着していると判定し、欠陥検出部11HはCC
D11Gからの出力信号S1がスライスレベル以上であ
る場合に異物5が内壁面2Gに付着していると判定す
る。従つてこの欠陥検査装置10では、削りあと2Fや
接着剤6による散乱光の受光をほぼ回避してペリクルフ
レーム2の内壁面2G及び上端面2Hにおける異物によ
る散乱光をそれぞれCCD11G及びCCD21Dに結
像受光させることができる。
In this case, of the scattered light generated on the upper end surface 2H, the scattered light L 6 is imaged and received by the CCD 21D via the mirror 21B and the light receiving lens 21C, and the inner wall surface 2
Of the scattered light generated by G, the scattered light L 5 is imaged and received by the CCD 11G via the mirror 11E and the light receiving lens 11F. The defect detection unit 21E determines that the foreign matter 5 is attached to the upper end surface 2H when the output signal S2 from the CCD 21D is equal to or higher than the slice level.
When the output signal S1 from D11G is equal to or higher than the slice level, it is determined that the foreign matter 5 is attached to the inner wall surface 2G. Therefore, in this defect inspection apparatus 10, scattered light due to foreign matter on the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 is imaged on the CCD 11G and CCD 21D, respectively, by substantially avoiding reception of scattered light by the scraped 2F and the adhesive 6. Can receive light.

【0044】以上の構成によれば、欠陥検出ユニツト2
1を駆動部12によつてペリクルフレーム2の内周に沿
つて周回させると同時に、白色光L3 及びL4 を、xz
平面内におけるx軸方向への傾斜角βを0〜20°、xy
平面に対する入射角α1 及びα2 をそれぞれ−10°〜−
60°及び10°〜60°で内壁面2G及び上端面2Hに対し
て入射させ、内壁面2Gで発生した散乱光のうち反射角
γが60°〜90°の散乱光L5 をミラー11E及び受光レ
ンズ11Fを介してCCD11Gで結像受光させて、C
CD11Gの出力信号S1がスライスレベル以上である
場合に内壁面2Gに異物5が付着していると判定し、上
端面2Hで発生した散乱光のうち反射角δが5°〜30°
の散乱光L6 をミラー21B及び受光レンズ21Cを介
してCCD21Dで結像受光させて、CCD21Dの出
力信号S2がスライスレベル以上である場合に上端面2
Hに異物が付着していると判定したことにより、削りあ
と2Fや接着剤6による散乱光の受光をほぼ回避してペ
リクルフレーム2の内壁面2G及び上端面2Hにおける
異物による散乱光をそれぞれCCD11G及びCCD2
1Dに結像受光させることができ、かくしてペリクルフ
レーム2の内壁面2G及び上端面2Hを同時かつ精度良
く検査することができる欠陥検査装置を実現することが
できる。
According to the above configuration, the defect detection unit 2
1 is circulated along the inner circumference of the pellicle frame 2 by the driving unit 12, and at the same time, the white lights L 3 and L 4 are generated by xz
The inclination angle β in the plane to the x-axis direction is 0 to 20 °, xy
The incident angles α 1 and α 2 with respect to the plane are −10 ° to −, respectively.
The scattered light L 5 having a reflection angle γ of 60 ° to 90 °, which is incident on the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H at 60 ° and 10 ° to 60 ° and is generated on the inner wall surface 2G, is reflected by the mirror 11E and the mirror 11E. The image is formed and received by the CCD 11G through the light receiving lens 11F, and C
When the output signal S1 of the CD 11G is equal to or higher than the slice level, it is determined that the foreign matter 5 is attached to the inner wall surface 2G, and the reflection angle δ of the scattered light generated on the upper end surface 2H is 5 ° to 30 °.
The scattered light L 6 of is imaged and received by the CCD 21D via the mirror 21B and the light receiving lens 21C, and when the output signal S2 of the CCD 21D is above the slice level, the upper end surface 2
Since it is determined that the foreign matter adheres to H, the scattered light caused by the foreign matter on the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 is substantially avoided by avoiding the reception of the scattered light by the scraped 2F and the adhesive 6. And CCD2
It is possible to realize a defect inspection device capable of forming an image and receiving light in 1D and thus inspecting the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 simultaneously and accurately.

【0045】(4)他の実施例 なお上述の実施例においては、欠陥検査装置10をペリ
クルフレーム2のペリクル1が張設される側に配置した
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、欠陥検
査装置10をペリクルフレーム2の接着剤4が塗布され
る側(すなわち下端面2A側)に配置してもよい。因み
に、通常ペリクルフレーム2はペリクル1が上に向いた
状態でペリクルケース内に収納されている。従つてペリ
クルケースの蓋を開けて欠陥検査装置10をセツトすれ
ば、ペリクルフレーム2を把持することなくペリクルフ
レーム2を検査することができる。
(4) Other Embodiments In the above embodiment, the case where the defect inspection apparatus 10 is arranged on the side of the pellicle frame 2 on which the pellicle 1 is stretched has been described, but the present invention is not limited to this. Instead, the defect inspection apparatus 10 may be arranged on the side of the pellicle frame 2 to which the adhesive 4 is applied (that is, the lower end surface 2A side). Incidentally, the pellicle frame 2 is normally housed in the pellicle case with the pellicle 1 facing upward. Therefore, by opening the lid of the pellicle case and setting the defect inspection apparatus 10, the pellicle frame 2 can be inspected without holding the pellicle frame 2.

【0046】しかしながらペリクルケースからペリクル
フレーム2を取り出してフオトマスクにペリクルフレー
ム2を接着固定する前にペリクルフレーム2について欠
陥検査する場合には、ペリクルフレーム2の上下が反対
になつて欠陥検査装置10の配置を上述の実施例のよう
に配置できない場合があるので、欠陥検査装置10をペ
リクルフレーム2の下端面2A側に配置し得るようにす
れば、このような場合にも対応することができる。
However, when performing a defect inspection on the pellicle frame 2 before taking out the pellicle frame 2 from the pellicle case and adhering and fixing the pellicle frame 2 to the photomask, the pellicle frame 2 is turned upside down so that the defect inspection apparatus 10 operates. In some cases, the arrangement cannot be arranged as in the above-described embodiment. Therefore, if the defect inspection apparatus 10 can be arranged on the lower end surface 2A side of the pellicle frame 2, such a case can be dealt with.

【0047】また上述の実施例においては、ペリクルフ
レーム2の内壁面2G及び上端面2Hにおける異物5の
有無を、予め決められたスライスレベルを基準にして判
別した場合について述べたが、本発明はこれに限らず、
CCD11G及び21Dの出力信号S1及びS2をモニ
タに入力し、内壁面2G及び上端面2Hの像をモニタ上
に表示させ、検査者がモニタ上に表示された画像を見て
異物の有無を判別するようにしてもよい。この場合、モ
ニタの水平方向をCCD11Gの出力(すなわち内壁面
2Gのz方向に対応)とし、モニタの垂直方向をペリク
ルフレーム2の全周の出力(すなわち内壁面2Gの周方
向に対応)とすれば、内壁面2G1周分の検査結果をモ
ニタ1画面上に表示させることができるので、簡易かつ
短時間で内壁面2Gを検査することができる。
In the above embodiment, the presence or absence of the foreign matter 5 on the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 is determined based on a predetermined slice level, but the present invention is not limited to this. Not limited to this,
The output signals S1 and S2 of the CCDs 11G and 21D are input to the monitor, the images of the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H are displayed on the monitor, and the inspector determines the presence / absence of foreign matter by looking at the image displayed on the monitor. You may do it. In this case, the horizontal direction of the monitor is the output of the CCD 11G (that corresponds to the z direction of the inner wall surface 2G) and the vertical direction of the monitor is the output of the entire circumference of the pellicle frame 2 (that is, the circumferential direction of the inner wall surface 2G). For example, since the inspection result for one round of the inner wall surface 2G can be displayed on the monitor 1 screen, the inner wall surface 2G can be inspected easily and in a short time.

【0048】さらに上述の実施例においては、CCD1
1G及び21Dと欠陥判別部11H及び21Eとをペリ
クルフレーム2のペリクル1が張設される側に設けた場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、ペリクル
フレーム2の接着剤4が塗布される側(すなわち下端面
2A側)に設けるようにしてもよい。さらに上述の実施
例においては、白色光L1 及びL2 、L3 及びL4 のx
z平面内におけるx軸方向への傾斜角βを0〜20°の範
囲に設定した場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、傾斜角βを0〜45°の範囲に設定してもよく、要
は削りあと6や接着剤2Fによる散乱光と異物5による
散乱光とを弁別し得れば、傾斜角βとしてこの他の範囲
に設定してもよい。
Further, in the above embodiment, the CCD 1
The case where the 1G and 21D and the defect determining sections 11H and 21E are provided on the side of the pellicle frame 2 on which the pellicle 1 is stretched has been described, but the present invention is not limited to this, and the adhesive 4 of the pellicle frame 2 is applied. You may make it provide in the side (namely, lower end surface 2A side). Further, in the above-mentioned embodiment, x of white light L 1 and L 2 , L 3 and L 4
The case where the inclination angle β in the x-axis direction in the z plane is set in the range of 0 to 20 ° has been described, but the present invention is not limited to this, and the inclination angle β is set in the range of 0 to 45 °. In essence, the tilt angle β may be set to another range as long as it is possible to discriminate the light scattered by the scraped material 6 or the adhesive 2F from the light scattered by the foreign matter 5.

【0049】さらに上述の実施例においては、内壁面2
Gで発生した散乱光のうち反射角γが60°〜90°の散乱
光L3 を入射し得るようにミラー11Eを配置した場合
について述べたが、本発明はこれに限らず、反射角γが
30°〜90°の散乱光L3 を入射し得るようにミラー11
Eを配置してもよく、要は削りあと2Fや接着剤6によ
る散乱光と異物5による散乱光とを弁別し得れば、この
他種々の反射角γで反射した散乱光L3 を入射し得るよ
うにミラー11Eを配置してもよい。
Further, in the above embodiment, the inner wall surface 2
The case where the mirror 11E is arranged so that the scattered light L 3 having a reflection angle γ of 60 ° to 90 ° among the scattered light generated in G can be incident has been described, but the present invention is not limited to this, and the reflection angle γ is not limited thereto. But
The mirror 11 so that scattered light L 3 of 30 ° to 90 ° can enter
E may be arranged. In short, if the scattered light due to the 2F or the adhesive 6 and the scattered light due to the foreign matter 5 can be discriminated after cutting, the scattered light L 3 reflected at various other reflection angles γ is incident. The mirror 11E may be arranged so as to be able to do so.

【0050】さらに上述の実施例においては、ペリクル
フレーム2の上端面2Hで発生した散乱光のうち反射角
δが5°〜30°の散乱光L6 を入射し得るようにミラー
21Bを配置した場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、要は上端面2Hにおける削りあとによる散乱
光の受光を異物5による散乱光とを弁別し得る程度に回
避し得れば、この他種々の反射角δで反射した散乱光L
6 を入射し得るようにミラー21Bを配置してもよい。
Further, in the above-mentioned embodiment, the mirror 21B is arranged so that the scattered light L 6 having the reflection angle δ of 5 ° to 30 ° among the scattered light generated on the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 can enter. Although the case has been described, the present invention is not limited to this, and in short, various other various methods may be used as long as the reception of scattered light due to shaving on the upper end surface 2H can be avoided to the extent that it can be discriminated from the scattered light due to the foreign matter 5. Scattered light L reflected at reflection angle δ
The mirror 21B may be arranged so that 6 can be incident.

【0051】さらに上述の実施例においては、ペリクル
フレーム2に対してハウスランプ11Aから白色光を照
射した場合について述べたが、本発明はこれに限らず、
ペリクルフレーム2に対してレーザダイオードや発光ダ
イオード等から単色光を照射するようにしてもよい。こ
こでレーザダイオードや発光ダイオードを用いる場合に
は入射角α(α1 、α2 )及び受光角γの値に注意する
必要がある。すなわちペリクル1は薄膜であるため単色
光に対してはその入射角αによつて透過率が変化し、入
射角α及び受光角γの値によつては透過率が低くなる場
合があり、また波長や入射角はペリクル1の種類によつ
ても異なるからである。
Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the pellicle frame 2 is irradiated with white light from the house lamp 11A has been described, but the present invention is not limited to this.
The pellicle frame 2 may be irradiated with monochromatic light from a laser diode, a light emitting diode or the like. When using a laser diode or a light emitting diode, it is necessary to pay attention to the values of the incident angle α (α 1 , α 2 ) and the light receiving angle γ. That is, since the pellicle 1 is a thin film, the transmittance of monochromatic light may change depending on the incident angle α, and the transmittance may decrease depending on the values of the incident angle α and the light receiving angle γ. This is because the wavelength and the incident angle differ depending on the type of the pellicle 1.

【0052】これに比べて白色光の場合には波長が広い
ので、その透過率は単色光におけるある入射角での透過
率ほど低下しないので検査精度にほどんど影響はない。
しかしなから内壁面2Gで反射した散乱光のうち受光角
γが90°を越えるような散乱光が入射するような位置に
ミラー11Eを配置した場合には、ペリクル1の透過率
は白色光であつても低下するので検査精度は低下する。
On the other hand, in the case of white light, since the wavelength is wide, its transmittance does not drop as much as that at a certain incident angle in monochromatic light, so that the inspection accuracy is not affected.
However, when the mirror 11E is arranged at a position where scattered light whose acceptance angle γ exceeds 90 ° is incident on the scattered light reflected by the inner wall surface 2G, the pellicle 1 has white light transmittance. Even if it is lowered, the inspection accuracy is lowered.

【0053】さらに上述の実施例においては、ペリクル
フレーム2として正方形状のペリクルフレーム2を検査
する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、図
8に示すように、円形状のペリクルフレーム30や長方
形のペリクルフレーム等、他の形状のペリクルフレーム
を検査することもできる。ペリクルフレーム30の場合
には、内壁面2Gからの距離ΔRを保持しながら欠陥検
出ユニツト11及び21が常に内壁面2G側を向くよう
にx軸方向駆動部材12A、y軸方向駆動部材12B及
び回転方向駆動部材12Cを制御する。
Further, in the above-mentioned embodiment, the case of inspecting the square pellicle frame 2 as the pellicle frame 2 has been described, but the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 8, a circular pellicle frame 2 is inspected. Other shapes of pellicle frames, such as 30 and rectangular pellicle frames, can also be inspected. In the case of the pellicle frame 30, the x-axis direction driving member 12A, the y-axis direction driving member 12B, and the rotation are arranged so that the defect detection units 11 and 21 always face the inner wall surface 2G side while maintaining the distance ΔR from the inner wall surface 2G. The direction drive member 12C is controlled.

【0054】さらに上述の実施例においては、ペリクル
フレーム2のコーナ部2GA 〜2GD を検査する際、内
壁面2Gからの距離ΔRを保持しながら欠陥検出ユニツ
ト11及び21を円弧状に移動させた場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、通常ペリクルフレーム2
のコーナ部2GA 〜2GD の円弧の半径は3〜5〔mm〕
と小さいため、円弧状に欠陥検出ユニツト11及び21
を移動させなくても、直線AB、EF、IJ及びMN間
を長くすればコーナ部2GA 〜2GD も検査することが
でき、駆動部12の動きを簡略化することができる。こ
の場合、受光レンズ11Eの焦点深度を確保する必要が
ある。
Further, in the above-described embodiment, when inspecting the corner portions 2G A to 2G D of the pellicle frame 2, the defect detection units 11 and 21 are moved in an arc shape while maintaining the distance ΔR from the inner wall surface 2G. However, the present invention is not limited to this, and the pellicle frame 2 is usually used.
The radius of the circular arc of corners 2G A to 2G D is 3 to 5 [mm]
Since it is small, the defect detection units 11 and 21 are formed in an arc shape.
If the straight lines AB, EF, IJ, and MN are lengthened even without moving, the corners 2G A to 2G D can be inspected, and the movement of the drive unit 12 can be simplified. In this case, it is necessary to secure the depth of focus of the light receiving lens 11E.

【0055】さらに上述の実施例においては、ペリクル
フレーム2の内壁面2G又は内壁面2G及び上端面2H
を検査する場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、ペリクルフレーム2の内壁面2Gに対応する外壁面
周囲を検査するようにしてもよい。さらに上述の実施例
においては、ペリクルフレーム2の欠陥検査として、ペ
リクルフレーム2の内壁面2G又は内壁面2G及び上端
面2Hに異物5が付着しているか否かを検査する場合に
ついて述べたが、本発明はこれに限らず、ペリクルフレ
ーム2の欠陥検査として異物等この他種々の欠陥を検査
する際に適用し得る。
Further, in the above-described embodiment, the inner wall surface 2G or the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 are used.
However, the present invention is not limited to this, and the periphery of the outer wall surface corresponding to the inner wall surface 2G of the pellicle frame 2 may be inspected. Further, in the above-described embodiment, as the defect inspection of the pellicle frame 2, the case of inspecting whether or not the foreign matter 5 is attached to the inner wall surface 2G or the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 is described. The present invention is not limited to this, and can be applied as a defect inspection of the pellicle frame 2 when inspecting various other defects such as foreign substances.

【0056】さらに上述の実施例においては、ペリクル
フレーム2の内壁面2G又は内壁面2G及び上端面2H
を検査する際、常に白色光L1 及びL2 又は白色光L3
及びL4 を照射した場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、図2において、点B及び点C間、点D及び
点E間、点F及び点G間、点H及び点I間、点J及び点
K間、点L及び点M間、点N及び点O間においては白色
光L1 及びL2 又は白色光L3 及びL4 を照射しなくて
もよい。さらに上述の実施例においては、1次元CCD
11G及びCCD21Dを用いた場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、2次元CCDを用いてもよ
い。
Further, in the above-described embodiment, the inner wall surface 2G or the inner wall surface 2G and the upper end surface 2H of the pellicle frame 2 are used.
When inspecting, always white light L 1 and L 2 or white light L 3
2 and L 4 are irradiated, the present invention is not limited to this, and in FIG. 2, between points B and C, between points D and E, between points F and G, between points H and I. The white light L 1 and L 2 or the white light L 3 and L 4 may not be emitted between the points J and K, between the points L and M, and between the points N and O. Further, in the above embodiment, the one-dimensional CCD
The case of using the 11G and the CCD 21D has been described, but the present invention is not limited to this, and a two-dimensional CCD may be used.

【0057】さらに上述の実施例においては、ペリクル
フレームのペリクルが張設される上端面又は該上端面と
対向する下端面からペリクルフレームに対して光を照射
する光照射手段としてハウスランプ11A、光フアイバ
11B1 及び11B2 、口金11C1 及び11C2 、ミ
ラー11D1 及び11D2 又は、ハウスランプ11A、
光フアイバ11B1 及び11B2 、口金11C1 及び1
1C2 、レンズ群21A1 及び21A2 、ミラー11D
1 及び11D2 を用いた場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、光照射手段としてこの他種々の光照射
手段を適用し得る。
Further, in the above-described embodiment, the house lamp 11A is used as the light irradiating means for irradiating the pellicle frame with light from the upper end surface of the pellicle frame on which the pellicle is stretched or the lower end surface facing the upper end surface. Fibers 11B 1 and 11B 2 , bases 11C 1 and 11C 2 , mirrors 11D 1 and 11D 2 or house lamp 11A,
Optical fibers 11B 1 and 11B 2 , bases 11C 1 and 1
1C 2 , lens groups 21A 1 and 21A 2 , mirror 11D
The case of using 1 and 11D 2 has been described, but the present invention is not limited to this, and various other light irradiation means can be applied as the light irradiation means.

【0058】さらに上述の実施例においては、ペリクル
フレームに光を照射して得られる散乱光を受光する受光
手段としてミラー11E、受光レンズ11F及びCCD
11G、又はミラー11E、受光レンズ11F及びCC
D11Gと、ミラー21B、受光レンズ21C及びCC
D21Dを用いた場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、ペリクルフレーム2に光を照射して得られる
散乱光を受光する受光手段としてこの他種々の受光手段
を適用し得る。
Further, in the above-described embodiment, the mirror 11E, the light receiving lens 11F and the CCD are used as the light receiving means for receiving the scattered light obtained by irradiating the pellicle frame with light.
11G or mirror 11E, light receiving lens 11F and CC
D11G, mirror 21B, light receiving lens 21C and CC
Although the case of using D21D has been described, the present invention is not limited to this, and various other light receiving means can be applied as a light receiving means for receiving scattered light obtained by irradiating the pellicle frame 2 with light.

【0059】さらに上述の実施例においては、光照射手
段及び受光手段を一定の位置関係に保持しながらペリク
ルフレームに対して光照射手段及び受光手段を相対的に
移動させる移動手段として駆動部12を用いた場合につ
いて述べたが、本発明はこれに限らず、移動手段として
この他種々の移動手段を適用し得る。さらに上述の実施
例においては、受光手段の出力に基づいてペリクルフレ
ームの欠陥の有無を判別する欠陥判別手段として、欠陥
判別部11H又は欠陥判別部11E及び21Eを用いた
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、欠陥判
別手段としてこの他種々の判別手段を適用し得る。
Further, in the above-mentioned embodiment, the drive section 12 is used as a moving means for moving the light emitting means and the light receiving means relative to the pellicle frame while maintaining the light emitting means and the light receiving means in a fixed positional relationship. Although the case of use is described, the present invention is not limited to this, and various other moving means can be applied as the moving means. Further, in the above-described embodiment, the case where the defect discriminating unit 11H or the defect discriminating units 11E and 21E is used as the defect discriminating unit for discriminating the presence or absence of the defect of the pellicle frame based on the output of the light receiving unit has been described. The invention is not limited to this, and various other discrimination means can be applied as the defect discrimination means.

【0060】[0060]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、光照射手
段及び受光手段を移動手段によつて一定の位置関係に保
持してペリクルフレームに対して相対移動させながら、
ペリクルフレームのペリクルが張設される上端面側又は
該上端面と対向する下端面側からペリクルフレームに対
して光照射手段より光を照射し、ペリクルフレームに光
を照射して得られる反射光を受光手段で受光して、受光
手段の出力に基づいてペリクルフレームの欠陥の有無を
判別するようにしたことにより、ペリクルフレームの欠
陥検査を高精度かつ短時間に行うことができ、かくして
ペリクルフレームの欠陥検査の信頼性を向上し得る欠陥
検査装置を実現することができる。
As described above, according to the present invention, the light irradiating means and the light receiving means are held in a fixed positional relationship by the moving means and relatively moved with respect to the pellicle frame,
Light is emitted from the light irradiating means to the pellicle frame from the upper end surface side where the pellicle of the pellicle frame is stretched or the lower end surface side opposite to the upper end surface, and the reflected light obtained by irradiating the pellicle frame with the light is obtained. By receiving light by the light receiving means and determining whether or not there is a defect in the pellicle frame based on the output of the light receiving means, it is possible to perform defect inspection of the pellicle frame with high accuracy and in a short time. A defect inspection apparatus capable of improving the reliability of defect inspection can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例による欠陥検査装置の全体構成
を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】欠陥検出ユニツトの移動軌跡の説明に供する略
線図である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a movement locus of a defect detection unit.

【図3】第1実施例による欠陥検出ユニツトの構成を示
す略線的斜視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing the structure of a defect detection unit according to the first embodiment.

【図4】第1実施例による欠陥検出ユニツトの構成を示
す略線的正面図である。
FIG. 4 is a schematic front view showing the structure of a defect detection unit according to the first embodiment.

【図5】第1実施例による欠陥検出ユニツトの構成を示
す略線的側面図である。
FIG. 5 is a schematic side view showing the structure of a defect detection unit according to the first embodiment.

【図6】面取り部分から発生する散乱光の説明に供する
略線的斜視図である。
FIG. 6 is a schematic perspective view for explaining scattered light generated from a chamfered portion.

【図7】第2実施例による欠陥検出ユニツトの構成を示
す略線的側面図である。
FIG. 7 is a schematic side view showing a configuration of a defect detection unit according to a second embodiment.

【図8】他の実施例によるペリクルフレームの構成の説
明に供する平面図である。
FIG. 8 is a plan view for explaining the configuration of a pellicle frame according to another embodiment.

【図9】ペリクル及びペリクルフレームの説明に供する
略線的斜視図である。
FIG. 9 is a schematic perspective view for explaining a pellicle and a pellicle frame.

【図10】ペリクルフレームの構成の説明に供する略線
的斜視図である。
FIG. 10 is a schematic perspective view for explaining the configuration of a pellicle frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……ペリクル、2、30……ペリクルフレーム、5…
…異物、6……削りあと、10……欠陥検査装置、11
……欠陥検出ユニツト、11A……ハウスランプ、11
1 、11B2 ……光フアイバ、11C1 、11C2
…口金、11D1 、11D2 ……ミラー、11E……ミ
ラー、11F、21C……受光レンズ、11G、21D
……CCD、11H、21E……欠陥検出部、12……
駆動部、12A……x軸方向駆動部、12B……y軸方
向駆動部、12C……回転方向駆動部。
1 ... Pellicle, 2,30 ... Pellicle frame, 5 ...
… Foreign matter, 6 …… After shaving, 10 …… Defect inspection device, 11
...... Defect detection unit, 11A ...... House lamp, 11
B 1, 11B 2 ...... light fiber, 11C 1, 11C 2 ...
… Base, 11D 1 , 11D 2 …… Mirror, 11E …… Mirror, 11F, 21C …… Receiving lens, 11G, 21D
…… CCD, 11H, 21E …… Defect detection part, 12 ……
Drive unit, 12A ... X-axis direction drive unit, 12B ... Y-axis direction drive unit, 12C ... Rotation direction drive unit.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】マスク又はレチクルを防塵するペリクルが
張設されるペリクルフレームの欠陥を検査する欠陥検査
装置において、 前記ペリクルフレームの前記ペリクルが張設される上端
面側又は該上端面と対向する下端面側から前記ペリクル
フレームに対して光を照射する光照射手段と、 前記ペリクルフレームに前記光を照射して得られる反射
光を受光する受光手段と、 前記光照射手段及び前記受光手段を一定の位置関係に保
持しながら前記ペリクルフレームに対して前記光照射手
段及び前記受光手段を相対移動させる移動手段と、 前記受光手段の出力に基づいて前記ペリクルフレームの
欠陥の有無を判別する欠陥判別手段とを具えることを特
徴とする欠陥検査装置。
1. A defect inspection apparatus for inspecting a defect of a pellicle frame on which a pellicle for dust-proofing a mask or a reticle is stretched, the upper surface of the pellicle frame being opposed to or on the upper end surface side on which the pellicle is stretched. Light irradiation means for irradiating the pellicle frame with light from the lower end surface side, light receiving means for receiving reflected light obtained by irradiating the pellicle frame with the light, and the light irradiation means and the light receiving means are fixed. Moving means for relatively moving the light irradiating means and the light receiving means with respect to the pellicle frame while maintaining the positional relationship, and defect determining means for determining the presence or absence of a defect in the pellicle frame based on the output of the light receiving means. A defect inspection apparatus comprising:
【請求項2】前記光照射手段は、 前記ペリクルフレームの前記上端面を含む平面又は前記
ペリクルフレームの前記下端面を含む平面に対して、前
記ペリクルフレームの上端面又は下端面と前記ペリクル
フレームの内壁面又は外壁面との境界となるエツジと、
前記ペリクルフレームの内壁面又は外壁面における下地
とから散乱光が生じない角度で前記光を照射することを
特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。
2. The light irradiating means is configured such that, with respect to a plane including the upper end surface of the pellicle frame or a plane including the lower end surface of the pellicle frame, an upper end surface or a lower end surface of the pellicle frame and the pellicle frame. Edge which becomes the boundary with the inner wall surface or the outer wall surface,
2. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the light is irradiated at an angle at which scattered light does not occur from an inner wall surface or an outer wall surface of the pellicle frame.
【請求項3】前記光照射手段は、 前記ペリクルフレームの内壁面又は外壁面の両側からほ
ぼ対称となるように、前記内壁面又は外壁面に対して前
記光を照射することを特徴とする請求項2に記載の欠陥
検査装置。
3. The light irradiating means irradiates the inner wall surface or the outer wall surface with the light so as to be substantially symmetrical from both sides of the inner wall surface or the outer wall surface of the pellicle frame. Item 2. The defect inspection device according to item 2.
【請求項4】前記受光手段は、 撮像素子でなることを特徴とする請求項1に記載の欠陥
検査装置。
4. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the light receiving means is an image pickup device.
【請求項5】前記受光手段は、 前記内壁面又は外壁面に対してほぼ30°から60°の角度
をなすように配置されていることを特徴とする請求項1
に記載の欠陥検査装置。
5. The light receiving means is arranged so as to form an angle of approximately 30 ° to 60 ° with respect to the inner wall surface or the outer wall surface.
The defect inspection device described in 1.
【請求項6】前記照射手段は、 前記光として白色光を照射することを特徴とする請求項
1に記載の欠陥検査装置。
6. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the irradiation unit emits white light as the light.
【請求項7】前記照射手段及び前記受光手段は、 前記ペリクルフレームの前記内壁面側に配置されること
を特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。
7. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the irradiation unit and the light receiving unit are arranged on the inner wall surface side of the pellicle frame.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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