JPH09278814A - 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 - Google Patents
光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物Info
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Classifications
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】相容性、保存安定性が良好で、透明性に優れ、
硬化塗膜の光沢が良好で着色が少なく、優れた物性の硬
化物を得ることができる新規な光重合開始剤、これを含
有する樹脂組成物を提供する。 【解決手段】カチオン重合性物質と特定の構造を有する
硼酸塩である光重合開始剤を含有するエネルギー線硬化
性組成物。
硬化塗膜の光沢が良好で着色が少なく、優れた物性の硬
化物を得ることができる新規な光重合開始剤、これを含
有する樹脂組成物を提供する。 【解決手段】カチオン重合性物質と特定の構造を有する
硼酸塩である光重合開始剤を含有するエネルギー線硬化
性組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な特定の構造
を有する硼酸塩、それからなる光重合開始剤、これを含
有するエネルギー線の照射により硬化が可能なエネルギ
ー線硬化性組成物及びその硬化物に関する。
を有する硼酸塩、それからなる光重合開始剤、これを含
有するエネルギー線の照射により硬化が可能なエネルギ
ー線硬化性組成物及びその硬化物に関する。
【0002】
【従来の技術】光重合性組成物は印刷インキ、塗料、コ
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース、無公害性等の要請から盛んに
研究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研
究の大部分は二重結合のラジカル重合反応に基づくもの
であった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂
は、物性的には優れた材料であるが光重合をさせること
は困難で、今までアクリル変性することにより二重結合
を導入した材料が主に使用されている。
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース、無公害性等の要請から盛んに
研究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研
究の大部分は二重結合のラジカル重合反応に基づくもの
であった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂
は、物性的には優れた材料であるが光重合をさせること
は困難で、今までアクリル変性することにより二重結合
を導入した材料が主に使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】光によりエポキシ樹脂
を硬化されるのに、例えば米国特許第3794576号
には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開始剤として
使用し光照射により光重合開始剤を分解し、ルイス酸を
放出することによりエポキシ樹脂を重合する方法が提案
されている。しかしながら芳香族ジアゾニウム塩は光分
解によりルイス酸と同時に窒素ガスを放出し、そのため
にエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上になると塗膜が発泡
し、厚塗りの用途には適しない。更に、又、エポキシ樹
脂との混合物は光が存在しない時でも、徐々に硬化が進
行する等、保存安定性に問題があり、一液性の組成物と
はいえない。上記のジアゾニウム塩系開始剤の欠点を克
服すべく、種々検討がなされ、厚塗り性及び保存安定性
の改良された技術として芳香族スルホニウム塩系や芳香
族ヨードニウム塩系開始剤及びそれらを含有する硬化性
樹脂組成物が特公昭52−14278号公報、特公昭5
2−14277号公報、特開昭54−53181号公
報、特公昭59−19581号公報等に開示されてい
る。しかしながら、これらの芳香族オニウム塩を含有す
る組成物はジアゾニウム塩に比較し硬化性が乏しいとい
う欠点を有し、又芳香族スルホニウム塩の場合は、硬化
物の臭気が問題となっていた。かかる欠点を克服するべ
く、特開昭56−55420号公報等に、特定の基を有
する芳香族スルホニウム塩が提案されている。しかし、
上記の欠点は、いくらか解消されるものの十分ではな
い。又、光重合組成物の使用される分野が拡大するにつ
れて、市場の要求に対応するために、新規な光重合開始
剤、それを含有する組成物の提供は重要である。
を硬化されるのに、例えば米国特許第3794576号
には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開始剤として
使用し光照射により光重合開始剤を分解し、ルイス酸を
放出することによりエポキシ樹脂を重合する方法が提案
されている。しかしながら芳香族ジアゾニウム塩は光分
解によりルイス酸と同時に窒素ガスを放出し、そのため
にエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上になると塗膜が発泡
し、厚塗りの用途には適しない。更に、又、エポキシ樹
脂との混合物は光が存在しない時でも、徐々に硬化が進
行する等、保存安定性に問題があり、一液性の組成物と
はいえない。上記のジアゾニウム塩系開始剤の欠点を克
服すべく、種々検討がなされ、厚塗り性及び保存安定性
の改良された技術として芳香族スルホニウム塩系や芳香
族ヨードニウム塩系開始剤及びそれらを含有する硬化性
樹脂組成物が特公昭52−14278号公報、特公昭5
2−14277号公報、特開昭54−53181号公
報、特公昭59−19581号公報等に開示されてい
る。しかしながら、これらの芳香族オニウム塩を含有す
る組成物はジアゾニウム塩に比較し硬化性が乏しいとい
う欠点を有し、又芳香族スルホニウム塩の場合は、硬化
物の臭気が問題となっていた。かかる欠点を克服するべ
く、特開昭56−55420号公報等に、特定の基を有
する芳香族スルホニウム塩が提案されている。しかし、
上記の欠点は、いくらか解消されるものの十分ではな
い。又、光重合組成物の使用される分野が拡大するにつ
れて、市場の要求に対応するために、新規な光重合開始
剤、それを含有する組成物の提供は重要である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究の結果、新規な光重合開始剤
を開発し、これを用いた組成物は、保存安定性、相容
性、硬化性に優れ、その硬化物は着色が少ないエネルギ
ー線硬化性組成物を提供することに成功した。すなわ
ち、本発明は、 (1)式(1) (1)硼酸塩であって、カチオン部分が式(1)
題を解決するため鋭意研究の結果、新規な光重合開始剤
を開発し、これを用いた組成物は、保存安定性、相容
性、硬化性に優れ、その硬化物は着色が少ないエネルギ
ー線硬化性組成物を提供することに成功した。すなわ
ち、本発明は、 (1)式(1) (1)硼酸塩であって、カチオン部分が式(1)
【0005】
【化5】
【0006】{式中、Xは式(2)で示される基
【0007】
【化6】
【0008】(式中、R5 〜R14は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C
20の構造中に水酸基、エーテル基、エステル基、(メ
タ)アクリロイル基、エポキシ基あるいはアリル基を有
していても良い脂肪族基、フェニル基、フェノキシ基お
よびチオフェノキシ基のいずれかから選択された基であ
る。) R1 及びR2 は、それぞれC1 〜C20の構造中にエーテ
ル基、エステル基、カルバモイル基を有していても良い
脂肪族基、シクロヘキシル基、ベンジル基、アルキルベ
ンジル基、アルコキシベンジル基、アルキルフェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、アルコキシ
フェニル基、および式(3)で示される基
子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C
20の構造中に水酸基、エーテル基、エステル基、(メ
タ)アクリロイル基、エポキシ基あるいはアリル基を有
していても良い脂肪族基、フェニル基、フェノキシ基お
よびチオフェノキシ基のいずれかから選択された基であ
る。) R1 及びR2 は、それぞれC1 〜C20の構造中にエーテ
ル基、エステル基、カルバモイル基を有していても良い
脂肪族基、シクロヘキシル基、ベンジル基、アルキルベ
ンジル基、アルコキシベンジル基、アルキルフェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、アルコキシ
フェニル基、および式(3)で示される基
【0009】
【化7】
【0010】(式中、R15、水素原子、C1 〜C5 のア
ルキル基、C1 〜C5 のアルコキシ基、ニトロ基及びシ
アノ基のいずれかから選択された基であり、Xは式
(1)中のXと同一である。)のいずれかから選択され
た基であり、C1 〜C5 のアルコキシ基、ニトロ基及び
シアノ基のいずれかから選択された基である。)のオニ
ウム塩、アニオン性硼酸塩部分が式(4)
ルキル基、C1 〜C5 のアルコキシ基、ニトロ基及びシ
アノ基のいずれかから選択された基であり、Xは式
(1)中のXと同一である。)のいずれかから選択され
た基であり、C1 〜C5 のアルコキシ基、ニトロ基及び
シアノ基のいずれかから選択された基である。)のオニ
ウム塩、アニオン性硼酸塩部分が式(4)
【0011】
【化8】
【0012】{式中、a及びbは0〜4の範囲の整数で
あり、ここでa+bは4であり、Yは、aが0〜3であ
る場合にはハロゲン原子(塩素又は弗素)を表わし、ま
たaが0〜2である場合にはOH基を表わすこともでき
る。Rは、CF3 、NO2 、CN等のような少なくとも
1個の電子吸引基で置換されたフェニル基又は少なくと
も2個のハロゲン原子(特に弗素)で置換されたフェニ
ル基を表わす。}で示される、前記硼酸塩。 (2)これらの塩からなる光重合開始剤(B)及び (3)カチオン重合性物質(A)と(2)項記載の光重
合開始剤(B)を含有することを特徴とするエネルギー
線硬化性組成物及びその硬化物に関する。
あり、ここでa+bは4であり、Yは、aが0〜3であ
る場合にはハロゲン原子(塩素又は弗素)を表わし、ま
たaが0〜2である場合にはOH基を表わすこともでき
る。Rは、CF3 、NO2 、CN等のような少なくとも
1個の電子吸引基で置換されたフェニル基又は少なくと
も2個のハロゲン原子(特に弗素)で置換されたフェニ
ル基を表わす。}で示される、前記硼酸塩。 (2)これらの塩からなる光重合開始剤(B)及び (3)カチオン重合性物質(A)と(2)項記載の光重
合開始剤(B)を含有することを特徴とするエネルギー
線硬化性組成物及びその硬化物に関する。
【0013】本発明で用いるカチオン重合性物質(A)
としては、例えば、エホキシ樹脂、スチレン、ビニルエ
ーテル等のカチオン重合性ビニル化合物、更にはスピロ
オルソエステル、ビシクロオルソエステル、スピロオル
ソカーボナートのような環状エーテル類が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、従来、公知の芳香族エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、更には
エポキシド単量体類、エピサルファミド単量体類が挙げ
られる。ここで、芳香族エポキシ樹脂として例示すれ
ば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノール
またはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジ
ルエーテルであって、例えばビスフェノールA、ビスフ
ェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合
物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ
樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエー
テル等が挙げられる。また、脂環式エポキシ樹脂とし
て、具体的な例としては、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル−5,5−スピロー3,4−エポキシ)シクロヘキ
サノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシ
クロペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセ
ル化学工業株式会社製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点7
1℃)等が挙げられる。
としては、例えば、エホキシ樹脂、スチレン、ビニルエ
ーテル等のカチオン重合性ビニル化合物、更にはスピロ
オルソエステル、ビシクロオルソエステル、スピロオル
ソカーボナートのような環状エーテル類が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、従来、公知の芳香族エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、更には
エポキシド単量体類、エピサルファミド単量体類が挙げ
られる。ここで、芳香族エポキシ樹脂として例示すれ
ば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノール
またはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジ
ルエーテルであって、例えばビスフェノールA、ビスフ
ェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合
物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ
樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエー
テル等が挙げられる。また、脂環式エポキシ樹脂とし
て、具体的な例としては、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル−5,5−スピロー3,4−エポキシ)シクロヘキ
サノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシ
クロペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセ
ル化学工業株式会社製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点7
1℃)等が挙げられる。
【0014】更に脂肪族エポキシ樹脂の例としては、脂
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例とし
ては、1,4−ブタンジーオルのジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテ
ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコ
ールに1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド)を付加する
ことにより得られるホリエーテルポリオールのポリグリ
シジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド単量体類
の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール
またはこれらにアキレンオキサイドを付加することによ
り得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエ
ーテル等が挙げられる。
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例とし
ては、1,4−ブタンジーオルのジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテ
ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコ
ールに1種または2種以上のアルキレンオキサイド(エ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド)を付加する
ことにより得られるホリエーテルポリオールのポリグリ
シジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド単量体類
の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール
またはこれらにアキレンオキサイドを付加することによ
り得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエ
ーテル等が挙げられる。
【0015】カチオン重合性ビニル化合物としては、例
えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テト
ラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4−
ブタンジオールジビニルエーテル、
えば、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テト
ラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4−
ブタンジオールジビニルエーテル、
【0016】
【化9】
【0017】及び
【0018】
【化10】
【0019】等が挙げられるかまた、これらカチオン重
合性有機材料は単独でも2種以上の混合物でもかまわな
い。
合性有機材料は単独でも2種以上の混合物でもかまわな
い。
【0020】本発明で用いる一般式(1)で表される硼
酸塩としては、例えば、一般式(5)で表されるホスフ
ィン化合物あるいは、一般式(6)で表されるホスフィ
ンオキサイド化合物
酸塩としては、例えば、一般式(5)で表されるホスフ
ィン化合物あるいは、一般式(6)で表されるホスフィ
ンオキサイド化合物
【0021】
【化11】
【0022】(式中、R1 〜R4 は、前記一般式(1)
中のR1 〜R4 と同一である。)
中のR1 〜R4 と同一である。)
【0023】
【化12】
【0024】(式中、R1 〜R4 は、前記一般式(1)
の中のR1 〜R4 と同一である。)と置換または非置換
ジフェニルスルホキシド化合物を公知のスルホニウム塩
の生成反応を利用する方法(以下1)法という)、2)
相当する置換及び非置換のスルホニウム塩をあらかじめ
合成し、その後、置換基を変換、導入する方法(以下
2)法という)のいずれかにより合成することができ
る。先ず1)法を具体的に説明すると式(5)と式
(6)で表されるホスフィン化合物(具体例としては、
例えば、ジブチルフェニルホスフィン、ジイソオクチル
フェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジ
フェニルイソオクチルホスフィン、ジシクロヘキシルフ
ェニルホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィ
ン、トリオルトトリルホスフィン、ジフェニルオルトト
リルホスフィン、ジオルトトリルフェニルホスフィン、
ジパラトリルフェニルホスフィン、ジ(4−メトキシフ
ェニル)フェニルホスフィン、ジ(4−メトキシブチ
ル)フェニルホスフィン、ジフェニルオクチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、ジ(2,4−ジメチルフ
ェニル)フェニルホスフィン、ジ(4−ニトロフェニ
ル)フェニルホスフィン、ジ(4−メチルベンジル)フ
ェニルホスフィン、ジベンジルフェニルホスフィン、ジ
(4−メトキシベンジル)フェニルホスフィン、ジフェ
ニルベンジルホスフィン、ジ(4−シアノフェニル)フ
ェニルホスフィン、ジ(4−エチルフェニル)フェニル
ホスフィン、ジ(4−ブトキシフェニル)フェニルホス
フィン等を挙げることができる。)およびホスフィンオ
キサイド化合物(具体例としては、例えば、ジブチルフ
ェニルホスフィンオキサイド、ジフェニルブチルホスフ
ィンオキサイド、ジイソオクチルフェニルホスフィンオ
キサイド、ジフェニルイソオクチルホスフィンオキサイ
ド、ジオクチルフェニルホスフィンオキサイド、ジフェ
ニルオクチルホスフィンオキサイド、ジシクロヘキシル
フェニルホスフィンオキサイド、ジフェニルシクロヘキ
シルホスフィンオキサイド、トリオルトトリルホスフィ
ンオキサイド、ジフェニルオルトトリルホスフィンオキ
サイド、ジオルトトリルフェニルホスフィンオキサイ
ド、ジパラトリルフェニルホスフィンオキサイド、ジ
(4−メトキシフェニル)フェニルホスフィンオキサイ
ド、ジ(4−メトキシブチル)フェニルホスフィンオキ
サイド、トリフェニルホスフィンオキサイド、ジ(2,
4−ジメチルフェニル)フェニルホスフィンオキサイ
ド、ジ(4−ニトロフェニル)フェニルホスフィンオキ
サイド、ジ(4−メチルベンジル)フェニルホスフィン
オキサイド、ジベンジルフェニルホスフィンオキサイ
ド、ジ(4−メトキシベンジル)フェニルホスフィンオ
キサイド、ジフェニルベンジルホスフィンオキサイド、
ジ(4−シアノフェニル)フェニルホスフィンオキサイ
ド、ジ(4−エチルフェニル)フェニルホスフィンオキ
サイド、ジ(4−ブトキシフェニル)フェニルホスフィ
ンオキサイド、オクチルフェニル−N,N−ジイソブチ
ルカルバモイルメチルホスフィンオキサイド、ブチル
(フェニル)エチルオキシカルボニルメチルホスフィン
オキサイド、等を挙げることができる。)と置換または
非置換ジフェニルスルホキシド化合物(例えば、ジフェ
ニルスルホキシド、4,4′−ジフルオロジフェニルス
ルホキシド、2,2′−ジフルオロジフェニルスルホキ
シド、3,3′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、
4,2′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジブロムジフェニルスルホキシド、4,4′−ジ
クロロジフェニルスルホキシド、2,2′,4,4′−
テトラクロロジフェニルスルホキシド、4,4′−ジメ
チルジフェニルスルホキシド、4,4′−ジエチルジフ
ェニルスルホキシド、4,4′−ジメチルシジフェニル
スルホキシド、4−メチルチオジフェニルスルホキシ
ド、4−フェニルチオジフェニルスルホキシド等)を公
知の方法、例えば、脱水剤(例えば、五酸化リン、無水
酢酸、濃硫酸等)と溶媒として、メタンスルホン酸やパ
ーフルオロメタンスルホン酸等を用いて常温〜100℃
で縮合反応を行ない、次いで、これらの反応液を式
(4)をアニオン部分とするアルカリ金属塩(例えば、
Li B(C6F5)4 、Li B(C6H4CF3)4、NaB(C6F5)4、Li BF3(C
6F5)、LiB(C6H3F2)4、LiB(C6F5)2F2等)の水溶液に滴下
し、硼酸塩を得ることができる。上記に記載した硼酸塩
を得る工程で一般式(5)で表されるホスフィン化合物
中のリン原子は、酸化されホスフィンオキサイドになる
のである。一般式(5)で表されるホスフィン化合物か
ら硼酸塩を得る工程では副生成物がやや多く、好ましく
は、一般式(6)で表されるホスフィンオキサイド化合
物を出発原料とする方法である。
の中のR1 〜R4 と同一である。)と置換または非置換
ジフェニルスルホキシド化合物を公知のスルホニウム塩
の生成反応を利用する方法(以下1)法という)、2)
相当する置換及び非置換のスルホニウム塩をあらかじめ
合成し、その後、置換基を変換、導入する方法(以下
2)法という)のいずれかにより合成することができ
る。先ず1)法を具体的に説明すると式(5)と式
(6)で表されるホスフィン化合物(具体例としては、
例えば、ジブチルフェニルホスフィン、ジイソオクチル
フェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジ
フェニルイソオクチルホスフィン、ジシクロヘキシルフ
ェニルホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィ
ン、トリオルトトリルホスフィン、ジフェニルオルトト
リルホスフィン、ジオルトトリルフェニルホスフィン、
ジパラトリルフェニルホスフィン、ジ(4−メトキシフ
ェニル)フェニルホスフィン、ジ(4−メトキシブチ
ル)フェニルホスフィン、ジフェニルオクチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、ジ(2,4−ジメチルフ
ェニル)フェニルホスフィン、ジ(4−ニトロフェニ
ル)フェニルホスフィン、ジ(4−メチルベンジル)フ
ェニルホスフィン、ジベンジルフェニルホスフィン、ジ
(4−メトキシベンジル)フェニルホスフィン、ジフェ
ニルベンジルホスフィン、ジ(4−シアノフェニル)フ
ェニルホスフィン、ジ(4−エチルフェニル)フェニル
ホスフィン、ジ(4−ブトキシフェニル)フェニルホス
フィン等を挙げることができる。)およびホスフィンオ
キサイド化合物(具体例としては、例えば、ジブチルフ
ェニルホスフィンオキサイド、ジフェニルブチルホスフ
ィンオキサイド、ジイソオクチルフェニルホスフィンオ
キサイド、ジフェニルイソオクチルホスフィンオキサイ
ド、ジオクチルフェニルホスフィンオキサイド、ジフェ
ニルオクチルホスフィンオキサイド、ジシクロヘキシル
フェニルホスフィンオキサイド、ジフェニルシクロヘキ
シルホスフィンオキサイド、トリオルトトリルホスフィ
ンオキサイド、ジフェニルオルトトリルホスフィンオキ
サイド、ジオルトトリルフェニルホスフィンオキサイ
ド、ジパラトリルフェニルホスフィンオキサイド、ジ
(4−メトキシフェニル)フェニルホスフィンオキサイ
ド、ジ(4−メトキシブチル)フェニルホスフィンオキ
サイド、トリフェニルホスフィンオキサイド、ジ(2,
4−ジメチルフェニル)フェニルホスフィンオキサイ
ド、ジ(4−ニトロフェニル)フェニルホスフィンオキ
サイド、ジ(4−メチルベンジル)フェニルホスフィン
オキサイド、ジベンジルフェニルホスフィンオキサイ
ド、ジ(4−メトキシベンジル)フェニルホスフィンオ
キサイド、ジフェニルベンジルホスフィンオキサイド、
ジ(4−シアノフェニル)フェニルホスフィンオキサイ
ド、ジ(4−エチルフェニル)フェニルホスフィンオキ
サイド、ジ(4−ブトキシフェニル)フェニルホスフィ
ンオキサイド、オクチルフェニル−N,N−ジイソブチ
ルカルバモイルメチルホスフィンオキサイド、ブチル
(フェニル)エチルオキシカルボニルメチルホスフィン
オキサイド、等を挙げることができる。)と置換または
非置換ジフェニルスルホキシド化合物(例えば、ジフェ
ニルスルホキシド、4,4′−ジフルオロジフェニルス
ルホキシド、2,2′−ジフルオロジフェニルスルホキ
シド、3,3′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、
4,2′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジブロムジフェニルスルホキシド、4,4′−ジ
クロロジフェニルスルホキシド、2,2′,4,4′−
テトラクロロジフェニルスルホキシド、4,4′−ジメ
チルジフェニルスルホキシド、4,4′−ジエチルジフ
ェニルスルホキシド、4,4′−ジメチルシジフェニル
スルホキシド、4−メチルチオジフェニルスルホキシ
ド、4−フェニルチオジフェニルスルホキシド等)を公
知の方法、例えば、脱水剤(例えば、五酸化リン、無水
酢酸、濃硫酸等)と溶媒として、メタンスルホン酸やパ
ーフルオロメタンスルホン酸等を用いて常温〜100℃
で縮合反応を行ない、次いで、これらの反応液を式
(4)をアニオン部分とするアルカリ金属塩(例えば、
Li B(C6F5)4 、Li B(C6H4CF3)4、NaB(C6F5)4、Li BF3(C
6F5)、LiB(C6H3F2)4、LiB(C6F5)2F2等)の水溶液に滴下
し、硼酸塩を得ることができる。上記に記載した硼酸塩
を得る工程で一般式(5)で表されるホスフィン化合物
中のリン原子は、酸化されホスフィンオキサイドになる
のである。一般式(5)で表されるホスフィン化合物か
ら硼酸塩を得る工程では副生成物がやや多く、好ましく
は、一般式(6)で表されるホスフィンオキサイド化合
物を出発原料とする方法である。
【0025】2)法を具体的に説明すると1)法で合成
した硼酸塩、例えば式(7)
した硼酸塩、例えば式(7)
【0026】
【化13】
【0027】(但し、式中R1 〜R4 は、式(1)中の
R1 〜R4 と同一でAはハロゲン原子、nは1〜3であ
り、〔BYa Rb 〕- は式(2)で示される。)で示さ
れる化合物等の公知の方法、例えば、塩基性化合物(例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム等)の存在下、大過剰のモノ又はポリアルコール類
(例えば、メタノール、エタノール、カルビトール、エ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
1,4−ブタンジオール、グリシドール、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、アリルアルコール等)を室温
〜150℃で、必要に応じて、ジメチルスルホキシド等
の有機溶剤の存在下反応させることにより、前記ハライ
ド化合物のハライド部が例えば
R1 〜R4 と同一でAはハロゲン原子、nは1〜3であ
り、〔BYa Rb 〕- は式(2)で示される。)で示さ
れる化合物等の公知の方法、例えば、塩基性化合物(例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム等)の存在下、大過剰のモノ又はポリアルコール類
(例えば、メタノール、エタノール、カルビトール、エ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、
1,4−ブタンジオール、グリシドール、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、アリルアルコール等)を室温
〜150℃で、必要に応じて、ジメチルスルホキシド等
の有機溶剤の存在下反応させることにより、前記ハライ
ド化合物のハライド部が例えば
【0028】
【化14】
【0029】
【化15】
【0030】
【化16】
【0031】
【化17】
【0032】等の置換基に変換された硼酸塩を得ること
ができる。一般式(1)で示される化合物の代表例とし
ては、次表1の化合物を挙げることかできるが、これら
に限定されるものではない。
ができる。一般式(1)で示される化合物の代表例とし
ては、次表1の化合物を挙げることかできるが、これら
に限定されるものではない。
【0033】
【表1】
【0034】本発明の硬化性組成物は、100重量部の
カチオン重合性物質(A)に対して0.01〜20重量
部により好ましくは0.1〜10重量部の前記の式
(1)で示されるスルホニウム塩(B)を必須の成分と
するが適当な割合は、カチオン重合性物質やエネルギー
線の種類、照射量、所望の硬化時間、温度、湿度、塗膜
厚などさまざまな要因を考慮することによって決定され
る。カチオン重合性物質へのスルホニウム塩の溶解を容
易にするため、あらかじめスルホニウム塩を溶剤類(例
えば、プロピレンカーボネート、カルビトール、カルビ
トールアセテート、ブチロラクトン等)に溶解し使用す
ることができる。本発明の硬化性組成物は、カチオン重
合性物質及びスルホニウム塩を混合、溶解あるいは混練
等の方法により調製することができる。
カチオン重合性物質(A)に対して0.01〜20重量
部により好ましくは0.1〜10重量部の前記の式
(1)で示されるスルホニウム塩(B)を必須の成分と
するが適当な割合は、カチオン重合性物質やエネルギー
線の種類、照射量、所望の硬化時間、温度、湿度、塗膜
厚などさまざまな要因を考慮することによって決定され
る。カチオン重合性物質へのスルホニウム塩の溶解を容
易にするため、あらかじめスルホニウム塩を溶剤類(例
えば、プロピレンカーボネート、カルビトール、カルビ
トールアセテート、ブチロラクトン等)に溶解し使用す
ることができる。本発明の硬化性組成物は、カチオン重
合性物質及びスルホニウム塩を混合、溶解あるいは混練
等の方法により調製することができる。
【0035】本発明の硬化性組成物は、紫外線等のエネ
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することかで
きる。適当なエネルギー線としては、スルホニウム塩ま
たはスルホキソニウム塩の分触を誘発するエネルギーを
有する限りいかなるものでもよいが、好ましくは、高、
低圧水銀ランプ、キセノンランプ、殺菌灯、レーザー光
などから得られる2000オングストローム〜7000
オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電
子線、X線、放射線等の高エネルギー線を使用する。エ
ネルギー線への暴露は、エネルギー線の強度によるが、
通常は0.1秒〜10秒程度で十分である。しかし比較
的厚い塗装物についてはそれ以上の時間をかけるのが好
ましい。エネルギー線照射後0.1秒〜数分後には、ほ
とんどの組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、
カチオン重合反応を促進するために加熱を併用すること
も場合によっては好ましい。本発明の組成物には、さら
にカチオン重合を損わない範囲で希釈のための溶剤や、
改質のための非反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エス
テル化合物(例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリ
レート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル
ポリ(メタ)アクリレート等のオリゴマーや、2−ヒド
ロキシ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート等のモノマー等)を配合することがで
きる。(メタ)アクリル酸エステル化合物を使用する場
合には、光ラジカル重合開始剤(例えば、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンジメ
チルケタール、ベンゾイルメチルエーテル等)を使用す
るのが好ましい。また例えば、電気特製を改良する目的
などのため有機カルボン酸や酸無水物を使用したり、あ
るいはゴム弾性をもたせるなどの目的でポリマールその
他の可とう性プレポリマーを混合することができる。
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することかで
きる。適当なエネルギー線としては、スルホニウム塩ま
たはスルホキソニウム塩の分触を誘発するエネルギーを
有する限りいかなるものでもよいが、好ましくは、高、
低圧水銀ランプ、キセノンランプ、殺菌灯、レーザー光
などから得られる2000オングストローム〜7000
オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電
子線、X線、放射線等の高エネルギー線を使用する。エ
ネルギー線への暴露は、エネルギー線の強度によるが、
通常は0.1秒〜10秒程度で十分である。しかし比較
的厚い塗装物についてはそれ以上の時間をかけるのが好
ましい。エネルギー線照射後0.1秒〜数分後には、ほ
とんどの組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、
カチオン重合反応を促進するために加熱を併用すること
も場合によっては好ましい。本発明の組成物には、さら
にカチオン重合を損わない範囲で希釈のための溶剤や、
改質のための非反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エス
テル化合物(例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリ
レート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル
ポリ(メタ)アクリレート等のオリゴマーや、2−ヒド
ロキシ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート等のモノマー等)を配合することがで
きる。(メタ)アクリル酸エステル化合物を使用する場
合には、光ラジカル重合開始剤(例えば、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンジメ
チルケタール、ベンゾイルメチルエーテル等)を使用す
るのが好ましい。また例えば、電気特製を改良する目的
などのため有機カルボン酸や酸無水物を使用したり、あ
るいはゴム弾性をもたせるなどの目的でポリマールその
他の可とう性プレポリマーを混合することができる。
【0036】本発明の組成物は、通常透明な液状として
使用されるものであるが、用途によっては不活性な顔
料、染料、充填剤、静電防止剤、難燃剤、消泡剤、流動
調製剤、増感剤、促進剤、光安定剤等を混合して用いら
れる。本発明の組成物は金属、木材、ゴム、プラスチッ
ク、ガラス、セラミック製品等に使用することができ
る。さらに本発明の具体的な用途としては、塗料、コー
ティング剤、インキ、レジスト、液状レジスト、接着
剤、成形材料、注型材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目
止め剤等が挙げられる。
使用されるものであるが、用途によっては不活性な顔
料、染料、充填剤、静電防止剤、難燃剤、消泡剤、流動
調製剤、増感剤、促進剤、光安定剤等を混合して用いら
れる。本発明の組成物は金属、木材、ゴム、プラスチッ
ク、ガラス、セラミック製品等に使用することができ
る。さらに本発明の具体的な用途としては、塗料、コー
ティング剤、インキ、レジスト、液状レジスト、接着
剤、成形材料、注型材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目
止め剤等が挙げられる。
【0037】
【実施例】以下、本発明の実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例中の部は、重量部である。
る。なお、実施例中の部は、重量部である。
【0038】(硼酸塩の合成例) 実施例1 ジ−n−ブチルフェニルホスフィンオキサイド11.9
部、4,4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド1
3.1部、無水酢酸8部及びメタンスルホン酸50部を
仕込み、60℃に加熱し約5時間反応を行ない、次いで
この反応液を水800部で希釈し、25% NaOH 水溶液
でpHを7まで中和し、不溶解物をろ別し、水層にテト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸リチウム34.
3部を添加し、30分間攪拌し、次いでろ過した。ろ液
を減圧下に水を蒸発し、残った固体をアセトン300部
に溶解し不溶解物をろ別し、アセトン層のアセトンを蒸
発し、白色固体39部を得た。得られた生成物の融点は
145〜149℃で元素分析値は次のとおりであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 52.78 52.74 水素 2.69 2.65 イオウ 2.83 2.82 リン 2.70 2.72 硼素 0.97 0.95 フッ素 36.68 36.71 この製造方法に基づいて構造式
部、4,4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド1
3.1部、無水酢酸8部及びメタンスルホン酸50部を
仕込み、60℃に加熱し約5時間反応を行ない、次いで
この反応液を水800部で希釈し、25% NaOH 水溶液
でpHを7まで中和し、不溶解物をろ別し、水層にテト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸リチウム34.
3部を添加し、30分間攪拌し、次いでろ過した。ろ液
を減圧下に水を蒸発し、残った固体をアセトン300部
に溶解し不溶解物をろ別し、アセトン層のアセトンを蒸
発し、白色固体39部を得た。得られた生成物の融点は
145〜149℃で元素分析値は次のとおりであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 52.78 52.74 水素 2.69 2.65 イオウ 2.83 2.82 リン 2.70 2.72 硼素 0.97 0.95 フッ素 36.68 36.71 この製造方法に基づいて構造式
【0039】
【化18】
【0040】実施例2 トリフェニルホスフィンオキサイド13.9部、4,
4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド24部、無水
酢酸10部及び濃硫酸50部を仕込み、60℃に加熱し
5時間反応を行ない、次いでこの反応液を水800部で
希釈し25% NaOH 水溶液でpH、7まで中和し、不溶
解物をろ別し、水層にテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸リチウム34.2部を添加し、30分間攪拌
し、次いでろ過した。ろ液を減圧下で水を蒸発させ、残
った固体をアセトン300部に溶解し、不溶解物をろ別
し、アセトン層中のアセトンを蒸発し白色固体42部を
得た。得られた生成物の融点は172〜175℃で元素
分析値は次のとおりである。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 52.05 52.00 水素 1.43 1.40 イオウ 3.11 3.08 リン 1.53 1.49 硼素 1.01 1.04 フッ素 40.17 40.21 この製造方法に基づいて構造式
4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド24部、無水
酢酸10部及び濃硫酸50部を仕込み、60℃に加熱し
5時間反応を行ない、次いでこの反応液を水800部で
希釈し25% NaOH 水溶液でpH、7まで中和し、不溶
解物をろ別し、水層にテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸リチウム34.2部を添加し、30分間攪拌
し、次いでろ過した。ろ液を減圧下で水を蒸発させ、残
った固体をアセトン300部に溶解し、不溶解物をろ別
し、アセトン層中のアセトンを蒸発し白色固体42部を
得た。得られた生成物の融点は172〜175℃で元素
分析値は次のとおりである。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 52.05 52.00 水素 1.43 1.40 イオウ 3.11 3.08 リン 1.53 1.49 硼素 1.01 1.04 フッ素 40.17 40.21 この製造方法に基づいて構造式
【0041】
【化19】
【0042】実施例3 実施例1で得た化合物5.0部、水酸化ナトリウム0.
8部、エチレングリコール100部を仕込み、60℃で
24時間反応し、その後水中に注ぎ込み析出した白色固
体をろ過し乾燥し、常温で固体の生成物を得た。生成物
の構造式は、下記のものであり元素分析の結果は計算値
にほぼ一致した。
8部、エチレングリコール100部を仕込み、60℃で
24時間反応し、その後水中に注ぎ込み析出した白色固
体をろ過し乾燥し、常温で固体の生成物を得た。生成物
の構造式は、下記のものであり元素分析の結果は計算値
にほぼ一致した。
【0043】
【化20】
【0044】(組成物の実施例) 実施例5〜8、比較例1〜4 表2に示す配合組成(数値は重量部である。)に従って
エネルルギー線硬化性組成物を配合し、混合溶解した。
これを、アルミテストパネル上に5μの厚さに塗布し、
高圧水銀灯(80w/cm2 )で8cmの距離から紫外
線を照射し、硬化させた。調整された組成物の透明性、
保存安定性、指触乾燥性、硬化塗膜の光沢、着色につい
て試験した。それらの結果を表2に示す。
エネルルギー線硬化性組成物を配合し、混合溶解した。
これを、アルミテストパネル上に5μの厚さに塗布し、
高圧水銀灯(80w/cm2 )で8cmの距離から紫外
線を照射し、硬化させた。調整された組成物の透明性、
保存安定性、指触乾燥性、硬化塗膜の光沢、着色につい
て試験した。それらの結果を表2に示す。
【0045】透明性:組成物の透明性を目視判定した。 ○・・・・完全に透明である。 △・・・・わずかににごりあり。 ×・・・・白ダクしている。 ××・・・・すぐに分離する。 保存安定性:組成物を40℃で3ケ月間保存し、安定性
を調査した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している 指触乾燥性:指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2) を測
定した。 光沢:指触乾燥すするまでの照射量(mJ/cm2) を照射し
た後、硬化塗膜の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない 着色:塗布面に1000mJ/cm2照射した後、硬化塗膜の
着色の状態を観察した。 ○・・・・全く着色がない △・・・・わずかに着色あり ×・・・・着色あり ××・・・・着色が強い
を調査した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している 指触乾燥性:指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2) を測
定した。 光沢:指触乾燥すするまでの照射量(mJ/cm2) を照射し
た後、硬化塗膜の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない 着色:塗布面に1000mJ/cm2照射した後、硬化塗膜の
着色の状態を観察した。 ○・・・・全く着色がない △・・・・わずかに着色あり ×・・・・着色あり ××・・・・着色が強い
【0046】
【表2】 表2 実施例 比較例 4 5 6 7 1 2 3 4 実施例1で得た光重合開始剤 1.5 1.5 実施例2で得た光重合開始剤 1.5 実施例3で得た光重合開始剤 1.5 化合物1 *1 1.5 1.5 化合物2 *2 1.5 1.5 ポリエステルジビニルエーテル*3 50 50 50 50 シクロヘキサンジメチロールジビニル エーテル 50 50 50 50 セロキサイド2021 *4 80 80 80 80 EHPE−3150 *5 20 20 20 20 透明性 ○ ○ ○ ○ ××○×× ○ 保存安定性 ○ ○ ○ ○ ──○ ──○ 指触乾燥性(mJ/cm2) 10 20 10 25 ──75 ─ 35 光沢 ○ ○ ○ ○ ── ○ ──○ 着色 ○ ○ ○ ○ ── × ──×
【0047】注) *1 化合物1:ジフェニル−4−
チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート *2 化合物2:4,4′−ビス〔ビスフェニルスルホ
ニオ〕フェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェ
ート *3 ポリエステルジビニルエーテル:構造式
チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート *2 化合物2:4,4′−ビス〔ビスフェニルスルホ
ニオ〕フェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェ
ート *3 ポリエステルジビニルエーテル:構造式
【0048】
【化21】
【0049】*4 セロキサイド 2021:ダイセル
化学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂 *5 EHPE−3150:ダイセル化学工業(株)
製、脂環式エポキシ樹脂 表2の結果から明らかなように、本発明の光重合開始剤
を含有した組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透明
で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好であり、硬化塗
膜の着色も小さい。
化学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂 *5 EHPE−3150:ダイセル化学工業(株)
製、脂環式エポキシ樹脂 表2の結果から明らかなように、本発明の光重合開始剤
を含有した組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透明
で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好であり、硬化塗
膜の着色も小さい。
【0050】
【発明の効果】本発明の光重合開始剤を含有したエネル
ギー線硬化性組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透
明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜
の着色も小さく、優れた物性の硬化物をあたえる。
ギー線硬化性組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透
明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜
の着色も小さく、優れた物性の硬化物をあたえる。
Claims (4)
- 【請求項1】硼酸塩であってカチオン部分が式(1) 【化1】 {式中、Xは式(2)で示される基 【化2】 (式中、R5 〜R14は、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C20の構造中に、
水酸基、エーテル基、エステル基、(メタ)アクリロイ
ル基、エポキシ基あるいはアリル基を有していても良い
脂肪族基、フェニル基、フェノキシ基およびチオフェノ
キシ基のいずれかから選択された基である。)R1 及び
R2 は、それぞれC1 〜C20の構造中にエーテル基、エ
ステル基、カルバモイル基を有していても良い脂肪族
基、シクロヘキシル基、ベンジル基、アルキルベンジル
基、アルコキシベンジル基、アルキルフェニル基、ニト
ロフェニル基、シアノフェニル基、アルコキシフェニル
基、および式(3)で示される基ベンジル基、アルキル
ベンジル基、アルコキシベンジル基及び式(3)で示さ
れる基、 【化3】 (式中、R15は、水素原子、C1 〜C5 のアルキル基、
C1 〜C5 のアルコキシ基、ニトロ基及びシアノ基のい
ずれかから選択された基である。}のオニウム塩であ
り、アニオン性硼酸塩部分が式(4) 【化4】 {式中、a及びbは0〜4の範囲で整数であり、ここで
a+bは4であり、Yは、aが0〜3である場合にはハ
ロゲン原子(塩素又は弗素)を表わし、またaが0〜2
である場合にはOH基を表わすこともできる。Rは、C
F3 、NO2 、CN等のような少なくとも1個の電子吸
引基で置換されたフェニル基又は少なくとも2個のハロ
ゲン原子(特に弗素)で置換されたフェニル基を表わ
す。}で示される、前記硼酸塩。 - 【請求項2】請求項1記載の硼酸塩からなる光重合開始
剤(B) - 【請求項3】カチオン重合性物質(A)と請求項2記載
の光重合開始剤(B)を含有することを特徴とするエネ
ルギー線硬化性組成物。 - 【請求項4】請求項3記載の組成物の硬化物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11441996A JPH09278814A (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11441996A JPH09278814A (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09278814A true JPH09278814A (ja) | 1997-10-28 |
Family
ID=14637244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11441996A Pending JPH09278814A (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09278814A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004058699A3 (en) * | 2002-12-23 | 2004-09-10 | Aprilis Inc | Fluoroarylsulfonium photoacid generators |
JP2006036756A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-02-09 | Mitsui Chemicals Inc | イオン性化合物およびそれを含む樹脂 |
EP1609794A3 (en) * | 2004-06-22 | 2007-03-14 | Mitsui Chemicals, Inc. | Ionic compound, resin composition containing the same and use thereof |
-
1996
- 1996-04-12 JP JP11441996A patent/JPH09278814A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004058699A3 (en) * | 2002-12-23 | 2004-09-10 | Aprilis Inc | Fluoroarylsulfonium photoacid generators |
JP2006036756A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-02-09 | Mitsui Chemicals Inc | イオン性化合物およびそれを含む樹脂 |
EP1609794A3 (en) * | 2004-06-22 | 2007-03-14 | Mitsui Chemicals, Inc. | Ionic compound, resin composition containing the same and use thereof |
US7211636B2 (en) | 2004-06-22 | 2007-05-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | Ionic compound, resin composition containing the same and use thereof |
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