JPH09272183A - アンチニュートンリング性フィルム - Google Patents
アンチニュートンリング性フィルムInfo
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- JPH09272183A JPH09272183A JP8082489A JP8248996A JPH09272183A JP H09272183 A JPH09272183 A JP H09272183A JP 8082489 A JP8082489 A JP 8082489A JP 8248996 A JP8248996 A JP 8248996A JP H09272183 A JPH09272183 A JP H09272183A
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- transparent
- plastic film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】電磁波シールドまたはタッチパネル用透明電極
に用いる透明プラスチックフィルムであって、他の部材
と重ね合わせた場合にニュートンリングが発生せず、し
かも静電気を帯びず、空気中の埃を吸着しないフィルム
の提供。 【解決手段】透明プラスチックフィルム上に０．１μｍ
以上の高さのピークが２０個／ｃｍ以上存在するよう
に、しかも霞度が１０％以下であるように凹凸処理を行
う。次にその凹凸処理面上に透明導電層を積層する。
に用いる透明プラスチックフィルムであって、他の部材
と重ね合わせた場合にニュートンリングが発生せず、し
かも静電気を帯びず、空気中の埃を吸着しないフィルム
の提供。 【解決手段】透明プラスチックフィルム上に０．１μｍ
以上の高さのピークが２０個／ｃｍ以上存在するよう
に、しかも霞度が１０％以下であるように凹凸処理を行
う。次にその凹凸処理面上に透明導電層を積層する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はアンチニュートンリ
ング性フィルムに関する。さらに詳しくは、本発明は、
ＣＲＴ（ブラウン管）、ＰＤＰ（プラズマディスプレー
パネル）、ＬＣＤ（液晶表示装置）等の電磁波シールド
用電極およびタッチパネル用電極等の反射防止能、防眩
性、アンチニュートンリング性、高透明性、防塵性を兼
ね備えたアンチニュートンリング性フィルムに関する。
ング性フィルムに関する。さらに詳しくは、本発明は、
ＣＲＴ（ブラウン管）、ＰＤＰ（プラズマディスプレー
パネル）、ＬＣＤ（液晶表示装置）等の電磁波シールド
用電極およびタッチパネル用電極等の反射防止能、防眩
性、アンチニュートンリング性、高透明性、防塵性を兼
ね備えたアンチニュートンリング性フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電磁波シールドの発生に関する規
制が強化されつつある。通常、鉛に代表される金属で電
磁波の発生源を被うことにより電磁波シールド処理が行
なわれる。しかし、これらの金属は透明でないためにＣ
ＲＴ、ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレー装置には用い
ることが出来ない。そこで、ＩＴＯに代表される透明導
電膜を電磁波シールド層として用いている。電磁波シー
ルド層の基材としては生産性、採算性の面から透明プラ
スチックフィルムが好ましい。但し、透明プラスチック
フィルム単体であると強度が不足するために透明なプラ
スチック板と貼り合わせて用いられている。
制が強化されつつある。通常、鉛に代表される金属で電
磁波の発生源を被うことにより電磁波シールド処理が行
なわれる。しかし、これらの金属は透明でないためにＣ
ＲＴ、ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレー装置には用い
ることが出来ない。そこで、ＩＴＯに代表される透明導
電膜を電磁波シールド層として用いている。電磁波シー
ルド層の基材としては生産性、採算性の面から透明プラ
スチックフィルムが好ましい。但し、透明プラスチック
フィルム単体であると強度が不足するために透明なプラ
スチック板と貼り合わせて用いられている。
【０００３】しかしながら、この透明導電性プラスチッ
クフィルムと透明プラスチック板からなる電磁波シール
ド部材を上記のディスプレー装置に組み込んで使用する
と、多数の部材からなるため、部材間での光の反射が起
こり、光線透過率が低下し、画像が暗くなるという問題
点があった。そこで、部材間での光の反射を防ぎ、光線
透過率を向上させるために透明プラスチックフィルム基
材上にその透明プラスチックフィルムよりも屈折率の低
い樹脂を塗布することによって光線透過率を上げる試み
がなされている。しかし、この場合、電磁波シールド部
材とディスプレー装置間の間隔が不均一になるために光
の干渉縞（ニュートンリング）が発生し、画像が見にく
くなるという問題点があった。
クフィルムと透明プラスチック板からなる電磁波シール
ド部材を上記のディスプレー装置に組み込んで使用する
と、多数の部材からなるため、部材間での光の反射が起
こり、光線透過率が低下し、画像が暗くなるという問題
点があった。そこで、部材間での光の反射を防ぎ、光線
透過率を向上させるために透明プラスチックフィルム基
材上にその透明プラスチックフィルムよりも屈折率の低
い樹脂を塗布することによって光線透過率を上げる試み
がなされている。しかし、この場合、電磁波シールド部
材とディスプレー装置間の間隔が不均一になるために光
の干渉縞（ニュートンリング）が発生し、画像が見にく
くなるという問題点があった。
【０００４】また、一般的にこれらの透明プラスチック
フィルムや透明プラスチック板は絶縁体であるために静
電気を帯びやすく、空気中のゴミや埃を吸着し、汚れ、
画像が暗くなるという欠点も有していた。一方、タッチ
パネル用透明電極において透明プラスチックフィルムを
基材として用いた透明導電性フィルムを用いる場合、電
磁波シールド部材の場合と同様の問題が生じていた。
フィルムや透明プラスチック板は絶縁体であるために静
電気を帯びやすく、空気中のゴミや埃を吸着し、汚れ、
画像が暗くなるという欠点も有していた。一方、タッチ
パネル用透明電極において透明プラスチックフィルムを
基材として用いた透明導電性フィルムを用いる場合、電
磁波シールド部材の場合と同様の問題が生じていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、透明
プラスチックフィルムを基材として用いる電磁波シール
ド用部材およびタッチパネル用透明電極において、ディ
スプレーとして組み立てた場合に光の反射が少なく、光
線透過率が高く、また、ニュートンリングが生じず、し
かも埃などが吸着しにくい透明導電性フィルム用基板と
してのアンチニュートンリング性フィルムを供給するこ
とにある。
プラスチックフィルムを基材として用いる電磁波シール
ド用部材およびタッチパネル用透明電極において、ディ
スプレーとして組み立てた場合に光の反射が少なく、光
線透過率が高く、また、ニュートンリングが生じず、し
かも埃などが吸着しにくい透明導電性フィルム用基板と
してのアンチニュートンリング性フィルムを供給するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは以上の課題
を解決するために鋭意検討した結果、透明プラスチック
フィルム上に微小な凹凸を付与する処理を施した場合、
透明プラスチックフィルムと他の部材との接触を防いで
ニュートンリングの発生を抑えられること、および、そ
の透明プラスチックフィルムの最表面に導電層を積層し
た場合、静電気の帯電を防ぎ、埃などが吸着せず汚れを
防ぐことが出来ることを見いだした。
を解決するために鋭意検討した結果、透明プラスチック
フィルム上に微小な凹凸を付与する処理を施した場合、
透明プラスチックフィルムと他の部材との接触を防いで
ニュートンリングの発生を抑えられること、および、そ
の透明プラスチックフィルムの最表面に導電層を積層し
た場合、静電気の帯電を防ぎ、埃などが吸着せず汚れを
防ぐことが出来ることを見いだした。
【０００７】すなわち、本発明は、表面に凹凸処理がな
されている透明プラスチックフィルム上に透明導電層が
積層されていることを特徴とするアンチニュートンリン
グ性フィルムであり、その凹凸処理が０．１μｍ以上の
高さのピークが２０個／１ｃｍ以上存在するようになさ
れているアンチニュートンリング性フィルム、またはそ
の霞度（ＨＡＺＥ値）が１０％以下であるアンチニュー
トンリング性フィルムである。
されている透明プラスチックフィルム上に透明導電層が
積層されていることを特徴とするアンチニュートンリン
グ性フィルムであり、その凹凸処理が０．１μｍ以上の
高さのピークが２０個／１ｃｍ以上存在するようになさ
れているアンチニュートンリング性フィルム、またはそ
の霞度（ＨＡＺＥ値）が１０％以下であるアンチニュー
トンリング性フィルムである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明では表面に凹凸処理が施さ
れた透明プラスチックフィルムを使用する。表面に凹凸
処理が施されていない場合、透明プラスチックフィルム
と他の部材を重ねて使用する際に接触する部分と接触し
ない部分が発生する。この接触している部分と接触して
いない部分との間に、透明プラスチックフィルムと他の
部材との間隔が連続的に変化している層が発生し、この
層でニュートンリングが発生する。
れた透明プラスチックフィルムを使用する。表面に凹凸
処理が施されていない場合、透明プラスチックフィルム
と他の部材を重ねて使用する際に接触する部分と接触し
ない部分が発生する。この接触している部分と接触して
いない部分との間に、透明プラスチックフィルムと他の
部材との間隔が連続的に変化している層が発生し、この
層でニュートンリングが発生する。
【０００９】一方、表面に凹凸処理が施されている場
合、透明プラスチックフィルムと他の部材を重ね合わせ
て用いた場合でも接触している部分が点であるために、
全体的には間隔が一定であり、ニュートンリングが発生
しない。
合、透明プラスチックフィルムと他の部材を重ね合わせ
て用いた場合でも接触している部分が点であるために、
全体的には間隔が一定であり、ニュートンリングが発生
しない。
【００１０】透明プラスチックフィルムの基材として
は、透明性の高いものであれば特に制限はないが、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホ
ン、ポリエステル、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカ
ーボネート、ポリアリレート、ポリアミド等が挙げられ
る。また、該フィルムの厚みは特に制限されるものでは
ないが、フィルムの強度・ハンドリング性から２５〜２
５０μｍが好ましい。
は、透明性の高いものであれば特に制限はないが、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホ
ン、ポリエステル、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカ
ーボネート、ポリアリレート、ポリアミド等が挙げられ
る。また、該フィルムの厚みは特に制限されるものでは
ないが、フィルムの強度・ハンドリング性から２５〜２
５０μｍが好ましい。
【００１１】フィルムの凹凸処理の方法としては、例え
ば、フィラー（粒子）を含む透明樹脂、例えばメラミン
系樹脂（大日本インキ（株）製ＳＦ−Ｃ−３２９）を塗
布する方法、フィルムを製膜する際に表面を凹凸処理し
たロールに圧着し転写させる方法などが挙げられる。
ば、フィラー（粒子）を含む透明樹脂、例えばメラミン
系樹脂（大日本インキ（株）製ＳＦ−Ｃ−３２９）を塗
布する方法、フィルムを製膜する際に表面を凹凸処理し
たロールに圧着し転写させる方法などが挙げられる。
【００１２】三本リバースコート法により樹脂を凹凸模
様状にコートする場合について詳しく説明する。三本リ
バースコート法では通常コートロールと呼ばれるロール
で塗布しようとする樹脂をかきあげ、ドクターロールと
呼ばれるロールとコートロールを接触させ、コートロー
ル上にある樹脂を均一にし、しかもその間隔を調整する
ことにより塗布する厚みを調整する。コートロール上に
均一に、しかも所望の厚みの樹脂層を形成した後にバッ
クアップロールと呼ばれるロールで基材となる透明プラ
スチックフィルムをコートロールに接触させ、コートロ
ール上の樹脂を転写させ、乾燥または紫外線等により硬
化させる。ここで、コートロールに例えば、梨地模様な
どの表面凹凸処理を施しておくことにより、梨地様の凹
凸面を有する樹脂層を塗布することが出来る。
様状にコートする場合について詳しく説明する。三本リ
バースコート法では通常コートロールと呼ばれるロール
で塗布しようとする樹脂をかきあげ、ドクターロールと
呼ばれるロールとコートロールを接触させ、コートロー
ル上にある樹脂を均一にし、しかもその間隔を調整する
ことにより塗布する厚みを調整する。コートロール上に
均一に、しかも所望の厚みの樹脂層を形成した後にバッ
クアップロールと呼ばれるロールで基材となる透明プラ
スチックフィルムをコートロールに接触させ、コートロ
ール上の樹脂を転写させ、乾燥または紫外線等により硬
化させる。ここで、コートロールに例えば、梨地模様な
どの表面凹凸処理を施しておくことにより、梨地様の凹
凸面を有する樹脂層を塗布することが出来る。
【００１３】また、凹凸処理は０．１μｍ以上のピーク
が２０個／ｃｍ以上存在するようになされていなくては
ならない。ピークの高さが０．１μｍより小さい場合、
およびピークの数が２０個／ｃｍよりも少ない場合で
は、凹凸加工をしていない場合と同様にニュートンリン
グが発生するために好ましくない。ハンドリング性等か
らピークの大きさは５００μｍを越えないことが好まし
い。また、ピークの数に関して特に上限があるわけでは
ないが、ピークの数が増えると後に述べる霞度（ＨＡＺ
Ｅ値）が上昇するために通常１０００個／ｃｍ以下であ
る。
が２０個／ｃｍ以上存在するようになされていなくては
ならない。ピークの高さが０．１μｍより小さい場合、
およびピークの数が２０個／ｃｍよりも少ない場合で
は、凹凸加工をしていない場合と同様にニュートンリン
グが発生するために好ましくない。ハンドリング性等か
らピークの大きさは５００μｍを越えないことが好まし
い。また、ピークの数に関して特に上限があるわけでは
ないが、ピークの数が増えると後に述べる霞度（ＨＡＺ
Ｅ値）が上昇するために通常１０００個／ｃｍ以下であ
る。
【００１４】また、このフィルムの霞度（ＨＡＺＥ値）
としては、１０％以下でなくてはならない。霞度がこの
値を範囲を越える場合散乱されて透過する光の割合が多
くなるために解像度の悪い画面となってしまうために好
ましくない。また、先に述べたように表面に凹凸処理を
施しているために霞度が０．１％を下回ることは一般的
にはない。
としては、１０％以下でなくてはならない。霞度がこの
値を範囲を越える場合散乱されて透過する光の割合が多
くなるために解像度の悪い画面となってしまうために好
ましくない。また、先に述べたように表面に凹凸処理を
施しているために霞度が０．１％を下回ることは一般的
にはない。
【００１５】また、透明プラスチックフィルムの凹凸処
理面上に透明導電層が形成されていなくてはならない。
プラスチックフィルムの凹凸処理面上に透明導電層が形
成されていない場合、静電気を帯やすく、空気中の塵や
埃を吸着しやすく汚れやすい。特にＣＲＴ用に用いた場
合この現象が顕著となる。ＣＲＴにおいてはスイッチン
グ操作時に等電圧負荷による静電気が発生するためであ
る。
理面上に透明導電層が形成されていなくてはならない。
プラスチックフィルムの凹凸処理面上に透明導電層が形
成されていない場合、静電気を帯やすく、空気中の塵や
埃を吸着しやすく汚れやすい。特にＣＲＴ用に用いた場
合この現象が顕著となる。ＣＲＴにおいてはスイッチン
グ操作時に等電圧負荷による静電気が発生するためであ
る。
【００１６】透明導電層の表面抵抗値としては１０9 Ω
／□以下であることが好ましい。表面抵抗値が上記の範
囲を越えると静電気を蓄積しやすくなるため好ましくな
い。また、表面抵抗値の下限に関しては特に制約はない
が、１０Ω／□以下になると透明性が悪くなるために好
ましくない。
／□以下であることが好ましい。表面抵抗値が上記の範
囲を越えると静電気を蓄積しやすくなるため好ましくな
い。また、表面抵抗値の下限に関しては特に制約はない
が、１０Ω／□以下になると透明性が悪くなるために好
ましくない。
【００１７】透明導電層としては、例えば、酸化インジ
ウム−錫（ＩＴＯ）、酸化錫、銀、銅等の無機薄膜層を
スパッタリング法、ＣＶＤ法などで形成したもの、硫酸
パラジウム、硫酸錫、塩化錫等の水溶性金属化合物を含
む水溶液を塗布しこれらの薄膜層を形成したもの等が挙
げられる。
ウム−錫（ＩＴＯ）、酸化錫、銀、銅等の無機薄膜層を
スパッタリング法、ＣＶＤ法などで形成したもの、硫酸
パラジウム、硫酸錫、塩化錫等の水溶性金属化合物を含
む水溶液を塗布しこれらの薄膜層を形成したもの等が挙
げられる。
【００１８】これらの透明導電層を設けて電磁波シール
ド層としても良いし、凹凸処理した部分の裏面に別に透
明導電層を設けて電磁波シールド層としても構わない。
ド層としても良いし、凹凸処理した部分の裏面に別に透
明導電層を設けて電磁波シールド層としても構わない。
【００１９】本発明にかかるアンチニュートンリング性
フィルムで凹凸処理を施していない面に、例えばアクリ
ル板等の透明板をラミネートすることによって機械的強
度を増すことができる。また、この透明板面上に反射防
止効果のあるフィルムを貼り合わせても良いし、反射防
止処理を施しても構わない。
フィルムで凹凸処理を施していない面に、例えばアクリ
ル板等の透明板をラミネートすることによって機械的強
度を増すことができる。また、この透明板面上に反射防
止効果のあるフィルムを貼り合わせても良いし、反射防
止処理を施しても構わない。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。な
お、評価項目、評価方法に関しては以下のようにして行
った。 表面凹凸の評価（ピークの検出）：ＪＩＳ−Ｂ−０６０
１に基づき行った。詳しくは、触針式表面粗さ計
（（株）小坂研究所製ＥＴ−３０Ｋ、触針の径：０．５
μｍ）を用いてカットオフ値０．８ｍｍの条件でフィル
ムの任意の方向に２．５ｍｍ走査させ、その際に得られ
たピークの高さ、およびその数からピークの高さおよび
１ｃｍ当たりのピークの数を求めた。 光線透過率、霞度：ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づき行っ
た。詳しくは、日本電色（株）製ＮＤＨ−１００Ｈを用
いて評価した。 表面抵抗：四端子法により行った。詳しくは、三菱油化
（株）製ロレスタＳＰを用いて行った。 埃による汚染性：ＣＲＴ（日本電気（株）製、ＰＣ−Ｔ
Ｖ４５５）上にサンプルを置き、５０回オンオフを行っ
た後にサンプルを取り外し、目視により汚染の有無を確
認した。 アンチニュートンリング性：埃による汚染性の評価と同
様にＣＲＴ上にサンプルを置き、ニュートンリングの発
生を目視により評価した。 画像の鮮明度：埃による汚染性の評価と同様にＣＲＴ上
にサンプルを置き、画面の鮮明さを目視により評価し
た。
お、評価項目、評価方法に関しては以下のようにして行
った。 表面凹凸の評価（ピークの検出）：ＪＩＳ−Ｂ−０６０
１に基づき行った。詳しくは、触針式表面粗さ計
（（株）小坂研究所製ＥＴ−３０Ｋ、触針の径：０．５
μｍ）を用いてカットオフ値０．８ｍｍの条件でフィル
ムの任意の方向に２．５ｍｍ走査させ、その際に得られ
たピークの高さ、およびその数からピークの高さおよび
１ｃｍ当たりのピークの数を求めた。 光線透過率、霞度：ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づき行っ
た。詳しくは、日本電色（株）製ＮＤＨ−１００Ｈを用
いて評価した。 表面抵抗：四端子法により行った。詳しくは、三菱油化
（株）製ロレスタＳＰを用いて行った。 埃による汚染性：ＣＲＴ（日本電気（株）製、ＰＣ−Ｔ
Ｖ４５５）上にサンプルを置き、５０回オンオフを行っ
た後にサンプルを取り外し、目視により汚染の有無を確
認した。 アンチニュートンリング性：埃による汚染性の評価と同
様にＣＲＴ上にサンプルを置き、ニュートンリングの発
生を目視により評価した。 画像の鮮明度：埃による汚染性の評価と同様にＣＲＴ上
にサンプルを置き、画面の鮮明さを目視により評価し
た。
【００２１】実施例１ 厚み１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム上に平均粒子径２μｍのシリカ粉末を重量
比で２０％分散させたメラミン系樹脂（大日本インキ
（株）製ＳＦ−Ｃ−３２９）を三本リバース法により塗
布し、８０℃で三分間乾燥し、厚み５μｍの塗布膜を得
た。詳しくは、コートロールに梨地様の処理をしてお
き、ＰＥＴフィルムに樹脂をコートする際に梨地様の模
様が転写されるようにした。この樹脂の梨地様に処理し
た上にスパッタリング法によりＩＴＯ薄膜層を表面抵抗
が１０００Ω／□となるように形成し、アンチニュート
ンリング性フィルムを得た。このフィルムの表面凹凸、
光線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染性、アンチ
ニュートンリング性、画像の鮮明度を評価した。結果を
表１にまとめて示す。
Ｔ）フィルム上に平均粒子径２μｍのシリカ粉末を重量
比で２０％分散させたメラミン系樹脂（大日本インキ
（株）製ＳＦ−Ｃ−３２９）を三本リバース法により塗
布し、８０℃で三分間乾燥し、厚み５μｍの塗布膜を得
た。詳しくは、コートロールに梨地様の処理をしてお
き、ＰＥＴフィルムに樹脂をコートする際に梨地様の模
様が転写されるようにした。この樹脂の梨地様に処理し
た上にスパッタリング法によりＩＴＯ薄膜層を表面抵抗
が１０００Ω／□となるように形成し、アンチニュート
ンリング性フィルムを得た。このフィルムの表面凹凸、
光線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染性、アンチ
ニュートンリング性、画像の鮮明度を評価した。結果を
表１にまとめて示す。
【００２２】実施例２ メラミン系樹脂に分散させるシリカ粉末の量を４０重量
％としたこと以外は、実施例１と同様にしてアンチニュ
ートンリング性フィルムを作成した。このフィルムの表
面凹凸、光線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染
性、アンチニュートンリング性、画像の鮮明度を評価し
た。結果を表１にまとめて示す。
％としたこと以外は、実施例１と同様にしてアンチニュ
ートンリング性フィルムを作成した。このフィルムの表
面凹凸、光線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染
性、アンチニュートンリング性、画像の鮮明度を評価し
た。結果を表１にまとめて示す。
【００２３】実施例３ ＩＴＯ薄膜層の表面抵抗値を２００Ω／□となるように
形成したこと以外は実施例１と同様にしてアンチニュー
トンリング性フィルムを得た。このフィルムの表面凹
凸、光線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染性、ア
ンチニュートンリング性、画像の鮮明度を評価した。結
果を表１にまとめて示す。
形成したこと以外は実施例１と同様にしてアンチニュー
トンリング性フィルムを得た。このフィルムの表面凹
凸、光線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染性、ア
ンチニュートンリング性、画像の鮮明度を評価した。結
果を表１にまとめて示す。
【００２４】実施例４ 透明導電層の形成を１重量％塩化錫水溶液に浸すことに
より得たこと以外は実施例１と同様にしてアンチニュー
トンリング性フィルムを得た。このフィルムの表面凹
凸、光線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染性、ア
ンチニュートンリング性、画像の鮮明度を評価した。結
果を表１に合わせて示す
より得たこと以外は実施例１と同様にしてアンチニュー
トンリング性フィルムを得た。このフィルムの表面凹
凸、光線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染性、ア
ンチニュートンリング性、画像の鮮明度を評価した。結
果を表１に合わせて示す
【００２５】比較例１ 実施例１において三本リバースコート法によりメラミン
樹脂を塗布する際にコートロールに梨地処理をしていな
いロールを用いたこと以外は同様にして透明フィルムを
得た。このフィルムの表面凹凸、光線透過率、霞度、表
面抵抗、埃による汚染性、アンチニュートンリング性、
画像の鮮明度を評価した。結果を表１に合わせて示す
樹脂を塗布する際にコートロールに梨地処理をしていな
いロールを用いたこと以外は同様にして透明フィルムを
得た。このフィルムの表面凹凸、光線透過率、霞度、表
面抵抗、埃による汚染性、アンチニュートンリング性、
画像の鮮明度を評価した。結果を表１に合わせて示す
【００２６】比較例２ 実施例１においてメラミン樹脂に添加したシリカ粉末の
割合を８０重量％としたこと以外は同様にして透明フィ
ルムを得た。このフィルムの表面凹凸、光線透過率、霞
度、表面抵抗、埃による汚染性、アンチニュートンリン
グ性、画像の鮮明度を評価した。結果を表１に合わせて
示す
割合を８０重量％としたこと以外は同様にして透明フィ
ルムを得た。このフィルムの表面凹凸、光線透過率、霞
度、表面抵抗、埃による汚染性、アンチニュートンリン
グ性、画像の鮮明度を評価した。結果を表１に合わせて
示す
【００２７】比較例３ 実施例１において作成した梨地処理を施した透明フィル
ムをそのまま用いた。したがってこのフィルムにはＩＴ
Ｏ層は形成されていない。このフィルムの表面凹凸、光
線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染性、アンチニ
ュートンリング性、画像の鮮明度を評価した。結果を表
１に合わせて示す
ムをそのまま用いた。したがってこのフィルムにはＩＴ
Ｏ層は形成されていない。このフィルムの表面凹凸、光
線透過率、霞度、表面抵抗、埃による汚染性、アンチニ
ュートンリング性、画像の鮮明度を評価した。結果を表
１に合わせて示す
【００２８】
【表１】 評価の基準： ○：問題無し ×：問題有り
【００２９】
【発明の効果】本発明における、透明プラスチックフィ
ルムを基材としたアンチニュートンリング性フィルム
は、電磁波シールド用部材およびタッチパネル用透明電
極において、ディスプレーとして組み立てた場合に光の
反射が少なく、光線透過率が高く、また、ニュートンリ
ングが生じず、しかも埃などが吸着しにくい。
ルムを基材としたアンチニュートンリング性フィルム
は、電磁波シールド用部材およびタッチパネル用透明電
極において、ディスプレーとして組み立てた場合に光の
反射が少なく、光線透過率が高く、また、ニュートンリ
ングが生じず、しかも埃などが吸着しにくい。
フロントページの続き (72)発明者 原田 祐一郎 愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地 三井東圧化学株式会社内 (72)発明者 坂井 祥浩 愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地 三井東圧化学株式会社内 (72)発明者 鈴木 彰 愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地 三井東圧化学株式会社内 (72)発明者 中島 明美 愛知県名古屋市南区丹後通２丁目１番地 三井東圧化学株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 表面に凹凸処理がなされている透明プラ
スチックフィルム上に透明導電層が積層されていること
を特徴とするアンチニュートンリング性フィルム。 - 【請求項２】 ０．１μｍ以上の高さのピークが２０個
／ｃｍ以上存在するように凹凸処理がなされていること
を特徴とする請求項１記載のアンチニュートンリング性
フィルム。 - 【請求項３】 霞度（ＨＡＺＥ値）が１０％以下である
ことを特徴とする請求項１記載のアンチニュートンリン
グ性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8082489A JPH09272183A (ja) | 1996-04-04 | 1996-04-04 | アンチニュートンリング性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8082489A JPH09272183A (ja) | 1996-04-04 | 1996-04-04 | アンチニュートンリング性フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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-
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