JPH09265049A - 光学的読取り領域制限板およびモジュールならびにこれらを適用した画像読取り装置 - Google Patents
光学的読取り領域制限板およびモジュールならびにこれらを適用した画像読取り装置Info
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- JPH09265049A JPH09265049A JP8074458A JP7445896A JPH09265049A JP H09265049 A JPH09265049 A JP H09265049A JP 8074458 A JP8074458 A JP 8074458A JP 7445896 A JP7445896 A JP 7445896A JP H09265049 A JPH09265049 A JP H09265049A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アパーチャ径を大きくして原稿の読取り解像
度を粗くする場合にも、分光組成を変化させることなく
受光素子への入射光量のみを低減させること。 【解決手段】 アパーチャ板に形成するアパーチャとし
て、小さな孔を２次元的に複数形成した領域Ｂ１〜Ｂ４
を使用し、原稿の読取り領域に対応する光の一部のみを
通過させる。小さな孔の密度を変化させることによって
受光素子側に通過する光の光量を調整することが可能で
ある。解像度が粗い場合は、小さな孔の密度を粗くする
ことによって受光素子側に照射される光量を低減するこ
とができる。
度を粗くする場合にも、分光組成を変化させることなく
受光素子への入射光量のみを低減させること。 【解決手段】 アパーチャ板に形成するアパーチャとし
て、小さな孔を２次元的に複数形成した領域Ｂ１〜Ｂ４
を使用し、原稿の読取り領域に対応する光の一部のみを
通過させる。小さな孔の密度を変化させることによって
受光素子側に通過する光の光量を調整することが可能で
ある。解像度が粗い場合は、小さな孔の密度を粗くする
ことによって受光素子側に照射される光量を低減するこ
とができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、画像の単位読取
り領域を規定するための光学的読取り領域制限板および
モジュールと、これらを適用した製版用スキャナの画像
読取り装置に関する。
り領域を規定するための光学的読取り領域制限板および
モジュールと、これらを適用した製版用スキャナの画像
読取り装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、製版用スキャナにおいて
は、原稿の読取りに際してその解像度を規定するための
アパーチャ板が使用されている。
は、原稿の読取りに際してその解像度を規定するための
アパーチャ板が使用されている。
【０００３】従来アパーチャ板は図７に示すように、板
状のものに孔Ａを形成したものである。この孔Ａの形状
と大きさが画像の読取り領域を決定している。図８は、
このアパーチャ板の作用を示す図である。同図より原稿
側から幅Ｍの光束が入射し、孔を通過した光は幅Ｎの光
束となる。このように光束の調整ができることは、すな
わち受光素子での読取り解像度の変更ができることにな
る。したがって読取り解像度を粗く（低く）したい場合
は、孔を大きくし、受光素子側の光束の幅Ｎを大きくす
る。逆に読取り解像度を細かく（高く）したい場合は、
孔を小さくし、受光素子側の光束の幅Ｎを小さくする。
またアパーチャ板の孔の大きさによって光束が変化する
ため、光量も変化する。すなわちアパーチャ板の孔の大
きさに比例して受光素子の受光する光量が変化する。
状のものに孔Ａを形成したものである。この孔Ａの形状
と大きさが画像の読取り領域を決定している。図８は、
このアパーチャ板の作用を示す図である。同図より原稿
側から幅Ｍの光束が入射し、孔を通過した光は幅Ｎの光
束となる。このように光束の調整ができることは、すな
わち受光素子での読取り解像度の変更ができることにな
る。したがって読取り解像度を粗く（低く）したい場合
は、孔を大きくし、受光素子側の光束の幅Ｎを大きくす
る。逆に読取り解像度を細かく（高く）したい場合は、
孔を小さくし、受光素子側の光束の幅Ｎを小さくする。
またアパーチャ板の孔の大きさによって光束が変化する
ため、光量も変化する。すなわちアパーチャ板の孔の大
きさに比例して受光素子の受光する光量が変化する。
【０００４】そして製版用スキャナの入力部分である画
像読取り装置においては、画像の読取り解像度を変更す
ることが必要であるため、図９のように複数の孔Ａ１，
Ａ２，Ａ３，・・・，Ａ８が形成されたアパーチャ板が
使用されていた。そして操作入力装置５００（図１）か
ら画像の読取り解像度の設定を行い、この設定値に基づ
いて、制御装置４００は画像読取り装置１００に対して
制御信号を出力する。画像読取り装置１００においてこ
の制御信号は、図示しないモーター駆動装置に送られ、
モーターの回転運動によって図９のアパーチャ板が回転
し、選択されたサイズの孔を光路中に介挿する。
像読取り装置においては、画像の読取り解像度を変更す
ることが必要であるため、図９のように複数の孔Ａ１，
Ａ２，Ａ３，・・・，Ａ８が形成されたアパーチャ板が
使用されていた。そして操作入力装置５００（図１）か
ら画像の読取り解像度の設定を行い、この設定値に基づ
いて、制御装置４００は画像読取り装置１００に対して
制御信号を出力する。画像読取り装置１００においてこ
の制御信号は、図示しないモーター駆動装置に送られ、
モーターの回転運動によって図９のアパーチャ板が回転
し、選択されたサイズの孔を光路中に介挿する。
【０００５】受光素子は、図１０に示すような特性であ
り、光量が点線Ｑ以上でありかつ点線Ｐ以下であれば入
射する光量に比例した出力を行う。しかし点線Ｐより大
きな光量が入射すると受光素子の出力は飽和する。また
点線Ｑ以下の光量では、受光素子の感度がない。したが
って正常に原稿を読取るためには、原稿を走査して読取
りを行なう際に受光素子に入射する光量の最大値（最大
光量）が、点線Ｑ以上でり点線Ｐ以下であることが必要
である。
り、光量が点線Ｑ以上でありかつ点線Ｐ以下であれば入
射する光量に比例した出力を行う。しかし点線Ｐより大
きな光量が入射すると受光素子の出力は飽和する。また
点線Ｑ以下の光量では、受光素子の感度がない。したが
って正常に原稿を読取るためには、原稿を走査して読取
りを行なう際に受光素子に入射する光量の最大値（最大
光量）が、点線Ｑ以上でり点線Ｐ以下であることが必要
である。
【０００６】ここで、図９に示すようなアパーチャ板の
孔Ａ１，Ａ２，Ａ３，・・・，Ａ８を光路中に介挿し、
最大光量が入射したときの受光素子の出力を調べると、
図１０に示すＡ１，Ａ２，Ａ３，・・・，Ａ８のように
なったとする。図１０よりＡ１〜Ａ４の比較的大きい孔
の場合は、最大光量が点線Ｐよりも大きいために出力が
飽和している。したがってこのままでは大きいＡ１〜Ａ
４の孔は使用できない。したがってこのような出力が飽
和する程の大きな孔を使用する場合は、図１１に示すよ
うにＮＤ（Neutral Density）フィルターＤ１，Ｄ２，
Ｄ３，Ｄ４を貼り、受光素子に入射する光量を低下させ
ている。ＮＤフィルターは、入射光の分光組成を変えな
いで光量のみを低下させるフィルターである。ＮＤフィ
ルターＤ１〜Ｄ４を貼られた各孔Ａ１〜Ａ４のそれぞれ
を通過した光束の幅は、ＮＤフィルターによる影響を受
けない。したがって、この場合でも読取り解像度は各孔
の大きさのみに関係するため、粗い解像度も正常に読取
りが可能となっている。
孔Ａ１，Ａ２，Ａ３，・・・，Ａ８を光路中に介挿し、
最大光量が入射したときの受光素子の出力を調べると、
図１０に示すＡ１，Ａ２，Ａ３，・・・，Ａ８のように
なったとする。図１０よりＡ１〜Ａ４の比較的大きい孔
の場合は、最大光量が点線Ｐよりも大きいために出力が
飽和している。したがってこのままでは大きいＡ１〜Ａ
４の孔は使用できない。したがってこのような出力が飽
和する程の大きな孔を使用する場合は、図１１に示すよ
うにＮＤ（Neutral Density）フィルターＤ１，Ｄ２，
Ｄ３，Ｄ４を貼り、受光素子に入射する光量を低下させ
ている。ＮＤフィルターは、入射光の分光組成を変えな
いで光量のみを低下させるフィルターである。ＮＤフィ
ルターＤ１〜Ｄ４を貼られた各孔Ａ１〜Ａ４のそれぞれ
を通過した光束の幅は、ＮＤフィルターによる影響を受
けない。したがって、この場合でも読取り解像度は各孔
の大きさのみに関係するため、粗い解像度も正常に読取
りが可能となっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＮＤフィルタ
ーは強い光を照射され続けると、経時的変化を起こし退
色する。ＮＤフィルターは、退色を起こすとその特性が
変化する。ＮＤフィルターが退色していくと、ＮＤフィ
ルターを通過する光量はしだいに低下していく。それと
同時に、ＮＤフィルターに色味がでてくる。色味がでる
とは、ＮＤフィルターを通過する前後において、光の分
光組成が異なることである。したがって従来のようなＮ
Ｄフィルターを貼付けたアパーチャ板を使用している場
合には、ＮＤフィルターが退色を起こすと、受光素子で
得られる原稿の色情報が実際の原稿の色と異なる。これ
は製版用スキャナにおいては重大な問題となる。
ーは強い光を照射され続けると、経時的変化を起こし退
色する。ＮＤフィルターは、退色を起こすとその特性が
変化する。ＮＤフィルターが退色していくと、ＮＤフィ
ルターを通過する光量はしだいに低下していく。それと
同時に、ＮＤフィルターに色味がでてくる。色味がでる
とは、ＮＤフィルターを通過する前後において、光の分
光組成が異なることである。したがって従来のようなＮ
Ｄフィルターを貼付けたアパーチャ板を使用している場
合には、ＮＤフィルターが退色を起こすと、受光素子で
得られる原稿の色情報が実際の原稿の色と異なる。これ
は製版用スキャナにおいては重大な問題となる。
【０００８】
【発明の目的】この発明は、上記課題に鑑みてなされた
ものであって、強い光が照射され続けても経時的な変化
を起こさずに、画像の読取り領域を保ちつつ、通過する
光の光量を任意に低下することが可能な光学的読取り領
域制限板とこれを適用した画像読取り装置を提供するこ
とを目的とする。
ものであって、強い光が照射され続けても経時的な変化
を起こさずに、画像の読取り領域を保ちつつ、通過する
光の光量を任意に低下することが可能な光学的読取り領
域制限板とこれを適用した画像読取り装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、原稿からの光の一部を遮光して受光素子に与えるこ
とにより、前記原稿の光学的読取りにおける単位読取り
領域を規定するための光学的読取り領域制限板であっ
て、板面において前記単位読取り領域に対応する範囲
に、複数の孔が分布形成されている。
は、原稿からの光の一部を遮光して受光素子に与えるこ
とにより、前記原稿の光学的読取りにおける単位読取り
領域を規定するための光学的読取り領域制限板であっ
て、板面において前記単位読取り領域に対応する範囲
に、複数の孔が分布形成されている。
【００１０】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の光学的読取り領域制限板において、前記複数の孔は均
等な間隔で２次元的に配置された孔である。
の光学的読取り領域制限板において、前記複数の孔は均
等な間隔で２次元的に配置された孔である。
【００１１】請求項３に記載の発明は、請求項１に記載
の光学的読取り領域制限板において、前記複数の孔はラ
ンダムな間隔で２次元的に配置された孔である。
の光学的読取り領域制限板において、前記複数の孔はラ
ンダムな間隔で２次元的に配置された孔である。
【００１２】請求項４に記載の発明は、原稿からの光の
一部を遮光して受光素子に与えることにより、前記原稿
の光学的読取りにおける単位読取り領域を規定するため
の光学的読取り領域制限モジュールであって、板面にお
いて前記単位読取り領域に対応する範囲に単一の孔が形
成された領域制限板と、前記単位読取り領域よりも大き
い範囲に、前記単位読取り領域よりも小さい複数の孔が
２次元的に分布形成された光量低下板とを備え、前記領
域制限板と前記光量低下板は、前記原稿からの光の光軸
に沿って前後に並んだ状態で配列されている。
一部を遮光して受光素子に与えることにより、前記原稿
の光学的読取りにおける単位読取り領域を規定するため
の光学的読取り領域制限モジュールであって、板面にお
いて前記単位読取り領域に対応する範囲に単一の孔が形
成された領域制限板と、前記単位読取り領域よりも大き
い範囲に、前記単位読取り領域よりも小さい複数の孔が
２次元的に分布形成された光量低下板とを備え、前記領
域制限板と前記光量低下板は、前記原稿からの光の光軸
に沿って前後に並んだ状態で配列されている。
【００１３】請求項５に記載の発明は、照明された原稿
からの光を光電変換して前記原稿の画像読取りを行い、
読取られた画像信号を画像処理装置に与える画像読取り
装置であって、原稿を照明するための照明光学系と、前
記原稿からの光を受光して光電変換する光電変換手段
と、前記原稿と前記光電変換手段との間に、前記原稿の
単位読取り領域を規定する光学的読取り領域制限手段と
を備え、前記光学的読取り領域制限手段は、請求項１な
いし請求項３のいずれかに記載の光学的読取り領域制限
板または請求項４に記載の光学的読取り領域制限モジュ
ールである。
からの光を光電変換して前記原稿の画像読取りを行い、
読取られた画像信号を画像処理装置に与える画像読取り
装置であって、原稿を照明するための照明光学系と、前
記原稿からの光を受光して光電変換する光電変換手段
と、前記原稿と前記光電変換手段との間に、前記原稿の
単位読取り領域を規定する光学的読取り領域制限手段と
を備え、前記光学的読取り領域制限手段は、請求項１な
いし請求項３のいずれかに記載の光学的読取り領域制限
板または請求項４に記載の光学的読取り領域制限モジュ
ールである。
【００１４】
＜全体の構成＞図１は、この発明の適用される円筒走査
型製版用スキャナの全体概略図である。同図において、
画像読取り装置１００ではモーターＭ１によって主走査
に対応する方向Ｘに回転する透明の原稿シリンダー１０
の表面に原稿２０が貼付けられている。この原稿２０
は、図示しない照明光学系によって照明される。この照
明される光は、原稿２０を透過するか、もしくは原稿２
０によって反射する。このように透過または反射した光
は、入力ヘッド１５０によって受光される。入力ヘッド
１５０は、駆動機構Ｅ１によって副走査方向Ｙに並進駆
動するように構成されている。また入力ヘッド１５０
は、走査線順次にＲ（レッド），Ｂ（ブルー），Ｇ（グ
リーン）の各色成分を読取る。このようにして得られた
画像信号が画像処理装置３００に転送される。画像処理
装置３００は、入力された画像信号をＹ（イエロー），
Ｍ（マゼンタ），Ｃ（シアン），Ｋ（墨）の成分に変換
し、それらに対してグラデーション設定や輪郭強調等の
処理を行う。処理後の画像信号は網点信号に変換されて
走査記録装置２００の出力ヘッド２５０に与えられる。
出力ヘッド２５０は、駆動機構Ｅ２によって副走査方向
Ｙに並進駆動される。また、モーターＭ２によって主走
査に対応する方向Ｘに回転する出力シリンダー２１０上
には感光フィルム２２０が真空吸着されており、出力ヘ
ッド２５０は網点画像信号に基づいて感光フィルム２２
０上にＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの各網点画像を走査線順次に露光
記録する。なお、制御装置４００はマイクロコンピュー
タを備えており、上記の各装置１００，２００，３００
の制御信号を発生する。さらに、キーボードやマウスな
どの操作入力装置５００が制御装置４００に接続されて
いる。
型製版用スキャナの全体概略図である。同図において、
画像読取り装置１００ではモーターＭ１によって主走査
に対応する方向Ｘに回転する透明の原稿シリンダー１０
の表面に原稿２０が貼付けられている。この原稿２０
は、図示しない照明光学系によって照明される。この照
明される光は、原稿２０を透過するか、もしくは原稿２
０によって反射する。このように透過または反射した光
は、入力ヘッド１５０によって受光される。入力ヘッド
１５０は、駆動機構Ｅ１によって副走査方向Ｙに並進駆
動するように構成されている。また入力ヘッド１５０
は、走査線順次にＲ（レッド），Ｂ（ブルー），Ｇ（グ
リーン）の各色成分を読取る。このようにして得られた
画像信号が画像処理装置３００に転送される。画像処理
装置３００は、入力された画像信号をＹ（イエロー），
Ｍ（マゼンタ），Ｃ（シアン），Ｋ（墨）の成分に変換
し、それらに対してグラデーション設定や輪郭強調等の
処理を行う。処理後の画像信号は網点信号に変換されて
走査記録装置２００の出力ヘッド２５０に与えられる。
出力ヘッド２５０は、駆動機構Ｅ２によって副走査方向
Ｙに並進駆動される。また、モーターＭ２によって主走
査に対応する方向Ｘに回転する出力シリンダー２１０上
には感光フィルム２２０が真空吸着されており、出力ヘ
ッド２５０は網点画像信号に基づいて感光フィルム２２
０上にＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの各網点画像を走査線順次に露光
記録する。なお、制御装置４００はマイクロコンピュー
タを備えており、上記の各装置１００，２００，３００
の制御信号を発生する。さらに、キーボードやマウスな
どの操作入力装置５００が制御装置４００に接続されて
いる。
【００１５】図２は、画像読取り装置１００の入力ヘッ
ド１５０の詳細を示す図である。原稿シリンダー１０に
貼付けた原稿２０からの光は受光レンズによって受光さ
れ、ミラー４０により光の方向を変更される。そしてこ
の光はハーフミラー５０によって２方向に分割される。
一方の光は、読取り解像度用アパーチャ板ＡＰ１に照射
され、他方の光は、ＵＳＭ（アンシャープマスク）用ア
パーチャ板ＡＰ２に照射される。ここでアパーチャ板と
は、光が通過する際に一部の光が遮断されるものであ
り、後段の受光素子における画像の読取り領域を光学的
に制限するものである。すなわちこれらアパーチャ板
は、光学的読取り領域制限板である。読取り解像度用ア
パーチャ板ＡＰ１を通過した光は、ダイクロイックミラ
ー５１，５２，５３によって３原色のＲ，Ｇ，Ｂに色分
解され、受光素子６１，６２，６３に入射する。そして
受光素子６１，６２，６３によって光電変換され、電気
的な画像信号に変換される。またＵＳＭ（アンシャープ
マスク）用アパーチャ板ＡＰ２を通過した光は、受光素
子６０に受光され、ここで光電変換される。そしてＵＳ
Ｍ用の電気信号を生成する。
ド１５０の詳細を示す図である。原稿シリンダー１０に
貼付けた原稿２０からの光は受光レンズによって受光さ
れ、ミラー４０により光の方向を変更される。そしてこ
の光はハーフミラー５０によって２方向に分割される。
一方の光は、読取り解像度用アパーチャ板ＡＰ１に照射
され、他方の光は、ＵＳＭ（アンシャープマスク）用ア
パーチャ板ＡＰ２に照射される。ここでアパーチャ板と
は、光が通過する際に一部の光が遮断されるものであ
り、後段の受光素子における画像の読取り領域を光学的
に制限するものである。すなわちこれらアパーチャ板
は、光学的読取り領域制限板である。読取り解像度用ア
パーチャ板ＡＰ１を通過した光は、ダイクロイックミラ
ー５１，５２，５３によって３原色のＲ，Ｇ，Ｂに色分
解され、受光素子６１，６２，６３に入射する。そして
受光素子６１，６２，６３によって光電変換され、電気
的な画像信号に変換される。またＵＳＭ（アンシャープ
マスク）用アパーチャ板ＡＰ２を通過した光は、受光素
子６０に受光され、ここで光電変換される。そしてＵＳ
Ｍ用の電気信号を生成する。
【００１６】＜第１の実施の形態＞図３に示す光学的読
取り領域制限板を、図２の読取り解像度用アパーチャ板
ＡＰ１とＵＳＭ用アパーチャ板ＡＰ２に適用する。
取り領域制限板を、図２の読取り解像度用アパーチャ板
ＡＰ１とＵＳＭ用アパーチャ板ＡＰ２に適用する。
【００１７】図３は、この発明の第１の実施の形態であ
る光学的読取り領域制限板（以下、アパーチャ板と呼
ぶ）の斜視図である。図３において、点線で囲まれる部
分は画像の読取り領域に相当する領域である。この読取
り領域の全領域に複数（好ましくは多数）の小さな孔Ｈ
が２次元的に分布形成されている。この小さな孔Ｈの大
きさは直径１００μｍ程度であり、それぞれ均等な間隔
で配置されている。このようなアパーチャ板１を図２に
示すＡＰ１，ＡＰ２の位置に設置する。図３のようなア
パーチャ板１に原稿側から光が照射されると読取り領域
に相当する部分の光が通過する。図７のような従来のア
パーチャ板１を用いた場合に比べると、受光素子側にお
いて通過した光量は小さくなる。この通過する光量は、
複数の小さな孔Ｈの密度によって決まる。したがって原
稿の読取り解像度を粗くし、かつ受光光量を一定レベル
より小さくしたい場合には、このようなアパーチャ板１
を用いて複数の孔Ｈの密度を調整すればよい。すなわち
この実施の形態におけるアパーチャ板１を通過する光
は、複数の孔を通過するだけなので通過前後において分
光組成は変わずに光量を低下させることが可能である。
る光学的読取り領域制限板（以下、アパーチャ板と呼
ぶ）の斜視図である。図３において、点線で囲まれる部
分は画像の読取り領域に相当する領域である。この読取
り領域の全領域に複数（好ましくは多数）の小さな孔Ｈ
が２次元的に分布形成されている。この小さな孔Ｈの大
きさは直径１００μｍ程度であり、それぞれ均等な間隔
で配置されている。このようなアパーチャ板１を図２に
示すＡＰ１，ＡＰ２の位置に設置する。図３のようなア
パーチャ板１に原稿側から光が照射されると読取り領域
に相当する部分の光が通過する。図７のような従来のア
パーチャ板１を用いた場合に比べると、受光素子側にお
いて通過した光量は小さくなる。この通過する光量は、
複数の小さな孔Ｈの密度によって決まる。したがって原
稿の読取り解像度を粗くし、かつ受光光量を一定レベル
より小さくしたい場合には、このようなアパーチャ板１
を用いて複数の孔Ｈの密度を調整すればよい。すなわち
この実施の形態におけるアパーチャ板１を通過する光
は、複数の孔を通過するだけなので通過前後において分
光組成は変わずに光量を低下させることが可能である。
【００１８】図４は、第１の実施の形態を適用した複数
の異なるサイズの読取り領域を有するアパーチャ板であ
る。通常、画像読取り装置においては原稿の読取り領域
の設定変更が頻繁に行われるため、オペレータが操作入
力装置５００（図１）から読取り解像度を入力し、この
読取り解像度に対応する読取り領域を有するアパーチャ
板を自動的に光路中に介挿する必要がある。したがっ
て、図４のように構成されたアパーチャ板を使用すると
従来の読取り解像度の変更と同様の手順で、希望する読
取り領域を実現することが可能である。図４での読取り
領域Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４は、それぞれ図９の孔Ａ
１，Ａ２，Ａ３，Ａ４の読取り領域に等しいものとす
る。ここで読取り領域Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４のそれぞ
れに開けられた複数の孔の密度をあらかじめ調整してお
けば、Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４を通過する光の光量をす
べて等しくすることも可能である。
の異なるサイズの読取り領域を有するアパーチャ板であ
る。通常、画像読取り装置においては原稿の読取り領域
の設定変更が頻繁に行われるため、オペレータが操作入
力装置５００（図１）から読取り解像度を入力し、この
読取り解像度に対応する読取り領域を有するアパーチャ
板を自動的に光路中に介挿する必要がある。したがっ
て、図４のように構成されたアパーチャ板を使用すると
従来の読取り解像度の変更と同様の手順で、希望する読
取り領域を実現することが可能である。図４での読取り
領域Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４は、それぞれ図９の孔Ａ
１，Ａ２，Ａ３，Ａ４の読取り領域に等しいものとす
る。ここで読取り領域Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４のそれぞ
れに開けられた複数の孔の密度をあらかじめ調整してお
けば、Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４を通過する光の光量をす
べて等しくすることも可能である。
【００１９】＜第２の実施の形態＞図５は、この発明の
第２の実施の形態である光学的読取り領域制限モジュー
ル（アパーチャモジュール）の斜視図である。図５にお
いて領域制限板２と光量低下板３は光軸に沿って前後に
配置されている。照明された原稿からの光は、単一の孔
Ｓが形成された領域制限板２を通過することによって、
読取り領域を制限される。つぎに読取り領域よりも大き
い範囲に小さな孔Ｈが均等な間隔で２次元的に複数個形
成された光量低下板３に照射され、この光量低下板３を
通過することによって光量が制限される。概念的には第
１の実施の形態のアパーチャ板１（図３）の読取り領域
を制限する機能と光量を低下させる機能との２つの機能
を２枚の板に分割したものである。したがって得られる
効果は第１の実施の形態と同様である。
第２の実施の形態である光学的読取り領域制限モジュー
ル（アパーチャモジュール）の斜視図である。図５にお
いて領域制限板２と光量低下板３は光軸に沿って前後に
配置されている。照明された原稿からの光は、単一の孔
Ｓが形成された領域制限板２を通過することによって、
読取り領域を制限される。つぎに読取り領域よりも大き
い範囲に小さな孔Ｈが均等な間隔で２次元的に複数個形
成された光量低下板３に照射され、この光量低下板３を
通過することによって光量が制限される。概念的には第
１の実施の形態のアパーチャ板１（図３）の読取り領域
を制限する機能と光量を低下させる機能との２つの機能
を２枚の板に分割したものである。したがって得られる
効果は第１の実施の形態と同様である。
【００２０】したがって先述したように従来の図９のよ
うなアパーチャ板を使用して、受光素子に入射する最大
の光量が図１０のようになった場合、第１または第２の
実施の形態のようなアパーチャ板を使用することによっ
て、受光素子の出力が飽和しない領域（点線Ｐ以下の領
域）まで減光することが可能である。
うなアパーチャ板を使用して、受光素子に入射する最大
の光量が図１０のようになった場合、第１または第２の
実施の形態のようなアパーチャ板を使用することによっ
て、受光素子の出力が飽和しない領域（点線Ｐ以下の領
域）まで減光することが可能である。
【００２１】また、第１および第２の実施の形態のアパ
ーチャ板またはアパーチャモジュールを使用すれば、入
射する光量が大きい場合でも分光組成に変化が発生せ
ず、また経時変化も起こらない。
ーチャ板またはアパーチャモジュールを使用すれば、入
射する光量が大きい場合でも分光組成に変化が発生せ
ず、また経時変化も起こらない。
【００２２】＜変形例＞第１および第２の実施の形態に
おいて、複数の孔は均等な間隔で形成されていたが、図
６に示すようにこの間隔がランダムであっても良い。図
６のような孔のランダム配置は、孔の位置に周期性がな
いため、原稿が網点画像などであった場合にモアレを発
生しないという利点がある。
おいて、複数の孔は均等な間隔で形成されていたが、図
６に示すようにこの間隔がランダムであっても良い。図
６のような孔のランダム配置は、孔の位置に周期性がな
いため、原稿が網点画像などであった場合にモアレを発
生しないという利点がある。
【００２３】また第２の実施の形態において、図５に示
す領域制限板２と光量低下板３の位置を相互に入れ換え
ても良い。この場合は、先に光量を低減し、次に読取り
領域を制限することになる。
す領域制限板２と光量低下板３の位置を相互に入れ換え
ても良い。この場合は、先に光量を低減し、次に読取り
領域を制限することになる。
【００２４】なお、全体の構成の説明において円筒走査
型製版用スキャナを例示したが、この発明の適用は円筒
走査型に限らない。
型製版用スキャナを例示したが、この発明の適用は円筒
走査型に限らない。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし請
求項４のいずれかに記載の発明によれば、複数の小さな
孔の密度で通過する光量を制限しているため、入射する
光量が大きくても通過する光の分光組成と減光率は変化
しない。したがって原稿の画像情報を受光素子によって
正しく読取ることが可能となる。
求項４のいずれかに記載の発明によれば、複数の小さな
孔の密度で通過する光量を制限しているため、入射する
光量が大きくても通過する光の分光組成と減光率は変化
しない。したがって原稿の画像情報を受光素子によって
正しく読取ることが可能となる。
【００２６】また、従来のようにＮＤフィルターを貼付
ける必要がないため、組立の際の工数が削減でき、効率
が上がる。
ける必要がないため、組立の際の工数が削減でき、効率
が上がる。
【００２７】請求項２に記載の発明によれば、原稿の読
取り領域に対応する領域に２次元的に複数の孔が形成さ
れているため、正しい読取り解像度が実現できる。
取り領域に対応する領域に２次元的に複数の孔が形成さ
れているため、正しい読取り解像度が実現できる。
【００２８】請求項３に記載の発明によれば、原稿の読
取り領域に対応する領域に２次元的に複数の孔が形成さ
れているため、正しい読取り解像度が実現できるととも
に、原稿が網点画像である場合は、モアレを発生させず
に読取りを行うことができる。
取り領域に対応する領域に２次元的に複数の孔が形成さ
れているため、正しい読取り解像度が実現できるととも
に、原稿が網点画像である場合は、モアレを発生させず
に読取りを行うことができる。
【００２９】請求項５に記載の発明によれば、原稿から
の透過光または反射光が大きくても分光組成の変化を起
こさずに光量のみを低減することができる。したがって
読取り解像度が粗い場合でも、受光素子の出力を飽和さ
せることなく、原稿の画像情報を正確に読取ることが可
能である。
の透過光または反射光が大きくても分光組成の変化を起
こさずに光量のみを低減することができる。したがって
読取り解像度が粗い場合でも、受光素子の出力を飽和さ
せることなく、原稿の画像情報を正確に読取ることが可
能である。
【図１】この発明の適用される円筒走査型製版用スキャ
ナの全体概略図である。
ナの全体概略図である。
【図２】画像読取り装置の入力ヘッドの詳細を示す図で
ある。
ある。
【図３】この発明の第１の実施の形態である光学的読取
り領域制限板の斜視図である。
り領域制限板の斜視図である。
【図４】この発明の第１の実施の形態を適用した光学的
読取り領域制限板を示す図である。
読取り領域制限板を示す図である。
【図５】この発明の第２の実施の形態である光学的読取
り領域制限板の斜視図である。
り領域制限板の斜視図である。
【図６】孔がランダム配置された光学的読取り領域制限
板の平面図である。
板の平面図である。
【図７】従来の光学的読取り領域制限板の斜視図であ
る。
る。
【図８】光学的読取り領域制限板の機能を模式的に表し
た図である。
た図である。
【図９】従来の複数の孔を有する光学的読取り領域制限
板を示す図である。
板を示す図である。
【図１０】受光素子の出力特性を示す図である。
【図１１】従来のＮＤフィルターを貼付けた光学的読取
り領域制限板を示す図である。
り領域制限板を示す図である。
１０ 原稿シリンダー ２０ 原稿 ３０ 受光レンズ ４０ ミラー ５０ ハーフミラー ＡＰ１，ＡＰ２ 光学的読取り領域制限板 Ｈ 孔 ６０，６１，６２，６３ 受光素子 １００ 画像読取り装置 １５０ 入力ヘッド ２００ 画像記録装置 ３００ 画像処理装置 ４００ 制御装置 ５００ 操作入力装置
Claims (5)
- 【請求項１】 原稿からの光の一部を遮光して受光素子
に与えることにより、前記原稿の光学的読取りにおける
単位読取り領域を規定するための光学的読取り領域制限
板であって、 板面において前記単位読取り領域に対応する範囲に、複
数の孔が分布形成されたことを特徴とする光学的読取り
領域制限板。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光学的読取り領域制限
板において、 前記複数の孔は均等な間隔で２次元的に配置された孔で
あることを特徴とする光学的読取り領域制限板。 - 【請求項３】 請求項１に記載の光学的読取り領域制限
板において、 前記複数の孔はランダムな間隔で２次元的に配置された
孔であることを特徴とする光学的読取り領域制限板。 - 【請求項４】 原稿からの光の一部を遮光して受光素子
に与えることにより、前記原稿の光学的読取りにおける
単位読取り領域を規定するための光学的読取り領域制限
モジュールであって、 板面において前記単位読取り領域に対応する範囲に単一
の孔が形成された領域制限板と、 前記単位読取り領域よりも大きい範囲に、前記単位読取
り領域よりも小さい複数の孔が２次元的に分布形成され
た光量低下板と、 を備え、 前記領域制限板と前記光量低下板は、前記原稿からの光
の光軸に沿って前後に並んだ状態で配列されたことを特
徴とする光学的読取り領域制限モジュール。 - 【請求項５】 照明された原稿からの光を光電変換して
前記原稿の画像読取りを行い、読取られた画像信号を画
像処理装置に与える画像読取り装置であって、 原稿を照明するための照明光学系と、 前記原稿からの光を受光して光電変換する光電変換手段
と、 前記原稿と前記光電変換手段との間に、前記原稿の単位
読取り領域を規定する光学的読取り領域制限手段と、を
備え、 前記光学的読取り領域制限手段は、請求項１ないし請求
項３のいずれかに記載の光学的読取り領域制限板または
請求項４に記載の光学的読取り領域制限モジュールであ
ることを特徴とする画像読取り装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8074458A JPH09265049A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 光学的読取り領域制限板およびモジュールならびにこれらを適用した画像読取り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8074458A JPH09265049A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 光学的読取り領域制限板およびモジュールならびにこれらを適用した画像読取り装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09265049A true JPH09265049A (ja) | 1997-10-07 |
Family
ID=13547836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8074458A Pending JPH09265049A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 光学的読取り領域制限板およびモジュールならびにこれらを適用した画像読取り装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09265049A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1158330A2 (en) * | 2000-05-22 | 2001-11-28 | JDS Uniphase Inc. | Variable optical attenuator |
| WO2002084367A3 (fr) * | 2001-04-10 | 2002-12-19 | Vincent Lauer | Ensemble modifiable de trous microscopiques |
| FR2828942A1 (fr) * | 2001-04-10 | 2003-02-28 | Vincent Lauer | Ensemble modifiable de trous microscopiques |
| JP2004509370A (ja) * | 2000-09-18 | 2004-03-25 | ヴァンサン・ロウエ | 共焦点用光学走査装置 |
-
1996
- 1996-03-28 JP JP8074458A patent/JPH09265049A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1158330A2 (en) * | 2000-05-22 | 2001-11-28 | JDS Uniphase Inc. | Variable optical attenuator |
| EP1158330A3 (en) * | 2000-05-22 | 2003-11-05 | JDS Uniphase Inc. | Variable optical attenuator |
| JP2004509370A (ja) * | 2000-09-18 | 2004-03-25 | ヴァンサン・ロウエ | 共焦点用光学走査装置 |
| WO2002084367A3 (fr) * | 2001-04-10 | 2002-12-19 | Vincent Lauer | Ensemble modifiable de trous microscopiques |
| FR2828942A1 (fr) * | 2001-04-10 | 2003-02-28 | Vincent Lauer | Ensemble modifiable de trous microscopiques |
| EP1770426A1 (fr) * | 2001-04-10 | 2007-04-04 | Vincent Lauer | Ensemble modifiable de trous microscopiques |
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