JPH09265003A - ファラデー回転子用反射防止膜および光アイソレーター - Google Patents
ファラデー回転子用反射防止膜および光アイソレーターInfo
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- JPH09265003A JPH09265003A JP8076040A JP7604096A JPH09265003A JP H09265003 A JPH09265003 A JP H09265003A JP 8076040 A JP8076040 A JP 8076040A JP 7604096 A JP7604096 A JP 7604096A JP H09265003 A JPH09265003 A JP H09265003A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 反射率が非常に小さく、付着性、摩耗性もす
ぐれているファラデー回転子用反射防止膜および戻り光
が非常に小さく、アナログ伝送用のレーザー光源の発信
においてすぐれた安定性を示す光アイソレーターを提供
する。 【解決手段】 本発明のファラデー回転子用反射防止膜
はファラデー回転子上にAl2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、H
fO2、Y2O3のいずれか１種を蒸着して積層したのち、こ
の積層構造体上にSiO2を蒸着積層したものであることを
特徴とするものであり、この光アイソレーターはファラ
デー回転子に上記ファラデー回転子用反射防止膜を設け
てなるものを組み込んでなることを特徴とするものであ
る。
ぐれているファラデー回転子用反射防止膜および戻り光
が非常に小さく、アナログ伝送用のレーザー光源の発信
においてすぐれた安定性を示す光アイソレーターを提供
する。 【解決手段】 本発明のファラデー回転子用反射防止膜
はファラデー回転子上にAl2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、H
fO2、Y2O3のいずれか１種を蒸着して積層したのち、こ
の積層構造体上にSiO2を蒸着積層したものであることを
特徴とするものであり、この光アイソレーターはファラ
デー回転子に上記ファラデー回転子用反射防止膜を設け
てなるものを組み込んでなることを特徴とするものであ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はファラデー回転子用
反射防止膜、およびこのファラデー回転子用反射膜を設
けたファラデー回転子を組み込んでなる光アイソレータ
ーに関するものである。
反射防止膜、およびこのファラデー回転子用反射膜を設
けたファラデー回転子を組み込んでなる光アイソレータ
ーに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光アイソレーターに使用されるファラデ
ー回転子は非磁性単結晶基板（ＧＧＧ基板）と磁性ガー
ネット膜（ＬＰＥ膜）からなり、光源への戻り光を低減
させるための素子であることから、光学部品の反射光も
低減させることが必要である。そして、一般的にファラ
デー回転子に用いる反射防止膜としては、最も設計、製
作が簡単であるSiO2をλ／４（λは使用光源の波長）の
厚さに被着した単層反射防止膜が知られている。このSi
O2を用いた単層反射防止膜はファラデー回転子との付着
力が良好であり、かつ膜に付着した汚れを洗浄する工程
でも表面に傷がつきにくいという利点を有しているが、
最近は光アイソレーターからの光源への戻り光をさらに
低減化すること、すなわち、光アイソレーターを構成す
る光学部分からの反射光のさらなる低減化が求められて
おり、ファラデー回転子もその例外ではない。
ー回転子は非磁性単結晶基板（ＧＧＧ基板）と磁性ガー
ネット膜（ＬＰＥ膜）からなり、光源への戻り光を低減
させるための素子であることから、光学部品の反射光も
低減させることが必要である。そして、一般的にファラ
デー回転子に用いる反射防止膜としては、最も設計、製
作が簡単であるSiO2をλ／４（λは使用光源の波長）の
厚さに被着した単層反射防止膜が知られている。このSi
O2を用いた単層反射防止膜はファラデー回転子との付着
力が良好であり、かつ膜に付着した汚れを洗浄する工程
でも表面に傷がつきにくいという利点を有しているが、
最近は光アイソレーターからの光源への戻り光をさらに
低減化すること、すなわち、光アイソレーターを構成す
る光学部分からの反射光のさらなる低減化が求められて
おり、ファラデー回転子もその例外ではない。
【０００３】他方、単層反射防止膜を用いて反射率を０
とするには、光学理論から対空気の場合反射防止膜の屈
折率をｎ1 、それが被着される媒体の屈折率をｎS とす
ると、式ｎ1 ＝√ｎS の関係を満足させる必要がある
が、ファラデー回転子の屈折率が2.32であり、SiO2の屈
折率が1.44であるために、この式を満足できず、反射率
を０とすることはできない。
とするには、光学理論から対空気の場合反射防止膜の屈
折率をｎ1 、それが被着される媒体の屈折率をｎS とす
ると、式ｎ1 ＝√ｎS の関係を満足させる必要がある
が、ファラデー回転子の屈折率が2.32であり、SiO2の屈
折率が1.44であるために、この式を満足できず、反射率
を０とすることはできない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】使用光源の波長での反
射率を０％とするには、被着される媒体に２層以上の反
射防止膜を形成すればよいことが光学理論により導かれ
る（H・A・Mac-leod著、「光学薄膜」日刊工業新聞社参
照）。ファラデー回転子用反射防止膜として、ZrO2と M
gFによる２層膜（特開平1-253709号公報参照）、SiO2及
び Al2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3の中から選
ばれる１種とによる３層等価膜（特開平4-230701号公報
参照）が知られている。しかし、最表面がSiO2以外の場
合には膜に付着した汚れを洗浄する工程で表面に傷が着
きやすくなるという問題を有している。また、特開平4-
230701号公報に記載された３層等価膜で最表面がSiO2の
場合にはSiO2単層反射防止膜に比較して反射率を著しく
低減でき、膜に付着した汚れを洗浄する工程で表面に傷
がつきにくく非常に良い構成である。しかし、３層積層
構成であるため、製造時間が長いこと、蒸着材料を多く
使用するという問題を有している。さらに、被着される
媒体が光学ガラスの場合にはSiO2及び Al2O3、TiO2、Zr
O2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3では十分な付着力が得られる
が、ガーネット単結晶であるファラデー回転子では同様
な付着力が得られない。
射率を０％とするには、被着される媒体に２層以上の反
射防止膜を形成すればよいことが光学理論により導かれ
る（H・A・Mac-leod著、「光学薄膜」日刊工業新聞社参
照）。ファラデー回転子用反射防止膜として、ZrO2と M
gFによる２層膜（特開平1-253709号公報参照）、SiO2及
び Al2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3の中から選
ばれる１種とによる３層等価膜（特開平4-230701号公報
参照）が知られている。しかし、最表面がSiO2以外の場
合には膜に付着した汚れを洗浄する工程で表面に傷が着
きやすくなるという問題を有している。また、特開平4-
230701号公報に記載された３層等価膜で最表面がSiO2の
場合にはSiO2単層反射防止膜に比較して反射率を著しく
低減でき、膜に付着した汚れを洗浄する工程で表面に傷
がつきにくく非常に良い構成である。しかし、３層積層
構成であるため、製造時間が長いこと、蒸着材料を多く
使用するという問題を有している。さらに、被着される
媒体が光学ガラスの場合にはSiO2及び Al2O3、TiO2、Zr
O2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3では十分な付着力が得られる
が、ガーネット単結晶であるファラデー回転子では同様
な付着力が得られない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決したファラデー回転子用反射防止膜及
び光アイソレーターに関するもので、このファラデー回
転子用反射防止膜は、ガーネット単結晶からなるファラ
デー回転子上に Al2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2
O3のいずれか１種を蒸着して積層したのち、この積層構
造体上にSiO2を蒸着積層したものであることを特徴とす
るもの、及び光アイソレーターは、光アイソレーターに
上記ファラデー回転子用反射防止膜を設けたファラデー
回転子を組み込んでなることを特徴とするものを要旨と
する。
利、問題点を解決したファラデー回転子用反射防止膜及
び光アイソレーターに関するもので、このファラデー回
転子用反射防止膜は、ガーネット単結晶からなるファラ
デー回転子上に Al2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2
O3のいずれか１種を蒸着して積層したのち、この積層構
造体上にSiO2を蒸着積層したものであることを特徴とす
るもの、及び光アイソレーターは、光アイソレーターに
上記ファラデー回転子用反射防止膜を設けたファラデー
回転子を組み込んでなることを特徴とするものを要旨と
する。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明はファラデー回転子用反射
防止膜およびこれをファラデー回転子に設けた光アイソ
レーターに関するものである。ファラデー回転子は、非
磁性単結晶基板上にＬＰＥ法により成膜した磁性ガーネ
ット単結晶膜からなる公知のもので、例えばＧＧＧ基板
上にＬＰＥ法で形成されたＹＩＧなどの磁性膜からなる
ものが例示される。ファラデー回転子はまず酸素イオン
またはアルゴンイオンなどの公知の方法によってクリー
ニングされた後、反射防止膜が形成される。この反射防
止膜はまずAl2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3の
いずれか１種を蒸着して積層したのち、この積層膜上に
SiO2膜を蒸着するものである。
防止膜およびこれをファラデー回転子に設けた光アイソ
レーターに関するものである。ファラデー回転子は、非
磁性単結晶基板上にＬＰＥ法により成膜した磁性ガーネ
ット単結晶膜からなる公知のもので、例えばＧＧＧ基板
上にＬＰＥ法で形成されたＹＩＧなどの磁性膜からなる
ものが例示される。ファラデー回転子はまず酸素イオン
またはアルゴンイオンなどの公知の方法によってクリー
ニングされた後、反射防止膜が形成される。この反射防
止膜はまずAl2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3の
いずれか１種を蒸着して積層したのち、この積層膜上に
SiO2膜を蒸着するものである。
【０００７】図１は金属酸化物を積層するための装置の
縦断面図を示したものであり、金属酸化物の積層は図１
の真空蒸着装置で行えばよい。上記の方法でクリーニン
グされたファラデー回転子１をチャンバー２内に配置
し、ファラデー回転子１を 300℃に加熱しながら、チャ
ンバー２内を１×10-5Torr以上の圧力に排気する。つい
で、イオン銃３からイオンエネルギー 750eV、イオン電
流密度10μA/cm2 となるように酸素イオンを30秒照射
し、その後チャンバー２の圧力が１×10-4Torrとなるよ
うに酸素ガスを導入してから、ルツボ４に充填した粒状
のAl2O3 ５を電子銃６により蒸着させ、光学膜厚計７で
観察しながらAl2O3膜を適宜の光学膜厚（屈折率×膜厚
の積、以下同じ）になるように蒸着させる。つぎに、酸
素ガスの導入を停止し、ルツボ８に充填した粒状のSiO2
９を電子銃10で蒸発させ、光学膜厚計７で観察しながら
SiO2膜を適宜な光学膜厚になるように蒸着させれば Al2
O3とSiO2とからなる反射防止膜が形成される。
縦断面図を示したものであり、金属酸化物の積層は図１
の真空蒸着装置で行えばよい。上記の方法でクリーニン
グされたファラデー回転子１をチャンバー２内に配置
し、ファラデー回転子１を 300℃に加熱しながら、チャ
ンバー２内を１×10-5Torr以上の圧力に排気する。つい
で、イオン銃３からイオンエネルギー 750eV、イオン電
流密度10μA/cm2 となるように酸素イオンを30秒照射
し、その後チャンバー２の圧力が１×10-4Torrとなるよ
うに酸素ガスを導入してから、ルツボ４に充填した粒状
のAl2O3 ５を電子銃６により蒸着させ、光学膜厚計７で
観察しながらAl2O3膜を適宜の光学膜厚（屈折率×膜厚
の積、以下同じ）になるように蒸着させる。つぎに、酸
素ガスの導入を停止し、ルツボ８に充填した粒状のSiO2
９を電子銃10で蒸発させ、光学膜厚計７で観察しながら
SiO2膜を適宜な光学膜厚になるように蒸着させれば Al2
O3とSiO2とからなる反射防止膜が形成される。
【０００８】なお、上記の例では Al2O3とSiO2とからな
る積層構造体の形成を示したが、金属酸化物はAl2O3 の
代わりに、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3の１種を適
宜選択して用いても同様に形成が可能である。本発明の
ファラデー回転子用反射防止膜はこの金属酸化物積層構
造体の上にさらに同じ方法で適宜の厚さに蒸着SiO2膜を
形成させたものである。
る積層構造体の形成を示したが、金属酸化物はAl2O3 の
代わりに、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3の１種を適
宜選択して用いても同様に形成が可能である。本発明の
ファラデー回転子用反射防止膜はこの金属酸化物積層構
造体の上にさらに同じ方法で適宜の厚さに蒸着SiO2膜を
形成させたものである。
【０００９】このようにして製造された本発明の反射防
止膜は２層積層構造で反射率を０％にすることが光学理
論から導かれ、SiO2が最上層であることから膜に付着し
た汚れを洗浄する工程で表面に傷がつきにくく、酸素イ
オン又はアルゴンイオンでクリーニングを蒸着前のファ
ラデー回転子に行うため、付着力が十分大きいので剥が
れにくい。さらに、２層積層構造であるため製造時間が
短縮でき、蒸着材料を節約できるため、安価な提供が可
能である。
止膜は２層積層構造で反射率を０％にすることが光学理
論から導かれ、SiO2が最上層であることから膜に付着し
た汚れを洗浄する工程で表面に傷がつきにくく、酸素イ
オン又はアルゴンイオンでクリーニングを蒸着前のファ
ラデー回転子に行うため、付着力が十分大きいので剥が
れにくい。さらに、２層積層構造であるため製造時間が
短縮でき、蒸着材料を節約できるため、安価な提供が可
能である。
【００１０】また、本発明はこのファラデー回転子用反
射防止膜を設けたファラデー回転子を組み込んだ光アイ
ソレーターに関するものである。光アイソレーターは公
知のものでよく、例えば永久磁石円筒内に偏光子・ファ
ラデー回転子・検光子をこの順序に組み込んだ構造のも
のが例示される。ファラデー回転子の表面に上記のファ
ラデー回転子用反射防止膜を設けたものを組込んだ光ア
イソレーターは、光源への戻り光を非常に小さくするこ
とができることが判明した。
射防止膜を設けたファラデー回転子を組み込んだ光アイ
ソレーターに関するものである。光アイソレーターは公
知のものでよく、例えば永久磁石円筒内に偏光子・ファ
ラデー回転子・検光子をこの順序に組み込んだ構造のも
のが例示される。ファラデー回転子の表面に上記のファ
ラデー回転子用反射防止膜を設けたものを組込んだ光ア
イソレーターは、光源への戻り光を非常に小さくするこ
とができることが判明した。
【００１１】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげるが、
例中における物性値はつぎの測定法による測定値を示し
たものである。 〈光学特性〉光源波長1.31μｍのレーザー光を、図５に
示したようにファラデー回転子１上に形成した反射防止
膜に入射角度３°で入射したときの反射率を測定した。 〈付着力〉反射防止膜にセロテープNo.405［ニチバン
（株）製］18mm幅を貼り付けた後、テープの一端を手に
持って素早く剥がした。 〈磨耗性〉反射防止膜を消しゴムで10回こすった。
例中における物性値はつぎの測定法による測定値を示し
たものである。 〈光学特性〉光源波長1.31μｍのレーザー光を、図５に
示したようにファラデー回転子１上に形成した反射防止
膜に入射角度３°で入射したときの反射率を測定した。 〈付着力〉反射防止膜にセロテープNo.405［ニチバン
（株）製］18mm幅を貼り付けた後、テープの一端を手に
持って素早く剥がした。 〈磨耗性〉反射防止膜を消しゴムで10回こすった。
【００１２】実施例１ 図１に示した蒸着積層装置を使用し、酸素イオンでクリ
ーニングされた清浄なＧＧＧ基板の両面にＬＰＥ法で形
成されたＹＩＧガーネット単結晶からなる外径25mm、厚
さ 0.4mmのファラデー回転子１をチャンバー２内に配置
し、これを 300℃に加熱してチャンバー２内を１×10-5
Torrの圧力に排気してから、イオン銃３からイオンエネ
ルギー 750eV、イオン電流密度10μA/cm2 となるように
酸素イオンを30秒間照射した。ついでチャンバー２に酸
素ガスを導入して圧力を１×10-4Torrとしたのち、ルツ
ボ４に充填したAl2O3 ５を電子銃６で蒸着速度 0.6nm／
秒で蒸発させ、光学膜厚計７で観測しながら Al2O3膜を
光学膜厚が 185nmになるまで蒸着した。
ーニングされた清浄なＧＧＧ基板の両面にＬＰＥ法で形
成されたＹＩＧガーネット単結晶からなる外径25mm、厚
さ 0.4mmのファラデー回転子１をチャンバー２内に配置
し、これを 300℃に加熱してチャンバー２内を１×10-5
Torrの圧力に排気してから、イオン銃３からイオンエネ
ルギー 750eV、イオン電流密度10μA/cm2 となるように
酸素イオンを30秒間照射した。ついでチャンバー２に酸
素ガスを導入して圧力を１×10-4Torrとしたのち、ルツ
ボ４に充填したAl2O3 ５を電子銃６で蒸着速度 0.6nm／
秒で蒸発させ、光学膜厚計７で観測しながら Al2O3膜を
光学膜厚が 185nmになるまで蒸着した。
【００１３】つぎに、酸素ガスの導入を停止し、ルツボ
８に充填したSiO2９を電子銃10で蒸着速度 0.5nm／秒で
蒸発させ、光学膜厚計７で観察しながらSiO2膜を光学膜
厚が172nmになるまで蒸着して２層構造の反射防止膜を
形成させたところ、図２に示したようにファラデー回転
子１の上に Al2O3からなる反射防止膜11、SiO2からなる
反射防止膜12からなるファラデー回転子用反射防止膜13
が得られたので、この物性をしらべたところ、表１に示
したとおりの結果が得られ、比較例１〜３で得られたも
のに比べて、反射率、付着性、磨耗性のすぐれたもので
あった。またこの反射防止膜を処理したファラデー回転
子を偏光子と検光子に挿んで永久磁石円筒に組込んだ光
アイソレーターを作製し、この光アイソレーターに波長
1.31μｍの光を入射して透過損失を測定したところ0.19
dBであった。
８に充填したSiO2９を電子銃10で蒸着速度 0.5nm／秒で
蒸発させ、光学膜厚計７で観察しながらSiO2膜を光学膜
厚が172nmになるまで蒸着して２層構造の反射防止膜を
形成させたところ、図２に示したようにファラデー回転
子１の上に Al2O3からなる反射防止膜11、SiO2からなる
反射防止膜12からなるファラデー回転子用反射防止膜13
が得られたので、この物性をしらべたところ、表１に示
したとおりの結果が得られ、比較例１〜３で得られたも
のに比べて、反射率、付着性、磨耗性のすぐれたもので
あった。またこの反射防止膜を処理したファラデー回転
子を偏光子と検光子に挿んで永久磁石円筒に組込んだ光
アイソレーターを作製し、この光アイソレーターに波長
1.31μｍの光を入射して透過損失を測定したところ0.19
dBであった。
【００１４】比較例１ ガーネット単結晶からなるファラデー回転子１について
酸素イオンクリーニングを行なわず、実施例１と同じ方
法で Al2O3とSiO2とからなる２層構造の反射防止層を形
成し、このものの物性をしらべたところ、表１に示した
ような結果が得られ、これは反射率、磨耗性は実施例１
のものと同じであったが、付着性が悪く、使用中に膜が
剥離した。
酸素イオンクリーニングを行なわず、実施例１と同じ方
法で Al2O3とSiO2とからなる２層構造の反射防止層を形
成し、このものの物性をしらべたところ、表１に示した
ような結果が得られ、これは反射率、磨耗性は実施例１
のものと同じであったが、付着性が悪く、使用中に膜が
剥離した。
【００１５】比較例２ 図１に示した真空蒸着装置を使用し、実施例１と同じ方
法でファラデー回転子用反射防止膜を製造したが、この
場合の反射防止膜の形成はSiO2を電子銃10で蒸着速度
0.5nm／秒で蒸発させ、光学膜厚計７で観察しながらSiO
2膜を光学膜厚が328nmとなるまで蒸着するだけとしたと
ころ、これは図３に示したようにファラデー回転子１の
上にSiO2からなる反射防止層31だけが積層された単層反
射防止膜32となったので、この物性をしらべたところ、
表１に示したような結果が得られ、これは付着性、磨耗
性には異常はなかったが、反射率は実施例１、２のもの
に比べて著しく劣化していた。ついでこのファラデー回
転子を、実施例１と同様に光アイソレーターを作製し実
施例１と同様に透過損失を測定したところ0.23dBであっ
た。
法でファラデー回転子用反射防止膜を製造したが、この
場合の反射防止膜の形成はSiO2を電子銃10で蒸着速度
0.5nm／秒で蒸発させ、光学膜厚計７で観察しながらSiO
2膜を光学膜厚が328nmとなるまで蒸着するだけとしたと
ころ、これは図３に示したようにファラデー回転子１の
上にSiO2からなる反射防止層31だけが積層された単層反
射防止膜32となったので、この物性をしらべたところ、
表１に示したような結果が得られ、これは付着性、磨耗
性には異常はなかったが、反射率は実施例１、２のもの
に比べて著しく劣化していた。ついでこのファラデー回
転子を、実施例１と同様に光アイソレーターを作製し実
施例１と同様に透過損失を測定したところ0.23dBであっ
た。
【００１６】比較例３ 図１に示した真空蒸着装置を使用し、ファラデー回転子
用反射防止膜を製造したが、この場合の反射防止膜の形
成はまずSiO2を電子銃10で蒸着速度 0.5nm／秒で蒸発さ
せ、光学膜厚計７で観察しながら、SiO2膜を光学膜厚 1
23nmとなるまで蒸着させ、ついでチャンバー内の圧力を
１×10-4Torrになるように酸素ガスを導入してから Al2
O3を電子銃６で蒸着速度 0.6mm／秒で蒸発させ、光学膜
厚計で観察しながら、 Al2O3膜を光学膜厚が 179nmにな
るまで蒸着した。
用反射防止膜を製造したが、この場合の反射防止膜の形
成はまずSiO2を電子銃10で蒸着速度 0.5nm／秒で蒸発さ
せ、光学膜厚計７で観察しながら、SiO2膜を光学膜厚 1
23nmとなるまで蒸着させ、ついでチャンバー内の圧力を
１×10-4Torrになるように酸素ガスを導入してから Al2
O3を電子銃６で蒸着速度 0.6mm／秒で蒸発させ、光学膜
厚計で観察しながら、 Al2O3膜を光学膜厚が 179nmにな
るまで蒸着した。
【００１７】このようにして得られたファラデー回転子
用反射防止層43は図４に示したように、ファラデー回転
子１の上にSiO2からなる反射防止層41と Al2O3からなる
反射防止層42が積層されたものであるが、この物性をし
らべたところ、表１に示したとおりの結果が得られ、こ
れは付着性に異常はなかったが実施例１、２のものに比
べて反射率が低下し、磨耗性については傷が多数発生し
ていた。ついでこのファラデー回転子を、実施例１と同
様に光アイソレーターを作製し実施例１と同様に透過損
失を測定したところ0.43dBであった。
用反射防止層43は図４に示したように、ファラデー回転
子１の上にSiO2からなる反射防止層41と Al2O3からなる
反射防止層42が積層されたものであるが、この物性をし
らべたところ、表１に示したとおりの結果が得られ、こ
れは付着性に異常はなかったが実施例１、２のものに比
べて反射率が低下し、磨耗性については傷が多数発生し
ていた。ついでこのファラデー回転子を、実施例１と同
様に光アイソレーターを作製し実施例１と同様に透過損
失を測定したところ0.43dBであった。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【発明の効果】本発明はファラデー回転子用防止膜およ
び光アイソレーターに関するものであるが、本発明のフ
ァラデー回転子用反射防止膜は反射率を非常に小さくす
ることができ、付着性、磨耗性もすぐれており、この反
射防止膜を施したファラデー回転子を組込んだ光アイソ
レーターは戻り光が非常に小さく、アナログ伝送用など
のレーザー光源の発信においてすぐれた安定化を図るこ
とができる。
び光アイソレーターに関するものであるが、本発明のフ
ァラデー回転子用反射防止膜は反射率を非常に小さくす
ることができ、付着性、磨耗性もすぐれており、この反
射防止膜を施したファラデー回転子を組込んだ光アイソ
レーターは戻り光が非常に小さく、アナログ伝送用など
のレーザー光源の発信においてすぐれた安定化を図るこ
とができる。
【図１】本発明のファラデー回転子用反射防止膜製造装
置の縦断面要図を示したものである。
置の縦断面要図を示したものである。
【図２】本発明の実施例１で得られたファラデー回転子
用反射防止膜の縦断面構成図を示したものである。
用反射防止膜の縦断面構成図を示したものである。
【図３】比較例２で得られたファラデー回転子用反射防
止膜の縦断面構成図を示したものである。
止膜の縦断面構成図を示したものである。
【図４】比較例３で得られたファラデー回転子用反射防
止膜の縦断面構成図を示したものである。
止膜の縦断面構成図を示したものである。
【図５】実施例、比較例で得られたファラデー回転子用
反射防止膜の反射率測定法の縦断面要図を示したもので
ある。
反射防止膜の反射率測定法の縦断面要図を示したもので
ある。
１…ファラデー回転子 ２…チャンバー ３…イオン銃 ４，８…ルツボ ５…Al2O3 ６，10…電子銃 ７…光学膜厚計 ９…SiO2 11，42…Al2O3 反射防止膜 12，31,41 …SiO2反射防止膜 13，32，43…ファラデー回転子用反射防止膜
フロントページの続き (72)発明者 流王 俊彦 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ガーネット単結晶からなるファラデー回
転子上にAl2O3 、TiO2、ZrO2、Ta2O5 、HfO2、Y2O3のい
ずれか１種を蒸着して積層したのち、この積層構造体上
にSiO2を蒸着積層したものであることを特徴とするファ
ラデー回転子用反射防止膜。 - 【請求項２】 蒸着前のファラデー回転子に酸素イオン
またはアルゴンイオンでクリーニングを行ったものであ
る請求項１に記載したファラデー回転子用反射防止膜。 - 【請求項３】 光アイソレーターに請求項１又は請求項
２に記載したファラデー回転子用反射防止膜を設けたフ
ァラデー回転子を組み込んでなることを特徴とする光ア
イソレーター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8076040A JPH09265003A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ファラデー回転子用反射防止膜および光アイソレーター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8076040A JPH09265003A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ファラデー回転子用反射防止膜および光アイソレーター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09265003A true JPH09265003A (ja) | 1997-10-07 |
Family
ID=13593700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8076040A Pending JPH09265003A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ファラデー回転子用反射防止膜および光アイソレーター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09265003A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62123401A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 遠紫外用光学薄膜 |
| JPH01253709A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Namiki Precision Jewel Co Ltd | 光アイソレータ用ファラデー回転子の反射防止膜 |
| JPH0256811A (ja) * | 1988-08-22 | 1990-02-26 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フイルム |
| JPH04230701A (ja) * | 1989-11-24 | 1992-08-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ファラデー回転子の反射防止膜 |
| JPH07172868A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-07-11 | Toshiba Glass Co Ltd | イメージセンサ用窓ガラス |
-
1996
- 1996-03-29 JP JP8076040A patent/JPH09265003A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62123401A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 遠紫外用光学薄膜 |
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| JPH0256811A (ja) * | 1988-08-22 | 1990-02-26 | Nitto Denko Corp | 透明導電性フイルム |
| JPH04230701A (ja) * | 1989-11-24 | 1992-08-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ファラデー回転子の反射防止膜 |
| JPH07172868A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-07-11 | Toshiba Glass Co Ltd | イメージセンサ用窓ガラス |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041006 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060118 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060531 |