JPH09264000A - 酸性ハロゲン電気錫めっき設備 - Google Patents

酸性ハロゲン電気錫めっき設備

Info

Publication number
JPH09264000A
JPH09264000A JP7417196A JP7417196A JPH09264000A JP H09264000 A JPH09264000 A JP H09264000A JP 7417196 A JP7417196 A JP 7417196A JP 7417196 A JP7417196 A JP 7417196A JP H09264000 A JPH09264000 A JP H09264000A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating solution
plating
acidic halogen
tin plating
oxygen concentration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7417196A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihide Yamamoto
嘉秀 山本
Katsuto Kawamura
勝人 河村
Hisao Yasunaga
久雄 安永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
Priority to JP7417196A priority Critical patent/JPH09264000A/ja
Publication of JPH09264000A publication Critical patent/JPH09264000A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 添加剤が不要で、スラッジの生成を効果的に
抑制可能な酸性ハロゲン電気錫めっき設備の提供。 【解決手段】 酸性ハロゲン電気錫めっき設備におい
て、めっき液循環系統、好ましくはめっき液循環槽に減
圧装置を設けた酸性ハロゲン電気錫めっき設備、およ
び、めっき液循環槽を有する酸性ハロゲン電気錫めっき
設備において、前記循環槽内の液面上部の空間部の減圧
用装置と、前記循環槽内のめっき液の溶存酸素濃度測定
装置と、該測定装置で測定されためっき液中の酸素濃度
により、前記減圧用装置駆動モータへの投入電力を制御
する制御装置とを有する酸性ハロゲン電気錫めっき設
備。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、めっき液の循環装
置を有する酸性ハロゲン電気錫めっき設備に関し、特に
スラッジの生成の抑制が可能な酸性ハロゲン電気錫めっ
き設備に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、酸性ハロゲン電気錫めっき設備
では、めっき浴の浴組成や浴温を維持するために、電気
めっき槽と該電気めっき槽とは別個に設けためっき液循
環槽の間でめっき液の循環を行っている。一方、電気錫
めっきの場合、めっき液中の2価の錫が酸化されてスラ
ッジが生成し、めっき鋼板製造時の錫原単位の面および
上記循環系統における閉塞の防止の面から、スラッジの
生成の抑制が必要となっている。
【0003】電気めっき槽、めっき液循環槽および配管
系統におけるスラッジの抑制方法としては、めっき浴に
アスコルビン酸、アスコルビン酸の塩、アスコルビン酸
の誘導体を添加する方法(特開昭62−20893 号公報)、
メタアミノアセトアニリドを添加する方法(特開昭61−
276989号公報)、およびフェノールスルフォン酸あるい
はその塩を添加する方法(特開平3−36288 号公報)が
知られている。
【0004】また、めっき液に不活性ガスを吹き込んで
溶存酸素濃度を低減する方法(特開平4−314883号公
報)もある。しかし、めっき液に新たに添加剤を投入す
る方法の場合、浴の管理項目が増え、浴管理を困難に
し、さらに添加剤費用の面から経済性に問題があった。
また、めっき液に不活性ガスを吹き込む方法の場合、酸
欠防止のための安全上十分な気密性を確保するのが困難
であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題点
を解決し、スラッジの生成を効果的に抑制可能な酸性ハ
ロゲン電気錫めっき設備を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、酸性ハロ
ゲン電気錫めっき設備において、めっき液循環系統に減
圧装置を設けたことを特徴とする酸性ハロゲン電気錫め
っき設備である。前記第1の発明においては、めっき液
循環系統のめっき液循環槽に減圧装置を設けることが好
ましい。
【0007】第2の発明は、めっき液循環槽を有する酸
性ハロゲン電気錫めっき設備において、前記循環槽内の
液面上部の空間部の減圧装置と、前記循環槽内のめっき
液の溶存酸素濃度測定装置と、該測定装置で測定された
めっき液中の酸素濃度により、前記減圧装置駆動モータ
への投入電力を制御する制御装置とを有することを特徴
とする酸性ハロゲン電気錫めっき設備である。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明の電気錫めっき設備は、酸性ハロゲンめっ
き液による、鋼帯など金属帯の連続電気錫めっきに好ま
しく適用される。本発明は、前記従来技術の問題点を解
決するために、錫めっき液の循環系統に減圧装置を設
け、めっき液の循環中に空気の吸引などによりめっき液
中に発生した気泡の除去を行い、めっき液中の溶存酸素
濃度の上昇を抑えることにより、前記問題を解決したも
のである。
【0009】本発明においては、めっき液の循環系統に
おけるめっき液循環槽に、該槽内液面上部空間部を減圧
する減圧装置を設けることが好ましい。これは、この場
合、めっき液を一括処理可能で、めっき液中の溶存酸素
濃度の制御が容易となるためであり、例えば、めっき液
循環槽の開口部を密閉し、該循環槽の槽内液面上部の槽
壁に吸引口を設け、減圧用ポンプなど減圧装置により該
循環槽内を減圧し、めっき液の脱泡を行う。
【0010】この結果、めっき液中の溶存酸素濃度の上
昇が防止され、スラッジの生成が極めて効果的に抑制可
能となった。さらに本発明においては、めっき液循環槽
内の液面上部の空間部を所定の減圧度に減圧した時点で
減圧用ポンプなど減圧装置の駆動を停止し、前記空間部
の圧力を計測し、減圧度が所定の値まで低下した時点、
すなわち前記空間部の圧力が所定の値まで上昇した時点
において、再度前記減圧装置を駆動することにより、減
圧装置の駆動に要する電力使用量を低減できる。
【0011】また、本発明においては、めっき液循環槽
内の液面上部の空間部の圧力の計測値に基づき、前記減
圧装置駆動モータへの投入電力を制御することにより、
電力使用量を低減することが好ましい。さらに、より好
ましくは、めっき液循環槽内のめっき液の溶存酸素濃度
測定装置を設け、該測定装置で測定されためっき液中の
酸素濃度により、前記減圧装置の駆動モータへの投入電
力を制御することが好ましい。
【0012】本発明は、めっき液循環槽などめっき液循
環系統に減圧装置を配し、めっき液中の気泡を抜いて溶
存酸素濃度の上昇を抑制するようにした。この結果、め
っき液中のスラッジの生成を効果的に抑制することが可
能となった。また、本発明によれば、従来技術における
薬剤の添加、高価な不活性ガスのめっき液中への吹き込
みが不要で、また消費電力も基本的に脱気に必要な電力
のみであり、省エネルギーが達成可能である。
【0013】さらに、本発明によれば、例えば後記の実
施例に示すようにめっき液循環槽において、めっき液を
攪拌条件下で脱気することにより、めっき液循環槽に送
液されるめっき液中の溶存酸素濃度が急速に増加した場
合でも、迅速に脱気し、溶存酸素濃度を低下させること
が可能である。
【0014】
【実施例】以下本発明を実施例に基づいて具体的に説明
する。図1に、本発明の酸性ハロゲン電気錫めっき設備
の1実施例を示す。図1において、1はめっき液循環
槽、2はめっき液、3はめっき液循環槽内の液面上部の
空間部、4は液面、5は前記空間部3の減圧用ポンプ、
6はめっき液2の溶存酸素濃度測定装置、7は制御装
置、8a、8b、8cは電気めっき槽、9、10a 、10b 、10c
はめっき液循環ポンプ、11は攪拌装置、12は液面レベル
計、13は配管、Eは排気、Fはめっき液の送液方向を示
す。
【0015】図1において、減圧用ポンプ5駆動モータ
への投入電力は、溶存酸素濃度測定装置6で測定された
酸素濃度に応じて制御装置7により制御される。本制御
方式の場合、本発明が減圧による脱気方式であることと
相まって、めっき液中の溶存酸素濃度が急激に増大した
場合でも迅速に対処可能で、スラッジの生成を防止でき
る。
【0016】なお、本制御方式の場合、めっき液循環槽
1内の液面レベルが、空間部3の減圧度の影響を受ける
場合があるが、液面レベル計12の計測結果を、めっき液
循環ポンプ9、10a 〜10c にフィードバックすることに
より液面レベルを一定に制御することが可能である。次
に、図1の応用例を図2に示す。
【0017】図2において、20は前記空間部3の圧力測
定用の圧力計、21は制御装置、22は攪拌装置11支持用の
架台を示し、他の符号は図1と同じ内容を示す。図2に
おいては、圧力計20による圧力の測定値に基づき、めっ
き液循環槽1の空間部3が所定の範囲内の減圧度となる
よう、減圧用ポンプ5駆動モータへの投入電力が、制御
装置21により制御される。
【0018】本制御方式の場合は、空間部3の減圧度が
所定の範囲内に維持されるため、基本的にめっき液循環
槽1内の液面レベルは変動しないという利点を有してい
る。図1および図2において、電気めっき槽8a〜8cのめ
っき液は、めっき液循環ポンプ10a 〜10c によりめっき
液循環槽1に送液され、空間部3が減圧されためっき液
循環槽1において攪拌条件下で脱気され、溶存酸素濃度
が低下しためっき液は、めっき液循環ポンプ9により電
気めっき槽8a〜8cに循環供給される。
【0019】なお、本発明においては、減圧用の装置、
例えば前記した減圧用ポンプ5の配管のめっき液循環槽
1への継ぎ込み箇所とめっき液の液面4との高さ方向の
距離を充分確保しなくてはならない。これは、減圧用の
装置が、酸性のめっき液またはめっき液のミストを吸引
することを極力避けるためである。
【0020】また、図1、図2においては、図3に示す
ように、めっき液循環槽1の上部の蓋30は、空間部3の
気密性を高めるためにパッキン31でシールされている。 (実施例1)図1に示す電気錫めっき設備において、塩
化第1錫を主剤とする酸性ハロゲンめっき液を用い、鋼
帯の連続電気錫めっきを行った。
【0021】この場合、図1に示すように、減圧用ポン
プ5駆動モータへの投入電力は、溶存酸素濃度測定装置
6で測定された酸素濃度に応じて制御装置7により制御
した。また、経時的にめっき液の試料を採取し、含有す
るスラッジを濾過、秤量して、めっき液単位重量当たり
のスラッジ生成速度(g/hr ・kg) を求めた。
【0022】この結果、本発明を実施しない従来法に対
して、スラッジ生成速度が、30%低減可能となった。 (実施例2)実施例1において、めっき液循環槽1の減
圧用ポンプ5駆動モータへの投入電力の制御を、図2に
示す圧力計20による圧力の測定値に基づく制御に代えた
以外は、実施例1と同様に鋼帯の連続電気錫めっきを行
った。
【0023】この結果、本発明を実施しない従来法に対
して、スラッジ生成速度が、20%低減可能となった。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、スラッジの生成を効果
的に抑制することが可能となった。また、薬剤の添加が
不要となり、めっき液の管理が容易となり、さらには薬
剤費を削減できるという効果も有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる酸性ハロゲン電気錫めっき設備
の1実施例を示す説明図である。
【図2】本発明に係わるめっき液循環槽の1実施例を示
す斜視図である。
【図3】本発明に係わるめっき液循環槽の天井部を示す
斜視図である。
【符号の説明】
1 めっき液循環槽 2 めっき液 3 空間部 4 液面 5 減圧用ポンプ 6 溶存酸素濃度測定装置 7、21 制御装置 8a、8b、8c 電気めっき槽 9、10a 、10b 、10c めっき液循環ポンプ 11 攪拌装置 12 液面レベル計 13 配管 20 圧力計 E 排気 F めっき液の送液方向

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酸性ハロゲン電気錫めっき設備におい
    て、めっき液循環系統に減圧装置を設けたことを特徴と
    する酸性ハロゲン電気錫めっき設備。
  2. 【請求項2】 めっき液循環槽を有する酸性ハロゲン電
    気錫めっき設備において、前記循環槽内の液面上部の空
    間部の減圧装置と、前記循環槽内のめっき液の溶存酸素
    濃度測定装置と、該測定装置で測定されためっき液中の
    酸素濃度により、前記減圧装置の駆動モータへの投入電
    力を制御する制御装置とを有することを特徴とする酸性
    ハロゲン電気錫めっき設備。
JP7417196A 1996-03-28 1996-03-28 酸性ハロゲン電気錫めっき設備 Pending JPH09264000A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7417196A JPH09264000A (ja) 1996-03-28 1996-03-28 酸性ハロゲン電気錫めっき設備

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7417196A JPH09264000A (ja) 1996-03-28 1996-03-28 酸性ハロゲン電気錫めっき設備

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09264000A true JPH09264000A (ja) 1997-10-07

Family

ID=13539453

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7417196A Pending JPH09264000A (ja) 1996-03-28 1996-03-28 酸性ハロゲン電気錫めっき設備

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09264000A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1229154A4 (en) * 2000-03-17 2006-12-13 Ebara Corp METHOD AND DEVICE FOR ELECTROPLATING
JP2007262583A (ja) * 1998-11-09 2007-10-11 Ebara Corp めっき方法及び装置
JP2009149979A (ja) * 2007-11-30 2009-07-09 Mitsubishi Materials Corp Sn合金めっき液へのSn成分補給方法及びSn合金めっき処理装置
WO2022221498A1 (en) * 2021-04-15 2022-10-20 Lam Research Corporation Control of dissolved gas concentration in electroplating baths
JP7162785B1 (ja) * 2022-06-20 2022-10-28 株式会社荏原製作所 アノード室の液管理方法、及びめっき装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007262583A (ja) * 1998-11-09 2007-10-11 Ebara Corp めっき方法及び装置
EP1229154A4 (en) * 2000-03-17 2006-12-13 Ebara Corp METHOD AND DEVICE FOR ELECTROPLATING
KR100804714B1 (ko) * 2000-03-17 2008-02-18 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 도금장치 및 방법
JP2009149979A (ja) * 2007-11-30 2009-07-09 Mitsubishi Materials Corp Sn合金めっき液へのSn成分補給方法及びSn合金めっき処理装置
WO2022221498A1 (en) * 2021-04-15 2022-10-20 Lam Research Corporation Control of dissolved gas concentration in electroplating baths
JP7162785B1 (ja) * 2022-06-20 2022-10-28 株式会社荏原製作所 アノード室の液管理方法、及びめっき装置
WO2023248286A1 (ja) * 2022-06-20 2023-12-28 株式会社荏原製作所 アノード室の液管理方法、及びめっき装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7988842B2 (en) Continuous copper electroplating method
JPH09264000A (ja) 酸性ハロゲン電気錫めっき設備
JP3830386B2 (ja) 陽極酸化法およびその処理装置
JP4712431B2 (ja) マスクレスめっき装置
JP2801670B2 (ja) 不溶性陽極を用いた銅めっき浴の組成制御方法
US5336336A (en) Process for chemical treatment with phosphate
EP1081240B1 (en) Stirrer equipment for the continuous treatment of liquid metals
CN209397282U (zh) 一种铝型材阳极氧化装置
JP4884676B2 (ja) 電気錫メッキ方法
CN211339699U (zh) 一种金属工件表面处理装置
JP2005211768A (ja) 廃液処理装置及び廃液の処理方法
JPH09165698A (ja) 鉄系めっき液中の第二鉄イオンの電解還元方法
US6884332B2 (en) Method and apparatus for treating an aqueous electroplating bath solution
JP4718879B2 (ja) 電気錫メッキ方法
JP2009293060A (ja) エッチング液管理装置
JP2005206928A (ja) チタン又はチタン合金の電解研磨方法とその装置
CN220619183U (zh) 一种直流电解腐蚀装置及自动电解腐蚀系统
JP2785626B2 (ja) 金属イオン供給方法
JP2684492B2 (ja) エッチング処理装置
JPS6239240B2 (ja)
JPH06128791A (ja) 表面被覆処理方法及び表面被覆処理装置
JPH05302199A (ja) 不溶性陽極を用いた銅めっき法における銅めっき浴の組成制御方法
JPS5931709Y2 (ja) アルミニウムの陽極酸化処理槽
JP2005226139A (ja) 表面平滑化銅箔及びその製造方法
KR20030041039A (ko) 전기도금공정에 적합한 철이온 유지장치 및 방법