JPH09260759A - 波長変換レーザー - Google Patents

波長変換レーザー

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JPH09260759A
JPH09260759A JP6784096A JP6784096A JPH09260759A JP H09260759 A JPH09260759 A JP H09260759A JP 6784096 A JP6784096 A JP 6784096A JP 6784096 A JP6784096 A JP 6784096A JP H09260759 A JPH09260759 A JP H09260759A
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JP
Japan
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laser
laser medium
etalon
light
nonlinear optical
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JP6784096A
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English (en)
Inventor
Naoji Moriya
直司 森谷
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 非線形光学材料の波長変換効率およびレーザ
ー媒質の励起効率を低下させることなく、基本波の縦モ
ード制御が可能な波長変換レーザーを提供する。 【解決手段】 光共振器用の鏡面1a,4a、およびそ
の間に挿入されるレーザー媒質2、非線形光学材料3の
各構成部材のうち、互いに隣合う少なくとも一対の部材
間の距離を接近させることにより、その部材相互の対向
面でエタロン6(7)を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、波長変換レーザー
に関する。
【0002】
【従来の技術】波長変換レーザーにおいては、一般に、
安定した出力を得るためには、基本波の縦モードを少な
くする必要がある。このような縦モードを少なくする方
法として、従来、以下のような方法が用いられてきた。
【0003】(1)回折格子を用いる方法 (a)共振器ミラーの一方を回折格子で代用するもの (b)シーズ光を回折格子で反射するもの (2)光共振器内にエタロンを挿入する方法 (3)薄いレーザー媒質を用いる方法
【0004】
【発明が解決しようとする課題】以上の従来の方法にお
いて、(1)では、回折格子の回折効率はあまり高くな
いために、回折格子において光波はかなりの散乱を受
け、大きなエネルギーの損失が生じ、また(2)では、
エタロンを透過させる分、エネルギーの損失が生じる。
これら基本波のパワーを下げる要素がある場合、非線形
光学材料による波長変換効率は基本波のパワーの2乗に
比例して変化するといった関係上、非線形光学材料の波
長変換効率が大きく低下するといった問題が生じる。
【0005】また、(3)では、レーザー媒質の励起効
率が落ちるといった問題が生じ、この場合、励起効率と
縦モードの制御を両立させることは難しい。本発明の目
的は、非線形光学材料の波長変換効率およびレーザー媒
質の励起効率を低下させることなく、基本波の縦モード
制御が可能な波長変換レーザーを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の波長変換レーザーは、図1に例示するよう
に、2つの鏡面1aおよび4aによって構成された光共
振器8内にレーザー媒質2および非線形光学材料3が挿
入された波長変換レーザーにおいて、各鏡面1a,4
a、レーザー媒質2、および非線形光学材料3の各構成
部材のうち、互いに隣合う少なくとも一対の部材が近接
配置され、その部材相互の対向面でエタロン6(7)が
形成されていることを特徴としている。
【0007】一般に、エタロンにおいては、互いに対向
する反射面の間で光を繰り返し反射させることにより、
光の干渉作用によって波長を統一させるのであるが、通
常のエタロンでは、このような2つの反射面をそれぞれ
水晶板やガラス板の表面に多重層反射膜を形成すること
によって得ている。このような通常のエタロンを光共振
器内に挿入する限り、そこでの損失は避けられなかっ
た。
【0008】本発明では、光共振器8内において、互い
に隣合う少なくとも一対の部材を接近させることによ
り、その対向面によってエタロンとしての各反射面を構
成し、その間で光を繰り返し反射させることによってそ
の波長を統一する。よって、エタロンを別途挿入するこ
となく縦モードを制御できると同時に、余分な素子がな
い分、光共振器内での損失が減少する。また、縦モード
制御のためにレーザー媒質を薄くする必要がなくなるの
で、励起効率が低下しない。
【0009】
【発明の実施の形態】図1は本発明の実施の形態の模式
的構成図である。この形態において、レーザー媒質2は
Nd:YAGで、非線形光学結晶3はKTP(KTi O
PO4 )の結晶である。これらは互いに同一の光軸上に
置かれ、さらにその光軸上にはこれらレーザー媒質2と
非線形光学結晶3を挟むように2つの共振器ミラー1お
よび4が配設され、レーザー媒質2の側面にはKrアー
ク放電燈等の励起用光源5が配設されて、全体として側
面励起のNd:YAG1064nm共振器内SHGレー
ザーが構成されている。
【0010】共振器ミラー1および4において、ミラー
1の鏡面1aは、全反射のコート膜を有し、一方、ミラ
ー4の鏡面4aはレーザー媒質2からの固体レーザー光
に対して高反射で、そのレーザー光を基本波とする第2
高調波に対しては高透過の反射コート膜を有しており、
これらによって光共振器8が構成されている。
【0011】レーザー媒質2の両端面2a,2b、およ
び、非線形光学結晶3の両端面3a,3bには、それぞ
れ反射防止膜が形成されており、それぞれレーザー媒質
2からのレーザー基本波、および第2高調波を高透過率
で透過させ得るようになっている。
【0012】鏡面1aとレーザー媒質2の共振器ミラー
側の端面2a間、およびレーザー媒質2の非線形光学結
晶側の端面2bと非線形光学結晶3のレーザー媒質側の
端面3a間の間隔は、それぞれ1mm以下に設定され、
その2箇所の対向面の対が、それぞれエタロン6および
7として機能するように構成されている。
【0013】この構成において、励起用光源5からのポ
ンピング光で励起されたレーザー媒質2は固体レーザー
光を出力し、その光は鏡面間で共振してそのパワー密度
が高められ、非線形光学結晶3を透過する。これによっ
て発生した第2高調波は、共振器ミラー4を透過して外
部に取り出される。
【0014】このような動作において、上述の2箇所の
対向面の対1aと2a、および2bと3aでは、レーザ
ー光が繰り返し反射してエタロンとして機能し、基本波
の縦モードが制御される。すなわち、反射防止膜の反射
率が0.1%であっても、繰り返し反射を考慮したフィ
ネスの値は反射率5%(コーティングしていない石英製
エタロンの反射率にほぼ等しい)の時の80%を超える
値を示すため、十分にエタロンとして機能する。ただ
し、0.3%以上の反射率を持っていた方がフィネスの
値は高くなり、その効果は一層高くなる。また、非線形
光学結晶の光学軸が加工精度によって設計からずれて、
エタロンとして機能する2面間に傾きが生じても、一般
にその傾きは0.2°程度なので、フィネスの値にはほ
とんど影響しない。
【0015】なお、この実施の形態において、エタロン
の各反射面として機能させる対向面の形成位置について
は、図1で示したものに限らない。鏡面1aとレーザー
媒質2の端面2aとを接近させて構成されるエタロンを
エタロンA、レーザー媒質2の端面2bと非線形光学結
晶3の端面3aとで構成されるエタロンをエタロンB、
非線形光学結晶3の端面3bと鏡面4aとで構成される
エタロンをエタロンCとするならば、AとBの組合せの
他、AとC、BとCの組合せが考えられ、必要があれ
ば、AとBとCでもよく、目的に応じて適宜に変更し得
る。レーザー媒質、および非線形光学材料の相互の位置
関係、さらにはそれらの材質についても、適宜に変更し
得るのは言うまでもない。
【0016】図2は、本発明を半導体レーザー端面励起
のNd:YAG946nm共振器内SHGレーザーに適
用した形態を示す模式的構成図である。この形態におい
て、レーザー媒質および非線形光学結晶については、図
1の場合と同じ材質で構成されている。レーザー媒質1
1と非線形光学結晶12は、互いに同一の光軸上に置か
れ、さらにその光軸上にはこれらレーザー媒質11と非
線形光学結晶12を挟むように、レンズシステム10を
介したポンピング用半導体レーザー9、および共振器ミ
ラー13が配設されている。
【0017】共振器ミラー13の鏡面13aは、半導体
レーザー光およびこの光によって誘導放出された固体レ
ーザー光の双方に対して高反射で、かつ、固体レーザー
光を基本波とする第2高調波に対しては高透過率を持つ
反射コート膜によって構成されている。
【0018】レーザー媒質11のレンズシステム側の端
面11aに半導体レーザー光に対して高透過で、かつ、
固体レーザー光および第2高調波の双方に対しては、高
反射率を持つ反射コート膜が形成され、この端面11a
と鏡面13aによって固体レーザー光の共振器15が構
成されている。
【0019】また、非線形光学結晶12の共振器ミラー
側の端面12bには、反射防止膜が形成されている。そ
して、レーザー媒質11の非線形光学結晶側の端面11
b、および非線形光学結晶12のレーザー媒質側の端面
12aにも、反射防止膜が形成され、さらに、それら両
端面の間隔は1mm以下に設定され、その対向面の対が
エタロン14として機能するように構成されている。
【0020】このような構成において、半導体レーザー
9からのポンピング光は、レンズシステム10で集光さ
れ、その光によってレーザー媒質11が励起される。そ
こで出力した固体レーザー光は、レーザー媒質11の一
端面11aと鏡面13aとの間で共振してそのパワー密
度が高められる。そして、その固体レーザー光は非線形
光学結晶12を透過して、固体レーザー光を基本波とす
る第2高調波が発生し、その高調波は共振器ミラー13
を透過して外部に取り出される。
【0021】この図2の形態においても、図1の場合と
同じく、上述した対向面の対11bと12aとの間でレ
ーザー光が繰り返し反射され、基本波の縦モードが制御
される。また、この形態では、レーザー媒質の厚みが図
1の場合と比べると薄く、共振器長も短いので、エタロ
ンとして機能させる対向面の対は1箇所でよい。
【0022】なお、この実施の形態において、エタロン
の各反射面として機能させる対向面については、図2で
示したものに限らず、非線形光学結晶12の端面12b
と鏡面13aとを接近させてその機能を与えてもよい。
半導体レーザーないし、レンズシステム、レーザー媒
質、および非線形光学材料の相互の位置関係、さらには
それらの材質についても、適宜に変更し得るのは言うま
でもない。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光共振器において各鏡面,レーザー媒質,および非線形
光学材料の各構成部材のうち、互いに隣合う少なくとも
一対の部材が近接配置され、その部材相互の対向面でエ
タロンが形成されているから、縦モードを制御するため
にエタロンを追加する必要がなくなる。従って、その素
子がない分、光共振器内での損失が減少し、非線形光学
材料の波長変換効率は低下しない。その上、低価格で製
作することができるという利点もある。また、レーザー
媒質を励起効率が落ちる程度まで薄くする必要がなくな
るので、励起効率は低下しない。もって、これらの効果
により、非線形光学材料の波長変換効率およびレーザー
媒質の励起効率を低下させることなく、基本波の縦モー
ド制御が可能な波長変換レーザーを提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の模式的構成図
【図2】本発明を端面励起に適用した場合の実施の形態
の模式的構成図
【符号の説明】
1,4,13 共振器ミラー 2,11 レーザー媒質 3,12 非線形光学結晶 9 半導体レーザー 6,7,14 エタロンとして機能させる対向面の対 8,15 光共振器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01S 3/106 H01S 3/09 Z

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2つの鏡面によって構成された光共振器
    内にレーザー媒質および非線形光学材料が挿入された波
    長変換レーザーにおいて、上記各鏡面,レーザー媒質,
    および非線形光学材料の各構成部材のうち、互いに隣合
    う少なくとも一対の部材が近接配置され、その部材相互
    の対向面でエタロンが形成されていることを特徴とする
    波長変換レーザー。
JP6784096A 1996-03-25 1996-03-25 波長変換レーザー Withdrawn JPH09260759A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006093018A1 (ja) * 2005-03-01 2006-09-08 Meijo University 2光束干渉露光装置、2光束干渉露光方法、半導体発光素子の製造方法、および、半導体発光素子
JP2013066938A (ja) * 2004-08-16 2013-04-18 Loma Linda Univ Medical Center 材料加工方法および装置

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JPWO2006093018A1 (ja) * 2005-03-01 2008-08-21 学校法人 名城大学 2光束干渉露光装置、2光束干渉露光方法、半導体発光素子の製造方法、および、半導体発光素子
US7756189B2 (en) 2005-03-01 2010-07-13 Meijo University Two-light flux interference exposure device, two-light flux interference exposure method, semiconductor light emitting element manufacturing method, and semiconductor light emitting element

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A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20050324