JPH09258455A - 露光用パタ−ン板 - Google Patents
露光用パタ−ン板Info
- Publication number
- JPH09258455A JPH09258455A JP6796496A JP6796496A JPH09258455A JP H09258455 A JPH09258455 A JP H09258455A JP 6796496 A JP6796496 A JP 6796496A JP 6796496 A JP6796496 A JP 6796496A JP H09258455 A JPH09258455 A JP H09258455A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure pattern
- exposure
- pattern plate
- temperature
- heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は温度変化により膨張、収縮を起こ
して位置決め状態がずれるのを防止した露光用パタ−ン
板をを提供することを目的とする。 【解決手段】 鉄帯2に所定のパタ−ン3aを転写する
際に、この鉄帯の両面に対向して配置される上記所定の
パタ−ンが形成された露光用パタ−ン板3において、上
記露光用パタ−ン板には、露光用パタ−ン板を加熱する
ためのヒ−タ22と、露光時と非露光時との温度変化を
調整するために、その露光用パタ−ン板の温度を検出し
て上記ヒ−タ22への通電を制御するサ−モッスタット
23からなる温度制御手段21が設けられていることを
特徴とする。
して位置決め状態がずれるのを防止した露光用パタ−ン
板をを提供することを目的とする。 【解決手段】 鉄帯2に所定のパタ−ン3aを転写する
際に、この鉄帯の両面に対向して配置される上記所定の
パタ−ンが形成された露光用パタ−ン板3において、上
記露光用パタ−ン板には、露光用パタ−ン板を加熱する
ためのヒ−タ22と、露光時と非露光時との温度変化を
調整するために、その露光用パタ−ン板の温度を検出し
て上記ヒ−タ22への通電を制御するサ−モッスタット
23からなる温度制御手段21が設けられていることを
特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はたとえばブラウン
管のシャドウマスクをエッチング処理する際に用いられ
る露光用パタ−ン板に関する。
管のシャドウマスクをエッチング処理する際に用いられ
る露光用パタ−ン板に関する。
【0002】
【従来の技術】ブラウン管のシャドウマスクを製造する
際、シャドウマスクパタ−ンが形成された露光用パタ−
ン板を非処理体としての鉄帯の両面に対向させて配置
し、この状態で露光によるエッチング処理を行うこと
で、上記鉄帯にパタ−ンを転写するということが行われ
ている。
際、シャドウマスクパタ−ンが形成された露光用パタ−
ン板を非処理体としての鉄帯の両面に対向させて配置
し、この状態で露光によるエッチング処理を行うこと
で、上記鉄帯にパタ−ンを転写するということが行われ
ている。
【0003】露光用パタ−ン板を鉄帯の両面に対向させ
て配置し、上記鉄帯を両面から露光によりエッチングす
ることで、エッチング形状の内周面がテ−パ状となりに
くいために形状精度の向上が計れるということや生産性
の向上が計れるという利点を有する。
て配置し、上記鉄帯を両面から露光によりエッチングす
ることで、エッチング形状の内周面がテ−パ状となりに
くいために形状精度の向上が計れるということや生産性
の向上が計れるという利点を有する。
【0004】その一方、一対の露光用パタ−ン板を高精
度に位置決めしないと、鉄帯の両面に形成されたパタ−
ンにずれが生じて不良品の発生を招くということにな
る。最近では、CDT(Color Display Tube)やCPT
(Color Picture Tube)などの生産性に対応させるため
に±2.5μm以内という高精度が要求されている。
度に位置決めしないと、鉄帯の両面に形成されたパタ−
ンにずれが生じて不良品の発生を招くということにな
る。最近では、CDT(Color Display Tube)やCPT
(Color Picture Tube)などの生産性に対応させるため
に±2.5μm以内という高精度が要求されている。
【0005】ところで、鉄帯に露光用パタ−ン板に形成
されたパタ−ンを転写するには、上記鉄帯の両面に対向
して配置された露光用パタ−ン板を、紫外線ランプなど
の光源から出力される露光用光で照射し、エッチングす
るということが行われている。そのため、露光用パタ−
ン板は、露光用光が照射されると温度上昇により熱膨張
し、非照射時には収縮するということを繰り返すから、
その繰り返しによって鉄帯の両面に高精度に位置決め配
置された上記一対の露光用パタ−ン板が位置ずれを起こ
すということがあり、その結果、鉄帯の両面に形成され
るエッチングパタ−ンがずれ、エッチング精度の低下を
招くということがあった。
されたパタ−ンを転写するには、上記鉄帯の両面に対向
して配置された露光用パタ−ン板を、紫外線ランプなど
の光源から出力される露光用光で照射し、エッチングす
るということが行われている。そのため、露光用パタ−
ン板は、露光用光が照射されると温度上昇により熱膨張
し、非照射時には収縮するということを繰り返すから、
その繰り返しによって鉄帯の両面に高精度に位置決め配
置された上記一対の露光用パタ−ン板が位置ずれを起こ
すということがあり、その結果、鉄帯の両面に形成され
るエッチングパタ−ンがずれ、エッチング精度の低下を
招くということがあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このように、鉄帯の両
面に対向して配置される露光用パタ−ン板は、露光時に
光源からの露光用光によって照射されることで熱膨張
し、非照射時には収縮するから、それを繰り返すことで
上記露光用パタ−ン板が位置ずれを起こすということが
あった。
面に対向して配置される露光用パタ−ン板は、露光時に
光源からの露光用光によって照射されることで熱膨張
し、非照射時には収縮するから、それを繰り返すことで
上記露光用パタ−ン板が位置ずれを起こすということが
あった。
【0007】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、露光用光の照射と非照射
が繰り返されても、膨張や収縮を繰り返して位置決め精
度が低下することがないようにした露光用パタ−ン板を
提供することにある。
で、その目的とするところは、露光用光の照射と非照射
が繰り返されても、膨張や収縮を繰り返して位置決め精
度が低下することがないようにした露光用パタ−ン板を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、被処
理体に所定のパタ−ンを転写する際に、この被処理体の
両面に対向して配置される上記所定のパタ−ンが形成さ
れた露光用パタ−ン板において、上記露光用パタ−ン板
には、露光時と非露光時との温度変化を調整するための
温度制御手段が設けられていることを特徴とする。
理体に所定のパタ−ンを転写する際に、この被処理体の
両面に対向して配置される上記所定のパタ−ンが形成さ
れた露光用パタ−ン板において、上記露光用パタ−ン板
には、露光時と非露光時との温度変化を調整するための
温度制御手段が設けられていることを特徴とする。
【0009】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、上記温度制御手段は、上記露光用パタ−ン板のパタ
−ンが形成されていない部分に設けられたヒ−タと、上
記露光用パタ−ン板の温度を検出して上記ヒ−タへの通
電を制御する検出手段とを具備したことを特徴とする。
て、上記温度制御手段は、上記露光用パタ−ン板のパタ
−ンが形成されていない部分に設けられたヒ−タと、上
記露光用パタ−ン板の温度を検出して上記ヒ−タへの通
電を制御する検出手段とを具備したことを特徴とする。
【0010】請求項3の発明は、請求項2の発明におい
て、上記検出手段は、サ−モスタットまたはサ−ミスタ
であることを特徴とする。請求項1の発明によれば、露
光用パタ−ン板に、露光時と非露光時との温度変化をな
くすための温度制御手段を設けたことで、上記露光用パ
タ−ン板が膨張と収縮を繰り返すのが防止されるから、
その位置決め精度が低下するということも防止される。
て、上記検出手段は、サ−モスタットまたはサ−ミスタ
であることを特徴とする。請求項1の発明によれば、露
光用パタ−ン板に、露光時と非露光時との温度変化をな
くすための温度制御手段を設けたことで、上記露光用パ
タ−ン板が膨張と収縮を繰り返すのが防止されるから、
その位置決め精度が低下するということも防止される。
【0011】請求項2の発明によれば、温度制御手段
を、露光用パタ−ン板に設けられたヒ−タと、このヒ−
タへの通電を制御する検出手段とから構成したことで、
上記露光用パタ−ン板を所定温度に維持することができ
る。請求項3の発明によれば、検出手段がサ−モスタッ
トであるため、露光用ガラス基板の温度検出と温度制御
とを同時に行うことができる。
を、露光用パタ−ン板に設けられたヒ−タと、このヒ−
タへの通電を制御する検出手段とから構成したことで、
上記露光用パタ−ン板を所定温度に維持することができ
る。請求項3の発明によれば、検出手段がサ−モスタッ
トであるため、露光用ガラス基板の温度検出と温度制御
とを同時に行うことができる。
【0012】
【発明の実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。図2はこの発明のガラス製の一対
の露光用パタ−ン板3が用いられたシャドウマスク用露
光装置であって、この露光装置はアンワインダ−部1を
有する。このアンワインダ−部1にはロ−ル状に巻回さ
れ予めレジスト2aが塗布された鉄帯2が収容されてい
る。
を参照して説明する。図2はこの発明のガラス製の一対
の露光用パタ−ン板3が用いられたシャドウマスク用露
光装置であって、この露光装置はアンワインダ−部1を
有する。このアンワインダ−部1にはロ−ル状に巻回さ
れ予めレジスト2aが塗布された鉄帯2が収容されてい
る。
【0013】上記アンワインダ−部1から導出された鉄
帯2はフレ−ム5内に導入され、このフレ−ム5内で後
述するように露光処理されてからワインダ−部8で巻き
取られるようになっている。
帯2はフレ−ム5内に導入され、このフレ−ム5内で後
述するように露光処理されてからワインダ−部8で巻き
取られるようになっている。
【0014】上記フレ−ム5内には、フレ−ム5内に導
入された鉄帯2の上下両面に対向して上記一対の露光用
パタ−ン板3が配置されている。この一対の露光用パタ
−ン板3には、同一形状のブラウン管シャドウマスクの
パタ−ン3aが形成されている。
入された鉄帯2の上下両面に対向して上記一対の露光用
パタ−ン板3が配置されている。この一対の露光用パタ
−ン板3には、同一形状のブラウン管シャドウマスクの
パタ−ン3aが形成されている。
【0015】上記鉄帯2の上記フレ−ム5内に位置する
部分は、上記露光用パタ−ン板3を介して光源としての
紫外線ランプ6からの紫外線Lによって照射される。そ
れによって、上記鉄帯2の両面には上記露光用パタ−ン
板3に形成されたパタ−ンが転写させることになる。
部分は、上記露光用パタ−ン板3を介して光源としての
紫外線ランプ6からの紫外線Lによって照射される。そ
れによって、上記鉄帯2の両面には上記露光用パタ−ン
板3に形成されたパタ−ンが転写させることになる。
【0016】上記一対の露光用パタ−ン板3は高精度に
位置決めされる。つまり、一対の露光用パタ−ン板3に
は図4(a)、(b)に示す認識マ−クM1 、M2 が形
成されていて、これら認識マ−クM1 、M2 を一対のC
CDカメラ9で撮像して位置ずれが認識される。一対の
露光用パタ−ン板3に形成されたパタ−ン3aが一致し
た場合には、上記CCDカメラ9から見る認識マ−クM
1 、M2 は図4(c)に示すように重なることになる。
位置決めされる。つまり、一対の露光用パタ−ン板3に
は図4(a)、(b)に示す認識マ−クM1 、M2 が形
成されていて、これら認識マ−クM1 、M2 を一対のC
CDカメラ9で撮像して位置ずれが認識される。一対の
露光用パタ−ン板3に形成されたパタ−ン3aが一致し
た場合には、上記CCDカメラ9から見る認識マ−クM
1 、M2 は図4(c)に示すように重なることになる。
【0017】上記CCDカメラ9からの出力は画像処理
装置11に入力され、この画像処理装置11からの出力
は、一対の露光用パタ−ン板3のうちの一方を上下左右
方向に駆動する図示しない補正駆動部に入力されるよう
になっている。したがって、上記画像処理装置11がC
CDカメラ9からの画像信号を処理すると、その処理結
果に基づいて上記補正駆動部が駆動され、一方の露光用
パタ−ン板3を他方の露光用パタ−ン板3に対して高精
度に位置決めするようになっている。
装置11に入力され、この画像処理装置11からの出力
は、一対の露光用パタ−ン板3のうちの一方を上下左右
方向に駆動する図示しない補正駆動部に入力されるよう
になっている。したがって、上記画像処理装置11がC
CDカメラ9からの画像信号を処理すると、その処理結
果に基づいて上記補正駆動部が駆動され、一方の露光用
パタ−ン板3を他方の露光用パタ−ン板3に対して高精
度に位置決めするようになっている。
【0018】上記一対の露光用パタ−ン板3には図1に
示すように温度制御手段21が設けられている。この温
度制御手段21は上記露光用パタ−ン板3のパタ−ン3
aが形成されていない部分である、一対のパタ−ン3a
の周辺部に沿って設けられた、ニクロム線などのヒ−タ
22と、上記露光用パタ−ン板3の一対のパタ−ン3a
間の部分である幅方向中央部分に設けられ、その部分の
温度を検出する検出手段としての温度センサである、複
数のサ−モスタット23とから構成されている。
示すように温度制御手段21が設けられている。この温
度制御手段21は上記露光用パタ−ン板3のパタ−ン3
aが形成されていない部分である、一対のパタ−ン3a
の周辺部に沿って設けられた、ニクロム線などのヒ−タ
22と、上記露光用パタ−ン板3の一対のパタ−ン3a
間の部分である幅方向中央部分に設けられ、その部分の
温度を検出する検出手段としての温度センサである、複
数のサ−モスタット23とから構成されている。
【0019】この実施形態では、3つのサ−モスタット
23が幅方向と直交する前後方向に沿って所定間隔で設
けられている。それによって、露光用パタ−ン板3の前
後方向のサ−モスタット23が設けられた三箇所の温度
がそれぞれ所定の温度に達したときに、上記ヒ−タ22
への通電が遮断されるようになっている。
23が幅方向と直交する前後方向に沿って所定間隔で設
けられている。それによって、露光用パタ−ン板3の前
後方向のサ−モスタット23が設けられた三箇所の温度
がそれぞれ所定の温度に達したときに、上記ヒ−タ22
への通電が遮断されるようになっている。
【0020】上記ヒ−タ22は上記サ−モスタット23
を介して電源24に接続されている。各サ−モスタット
23は上記ヒ−タ22への通電を制御して上記露光用パ
タ−ン板3の温度を制御するようになっている。
を介して電源24に接続されている。各サ−モスタット
23は上記ヒ−タ22への通電を制御して上記露光用パ
タ−ン板3の温度を制御するようになっている。
【0021】すなわち、上記露光用パタ−ン板3は、鉄
帯2を露光するために紫外線ランプ6からの紫外線Lに
よって照射される露光時には約60℃〜70℃に温度上
昇するものの、上記紫外線Lによって照射されない非露
光時には温度が低下し、その非露光時間が長ければ長い
程、温度低下が大きくなる。
帯2を露光するために紫外線ランプ6からの紫外線Lに
よって照射される露光時には約60℃〜70℃に温度上
昇するものの、上記紫外線Lによって照射されない非露
光時には温度が低下し、その非露光時間が長ければ長い
程、温度低下が大きくなる。
【0022】上記露光用パタ−ン板3の温度変化が大き
いと、その膨張と収縮も大きくなり、それが繰り返され
ることで、上記補正駆動部による位置決め状態が損なわ
れることがある。
いと、その膨張と収縮も大きくなり、それが繰り返され
ることで、上記補正駆動部による位置決め状態が損なわ
れることがある。
【0023】したがって、上記サ−モスタット23は上
記露光用パタ−ン板3の温度変化が大きくならないよ
う、具体的には露光用パタ−ン板3の温度が60℃〜7
0℃に維持されるよう上記ヒ−タ22への通電を制御す
るようになっている。
記露光用パタ−ン板3の温度変化が大きくならないよ
う、具体的には露光用パタ−ン板3の温度が60℃〜7
0℃に維持されるよう上記ヒ−タ22への通電を制御す
るようになっている。
【0024】上記構成の露光用パタ−ン板3が用いられ
たシャドウマスク用露光装置によれば、鉄帯2がアンワ
インダ−部1からフレ−ム5へ送り込まれると、紫外線
ランプ6が点灯されて紫外線Lが一対の位置決めされた
露光用パタ−ン板3を介して上記鉄帯2を照射する。
たシャドウマスク用露光装置によれば、鉄帯2がアンワ
インダ−部1からフレ−ム5へ送り込まれると、紫外線
ランプ6が点灯されて紫外線Lが一対の位置決めされた
露光用パタ−ン板3を介して上記鉄帯2を照射する。
【0025】それによって、上記露光用パタ−ン板3に
形成されたパタ−ン3aが上記鉄帯2に転写されるか
ら、この鉄帯2には上記パタ−ン3aと同じ形状のエッ
チングがなされることになる。
形成されたパタ−ン3aが上記鉄帯2に転写されるか
ら、この鉄帯2には上記パタ−ン3aと同じ形状のエッ
チングがなされることになる。
【0026】上記鉄帯2のフレ−ム5内の部分にエッチ
ングがなされると、上記紫外線ランプ6が消灯されると
ともに鉄帯2がワインダ−部8によって所定寸法巻き取
られ、新たな部分がフレ−ム5内に位置決めされる。鉄
帯2が位置決めされると、紫外線ランプ6が再度点灯さ
れて上述した露光によるエッチングが繰り返される。
ングがなされると、上記紫外線ランプ6が消灯されると
ともに鉄帯2がワインダ−部8によって所定寸法巻き取
られ、新たな部分がフレ−ム5内に位置決めされる。鉄
帯2が位置決めされると、紫外線ランプ6が再度点灯さ
れて上述した露光によるエッチングが繰り返される。
【0027】このように、紫外線ランプ6を点灯した
り、消灯したりして鉄帯2へのエッチングを繰り返す
と、紫外線Lによる上記露光用パタ−ン板3への入熱が
一定しないため、この露光用パタ−ン3は膨張や収縮を
繰り返すことになる。
り、消灯したりして鉄帯2へのエッチングを繰り返す
と、紫外線Lによる上記露光用パタ−ン板3への入熱が
一定しないため、この露光用パタ−ン3は膨張や収縮を
繰り返すことになる。
【0028】しかしながら、上記露光用パタ−ン板3に
は、この露光用パタ−ン板3の温度を検出するサ−モス
タット23が設けられ、その検出温度に応じてヒ−タ2
2への通電を制御することで、上記露光用パタ−ン板3
の温度を一定に維持する。
は、この露光用パタ−ン板3の温度を検出するサ−モス
タット23が設けられ、その検出温度に応じてヒ−タ2
2への通電を制御することで、上記露光用パタ−ン板3
の温度を一定に維持する。
【0029】たとえば、紫外線ランプ6の消灯時間が長
くなり、露光用パタ−ン板3の温度が低下すると、上記
ヒ−タ22に通電し、上記露光用パタ−ン板3を紫外線
Lによって照射されているときとほぼ同じ温度に維持す
ることになる。
くなり、露光用パタ−ン板3の温度が低下すると、上記
ヒ−タ22に通電し、上記露光用パタ−ン板3を紫外線
Lによって照射されているときとほぼ同じ温度に維持す
ることになる。
【0030】したがって、上記露光用パタ−ン板3は、
最初に位置決めされたあとでは、温度変化による収縮と
膨張を繰り返すことがなくなるから、位置決め状態にず
れが生じるようなこともなくなる。
最初に位置決めされたあとでは、温度変化による収縮と
膨張を繰り返すことがなくなるから、位置決め状態にず
れが生じるようなこともなくなる。
【0031】一対の露光用パタ−ン板3の位置決め精度
にずれが生じることがなければ、鉄帯2へのエッチング
精度が低下するということがないばかりか、所定の時間
ごとに上記露光用パタ−ン板3の位置決めをし直すとい
うこともせずにすむから、生産性の向上を計ることもで
きる。
にずれが生じることがなければ、鉄帯2へのエッチング
精度が低下するということがないばかりか、所定の時間
ごとに上記露光用パタ−ン板3の位置決めをし直すとい
うこともせずにすむから、生産性の向上を計ることもで
きる。
【0032】この発明は上記一実施形態に限定されず、
種々変形可能である。たとえば、上記一実施形態では露
光用パタ−ン板の温度を検出制御するためにサ−モスタ
ットを用いたが、それに代わり、サ−ミスタを用い、こ
のサ−ミスタの温度変化に応じた抵抗値の変化を利用し
てヒ−タへ流れる電流を制御するようにしてもよく、要
は露光用パタ−ン板の温度を検出し、その検出に基づい
て上記露光用パタ−ン板の温度を所定値に維持できれば
よい。
種々変形可能である。たとえば、上記一実施形態では露
光用パタ−ン板の温度を検出制御するためにサ−モスタ
ットを用いたが、それに代わり、サ−ミスタを用い、こ
のサ−ミスタの温度変化に応じた抵抗値の変化を利用し
てヒ−タへ流れる電流を制御するようにしてもよく、要
は露光用パタ−ン板の温度を検出し、その検出に基づい
て上記露光用パタ−ン板の温度を所定値に維持できれば
よい。
【0033】また、検出手段としてサ−モスタットある
いはサ−ミスタを用いる場合、これらを露光用パタ−ン
板に複数個設けてもよいが、1つであってもなんら差支
えない。
いはサ−ミスタを用いる場合、これらを露光用パタ−ン
板に複数個設けてもよいが、1つであってもなんら差支
えない。
【0034】
【発明の効果】以上述べたように請求項1の発明によれ
ば、露光用パタ−ン板に、露光時と非露光時との温度変
化を調整するための温度制御手段を設けるようにしたか
ら、上記露光用パタ−ン板は露光時と非露光時とで紫外
線の照射度合が異なっても、上記温度制御手段によって
ほぼ一定温度に維持される。
ば、露光用パタ−ン板に、露光時と非露光時との温度変
化を調整するための温度制御手段を設けるようにしたか
ら、上記露光用パタ−ン板は露光時と非露光時とで紫外
線の照射度合が異なっても、上記温度制御手段によって
ほぼ一定温度に維持される。
【0035】そのため、露光用パタ−ン板は、膨張と収
縮を繰り返して高精度に位置決めされた状態からずれ動
くということがほとんどないから、その位置決め精度が
低下するのが防止される。
縮を繰り返して高精度に位置決めされた状態からずれ動
くということがほとんどないから、その位置決め精度が
低下するのが防止される。
【0036】請求項2の発明によれば、温度制御手段
を、露光用パタ−ン板に設けられたヒ−タと、このヒ−
タへの通電を制御する検出手段とから構成したことで、
上記露光用パタ−ン板を所定温度に維持し、膨張や収縮
の発生をなくすことができる。
を、露光用パタ−ン板に設けられたヒ−タと、このヒ−
タへの通電を制御する検出手段とから構成したことで、
上記露光用パタ−ン板を所定温度に維持し、膨張や収縮
の発生をなくすことができる。
【0037】請求項3の発明によれば、検出手段にサ−
モスタットまたはサ−ミスタを用いたことで、露光用パ
タ−ン板の温度変化の検出と、その温度変化に応じたヒ
−タへの通電制御とを同時に行うことができる。
モスタットまたはサ−ミスタを用いたことで、露光用パ
タ−ン板の温度変化の検出と、その温度変化に応じたヒ
−タへの通電制御とを同時に行うことができる。
【図1】この発明の一実施形態の露光用パタ−ン板の平
面図。
面図。
【図2】同じくシャドウマスク用露光装置の構成図。
【図3】同じくエッチング処理を示す説明図。
【図4】同じく露光用パタ−ン板に設けられた認識マ−
クの説明図。
クの説明図。
2…鉄帯(非処理体)、 3…露光用パタ−ン板、 3a…パタ−ン、 21…温度制御手段、 22…ヒ−タ、 23…サ−モスタット。
Claims (3)
- 【請求項1】 被処理体に所定のパタ−ンを転写する際
に、この被処理体の両面に対向して配置される上記所定
のパタ−ンが形成された露光用パタ−ン板において、 上記露光用パタ−ン板には、露光時と非露光時との温度
変化を調整するための温度制御手段が設けられているこ
とを特徴とする露光用パタ−ン板。 - 【請求項2】 上記温度制御手段は、上記露光用パタ−
ン板のパタ−ンが形成されていない部分に設けられたヒ
−タと、 上記露光用パタ−ン板の温度を検出して上記ヒ−タへの
通電を制御する検出手段とを具備したことを特徴とする
請求項1記載の露光用パタ−ン板。 - 【請求項3】 上記検出手段は、サ−モスタットまたは
サ−ミスタであることを特徴とする請求項2記載の露光
用パタ−ン板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6796496A JPH09258455A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 露光用パタ−ン板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6796496A JPH09258455A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 露光用パタ−ン板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09258455A true JPH09258455A (ja) | 1997-10-03 |
Family
ID=13360170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6796496A Pending JPH09258455A (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 露光用パタ−ン板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09258455A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100572949B1 (ko) * | 2003-06-30 | 2006-04-28 | 가부시끼가이샤 도시바 | 가열 처리 장치의 온도 교정 방법, 현상 처리 장치의 조정방법, 및 반도체 장치의 제조 방법 |
-
1996
- 1996-03-25 JP JP6796496A patent/JPH09258455A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100572949B1 (ko) * | 2003-06-30 | 2006-04-28 | 가부시끼가이샤 도시바 | 가열 처리 장치의 온도 교정 방법, 현상 처리 장치의 조정방법, 및 반도체 장치의 제조 방법 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0320297B1 (en) | Method of temperature control of a wafer on a chuck | |
US6483083B2 (en) | Heat treatment method and a heat treatment apparatus for controlling the temperature of a substrate surface | |
JP3708786B2 (ja) | レジストパターン形成方法及び半導体製造システム | |
TWI305932B (ja) | ||
JP2001274069A5 (ja) | ||
JP2004531067A (ja) | 温度制御チャックならびにほぼ平坦な物体の温度制御方法 | |
KR20050121913A (ko) | 베이크 장치 | |
JP2003257834A (ja) | 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 | |
JP4308407B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH09258455A (ja) | 露光用パタ−ン板 | |
JP2008058898A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JPH0855785A (ja) | 露光方法とこれを用いたデバイス製造方法 | |
KR100814719B1 (ko) | 히팅 플레이트 제조 장치 및 이를 이용한 히팅 플레이트제조 방법 | |
JP3977275B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP2006078673A (ja) | 近接露光装置 | |
JP2010192623A (ja) | 半導体装置の製造装置、その制御方法、及びその制御プログラム | |
JP2004119570A (ja) | 露光量設定方法、露光方法およびこれを用いた露光装置 | |
JP2001102276A (ja) | 基板加熱装置及び基板加熱方法 | |
JPH06196383A (ja) | 露光装置 | |
JP4390466B2 (ja) | 露光機及び露光方法 | |
JP4242804B2 (ja) | 半導体素子の製造方法および製造装置 | |
JPH06204116A (ja) | 露光装置 | |
JPH07106244A (ja) | 露光方法および露光装置 | |
KR19990002001U (ko) | 핫 플레이트의 온도 제어 장치 | |
JPH09232216A (ja) | X線マスクの製造方法及び製造装置 |