JPH09258432A - ガラスマスクの保持装置、及びこれを有する露光装置及び検査装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造方法及び検査方法 - Google Patents
ガラスマスクの保持装置、及びこれを有する露光装置及び検査装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造方法及び検査方法Info
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- JPH09258432A JPH09258432A JP6472096A JP6472096A JPH09258432A JP H09258432 A JPH09258432 A JP H09258432A JP 6472096 A JP6472096 A JP 6472096A JP 6472096 A JP6472096 A JP 6472096A JP H09258432 A JPH09258432 A JP H09258432A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 変形、歪みなく、ガラスマスクを保持し、製
造、検査を行う。 【解決手段】 本体６１の凹部６２には、ガラスマスク
１１の比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液体６
６が入れられている。基準片６４ａ〜６４ｄは、可動式
であり、液体６６に浮いたガラスマスク１１の側面に一
定の応力を与えてガラスマスク１１を保持する。基準片
６４ａ〜６４ｄには、圧力センサが備えられ、ガラスマ
スク１１の側面に加える応力を調節する。このような保
持装置を用いてガラスマスクの製造や検査が行われる。
造、検査を行う。 【解決手段】 本体６１の凹部６２には、ガラスマスク
１１の比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液体６
６が入れられている。基準片６４ａ〜６４ｄは、可動式
であり、液体６６に浮いたガラスマスク１１の側面に一
定の応力を与えてガラスマスク１１を保持する。基準片
６４ａ〜６４ｄには、圧力センサが備えられ、ガラスマ
スク１１の側面に加える応力を調節する。このような保
持装置を用いてガラスマスクの製造や検査が行われる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスマスクの保
持装置、及びこれを有する露光装置及び検査装置、並び
にガラスマスクの保持方法、製造方法及び検査方法に関
する。
持装置、及びこれを有する露光装置及び検査装置、並び
にガラスマスクの保持方法、製造方法及び検査方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】光リソグラフィ技術は、ＬＳＩを製造す
る際によく用いられる技術である。この技術は、ウェハ
上のレジストを露光、現像することにより、当該レジス
トに所定のパタ−ンを形成するという点に特徴がある。
る際によく用いられる技術である。この技術は、ウェハ
上のレジストを露光、現像することにより、当該レジス
トに所定のパタ−ンを形成するという点に特徴がある。
【０００３】ガラスマスク（レチクル）は、ウェハ上の
レジストを露光する際のマスクとなるものである。従っ
て、ウェハ上のレジストに精度よくパタ−ンを描くため
には、ガラスマスク上のパタ−ンを精度よく形成するこ
とが必要である。
レジストを露光する際のマスクとなるものである。従っ
て、ウェハ上のレジストに精度よくパタ−ンを描くため
には、ガラスマスク上のパタ−ンを精度よく形成するこ
とが必要である。
【０００４】従来のガラスマスクの製造方法について説
明する。まず、図１９に示すように、ガラスマスク１１
上に遮光膜１２を形成する。また、遮光膜１２上にレジ
スト１３を塗布する。
明する。まず、図１９に示すように、ガラスマスク１１
上に遮光膜１２を形成する。また、遮光膜１２上にレジ
スト１３を塗布する。
【０００５】次に、ガラスマスク１１をガラスマスクの
保持装置に搭載する。ここで、ガラスマスクの保持装置
について説明する。図２０及び図２１は、ガラスマスク
の保持装置の一例を示すものである。
保持装置に搭載する。ここで、ガラスマスクの保持装置
について説明する。図２０及び図２１は、ガラスマスク
の保持装置の一例を示すものである。
【０００６】本体２１には、凹部が設けられている。本
体２１の凹部には、上方向に伸びる弾性体（例えば、バ
ネ）２２ａ〜２２ｃが取り付けられている。各々の弾性
体２２ａ〜２２ｃの先端部には、圧力子２３ａ〜２３ｃ
が取り付けられている。
体２１の凹部には、上方向に伸びる弾性体（例えば、バ
ネ）２２ａ〜２２ｃが取り付けられている。各々の弾性
体２２ａ〜２２ｃの先端部には、圧力子２３ａ〜２３ｃ
が取り付けられている。
【０００７】ガラスマスク１１は、圧力子２３ａ〜２３
ｃ上に配置されている。また、本体２１の凹部の周辺に
は、基準片２４ａ〜２４ｃが取り付けられている。基準
片２４ａ〜２４ｃは、圧力子２３ａ〜２３ｃ上に配置さ
れたガラスマスク１１の上面を保持する機能を有してい
る。
ｃ上に配置されている。また、本体２１の凹部の周辺に
は、基準片２４ａ〜２４ｃが取り付けられている。基準
片２４ａ〜２４ｃは、圧力子２３ａ〜２３ｃ上に配置さ
れたガラスマスク１１の上面を保持する機能を有してい
る。
【０００８】また、図２２及び図２３は、ガラスマスク
の保持装置の他の一例を示すものである。本体３１上に
は、基準片３２ａ〜３２ｃが取り付けられている。ガラ
スマスク１１は、基準片３２ａ〜３２ｃ上に配置され
る。
の保持装置の他の一例を示すものである。本体３１上に
は、基準片３２ａ〜３２ｃが取り付けられている。ガラ
スマスク１１は、基準片３２ａ〜３２ｃ上に配置され
る。
【０００９】これらのガラスマスク保持装置は、ガラス
マスク１１の両面をきずつけないように、ガラスマスク
１１の縁部において当該ガラスマスク１１を保持するよ
うに構成されている。
マスク１１の両面をきずつけないように、ガラスマスク
１１の縁部において当該ガラスマスク１１を保持するよ
うに構成されている。
【００１０】次に、図２４に示すように、ガラスマスク
が搭載されたガラスマスク保持装置４１を、荷電粒子
（電子）ビ−ム露光装置（又は光ビ−ム露光装置）内に
配置する。
が搭載されたガラスマスク保持装置４１を、荷電粒子
（電子）ビ−ム露光装置（又は光ビ−ム露光装置）内に
配置する。
【００１１】ここで、荷電粒子ビ−ム露光装置について
説明する。ガラスマスク保持装置４１は、試料室４２内
のステ−ジ４３上に配置される。ステ−ジ４３は、駆動
装置４４により、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に動くこと
ができる。
説明する。ガラスマスク保持装置４１は、試料室４２内
のステ−ジ４３上に配置される。ステ−ジ４３は、駆動
装置４４により、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に動くこと
ができる。
【００１２】荷電粒子ビ−ム銃４５から放出される荷電
粒子は、対物レンズ（縮小レンズ）４６の間を経由し
て、ガラスマスク保持装置４１に保持されたガラスマス
ク上のレジストに照射される。
粒子は、対物レンズ（縮小レンズ）４６の間を経由し
て、ガラスマスク保持装置４１に保持されたガラスマス
ク上のレジストに照射される。
【００１３】制御装置４７は、駆動装置４４、荷電粒子
ビ−ム銃４５及び対物レンズ４６を制御している。この
ような露光装置により、ガラスマスク上のレジストが露
光される。
ビ−ム銃４５及び対物レンズ４６を制御している。この
ような露光装置により、ガラスマスク上のレジストが露
光される。
【００１４】次に、図２５及び図２６に示すように、ガ
ラスマスク１１上のレジスト１３を現像すると、レジス
ト１３に所定のパタ−ンが描かれる。このレジスト１３
をマスクにして遮光膜１２をエッチングする。この後、
レジスト１３を剥離すれば、所定のパタ−ンの遮光膜１
２を有するガラスマスク１１が形成される。
ラスマスク１１上のレジスト１３を現像すると、レジス
ト１３に所定のパタ−ンが描かれる。このレジスト１３
をマスクにして遮光膜１２をエッチングする。この後、
レジスト１３を剥離すれば、所定のパタ−ンの遮光膜１
２を有するガラスマスク１１が形成される。
【００１５】次に、従来のガラスマスクの検査方法につ
いて説明する。まず、完成したガラスマスクを、図２０
及び図２１に示すガラスマスク保持装置、又は図２２及
び図２３に示すガラスマスク保持装置に搭載する。
いて説明する。まず、完成したガラスマスクを、図２０
及び図２１に示すガラスマスク保持装置、又は図２２及
び図２３に示すガラスマスク保持装置に搭載する。
【００１６】この後、図２７に示すように、ガラスマス
クが搭載されたガラスマスク保持装置５１を、ガラスマ
スク検査装置内に配置する。ここで、ガラスマスク検査
装置について説明する。
クが搭載されたガラスマスク保持装置５１を、ガラスマ
スク検査装置内に配置する。ここで、ガラスマスク検査
装置について説明する。
【００１７】ガラスマスク保持装置５１は、試料室５２
内のステ−ジ５３上に配置される。ステ−ジ５３は、駆
動装置５４により、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に動くこ
とができる。
内のステ−ジ５３上に配置される。ステ−ジ５３は、駆
動装置５４により、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に動くこ
とができる。
【００１８】測定装置５５は、ステ−ジ５３上に配置さ
れる。測定装置５５は、例えばレ−ザビ−ムをガラスマ
スク保持装置５１のガラスマスクに照射することで、ガ
ラスマスク上の遮光膜のパタ−ンを検査する。制御装置
５６は、駆動装置５４及び検査装置５５を制御する。検
査の終了したガラスマスクのうち良品は、完成品として
出荷される。
れる。測定装置５５は、例えばレ−ザビ−ムをガラスマ
スク保持装置５１のガラスマスクに照射することで、ガ
ラスマスク上の遮光膜のパタ−ンを検査する。制御装置
５６は、駆動装置５４及び検査装置５５を制御する。検
査の終了したガラスマスクのうち良品は、完成品として
出荷される。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】ガラスマスクを製造又
は検査するに当たって、ガラスマスク保持装置に搭載さ
れるガラスマスクの形状の変形や歪みを少なくし、ま
た、ガラスマスクの位置のばらつきを低減することは、
ガラスマスクにパタ−ンを描く際のパタ−ニング精度を
向上させ、また、ガラスマスクに描かれたパタ−ンの検
査精度を向上させるために重要である。
は検査するに当たって、ガラスマスク保持装置に搭載さ
れるガラスマスクの形状の変形や歪みを少なくし、ま
た、ガラスマスクの位置のばらつきを低減することは、
ガラスマスクにパタ−ンを描く際のパタ−ニング精度を
向上させ、また、ガラスマスクに描かれたパタ−ンの検
査精度を向上させるために重要である。
【００２０】しかし、従来のガラスマスク保持装置を用
いてガラスマスクを保持した場合、ガラスマスクを保持
する際の応力やガラスマスクの自重などにより、当該ガ
ラスマスクには、必然的に変形や歪みが生じてしまう。
いてガラスマスクを保持した場合、ガラスマスクを保持
する際の応力やガラスマスクの自重などにより、当該ガ
ラスマスクには、必然的に変形や歪みが生じてしまう。
【００２１】また、ガラスマスク保持装置に搭載される
ガラスマスクの位置のばらつきも生じ易くなっている。
例えば、図２０及び図２１に示すようなガラスマスク保
持装置を用いる場合、ガラスマスク１１は、圧力子２３
ａ〜２３ｃにより基準片２４ａ〜２４ｃに押し付けられ
ている。
ガラスマスクの位置のばらつきも生じ易くなっている。
例えば、図２０及び図２１に示すようなガラスマスク保
持装置を用いる場合、ガラスマスク１１は、圧力子２３
ａ〜２３ｃにより基準片２４ａ〜２４ｃに押し付けられ
ている。
【００２２】従って、ガラスマスク１１の位置が理想の
位置からずれると、ガラスマスク１１と圧力子２３ａ〜
２３ｃの接触箇所及びその近傍において予想外の応力が
発生することがある。この応力は、ガラスマスク１１の
変形の原因となる。
位置からずれると、ガラスマスク１１と圧力子２３ａ〜
２３ｃの接触箇所及びその近傍において予想外の応力が
発生することがある。この応力は、ガラスマスク１１の
変形の原因となる。
【００２３】また、ガラスマスクの自重による歪みも発
生している。このように、ガラスマスク保持装置に搭載
されたガラスマスクに変形や歪みが生じていると、高精
度に位置合わせが可能なステ−ジや高精度の光学系など
を備えた露光装置又は検査装置を用いても、パタ−ニン
グ精度やパタ−ンの検査精度を向上させることができな
い欠点がある。
生している。このように、ガラスマスク保持装置に搭載
されたガラスマスクに変形や歪みが生じていると、高精
度に位置合わせが可能なステ−ジや高精度の光学系など
を備えた露光装置又は検査装置を用いても、パタ−ニン
グ精度やパタ−ンの検査精度を向上させることができな
い欠点がある。
【００２４】一方、図２２及び図２３に示すようなガラ
スマスク保持装置を用いる場合、ガラスマスク１１は、
基準片２４ａ〜２４ｃ上に配置されている。即ち、ガラ
スマスク１１は、自重による静止摩擦力のみによってガ
ラスマスク保持装置に保持されていることになる。
スマスク保持装置を用いる場合、ガラスマスク１１は、
基準片２４ａ〜２４ｃ上に配置されている。即ち、ガラ
スマスク１１は、自重による静止摩擦力のみによってガ
ラスマスク保持装置に保持されていることになる。
【００２５】従って、ガラスマスク１１に加わる予想外
の応力をなくすことができ、ガラスマスクの変形による
パタ−ニング精度の劣化やパタ−ンの検査精度の劣化を
防止することができる。
の応力をなくすことができ、ガラスマスクの変形による
パタ−ニング精度の劣化やパタ−ンの検査精度の劣化を
防止することができる。
【００２６】また、自重による静止摩擦力によって生じ
るガラスマスク１１の歪みについても、この歪みを理論
的に補正することにより、パタ−ニング精度の向上やパ
タ−ンの検査精度の向上に貢献することができる。
るガラスマスク１１の歪みについても、この歪みを理論
的に補正することにより、パタ−ニング精度の向上やパ
タ−ンの検査精度の向上に貢献することができる。
【００２７】しかし、この場合、ガラスマスク１１は、
基準片３２ａ〜３２ｃ上に搭載されているのみであるか
ら、ガラスマスク１１と基準片３２ａ〜３２ｃが接触す
る位置にばらつきが生じ易い。
基準片３２ａ〜３２ｃ上に搭載されているのみであるか
ら、ガラスマスク１１と基準片３２ａ〜３２ｃが接触す
る位置にばらつきが生じ易い。
【００２８】ここで、自重による静止摩擦力によって生
じるガラスマスク１１の歪みを補正する式は、ガラスマ
スクが所定の位置に配置された場合のものであるから、
ガラスマスク１１の位置が理想の位置（所定の位置）か
ら外れるに従い、ガラスマスク１１の歪みを十分に補正
することができなくなる。
じるガラスマスク１１の歪みを補正する式は、ガラスマ
スクが所定の位置に配置された場合のものであるから、
ガラスマスク１１の位置が理想の位置（所定の位置）か
ら外れるに従い、ガラスマスク１１の歪みを十分に補正
することができなくなる。
【００２９】このため、高精度に位置合わせが可能なス
テ−ジや高精度の光学系などを備えた露光装置又は検査
装置を用いても、パタ−ニング精度やパタ−ンの検査精
度を向上させることができない欠点がある。
テ−ジや高精度の光学系などを備えた露光装置又は検査
装置を用いても、パタ−ニング精度やパタ−ンの検査精
度を向上させることができない欠点がある。
【００３０】本発明は、上記欠点を解決すべくなされた
もので、第一の目的は、ガラスマスクに変形や歪みが生
じることのない（つまり、変形や歪みの補正が必要な
い）新規な構成のガラスマスク保持装置を提供すること
である。
もので、第一の目的は、ガラスマスクに変形や歪みが生
じることのない（つまり、変形や歪みの補正が必要な
い）新規な構成のガラスマスク保持装置を提供すること
である。
【００３１】また、第二の目的は、レジストが塗布され
たガラスマスクが搭載される当該ガラスマスク保持装置
を用い、ガラスマスク上のレジストに、高精度に所定の
パタ−ンを描くことが可能な露光装置を提供することで
ある。
たガラスマスクが搭載される当該ガラスマスク保持装置
を用い、ガラスマスク上のレジストに、高精度に所定の
パタ−ンを描くことが可能な露光装置を提供することで
ある。
【００３２】また、第三の目的は、所定のパタ−ンが形
成されたガラスマスクが搭載される当該ガラスマスク保
持装置を用い、ガラスマスクのパタ−ンを高精度に検査
することが可能な検査装置を提供することである。
成されたガラスマスクが搭載される当該ガラスマスク保
持装置を用い、ガラスマスクのパタ−ンを高精度に検査
することが可能な検査装置を提供することである。
【００３３】また、第四の目的は、ガラスマスクに変形
や歪みを生じさせずに（つまり、変形や歪みの補正を必
要とせずに）ガラスマスクを保持することができるガラ
スマスクの保持方法を提供することである。
や歪みを生じさせずに（つまり、変形や歪みの補正を必
要とせずに）ガラスマスクを保持することができるガラ
スマスクの保持方法を提供することである。
【００３４】また、第五の目的は、ガラスマスクに変形
や歪みを生じさせずにガラスマスクを保持することによ
り、パタ−ニング精度の向上を図り得るガラスマスクの
製造方法を提供することである。
や歪みを生じさせずにガラスマスクを保持することによ
り、パタ−ニング精度の向上を図り得るガラスマスクの
製造方法を提供することである。
【００３５】また、第六の目的は、ガラスマスクに変形
や歪みを生じさせずにガラスマスクを保持することによ
り、ガラスマスクに形成されたパタ−ンの検査精度の向
上を図り得るガラスマスクの検査方法を提供することで
ある。
や歪みを生じさせずにガラスマスクを保持することによ
り、ガラスマスクに形成されたパタ−ンの検査精度の向
上を図り得るガラスマスクの検査方法を提供することで
ある。
【００３６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のガラスマスクの保持装置は、ガラスマスク
の比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液体が入れ
られる凹部を有する本体と、前記不揮発性の液体に浮く
前記ガラスマスクの側面に一定の応力を加えて前記ガラ
スマスクを保持する基準片とを備えている。
め、本発明のガラスマスクの保持装置は、ガラスマスク
の比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液体が入れ
られる凹部を有する本体と、前記不揮発性の液体に浮く
前記ガラスマスクの側面に一定の応力を加えて前記ガラ
スマスクを保持する基準片とを備えている。
【００３７】前記基準片は、圧力センサを備えており、
前記ガラスマスクに変形が生じない応力で前記ガラスマ
スクを保持する。前記基準片は、可動式であり、前記ガ
ラスマスクの全ての側面に前記一定の応力を加えて前記
ガラスマスクを保持する。
前記ガラスマスクに変形が生じない応力で前記ガラスマ
スクを保持する。前記基準片は、可動式であり、前記ガ
ラスマスクの全ての側面に前記一定の応力を加えて前記
ガラスマスクを保持する。
【００３８】本発明の露光装置は、ガラスマスクの比重
よりも大きい比重を有する不揮発性の液体が入れられる
凹部を有し、前記不揮発性の液体に浮く前記ガラスマス
クの側面に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持
する保持装置と、前記保持装置に保持された前記ガラス
マスク上のレジストに荷電粒子ビ−ム又は光ビ−ムを当
てて前記ガラスマスク上のレジストを露光する手段とを
備えている。
よりも大きい比重を有する不揮発性の液体が入れられる
凹部を有し、前記不揮発性の液体に浮く前記ガラスマス
クの側面に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持
する保持装置と、前記保持装置に保持された前記ガラス
マスク上のレジストに荷電粒子ビ−ム又は光ビ−ムを当
てて前記ガラスマスク上のレジストを露光する手段とを
備えている。
【００３９】本発明の検査装置は、ガラスマスクの比重
よりも大きい比重を有する不揮発性の液体が入れられる
凹部を有し、前記不揮発性の液体に浮く前記ガラスマス
クの側面に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持
する保持装置と、前記保持装置に保持された前記ガラス
マスクに描かれたパタ−ンを検査する手段とを備えてい
る。
よりも大きい比重を有する不揮発性の液体が入れられる
凹部を有し、前記不揮発性の液体に浮く前記ガラスマス
クの側面に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持
する保持装置と、前記保持装置に保持された前記ガラス
マスクに描かれたパタ−ンを検査する手段とを備えてい
る。
【００４０】本発明のガラスマスクの保持方法は、ガラ
スマスクの比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液
体に前記ガラスマスクを浮かせ、前記ガラスマスクの側
面に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持する、
というものである。
スマスクの比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液
体に前記ガラスマスクを浮かせ、前記ガラスマスクの側
面に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持する、
というものである。
【００４１】前記ガラスマスクの側面に加える前記一定
の応力を検出し、前記ガラスマスクに変形が生じない応
力で前記ガラスマスクを保持している。前記ガラスマス
クの全ての側面に前記一定の応力を加えることにより前
記ガラスマスクを保持している。
の応力を検出し、前記ガラスマスクに変形が生じない応
力で前記ガラスマスクを保持している。前記ガラスマス
クの全ての側面に前記一定の応力を加えることにより前
記ガラスマスクを保持している。
【００４２】本発明のガラスマスクの製造方法は、ガラ
スマスク上に遮光膜を形成し、前記遮光膜上にレジスト
を塗布し、前記ガラスマスクの比重よりも大きい比重を
有する不揮発性の液体に前記ガラスマスクを浮かせ、前
記ガラスマスクの側面に一定の応力を加えて前記ガラス
マスクを保持し、前記レジストに荷電粒子ビ−ム又は光
ビ−ムを当てることにより前記レジストを露光し、前記
レジストを現像し、レジストパタ−ンを形成し、前記レ
ジストパタ−ンをマスクにして前記遮光膜をエッチング
し、前記レジストパタ−ンを剥離する、という一連の工
程を備えている。
スマスク上に遮光膜を形成し、前記遮光膜上にレジスト
を塗布し、前記ガラスマスクの比重よりも大きい比重を
有する不揮発性の液体に前記ガラスマスクを浮かせ、前
記ガラスマスクの側面に一定の応力を加えて前記ガラス
マスクを保持し、前記レジストに荷電粒子ビ−ム又は光
ビ−ムを当てることにより前記レジストを露光し、前記
レジストを現像し、レジストパタ−ンを形成し、前記レ
ジストパタ−ンをマスクにして前記遮光膜をエッチング
し、前記レジストパタ−ンを剥離する、という一連の工
程を備えている。
【００４３】本発明のガラスマスクの検査方法は、ガラ
スマスクの比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液
体に前記ガラスマスクを浮かせ、前記ガラスマスクの側
面に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持し、前
記ガラスマスクに描かれたパタ−ンを検査する、という
ものである。
スマスクの比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液
体に前記ガラスマスクを浮かせ、前記ガラスマスクの側
面に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持し、前
記ガラスマスクに描かれたパタ−ンを検査する、という
ものである。
【００４４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明のガラスマスクの保持装置、及びこれを有する露光装
置及び検査装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造
方法及び検査方法について詳細に説明する。
明のガラスマスクの保持装置、及びこれを有する露光装
置及び検査装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造
方法及び検査方法について詳細に説明する。
【００４５】図１及び図２は、本発明の実施の形態に関
わるガラスマスクの保持装置を示すものである。本体６
１には、四角形の凹部６２が設けられている。本体６１
の凹部６２の４つの辺の各々には、窪み６３ａ〜６３ｄ
が設けられている。窪み６３ａ〜６３ｄ内には、基準片
６４ａ〜６４ｄが配置されている。
わるガラスマスクの保持装置を示すものである。本体６
１には、四角形の凹部６２が設けられている。本体６１
の凹部６２の４つの辺の各々には、窪み６３ａ〜６３ｄ
が設けられている。窪み６３ａ〜６３ｄ内には、基準片
６４ａ〜６４ｄが配置されている。
【００４６】基準片６４ａは、窪み６３ａが設けられる
凹部６２の１辺に垂直な方向へ移動することができるよ
うに構成されている。同様に、基準片６４ｂは、窪み６
３ｂが設けられる凹部６２の１辺に垂直な方向、基準片
６４ｃは、窪み６３ｃが設けられる凹部６２の１辺に垂
直な方向、基準片６４ｄは、窪み６３ｄが設けられる凹
部６２の１辺に垂直な方向へ、それぞれ移動することが
できるように構成されている。
凹部６２の１辺に垂直な方向へ移動することができるよ
うに構成されている。同様に、基準片６４ｂは、窪み６
３ｂが設けられる凹部６２の１辺に垂直な方向、基準片
６４ｃは、窪み６３ｃが設けられる凹部６２の１辺に垂
直な方向、基準片６４ｄは、窪み６３ｄが設けられる凹
部６２の１辺に垂直な方向へ、それぞれ移動することが
できるように構成されている。
【００４７】基準片６４ａ〜６４ｄは、駆動装置６５に
より駆動される。本体６１の凹部６２内には、不揮発性
の液体６６が所定位置まで満たされる。液量調節装置６
７は、不揮発性の液体６６の液面の位置を調節する。
より駆動される。本体６１の凹部６２内には、不揮発性
の液体６６が所定位置まで満たされる。液量調節装置６
７は、不揮発性の液体６６の液面の位置を調節する。
【００４８】不揮発性の液体６６には、その比重がガラ
スマスク１１の比重よりも大きいものが選択される。即
ち、ガラスマスク１１は、不揮発性の液体６６に浮く
（少なくともガラスマスクの表面が液体６６の液面から
露出している）ことが必要である。
スマスク１１の比重よりも大きいものが選択される。即
ち、ガラスマスク１１は、不揮発性の液体６６に浮く
（少なくともガラスマスクの表面が液体６６の液面から
露出している）ことが必要である。
【００４９】例えば、ガラスマスク１１が石英から構成
される場合、不揮発性の液体６６の比重は、石英の比重
よりも大きいことが必要である。基準片６４ａ〜６４ｄ
には、圧力センサが内蔵されている。従って、基準片６
４ａ〜６４ｄは、非常に小さい所定の応力を、四角形の
ガラスマスク１１の４辺に加えることができる。
される場合、不揮発性の液体６６の比重は、石英の比重
よりも大きいことが必要である。基準片６４ａ〜６４ｄ
には、圧力センサが内蔵されている。従って、基準片６
４ａ〜６４ｄは、非常に小さい所定の応力を、四角形の
ガラスマスク１１の４辺に加えることができる。
【００５０】即ち、ガラスマスク１１は、基準片６４ａ
〜６４ｄにより保持されることになる。制御装置６８
は、基準片６４ａ〜６４ｄから応力に関するデ−タを受
け取り、駆動装置６５の動作を制御する。
〜６４ｄにより保持されることになる。制御装置６８
は、基準片６４ａ〜６４ｄから応力に関するデ−タを受
け取り、駆動装置６５の動作を制御する。
【００５１】上記構成のガラスマスクの保持装置によれ
ば、第一に、ガラスマスク１１は、不揮発性の液体６６
に浮かべられている。従って、ガラスマスク１１は、不
揮発性の液体６６により均等に支えられることになり、
ガラスマスク１１の自重による歪みがなくなる。
ば、第一に、ガラスマスク１１は、不揮発性の液体６６
に浮かべられている。従って、ガラスマスク１１は、不
揮発性の液体６６により均等に支えられることになり、
ガラスマスク１１の自重による歪みがなくなる。
【００５２】また、ガラスマスク１１の裏面は、不揮発
性の液体６６に接触しているため、ガラスマスク１１が
きずつくこともない。また、ガラスマスク１１の各辺
に、基準片６４ａ〜６４ｄにより非常に小さな応力を加
えることで、ガラスマスク１１を保持し、かつ、ガラス
マスク１１の位置のばらつきをなくしている。
性の液体６６に接触しているため、ガラスマスク１１が
きずつくこともない。また、ガラスマスク１１の各辺
に、基準片６４ａ〜６４ｄにより非常に小さな応力を加
えることで、ガラスマスク１１を保持し、かつ、ガラス
マスク１１の位置のばらつきをなくしている。
【００５３】従って、ガラスマスク１１に加わる応力に
よる当該ガラスマスク１１の変形は、ほとんどない。こ
れにより、以下に述べる当該ガラスマスク保持装置を用
いた露光装置におけるパタ−ニング精度を向上させるこ
とができ、また、当該ガラスマスク保持装置を用いた検
査装置におけるパタ−ンの検査精度を向上させることが
できる。
よる当該ガラスマスク１１の変形は、ほとんどない。こ
れにより、以下に述べる当該ガラスマスク保持装置を用
いた露光装置におけるパタ−ニング精度を向上させるこ
とができ、また、当該ガラスマスク保持装置を用いた検
査装置におけるパタ−ンの検査精度を向上させることが
できる。
【００５４】図３は、図１及び図２のガラスマスクの保
持装置を用いた露光装置の実施の形態を示すものであ
る。本実施の形態では、荷電粒子（電子）ビ−ム露光装
置について説明する。
持装置を用いた露光装置の実施の形態を示すものであ
る。本実施の形態では、荷電粒子（電子）ビ−ム露光装
置について説明する。
【００５５】ガラスマスク保持装置７１は、試料室７２
内のステ−ジ７３上に配置される。ステ−ジ７３は、駆
動装置７４により、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に動くこ
とができる。
内のステ−ジ７３上に配置される。ステ−ジ７３は、駆
動装置７４により、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に動くこ
とができる。
【００５６】荷電粒子ビ−ム銃７５から放出される荷電
粒子は、対物レンズ（縮小レンズ）７６の間を経由し
て、ガラスマスク保持装置７１に保持されたガラスマス
ク上のレジストに照射される。
粒子は、対物レンズ（縮小レンズ）７６の間を経由し
て、ガラスマスク保持装置７１に保持されたガラスマス
ク上のレジストに照射される。
【００５７】制御装置７７は、駆動装置７４、荷電粒子
ビ−ム銃７５及び対物レンズ７６を制御している。ま
た、ガラスマスクの保持装置７１は、上述したように、
ガラスマスクにかかる応力に関するデ−タを制御装置７
７に与える。制御装置７７は、当該応力に関するデ−タ
に基づいて駆動装置６５を制御している。
ビ−ム銃７５及び対物レンズ７６を制御している。ま
た、ガラスマスクの保持装置７１は、上述したように、
ガラスマスクにかかる応力に関するデ−タを制御装置７
７に与える。制御装置７７は、当該応力に関するデ−タ
に基づいて駆動装置６５を制御している。
【００５８】上記構成の露光装置によれば、ガラスマス
クの変形や歪みは、ほとんどないため、ガラスマスク上
のレジストを、高精度に露光することができる。従っ
て、ガラスマスク上のレジストのパタ−ニング精度を向
上させることができる。
クの変形や歪みは、ほとんどないため、ガラスマスク上
のレジストを、高精度に露光することができる。従っ
て、ガラスマスク上のレジストのパタ−ニング精度を向
上させることができる。
【００５９】図４は、図１及び図２のガラスマスクの保
持装置を用いたガラスマスクの検査装置の実施の形態を
示すものである。ガラスマスク保持装置８１は、試料室
８２内のステ−ジ８３上に配置される。ステ−ジ８３
は、駆動装置８４により、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に
動くことができる。
持装置を用いたガラスマスクの検査装置の実施の形態を
示すものである。ガラスマスク保持装置８１は、試料室
８２内のステ−ジ８３上に配置される。ステ−ジ８３
は、駆動装置８４により、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に
動くことができる。
【００６０】測定装置８５は、ステ−ジ８３上に配置さ
れる。測定装置８５は、例えばレ−ザビ−ムをガラスマ
スク保持装置８１のガラスマスクに照射することで、ガ
ラスマスク上の遮光膜のパタ−ンを検査する。
れる。測定装置８５は、例えばレ−ザビ−ムをガラスマ
スク保持装置８１のガラスマスクに照射することで、ガ
ラスマスク上の遮光膜のパタ−ンを検査する。
【００６１】制御装置８６は、駆動装置８４及び検査装
置８５を制御する。また、ガラスマスクの保持装置８１
は、上述したように、ガラスマスクにかかる応力に関す
るデ−タを制御装置８６に与える。制御装置８６は、当
該応力に関するデ−タに基づいて駆動装置６５を制御し
ている。
置８５を制御する。また、ガラスマスクの保持装置８１
は、上述したように、ガラスマスクにかかる応力に関す
るデ−タを制御装置８６に与える。制御装置８６は、当
該応力に関するデ−タに基づいて駆動装置６５を制御し
ている。
【００６２】上記構成の検査装置によれば、ガラスマス
クの変形や歪みは、ほとんどないため、ガラスマスクの
パタ−ンを、高精度に検査することができる。従って、
ガラスマスクのパタ−ンの検査精度を向上させることが
できる。
クの変形や歪みは、ほとんどないため、ガラスマスクの
パタ−ンを、高精度に検査することができる。従って、
ガラスマスクのパタ−ンの検査精度を向上させることが
できる。
【００６３】次に、本発明のガラスマスクの保持方法に
ついて説明する。まず、図５及び図６に示すように、ガ
ラスマスクの保持装置の本体６１の凹部６２内に不揮発
性の液体６６を所定量だけ入れる。不揮発性の液体６６
の液量は、液量調節装置６７により調節される。
ついて説明する。まず、図５及び図６に示すように、ガ
ラスマスクの保持装置の本体６１の凹部６２内に不揮発
性の液体６６を所定量だけ入れる。不揮発性の液体６６
の液量は、液量調節装置６７により調節される。
【００６４】この後、図７及び図８に示すように、不揮
発性の液体６６の液面にガラスマスク１１を浮かべる。
この時、ガラスマスク１１の表面が液体６６の液面から
露出していることが必要である。
発性の液体６６の液面にガラスマスク１１を浮かべる。
この時、ガラスマスク１１の表面が液体６６の液面から
露出していることが必要である。
【００６５】この後、図９及び図１０に示すように、駆
動装置６５により基準片６４ａ〜６４ｄを移動させる。
基準片６４ａ〜６４ｄは、ガラスマスクの各辺に近付
き、接触する。基準片６４ａ〜６４ｄは、ガラスマスク
１１を保持することができる最小の応力をガラスマスク
１１に与える。
動装置６５により基準片６４ａ〜６４ｄを移動させる。
基準片６４ａ〜６４ｄは、ガラスマスクの各辺に近付
き、接触する。基準片６４ａ〜６４ｄは、ガラスマスク
１１を保持することができる最小の応力をガラスマスク
１１に与える。
【００６６】これにより、ガラスマスク１１は、変形や
歪みなどなしに、ガラスマスクの保持装置に保持される
ことになる。次に、本発明のガラスマスクの製造方法に
ついて説明する。
歪みなどなしに、ガラスマスクの保持装置に保持される
ことになる。次に、本発明のガラスマスクの製造方法に
ついて説明する。
【００６７】まず、図１１に示すように、ガラスマスク
１１の一主面上に遮光膜（クロム膜などの光を透過しな
い膜）１２を形成する。また、遮光膜１２上にレジスト
１３を塗布する。
１１の一主面上に遮光膜（クロム膜などの光を透過しな
い膜）１２を形成する。また、遮光膜１２上にレジスト
１３を塗布する。
【００６８】この後、図１２に示すように、荷電粒子ビ
−ム露光装置のステ−ジ７３上に配置されたガラスマス
クの保持装置７１に当該ガラスマスクを搭載する。ま
た、ガラスマスクの保持装置７１の基準片を移動させ、
非常に微小な応力により当該ガラスマスクを保持する。
−ム露光装置のステ−ジ７３上に配置されたガラスマス
クの保持装置７１に当該ガラスマスクを搭載する。ま
た、ガラスマスクの保持装置７１の基準片を移動させ、
非常に微小な応力により当該ガラスマスクを保持する。
【００６９】そして、駆動装置７４によりステ−ジ７３
を移動させて位置合わせを行った後に、荷電粒子ビ−ム
銃７５から当該ガラスマスクに荷電粒子を放射し、当該
ガラスマスク上のレジストを露光する。
を移動させて位置合わせを行った後に、荷電粒子ビ−ム
銃７５から当該ガラスマスクに荷電粒子を放射し、当該
ガラスマスク上のレジストを露光する。
【００７０】また、ガラスマスクをガラスマスクの保持
装置から取り外し、当該ガラスマスク上のレジストを現
像すると、所定のレジストパタ−ンが形成される。この
レジストパタ−ンをマスクにして遮光膜をエッチングし
た後に、レジストは、剥離される。
装置から取り外し、当該ガラスマスク上のレジストを現
像すると、所定のレジストパタ−ンが形成される。この
レジストパタ−ンをマスクにして遮光膜をエッチングし
た後に、レジストは、剥離される。
【００７１】その結果、図１３及び図１４に示すよう
に、所定のパタ−ンが遮光膜１２に描かれたガラスマス
ク１１が完成する。このようなガラスマスクの製造方法
によれば、露光時に、ガラスマスクは、液体に浮かべら
れ、かつ、非常に小さな応力により保持されている。従
って、露光時において、ガラスマスクに変形や歪みが生
じることがないので、ガラスマスクのパタ−ニング精度
を向上させることができる。
に、所定のパタ−ンが遮光膜１２に描かれたガラスマス
ク１１が完成する。このようなガラスマスクの製造方法
によれば、露光時に、ガラスマスクは、液体に浮かべら
れ、かつ、非常に小さな応力により保持されている。従
って、露光時において、ガラスマスクに変形や歪みが生
じることがないので、ガラスマスクのパタ−ニング精度
を向上させることができる。
【００７２】次に、ガラスマスクの検査方法について説
明する。まず、図１５に示すように、検査装置のステ−
ジ８３上に配置されたガラスマスクの保持装置８１に当
該ガラスマスクを搭載する。また、ガラスマスクの保持
装置８１の基準片を移動させ、非常に微小な応力により
当該ガラスマスクを保持する。
明する。まず、図１５に示すように、検査装置のステ−
ジ８３上に配置されたガラスマスクの保持装置８１に当
該ガラスマスクを搭載する。また、ガラスマスクの保持
装置８１の基準片を移動させ、非常に微小な応力により
当該ガラスマスクを保持する。
【００７３】この後、図１６に示すように、レ−ザ装置
９１からレ−ザビ−ムをガラスマスク保持装置のガラス
マスク１１に照射し、その反射光を検出器９２により検
出することで、ガラスマスク１１上の遮光膜１２のパタ
−ンを検査する。
９１からレ−ザビ−ムをガラスマスク保持装置のガラス
マスク１１に照射し、その反射光を検出器９２により検
出することで、ガラスマスク１１上の遮光膜１２のパタ
−ンを検査する。
【００７４】即ち、駆動装置９３によりレ−ザビ−ムを
一定方向に走査させることで、図１７に示すように遮光
膜１２のエッジ部分を検出することができる。検査の終
了したガラスマスクのうち良品は、完成品として出荷さ
れる。
一定方向に走査させることで、図１７に示すように遮光
膜１２のエッジ部分を検出することができる。検査の終
了したガラスマスクのうち良品は、完成品として出荷さ
れる。
【００７５】なお、図１８に示すように、ガラスマスク
（レチクル）１１は、光リソグラフィ時に、ウェハ１０
２上のレジストを露光するために使用される。このよう
なガラスマスクの検査方法によれば、検査時に、ガラス
マスクは、液体に浮かべられ、かつ、非常に小さな応力
により保持されている。従って、検査時において、ガラ
スマスクに変形や歪みが生じることがないので、ガラス
マスクのパタ−ンの検査精度を向上させることができ
る。
（レチクル）１１は、光リソグラフィ時に、ウェハ１０
２上のレジストを露光するために使用される。このよう
なガラスマスクの検査方法によれば、検査時に、ガラス
マスクは、液体に浮かべられ、かつ、非常に小さな応力
により保持されている。従って、検査時において、ガラ
スマスクに変形や歪みが生じることがないので、ガラス
マスクのパタ−ンの検査精度を向上させることができ
る。
【００７６】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明のガラス
マスクの保持装置、及びこれを有する露光装置及び検査
装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造方法及び検
査方法によれば、次のような効果を奏する。
マスクの保持装置、及びこれを有する露光装置及び検査
装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造方法及び検
査方法によれば、次のような効果を奏する。
【００７７】第一に、本発明のガラスマスクの保持装置
では、ガラスマスクを液体に浮かべ、かつ、ガラスマス
クの各側面に非常に小さな応力を与えて当該ガラスマス
クを保持している。従って、ガラスマスクの変形や歪み
が生じることのない（つまり、変形や歪みの補正も必要
ない）新規な構成のガラスマスクの保持装置を提供する
ことができる。
では、ガラスマスクを液体に浮かべ、かつ、ガラスマス
クの各側面に非常に小さな応力を与えて当該ガラスマス
クを保持している。従って、ガラスマスクの変形や歪み
が生じることのない（つまり、変形や歪みの補正も必要
ない）新規な構成のガラスマスクの保持装置を提供する
ことができる。
【００７８】第二に、レジストが塗布されたガラスマス
クを当該ガラスマスクの保持装置に搭載し、このガラス
マスクの保持装置を露光装置に備えることにより、ガラ
スマスク上のレジストに、高精度に所定のパタ−ンを描
くことが可能になる。従って、ガラスマスクのパタ−ニ
ング精度を向上させることができる。
クを当該ガラスマスクの保持装置に搭載し、このガラス
マスクの保持装置を露光装置に備えることにより、ガラ
スマスク上のレジストに、高精度に所定のパタ−ンを描
くことが可能になる。従って、ガラスマスクのパタ−ニ
ング精度を向上させることができる。
【００７９】第三に、所定のパタ−ンが形成されたガラ
スマスクを当該ガラスマスクの保持装置に搭載し、この
ガラスマスクの保持装置を検査装置に備えることによ
り、ガラスマスクのパタ−ンを高精度に検査することが
可能になる。従って、ガラスマスクのパタ−ンの検査精
度を向上させることができる。
スマスクを当該ガラスマスクの保持装置に搭載し、この
ガラスマスクの保持装置を検査装置に備えることによ
り、ガラスマスクのパタ−ンを高精度に検査することが
可能になる。従って、ガラスマスクのパタ−ンの検査精
度を向上させることができる。
【００８０】第四に、本発明のガラスマスクの保持方法
では、ガラスマスクを液体に浮かべ、かつ、ガラスマス
クの各側面に非常に小さな応力を与えて当該ガラスマス
クを保持するようにしている。従って、ガラスマスクに
変形や歪みを生じさせずに（つまり、変形や歪みの補正
を必要とせずに）ガラスマスクを保持できる。
では、ガラスマスクを液体に浮かべ、かつ、ガラスマス
クの各側面に非常に小さな応力を与えて当該ガラスマス
クを保持するようにしている。従って、ガラスマスクに
変形や歪みを生じさせずに（つまり、変形や歪みの補正
を必要とせずに）ガラスマスクを保持できる。
【００８１】第五に、本発明のガラスマスクの製造方法
では、ガラスマスクに変形や歪みを生じさせずにガラス
マスクを保持しているため、パタ−ニング精度の向上を
図ることができる。
では、ガラスマスクに変形や歪みを生じさせずにガラス
マスクを保持しているため、パタ−ニング精度の向上を
図ることができる。
【００８２】第六に、本発明のガラスマスクの検査方法
では、ガラスマスクに変形や歪みを生じさせずにガラス
マスクを保持しているため、ガラスマスクに形成された
パタ−ンの検査精度の向上を図ることができる。
では、ガラスマスクに変形や歪みを生じさせずにガラス
マスクを保持しているため、ガラスマスクに形成された
パタ−ンの検査精度の向上を図ることができる。
【図１】本発明のガラスマスクの保持装置を示す平面
図。
図。
【図２】本発明のガラスマスクの保持装置を示す断面
図。
図。
【図３】図１及び図２の保持装置を用いた露光装置を示
す断面図。
す断面図。
【図４】図１及び図２の保持装置を用いた検査装置を示
す断面図。
す断面図。
【図５】本発明のガラスマスクの保持方法の一工程を示
す平面図。
す平面図。
【図６】本発明のガラスマスクの保持方法の一工程を示
す断面図。
す断面図。
【図７】本発明のガラスマスクの保持方法の一工程を示
す平面図。
す平面図。
【図８】本発明のガラスマスクの保持方法の一工程を示
す断面図。
す断面図。
【図９】本発明のガラスマスクの保持方法の一工程を示
す平面図。
す平面図。
【図１０】本発明のガラスマスクの保持方法の一工程を
示す断面図。
示す断面図。
【図１１】本発明のガラスマスクの製造方法の一工程を
示す断面図。
示す断面図。
【図１２】本発明のガラスマスクの製造方法の一工程を
示す断面図。
示す断面図。
【図１３】本発明のガラスマスクの製造方法の一工程を
示す平面図。
示す平面図。
【図１４】本発明のガラスマスクの製造方法の一工程を
示す断面図。
示す断面図。
【図１５】本発明のガラスマスクの検査方法の一工程を
示す断面図。
示す断面図。
【図１６】本発明のガラスマスクの検査方法の一工程を
示す断面図。
示す断面図。
【図１７】図１６の検査方法による検査結果の一例を示
す図。
す図。
【図１８】ガラスマスクを用いた光リソグラフィ方法を
示す断面図。
示す断面図。
【図１９】従来のガラスマスクの製造方法の一工程を示
す断面図。
す断面図。
【図２０】従来のガラスマスクの保持装置を示す平面
図。
図。
【図２１】従来のガラスマスクの保持装置を示す断面
図。
図。
【図２２】従来のガラスマスクの保持装置を示す平面
図。
図。
【図２３】従来のガラスマスクの保持装置を示す断面
図。
図。
【図２４】従来の露光装置を示す断面図。
【図２５】従来のガラスマスクの製造方法の一工程を示
す平面図。
す平面図。
【図２６】従来のガラスマスクの製造方法の一工程を示
す断面図。
す断面図。
【図２７】従来の検査装置を示す断面図。
１１ ：ガラスマスク、 １２ ：遮光膜、 １３ ：レジスト、 ２１，３１，６１，７１ ：本体、 ２２ａ〜２２ｃ ：弾性体、 ２３ａ〜２３ｃ ：圧力子、 ２４ａ〜２４ｃ，３２ａ〜３２ｃ ：基準片、 ４１，５１，７１，８１ ：ガラスマスクの保持
装置、 ４２，５２，７２，８２ ：試料室、 ４３，５３，７３，８３，１０１：ステ−ジ、 ４４，５４，６５，７４，８４、９３ ：駆動装置、 ４５，７５ ：荷電粒子ビ−ム銃、 ４６，７６ ：対物レンズ、 ４７，５６，６８，７７，８６ ：制御装置、 ５５，８５ ：検査装置、 ６２ ：凹部、 ６３ａ〜６３ｄ ：窪み、 ６４ａ〜６４ｄ ：基準片、 ６６ ：不揮発性の液体、 ６７ ：液量調節装置、 ９１ ：レ−ザ装置、 ９２ ：検出器、 １０２ ：ウェハ、 １０３ ：光。
装置、 ４２，５２，７２，８２ ：試料室、 ４３，５３，７３，８３，１０１：ステ−ジ、 ４４，５４，６５，７４，８４、９３ ：駆動装置、 ４５，７５ ：荷電粒子ビ−ム銃、 ４６，７６ ：対物レンズ、 ４７，５６，６８，７７，８６ ：制御装置、 ５５，８５ ：検査装置、 ６２ ：凹部、 ６３ａ〜６３ｄ ：窪み、 ６４ａ〜６４ｄ ：基準片、 ６６ ：不揮発性の液体、 ６７ ：液量調節装置、 ９１ ：レ−ザ装置、 ９２ ：検出器、 １０２ ：ウェハ、 １０３ ：光。
Claims (10)
- 【請求項１】 ガラスマスクの比重よりも大きい比重を
有する不揮発性の液体が入れられる凹部を有する本体
と、前記不揮発性の液体に浮く前記ガラスマスクの側面
に一定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持する基準
片とを具備することを特徴とするガラスマスクの保持装
置。 - 【請求項２】 前記基準片は、圧力センサを備えてお
り、前記ガラスマスクに変形が生じない応力で前記ガラ
スマスクを保持することを特徴とする請求項１に記載の
ガラスマスクの保持装置。 - 【請求項３】 前記基準片は、可動式であり、前記ガラ
スマスクの全ての側面に前記一定の応力を加えて前記ガ
ラスマスクを保持することを特徴とする請求項１に記載
のガラスマスクの保持装置。 - 【請求項４】 ガラスマスクの比重よりも大きい比重を
有する不揮発性の液体が入れられる凹部を有し、前記不
揮発性の液体に浮く前記ガラスマスクの側面に一定の応
力を加えて前記ガラスマスクを保持する保持装置と、前
記保持装置に保持された前記ガラスマスク上のレジスト
に荷電粒子ビ−ム又は光ビ−ムを当てて前記ガラスマス
ク上のレジストを露光する手段とを具備することを特徴
とする露光装置。 - 【請求項５】 ガラスマスクの比重よりも大きい比重を
有する不揮発性の液体が入れられる凹部を有し、前記不
揮発性の液体に浮く前記ガラスマスクの側面に一定の応
力を加えて前記ガラスマスクを保持する保持装置と、前
記保持装置に保持された前記ガラスマスクに描かれたパ
タ−ンを検査する手段とを具備することを特徴とする検
査装置。 - 【請求項６】 ガラスマスクの比重よりも大きい比重を
有する不揮発性の液体に前記ガラスマスクを浮かせ、前
記ガラスマスクの側面に一定の応力を加えて前記ガラス
マスクを保持することを特徴とするガラスマスクの保持
方法。 - 【請求項７】 前記ガラスマスクの側面に加える前記一
定の応力を検出し、前記ガラスマスクに変形が生じない
応力で前記ガラスマスクを保持することを特徴とする請
求項６に記載のガラスマスクの保持方法。 - 【請求項８】 前記ガラスマスクの全ての側面に前記一
定の応力を加えることにより前記ガラスマスクを保持す
ることを特徴とする請求項６に記載のガラスマスクの保
持方法。 - 【請求項９】 ガラスマスク上に遮光膜を形成し、前記
遮光膜上にレジストを塗布する工程と、前記ガラスマス
クの比重よりも大きい比重を有する不揮発性の液体に前
記ガラスマスクを浮かせ、前記ガラスマスクの側面に一
定の応力を加えて前記ガラスマスクを保持し、前記レジ
ストに荷電粒子ビ−ム又は光ビ−ムを当てることにより
前記レジストを露光する工程と、前記レジストを現像
し、レジストパタ−ンを形成する工程と、前記レジスト
パタ−ンをマスクにして前記遮光膜をエッチングする工
程と、前記レジストパタ−ンを剥離する工程とを具備す
ることを特徴とするガラスマスクの製造方法。 - 【請求項１０】 ガラスマスクの比重よりも大きい比重
を有する不揮発性の液体に前記ガラスマスクを浮かせ、
前記ガラスマスクの側面に一定の応力を加えて前記ガラ
スマスクを保持し、前記ガラスマスクに描かれたパタ−
ンを検査することを特徴とするガラスマスクの検査方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6472096A JPH09258432A (ja) | 1996-03-21 | 1996-03-21 | ガラスマスクの保持装置、及びこれを有する露光装置及び検査装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造方法及び検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6472096A JPH09258432A (ja) | 1996-03-21 | 1996-03-21 | ガラスマスクの保持装置、及びこれを有する露光装置及び検査装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造方法及び検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09258432A true JPH09258432A (ja) | 1997-10-03 |
Family
ID=13266282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6472096A Pending JPH09258432A (ja) | 1996-03-21 | 1996-03-21 | ガラスマスクの保持装置、及びこれを有する露光装置及び検査装置、並びにガラスマスクの保持方法、製造方法及び検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09258432A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111699548A (zh) * | 2018-03-19 | 2020-09-22 | 东京毅力科创株式会社 | 基片固持设备和形状度量方法 |
-
1996
- 1996-03-21 JP JP6472096A patent/JPH09258432A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111699548A (zh) * | 2018-03-19 | 2020-09-22 | 东京毅力科创株式会社 | 基片固持设备和形状度量方法 |
| JP2021518664A (ja) * | 2018-03-19 | 2021-08-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 形状メトロロジのための基板保持装置及び方法 |
| CN111699548B (zh) * | 2018-03-19 | 2023-12-05 | 东京毅力科创株式会社 | 基片固持设备和形状度量方法 |
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