JPH09253442A - 空気中可溶性ガス除去装置 - Google Patents
空気中可溶性ガス除去装置Info
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- JPH09253442A JPH09253442A JP8066545A JP6654596A JPH09253442A JP H09253442 A JPH09253442 A JP H09253442A JP 8066545 A JP8066545 A JP 8066545A JP 6654596 A JP6654596 A JP 6654596A JP H09253442 A JPH09253442 A JP H09253442A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 気液接触式の空気中可溶性ガス除去装置の除
去効率を高く安定維持する。 【解決手段】 外気が流通するチャンバー１内に純水供
給系２のスプレーノズル５を設置する。純水タンク３の
純水をスプレーノズル５からチャンバー１内に噴霧す
る。チャンバー１内で外気と接触し外気中の可溶性ガス
を溶解させた純水をピット１ａに溜め、回収ポンプ６に
よって純水タンク３に回収する。制御弁９を備えた純水
供給系８を純水タンク３に接続し、制御弁１１を備えた
純水排水系１０を純水タンク３の下部に接続する。純水
タンク３内の純水をサンプリング管１３を介して連続的
にサンプリングし、水質制御器１２でアンモニウムイオ
ン濃度を検出し、その検出値に基づいて制御弁９、１１
の開閉を制御する。
去効率を高く安定維持する。 【解決手段】 外気が流通するチャンバー１内に純水供
給系２のスプレーノズル５を設置する。純水タンク３の
純水をスプレーノズル５からチャンバー１内に噴霧す
る。チャンバー１内で外気と接触し外気中の可溶性ガス
を溶解させた純水をピット１ａに溜め、回収ポンプ６に
よって純水タンク３に回収する。制御弁９を備えた純水
供給系８を純水タンク３に接続し、制御弁１１を備えた
純水排水系１０を純水タンク３の下部に接続する。純水
タンク３内の純水をサンプリング管１３を介して連続的
にサンプリングし、水質制御器１２でアンモニウムイオ
ン濃度を検出し、その検出値に基づいて制御弁９、１１
の開閉を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、空気中に含まれる
可溶性ガスを気液接触により除去する装置に関するもの
である。
可溶性ガスを気液接触により除去する装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】一般大気中あるいは排ガスを伴うプラン
トからの排気空気中に含まれる可溶性ガス成分（NH3 、
SO2 、HCl 、H2S 、HF 等）は、清浄度を要求されるク
リーンルーム内に外気供給装置を介して供給されると、
クリーンルーム内で製造されている製品に種々の障害を
もたらす。この障害については特開平７−６００４４号
において本出願人がその対策の一つを開示している。
トからの排気空気中に含まれる可溶性ガス成分（NH3 、
SO2 、HCl 、H2S 、HF 等）は、清浄度を要求されるク
リーンルーム内に外気供給装置を介して供給されると、
クリーンルーム内で製造されている製品に種々の障害を
もたらす。この障害については特開平７−６００４４号
において本出願人がその対策の一つを開示している。
【０００３】このような障害を防止するためには、クリ
ーンルーム内への外気供給系やプラント排気処理系にお
いて、障害をもたらす可溶性ガス成分の濃度を低減する
ことが要求される。
ーンルーム内への外気供給系やプラント排気処理系にお
いて、障害をもたらす可溶性ガス成分の濃度を低減する
ことが要求される。
【０００４】このような可溶性ガス成分を除去する方法
の一つに、水との気液接触を利用した処理法がある。こ
の処理法では、可溶性ガス成分を含む空気と水とを効率
よく接触させることにより、可溶性ガスを水に溶解させ
て除去する。
の一つに、水との気液接触を利用した処理法がある。こ
の処理法では、可溶性ガス成分を含む空気と水とを効率
よく接触させることにより、可溶性ガスを水に溶解させ
て除去する。
【０００５】ここで吸収液として用いられる水は、空気
が流通する空気流路に連続的に供給され、気液接触後に
回収されて再び空気流路に供給され、循環している。こ
の循環水中の可溶性ガス濃度は循環利用により徐々に高
くなっていき、ある濃度以上になると可溶性ガス成分の
吸収効率が低下し始める。
が流通する空気流路に連続的に供給され、気液接触後に
回収されて再び空気流路に供給され、循環している。こ
の循環水中の可溶性ガス濃度は循環利用により徐々に高
くなっていき、ある濃度以上になると可溶性ガス成分の
吸収効率が低下し始める。
【０００６】この吸収効率の低下を防止し常に安定した
高い吸収効率を確保するためには、循環水の排水と新し
い水の補給によって、循環水の可溶性ガス成分濃度を管
理する必要がある。
高い吸収効率を確保するためには、循環水の排水と新し
い水の補給によって、循環水の可溶性ガス成分濃度を管
理する必要がある。
【０００７】従来、この循環水の可溶性ガス成分濃度の
管理は、循環水の比抵抗値の管理、あるいはシリカ濃度
の管理等によって行っている。その原理は次のとおりで
ある。
管理は、循環水の比抵抗値の管理、あるいはシリカ濃度
の管理等によって行っている。その原理は次のとおりで
ある。
【０００８】除去対象物質である可溶性ガス成分が水に
溶け込むと水の比抵抗値が低下する。つまり、循環水の
比抵抗値と除去物質の水中濃度には相関関係がある。し
たがって、循環水の比抵抗値を管理することにより、循
環水の可溶性ガス成分濃度の管理が可能である。
溶け込むと水の比抵抗値が低下する。つまり、循環水の
比抵抗値と除去物質の水中濃度には相関関係がある。し
たがって、循環水の比抵抗値を管理することにより、循
環水の可溶性ガス成分濃度の管理が可能である。
【０００９】又、空気中に含まれるシリカ成分が水に溶
け込むと水中のシリカ濃度は増加する。このシリカ濃度
を管理することによって間接的に循環水の水質を管理す
ることができる。
け込むと水中のシリカ濃度は増加する。このシリカ濃度
を管理することによって間接的に循環水の水質を管理す
ることができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
管理方法には次のような問題がある。空気中には、除去
対象としての可溶性ガス成分の濃度よりも３桁以上も高
い濃度の炭酸ガスが含まれており、この炭酸ガスは循環
水中に吸収され、その結果、循環水中のHCO3 -イオン濃
度が除去対象の可溶性ガス成分のイオン濃度よりも大き
くなり、循環水の比抵抗値はHCO3 -イオン濃度に殆ど依
存してしまう。したがって、循環水の比抵抗値による水
質管理は余り有効な手段とは言えない。
管理方法には次のような問題がある。空気中には、除去
対象としての可溶性ガス成分の濃度よりも３桁以上も高
い濃度の炭酸ガスが含まれており、この炭酸ガスは循環
水中に吸収され、その結果、循環水中のHCO3 -イオン濃
度が除去対象の可溶性ガス成分のイオン濃度よりも大き
くなり、循環水の比抵抗値はHCO3 -イオン濃度に殆ど依
存してしまう。したがって、循環水の比抵抗値による水
質管理は余り有効な手段とは言えない。
【００１１】一方、循環水のシリカ濃度と除去対象のガ
ス成分濃度との間には何ら相関関係がないので、常に安
定したガス吸収効率を維持するための水質管理としては
余り有効な手段ではない。
ス成分濃度との間には何ら相関関係がないので、常に安
定したガス吸収効率を維持するための水質管理としては
余り有効な手段ではない。
【００１２】つまり、従来の循環水の水質管理方法では
いずれの方法も、実際に管理している物質の物理量と除
去対象ガス成分の濃度との間には殆ど関係がないので、
循環水中の除去対象ガス成分の濃度が高くなり過ぎて吸
収効率が低下する虞れがあり、あるいはその逆に、まだ
まだ除去対象ガスを吸収することができるのに吸収能力
が低下したと見なされて循環水を更新してしまい、循環
水の使用量を増大させる虞れがある。
いずれの方法も、実際に管理している物質の物理量と除
去対象ガス成分の濃度との間には殆ど関係がないので、
循環水中の除去対象ガス成分の濃度が高くなり過ぎて吸
収効率が低下する虞れがあり、あるいはその逆に、まだ
まだ除去対象ガスを吸収することができるのに吸収能力
が低下したと見なされて循環水を更新してしまい、循環
水の使用量を増大させる虞れがある。
【００１３】本発明はこのような従来の技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、可溶性ガス成分の除去効率
を常時安定して高く維持できる空気中可溶性ガス除去装
置を提供することを目的とする。
鑑みてなされたものであり、可溶性ガス成分の除去効率
を常時安定して高く維持できる空気中可溶性ガス除去装
置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、以下の手段を採用した。本発明は、（イ）
可溶性ガスを含む被処理空気が流通する空気流路と、
（ロ）吸収液を空気流路内に供給し、吸収液と被処理空
気とを気液接触させて被処理空気中の可溶性ガスを吸収
液中に溶解し、可溶性ガスが溶存する吸収液を回収して
再び空気流路内に供給する吸収液循環系と、（ハ）吸収
液循環系に新しい吸収液を供給する吸収液供給系と、
（ニ）吸収液循環系から吸収液を排出する吸収液排出系
と、（ホ）吸収液循環系の吸収液中の特定イオンの濃度
を検出し、検出された特定イオンの濃度に基いて吸収液
供給系と吸収液排出系を制御して吸収液循環系の吸収液
中の特定イオンの濃度を所定値以下にする制御手段と、
を備えたことを特徴とする空気中可溶性ガス除去装置で
ある。
するために、以下の手段を採用した。本発明は、（イ）
可溶性ガスを含む被処理空気が流通する空気流路と、
（ロ）吸収液を空気流路内に供給し、吸収液と被処理空
気とを気液接触させて被処理空気中の可溶性ガスを吸収
液中に溶解し、可溶性ガスが溶存する吸収液を回収して
再び空気流路内に供給する吸収液循環系と、（ハ）吸収
液循環系に新しい吸収液を供給する吸収液供給系と、
（ニ）吸収液循環系から吸収液を排出する吸収液排出系
と、（ホ）吸収液循環系の吸収液中の特定イオンの濃度
を検出し、検出された特定イオンの濃度に基いて吸収液
供給系と吸収液排出系を制御して吸収液循環系の吸収液
中の特定イオンの濃度を所定値以下にする制御手段と、
を備えたことを特徴とする空気中可溶性ガス除去装置で
ある。
【００１５】空気流路内で吸収液循環系の吸収液と被処
理空気が気液接触して空気中の可溶性ガス成分が吸収液
中に吸収され除去される。これに伴って吸収液循環系の
吸収液中の可溶性ガス成分濃度が徐々に高まるが、本発
明では吸収液中の特定のイオン濃度を管理することによ
って、可溶性ガス吸収効率の低下を防止する。
理空気が気液接触して空気中の可溶性ガス成分が吸収液
中に吸収され除去される。これに伴って吸収液循環系の
吸収液中の可溶性ガス成分濃度が徐々に高まるが、本発
明では吸収液中の特定のイオン濃度を管理することによ
って、可溶性ガス吸収効率の低下を防止する。
【００１６】被処理空気中の可溶性ガス成分のうち除去
対象となる可溶性ガス成分は予め解っているので、除去
対象である可溶性ガス成分のうち被処理空気中に最も多
く含まれる可溶性ガス成分を管理対象とする。そして、
この管理対象である可溶性ガス成分の吸収に起因して増
大するイオンを特定イオンとして、吸収液循環系の吸収
液の特定イオン濃度を制御手段によって検出し、吸収液
循環系の吸収液の特定イオン濃度が所定値以下となるよ
うに、吸収液供給系と吸収液排出系を制御する。
対象となる可溶性ガス成分は予め解っているので、除去
対象である可溶性ガス成分のうち被処理空気中に最も多
く含まれる可溶性ガス成分を管理対象とする。そして、
この管理対象である可溶性ガス成分の吸収に起因して増
大するイオンを特定イオンとして、吸収液循環系の吸収
液の特定イオン濃度を制御手段によって検出し、吸収液
循環系の吸収液の特定イオン濃度が所定値以下となるよ
うに、吸収液供給系と吸収液排出系を制御する。
【００１７】例えば、吸収液循環系の吸収液の特定イオ
ン濃度が所定値に達した場合には、吸収液排出系から吸
収液循環系の吸収液を排出し、吸収液供給系から新しい
吸収液を吸収液循環系に供給し、吸収液循環系の吸収液
の特定イオン濃度を低下せしめる。これによって、吸収
液循環系の吸収液の可溶性ガス除去効率が回復する。
ン濃度が所定値に達した場合には、吸収液排出系から吸
収液循環系の吸収液を排出し、吸収液供給系から新しい
吸収液を吸収液循環系に供給し、吸収液循環系の吸収液
の特定イオン濃度を低下せしめる。これによって、吸収
液循環系の吸収液の可溶性ガス除去効率が回復する。
【００１８】吸収液循環系において吸収液を空気流路内
に供給する方法としては、吸収液を空気流路内に噴霧す
るようにしてもよいし、空気流路内に多数の平行板を設
置してこの平行板の表面に沿って吸収液を流通させるよ
うにしてもよい。要するに、空気流路内を流れる空気と
吸収液が効率よく気液接触することができる手段が講じ
られていれば、供給方法や構造は特に限定されるもので
はない。尚、吸収液を空気流路内で噴霧する場合には、
気流に対して対向してあるいは直交して噴霧することも
できる。特定イオン濃度の測定精度の点から、吸収液に
は純水が好適である。
に供給する方法としては、吸収液を空気流路内に噴霧す
るようにしてもよいし、空気流路内に多数の平行板を設
置してこの平行板の表面に沿って吸収液を流通させるよ
うにしてもよい。要するに、空気流路内を流れる空気と
吸収液が効率よく気液接触することができる手段が講じ
られていれば、供給方法や構造は特に限定されるもので
はない。尚、吸収液を空気流路内で噴霧する場合には、
気流に対して対向してあるいは直交して噴霧することも
できる。特定イオン濃度の測定精度の点から、吸収液に
は純水が好適である。
【００１９】吸収液循環系に一時貯溜タンクを設置し
て、この一時貯溜タンクに吸収液供給系から新鮮な吸収
液を補給できるようにし、吸収液排水系を一時貯溜タン
クに接続して一時貯溜タンクから吸収液を排水できるよ
うにし、制御手段は、一時貯溜タンク内の吸収液をサン
プリングして吸収液中の特定イオン濃度を検出するよう
に構成することも可能である。
て、この一時貯溜タンクに吸収液供給系から新鮮な吸収
液を補給できるようにし、吸収液排水系を一時貯溜タン
クに接続して一時貯溜タンクから吸収液を排水できるよ
うにし、制御手段は、一時貯溜タンク内の吸収液をサン
プリングして吸収液中の特定イオン濃度を検出するよう
に構成することも可能である。
【００２０】制御手段については、特定イオン濃度を連
続的に検出するのが最も好ましいが、特定イオン濃度を
所定時間毎に間欠的に検出することも可能である。特定
イオン濃度を検出する手段は連続的に検出可能なものが
好ましく、イオンクロマト分析器を例示することができ
る。
続的に検出するのが最も好ましいが、特定イオン濃度を
所定時間毎に間欠的に検出することも可能である。特定
イオン濃度を検出する手段は連続的に検出可能なものが
好ましく、イオンクロマト分析器を例示することができ
る。
【００２１】特定イオンとしては、アンモニウムイオン
（NH4 -）、硫酸イオン（SO4 2-）、塩素イオン（Cl-）、
フッ素イオン（F-）等を例示することができる。本発明
の空気中可溶性ガス除去装置は、屋外の新鮮な外気から
可溶性ガスを除去してクリーンルーム等に給気する場合
に用いることもできるし、有害ガスを含む排気から有害
ガスを除去して排出する場合にも用いることができる。
（NH4 -）、硫酸イオン（SO4 2-）、塩素イオン（Cl-）、
フッ素イオン（F-）等を例示することができる。本発明
の空気中可溶性ガス除去装置は、屋外の新鮮な外気から
可溶性ガスを除去してクリーンルーム等に給気する場合
に用いることもできるし、有害ガスを含む排気から有害
ガスを除去して排出する場合にも用いることができる。
【００２２】特定イオンの濃度を設定値以下に制御する
制御手段をはじめとする本発明の構成要素は、ユニット
として一体化して構成してもよいし、既設のクリーンル
ームに本発明を適用する場合などには、各要素を離間し
て設けることもできる。
制御手段をはじめとする本発明の構成要素は、ユニット
として一体化して構成してもよいし、既設のクリーンル
ームに本発明を適用する場合などには、各要素を離間し
て設けることもできる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図１
及び図２の図面に基いて説明する。
及び図２の図面に基いて説明する。
【００２４】〔第１の実施の形態〕図１は第１の実施の
形態における空気中可溶性ガス除去装置（以下、除去装
置という）の構成図であり、この実施の形態は、屋外の
外気から可溶性ガスを除去してクリーンルームに給気す
るエアーウォッシャに適用した態様である。
形態における空気中可溶性ガス除去装置（以下、除去装
置という）の構成図であり、この実施の形態は、屋外の
外気から可溶性ガスを除去してクリーンルームに給気す
るエアーウォッシャに適用した態様である。
【００２５】本態様での吸収液と被処理空気との気液接
触はダクトに介装したチャンバー１内で行う例にて説明
する。被処理空気としての外気はチャンバー１内を図中
矢印のように左から右に流通する。チャンバー１には吸
収液としての純水を循環供給する純水循環系（吸収液循
環系）２が設置されている。
触はダクトに介装したチャンバー１内で行う例にて説明
する。被処理空気としての外気はチャンバー１内を図中
矢印のように左から右に流通する。チャンバー１には吸
収液としての純水を循環供給する純水循環系（吸収液循
環系）２が設置されている。
【００２６】純水循環系２は、純水タンク３に貯留され
た純水を供給ポンプ４によりポンプアップし、スプレー
ノズル５からチャンバー１内に純水を噴霧するように構
成されている。チャンバー１内には、スプレーノズル５
から噴霧された純水を回収するピット１ａが設けられて
おり、ピット１ａの下流側には飛散ミストを回収するエ
リミネータ７が設置されている。そして、純水循環系２
は、ピット１ａの純水を回収ポンプ６により純水タンク
３に回収するように構成されている。即ち、純水循環系
２は、純水タンク３と供給ポンプ４とスプレーノズル５
と回収ポンプ６とこれらを接続する配管によって構成さ
れている。
た純水を供給ポンプ４によりポンプアップし、スプレー
ノズル５からチャンバー１内に純水を噴霧するように構
成されている。チャンバー１内には、スプレーノズル５
から噴霧された純水を回収するピット１ａが設けられて
おり、ピット１ａの下流側には飛散ミストを回収するエ
リミネータ７が設置されている。そして、純水循環系２
は、ピット１ａの純水を回収ポンプ６により純水タンク
３に回収するように構成されている。即ち、純水循環系
２は、純水タンク３と供給ポンプ４とスプレーノズル５
と回収ポンプ６とこれらを接続する配管によって構成さ
れている。
【００２７】純水タンク３には純度の高い新しい純水を
供給するための純水供給系（吸収液供給系）８が接続さ
れている。純水供給系８は制御弁９を備えており、その
開閉操作により純水の供給と停止を行うことができるよ
うになっている。
供給するための純水供給系（吸収液供給系）８が接続さ
れている。純水供給系８は制御弁９を備えており、その
開閉操作により純水の供給と停止を行うことができるよ
うになっている。
【００２８】更に、純水タンク３の下部には純水タンク
３内の純水を排水するための純水排水系（吸収液排水
系）１０が接続されている。純水排水系１０は制御弁１
１を備えており、その開閉操作により純水の排水と停止
を行うことができるようになっている。
３内の純水を排水するための純水排水系（吸収液排水
系）１０が接続されている。純水排水系１０は制御弁１
１を備えており、その開閉操作により純水の排水と停止
を行うことができるようになっている。
【００２９】制御弁９、１１は水質制御器（制御手段）
１２によって開閉制御されるようになっている。水質制
御器１２は、純水タンク３に接続されたサンプリング管
１３を介して純水タンク３内の純水を数ｃｃ／ｍｉｎ〜
数百ｃｃ／ｍｉｎ程度の流量で連続的にサンプリング
し、サンプリングした純水中の特定イオン濃度を水質制
御器１２内に設置されたイオンクロマト分析器（図示せ
ず）によって測定し、この測定値に基づいて制御弁９、
１１を開閉制御するように構成されている。
１２によって開閉制御されるようになっている。水質制
御器１２は、純水タンク３に接続されたサンプリング管
１３を介して純水タンク３内の純水を数ｃｃ／ｍｉｎ〜
数百ｃｃ／ｍｉｎ程度の流量で連続的にサンプリング
し、サンプリングした純水中の特定イオン濃度を水質制
御器１２内に設置されたイオンクロマト分析器（図示せ
ず）によって測定し、この測定値に基づいて制御弁９、
１１を開閉制御するように構成されている。
【００３０】サンプリングした純水はイオンクロマト分
析器による測定後に排水管１４から排水される。
析器による測定後に排水管１４から排水される。
【００３１】次に、除去装置の作用について説明する。
チャンバー１内には純水がスプレーノズル５から連続的
に噴霧され、チャンバー１を流通する外気と純水が気液
接触して、外気に含まれる可溶性ガスが純水中に溶解す
る。可溶性ガスを吸収した純水はピット１ａに溜まり、
ピット１ａの純水は連続的に純水タンク３に回収され
る。つまり、純水循環系２では純水が連続的に循環して
いる。したがって、純水循環系２の純水中の可溶性ガス
濃度は経時的に高まっていく。
チャンバー１内には純水がスプレーノズル５から連続的
に噴霧され、チャンバー１を流通する外気と純水が気液
接触して、外気に含まれる可溶性ガスが純水中に溶解す
る。可溶性ガスを吸収した純水はピット１ａに溜まり、
ピット１ａの純水は連続的に純水タンク３に回収され
る。つまり、純水循環系２では純水が連続的に循環して
いる。したがって、純水循環系２の純水中の可溶性ガス
濃度は経時的に高まっていく。
【００３２】可溶性ガス濃度が所定の濃度よりも高くな
ると純水のガス吸収効率が悪くなるので、純水循環系２
の純水の可溶性ガス濃度を所定値以下になるように管理
する必要がある。
ると純水のガス吸収効率が悪くなるので、純水循環系２
の純水の可溶性ガス濃度を所定値以下になるように管理
する必要がある。
【００３３】本除去装置では、純水中の特定イオンの濃
度を測定することにより管理する。特定イオンの選択は
被処理空気によって異なり、被処理空気中に最も濃度が
高く含まれる除去対象ガス成分によって決定する。外気
の場合には、比較的に高濃度のアンモニアガスを含んで
いるので、この実施の形態ではアンモニウムイオン（NH
4 +）を特定イオンとする。
度を測定することにより管理する。特定イオンの選択は
被処理空気によって異なり、被処理空気中に最も濃度が
高く含まれる除去対象ガス成分によって決定する。外気
の場合には、比較的に高濃度のアンモニアガスを含んで
いるので、この実施の形態ではアンモニウムイオン（NH
4 +）を特定イオンとする。
【００３４】純水タンク３内の純水はサンプリング管１
３を介して常時連続的にサンプリングされ、水質制御器
３のイオンクロマト分析器によって純水中のアンモニウ
ムイオン濃度が連続的に測定される。
３を介して常時連続的にサンプリングされ、水質制御器
３のイオンクロマト分析器によって純水中のアンモニウ
ムイオン濃度が連続的に測定される。
【００３５】そして、純水中のアンモニウムイオン濃度
が所定の上限値に達すると、制御弁９が自動的に開弁し
て純水供給系８から新しい純水が純水タンク３に供給さ
れ、これと同時に制御弁１１が自動的に開弁して純水排
水系１０から純水タンク３内のアンモニウムイオン濃度
の高い純水が排水される。
が所定の上限値に達すると、制御弁９が自動的に開弁し
て純水供給系８から新しい純水が純水タンク３に供給さ
れ、これと同時に制御弁１１が自動的に開弁して純水排
水系１０から純水タンク３内のアンモニウムイオン濃度
の高い純水が排水される。
【００３６】これによって徐々に純水循環系２の純水中
のアンモニウムイオン濃度が低下していく。純水中のア
ンモニウムイオン濃度が所定の下限値に達すると、制御
弁９が自動的に閉弁して純水供給系８から純水タンク３
への新しい純水の供給が停止され、これと同時に、制御
弁１１が自動的に閉弁して純水タンク３からの純水の排
水が停止される。
のアンモニウムイオン濃度が低下していく。純水中のア
ンモニウムイオン濃度が所定の下限値に達すると、制御
弁９が自動的に閉弁して純水供給系８から純水タンク３
への新しい純水の供給が停止され、これと同時に、制御
弁１１が自動的に閉弁して純水タンク３からの純水の排
水が停止される。
【００３７】ここで、制御弁９、１１の開弁タイミング
を決定する純水中のアンモニウムイオン濃度の上限値
と、制御弁９、１１の閉弁タイミングを決定する純水中
のアンモニウムイオン濃度の下限値をいかなる値に設定
するかは、外気中のアンモニアガス濃度をどの程度まで
低減するかによって決定されるが、純水循環系２の純水
のアンモニアガスに対する吸収効率が常に所定値以上に
なるように設定する。この実施の形態では、上限値を１
０ｐｐｍ、下限値を５ｐｐｍとした。
を決定する純水中のアンモニウムイオン濃度の上限値
と、制御弁９、１１の閉弁タイミングを決定する純水中
のアンモニウムイオン濃度の下限値をいかなる値に設定
するかは、外気中のアンモニアガス濃度をどの程度まで
低減するかによって決定されるが、純水循環系２の純水
のアンモニアガスに対する吸収効率が常に所定値以上に
なるように設定する。この実施の形態では、上限値を１
０ｐｐｍ、下限値を５ｐｐｍとした。
【００３８】このようにして純水循環系２の純水の水質
管理を行うことにより、純水循環系２の純水は常に安定
した高い可溶性ガス除去効率を維持することができ、チ
ャンバー１内を流通する外気から可溶性ガスを確実に除
去することができ、その結果、可溶性ガスを除去した清
浄な空気をクリーンルームに給気することができる。
管理を行うことにより、純水循環系２の純水は常に安定
した高い可溶性ガス除去効率を維持することができ、チ
ャンバー１内を流通する外気から可溶性ガスを確実に除
去することができ、その結果、可溶性ガスを除去した清
浄な空気をクリーンルームに給気することができる。
【００３９】又、純水排水系１０から排水される純水は
必要最小量で済むと共に、純水供給系８から供給する新
しい純水も必要最小量で済むので、ランニングコストが
低く、極めて経済的である。
必要最小量で済むと共に、純水供給系８から供給する新
しい純水も必要最小量で済むので、ランニングコストが
低く、極めて経済的である。
【００４０】尚、前述したように、水質制御器１２によ
り濃度管理する特定イオンの選択は被処理空気によって
異なるものであり、被処理空気の性状によっては、特定
イオンを、アンモニウムイオン（NH4 -）、あるいは硫酸
イオン（SO4 2-）、あるいは塩素イオン（Cl-）、あるい
はフッ素イオン（F-）とする。
り濃度管理する特定イオンの選択は被処理空気によって
異なるものであり、被処理空気の性状によっては、特定
イオンを、アンモニウムイオン（NH4 -）、あるいは硫酸
イオン（SO4 2-）、あるいは塩素イオン（Cl-）、あるい
はフッ素イオン（F-）とする。
【００４１】〔第２の実施の形態〕純水循環系（吸収液
循環系）は、外気に対して可溶性ガスの除去を行う場合
には、空調機に組み込むこともできる。この場合には、
図１においてスプレーノズル５よりも上流側に図示しな
い加熱器及び冷却器や加湿器等を設置する。夏期には前
記冷却器により外気を低露点に除湿するので、スプレー
ノズル５から噴霧され可溶性ガスを溶存させた純水の湿
分が可溶性ガス除去後の処理空気に取り込まれることは
ない。又、冬季には前記加湿器による加湿分を見込んで
吹き出し温度よりも高い温度の空気を前記加熱器により
生じさせて、加湿による冷却分を補償する。加湿器によ
り外気を十分に加湿する場合には、外気が飽和状態の湿
り空気になるので、スプレーノズル５から噴霧され可溶
性ガスを溶存させた純水の湿分が可溶性ガス除去後の処
理空気に取り込まれることはない。
循環系）は、外気に対して可溶性ガスの除去を行う場合
には、空調機に組み込むこともできる。この場合には、
図１においてスプレーノズル５よりも上流側に図示しな
い加熱器及び冷却器や加湿器等を設置する。夏期には前
記冷却器により外気を低露点に除湿するので、スプレー
ノズル５から噴霧され可溶性ガスを溶存させた純水の湿
分が可溶性ガス除去後の処理空気に取り込まれることは
ない。又、冬季には前記加湿器による加湿分を見込んで
吹き出し温度よりも高い温度の空気を前記加熱器により
生じさせて、加湿による冷却分を補償する。加湿器によ
り外気を十分に加湿する場合には、外気が飽和状態の湿
り空気になるので、スプレーノズル５から噴霧され可溶
性ガスを溶存させた純水の湿分が可溶性ガス除去後の処
理空気に取り込まれることはない。
【００４２】〔第３の実施の形態〕図２は第３の実施の
形態における除去装置の構成図である。第３の実施の形
態の除去装置と第１の実施の形態との相違点は、第２の
実施の形態には純水タンク３及び供給ポンプ４がなく、
純水供給系８を純水循環系２の配管に直接接続し、チャ
ンバー１にはピット１ａの代わりにドレンパン１ｂを設
け、このドレンパン１ｂに純水排水系１０を接続したと
ころにある。ドレンパン１ｂは循環水のバッファとして
作用し、ポンプ６が空気を吸い込むのを防ぐことで設備
の安定的な稼働に寄与する。その他の構成及び作用につ
いては第１の実施の形態の除去装置と同様であるので、
同一態様部分に同一符号を付して説明は省略する。
形態における除去装置の構成図である。第３の実施の形
態の除去装置と第１の実施の形態との相違点は、第２の
実施の形態には純水タンク３及び供給ポンプ４がなく、
純水供給系８を純水循環系２の配管に直接接続し、チャ
ンバー１にはピット１ａの代わりにドレンパン１ｂを設
け、このドレンパン１ｂに純水排水系１０を接続したと
ころにある。ドレンパン１ｂは循環水のバッファとして
作用し、ポンプ６が空気を吸い込むのを防ぐことで設備
の安定的な稼働に寄与する。その他の構成及び作用につ
いては第１の実施の形態の除去装置と同様であるので、
同一態様部分に同一符号を付して説明は省略する。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
吸収液循環系の吸収液の水質管理を特定イオン濃度によ
り行い、検出された特定イオン濃度に基いて吸収液供給
系と吸収液排出系を制御し、吸収液循環系の吸収液中の
特定イオン濃度を所定値以下にするようにしたので、吸
収液循環系の吸収液は常に安定した高い可溶性ガス除去
効率に維持され、空気流路内を流通する空気から可溶性
ガスを確実に安定して除去することができるという優れ
た効果が奏される。
吸収液循環系の吸収液の水質管理を特定イオン濃度によ
り行い、検出された特定イオン濃度に基いて吸収液供給
系と吸収液排出系を制御し、吸収液循環系の吸収液中の
特定イオン濃度を所定値以下にするようにしたので、吸
収液循環系の吸収液は常に安定した高い可溶性ガス除去
効率に維持され、空気流路内を流通する空気から可溶性
ガスを確実に安定して除去することができるという優れ
た効果が奏される。
【００４４】又、吸収液排水系から排水される吸収液は
必要最小量で済むと共に、吸収液供給系から供給する新
しい吸収液も必要最小量で済むので、ランニングコスト
を低減することができるという優れた効果が奏される。
必要最小量で済むと共に、吸収液供給系から供給する新
しい吸収液も必要最小量で済むので、ランニングコスト
を低減することができるという優れた効果が奏される。
【図１】 本発明の第１の実施の形態における空気中可
溶性ガス除去装置の構成図である。
溶性ガス除去装置の構成図である。
【図２】 本発明の第３の実施の形態における空気中可
溶性ガス除去装置の構成図である。
溶性ガス除去装置の構成図である。
１ チャンバー（空気流路） ２ 純水循環系（吸収液循環系） ８ 純水供給系（吸収液供給系） １０ 純水排水系（吸収液排水系） １２ 水質制御器（制御手段）
Claims (3)
- 【請求項１】 （イ）可溶性ガスを含む被処理空気が流
通する空気流路と、（ロ）吸収液を空気流路内に供給
し、吸収液と被処理空気とを気液接触させて被処理空気
中の可溶性ガスを吸収液中に溶解させ、可溶性ガスが溶
存する吸収液を回収して再び空気流路内に供給する吸収
液循環系と、（ハ）吸収液循環系に新しい吸収液を供給
する吸収液供給系と（ニ）吸収液循環系から吸収液を排
出する吸収液排出系と、（ホ）吸収液循環系の吸収液中
の特定イオンの濃度を検出し、検出された特定イオンの
濃度に基いて吸収液供給系と吸収液排出系を制御して吸
収液循環系の吸収液中の特定イオンの濃度を所定値以下
にする制御手段と、を備えたことを特徴とする空気中可
溶性ガス除去装置。 - 【請求項２】 前記被処理空気が外気であることを特徴
とする請求項１に記載の空気中可溶性ガス除去装置。 - 【請求項３】 前記制御手段によって濃度を管理される
特定イオンがアンモニウムイオン、硫酸イオン、塩素イ
オン、フッ素イオンのうちの少なくとも一つであること
を特徴とする請求項１または２に記載の空気中可溶性ガ
ス除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8066545A JPH09253442A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 空気中可溶性ガス除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8066545A JPH09253442A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 空気中可溶性ガス除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09253442A true JPH09253442A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13318988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8066545A Pending JPH09253442A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 空気中可溶性ガス除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09253442A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6503302B2 (en) | 2001-03-27 | 2003-01-07 | Yellow Tiger Works Limited | Air purifier |
| US6544320B2 (en) | 2001-02-09 | 2003-04-08 | Broad Ocean Company Limited | Air-cleaning apparatus |
| JP2009517585A (ja) * | 2005-11-29 | 2009-04-30 | アトラス コプコ エアーパワー，ナームローゼ フェンノートシャップ | 水噴射式圧縮機要素を有する圧縮機装置 |
| KR200446764Y1 (ko) | 2007-10-05 | 2009-12-03 | 미래엔이티 주식회사 | 레벨센서의 출력을 입력받아 습식정화챔버 액체의 레벨을일정수준으로 유지할 수 있는 배출가스 습식 정화장치 |
| CN111282378A (zh) * | 2020-03-17 | 2020-06-16 | 亚洲硅业(青海)股份有限公司 | 一种淋洗设备及淋洗方法 |
-
1996
- 1996-03-22 JP JP8066545A patent/JPH09253442A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6544320B2 (en) | 2001-02-09 | 2003-04-08 | Broad Ocean Company Limited | Air-cleaning apparatus |
| US6503302B2 (en) | 2001-03-27 | 2003-01-07 | Yellow Tiger Works Limited | Air purifier |
| JP2009517585A (ja) * | 2005-11-29 | 2009-04-30 | アトラス コプコ エアーパワー，ナームローゼ フェンノートシャップ | 水噴射式圧縮機要素を有する圧縮機装置 |
| KR200446764Y1 (ko) | 2007-10-05 | 2009-12-03 | 미래엔이티 주식회사 | 레벨센서의 출력을 입력받아 습식정화챔버 액체의 레벨을일정수준으로 유지할 수 있는 배출가스 습식 정화장치 |
| CN111282378A (zh) * | 2020-03-17 | 2020-06-16 | 亚洲硅业(青海)股份有限公司 | 一种淋洗设备及淋洗方法 |
| CN111282378B (zh) * | 2020-03-17 | 2021-04-20 | 亚洲硅业(青海)股份有限公司 | 一种淋洗设备及淋洗方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050720 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050816 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051013 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060214 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060613 |