JPH09246330A - 両面タブ用テープ、およびその製造方法 - Google Patents

両面タブ用テープ、およびその製造方法

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JPH09246330A
JPH09246330A JP8477896A JP8477896A JPH09246330A JP H09246330 A JPH09246330 A JP H09246330A JP 8477896 A JP8477896 A JP 8477896A JP 8477896 A JP8477896 A JP 8477896A JP H09246330 A JPH09246330 A JP H09246330A
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hole
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holes
copper foil
copper
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JP8477896A
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Hideki Nagao
秀樹 長尾
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Fuji Micro Kogyo Kk
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Fuji Micro Kogyo Kk
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0393Flexible materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4038Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
    • H05K3/4053Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques
    • H05K3/4069Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques for via connections in organic insulating substrates

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】両面タブ用テープで、スルホール用銅メッキ工
程を無くし、コスト低減と高密度な回路形成を可能と
し、製造工程の一貫した自動化ができ、かつ製造の容易
・迅速化と歩留りを向上でき、検査も容易にする。 【解決手段】表・裏面に回路が形成される部分にスルホ
ール2をもつ絶縁性フィルム製ベース材1に、その表面
に表面の銅箔3をラミネートし、その裏面に、ベース材
1の各スルホール2に対応するスルホール用孔5を予め
形成した裏面の銅箔4を、スプロケット孔11、12の
位置合わせでラミネートして、各スルホール2が裏面側
で開口し表面側で閉止したものとし、フォトエッチング
で表・裏面に回路7,8を形成後、裏面の回路8の各ス
ルホール用孔5から、ベース材1のスルホール2を経て
表面の回路7裏面に達する如く導電性ペースト9を充填
し、それを硬化させて表・裏面の回路7,8間の導通部
10とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、両面タブ用テープ即ち
テープキャリヤ方式で用いるタブ(TAB=TAPE
AUTOMATED BONDING,テープ自動ボン
ディング)用テープで両面化したもの、およびその製造
方法に関するものであり、特にそこで必要となる導通用
部とその形成方法に特徴を有するものである。
【0002】
【従来の技術】タブ用テープは、半導体チップをパッケ
ージに組み込み実装する手段の一つであるテープキャリ
ヤ方式で用いられるものである。タブ用テープは、絶縁
性フィルム製のベース材の片面上に、銅箔によりフィン
ガー状のリードを形成したものであり、一般にはディバ
イス用孔にインナーリードが、アウターリード部用孔に
アウターリード部が各々突出しており、インナーリード
にすずその他の部分メッキを施してある。
【0003】該タブ用テープを用いるテープキャリヤ方
式とは、長尺の上記タブ用テープをスプロケット孔(パ
ーフォレーション)で連続移動させながら、裏側からI
Cその他の半導体チップをインナーリードボンディング
で搭載した後、その半導体チップを例えばリードフレー
ムやプリント基板その他の板材に、アウターリードボン
ディグで実装していくものである。
【0004】このタブ用テープを用いるテープキャリヤ
方式は、半導体チップの組み込み・実装を、連続化・自
動化することを目的とした実装技術であるが、連続化・
自動化の容易性に加え、広範な応用性をもつゆえに近時
ますます利用され、それにしたがってタブ用テープの需
要も一層増大する傾向にある。
【0005】そして上記タブ用テープの製造は、従来一
般に次の工程で行われている。 a)片面に接着剤を塗布した絶縁性フィルムのベース材
を、所定幅で長尺にしたものに、プレス,ドリル又はエ
ッチング加工等で、スプロケット孔やディバイス用孔を
各々形成する。 b)次に、上記ベース材片面の接着剤上に、ベース材の
幅とほぼ等しい幅とした銅箔を、熱圧着によりラミネー
トする。 c)次に、上記ベース材上の銅箔の表面、およびディバ
イス用孔から銅箔の裏面を、ソフトエッチングにより清
浄にした後、該銅箔の表面にフォトレジストをコーティ
ングして、そこにインナーリードやアウターリード等の
リードパターンを露光し、現像処理する。 d)次に、ディバイス用孔を裏側からエッチングレジス
トを充填して裏止めした状態で、上記銅箔をエッチング
してリードパターンを形成する。 e)次に、上記のフォトレジスト及びエッチングレジス
トを剥離し、必要に応じてソルダー印刷(又は写真法)
で半田膜を形成した後、インナーリードの所定箇所に、
バンプに対応して例えば無電解すずメッキを施すことに
より、タブ用テープが形成されている(例えば、畑田賢
造著「TAB技術入門」株式会社工業調査会発行の第5
7乃至第58頁、「電子材料」株式会社工業調査会発行
の1975年7月号の第55頁ないし第59頁参照)。
タブ用テープは通常、この状態でユーザーに出荷されて
いる。
【0006】また近時は、半導体チップの高密度化が進
むに連れて、タブ用テープも一層のファイン化・高密度
化が要求されるようになっている。そこで、タブ用テー
プも両面化が行われ始めており、その両面を導通させる
ためにスルホール用孔を形成し、そこにスルホール用銅
メッキを施した両面タブ用テープが出始めている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、現在出始め
ている両面タブ用テープの製造方法は、図12及び図1
3で示した如く、絶縁性フィルムのベース材1の表・裏
両面に接着剤13を塗布し、プレス,ドリル又はエッチ
ングによりスプロケット孔・ディバイス用孔等を各々形
成すると共に、上記両面の接着剤13上に表・裏両面の
銅箔3,4を各々ラミネーティングした後、該両面に銅
箔3,4付きのベース材1に上記と同様にプレス等でス
ルホール2を形成し(図12参照)、該スルホール2を
ソルダーレジストで孔埋めした後にソフトエッチング
し、両面からスルホール用銅メッキ21を施すことで両
面の銅箔間を導通させるものである(図13参照)。
【0008】その後は、銅箔にフォトレジストをコーテ
ィングして、回路パターンを露光すると共に現像処理
し、ディバイス用孔のあるものではエッチングレジスト
を充填・裏止めし、銅箔とその上面のスルホール銅メッ
キからなる銅層をエッチングして回路パターンを形成
し、その後レジストを剥離してから、必要に応じてソル
ダー印刷をした後に、インナーリードの所定箇所に例え
ば無電解すずその他の部分メッキを施すことにより、両
面タブ用テープを形成するようにしている。
【0009】しかしながら、この両面タブ用テープの製
造方法には、次の問題点がある。 イ)片面のタブ用テープの製造では不要であったスルホ
ール用銅メッキの工程が必要となるし、そのメッキ工程
はタブ用テープが長尺であるとともに、薄いベース材に
膜厚を高精度にメッキ処理する必要があるため、製造コ
ストが高くついてしまった。
【0010】ロ)ベース材両面の銅箔上に、更にスルホ
ール用銅メッキの銅膜が形成されて銅層が厚くなってい
るため、リードパターン形成時の露光・現像・エッチン
グ処理等で高密度なリードパターンが形成し難く、折角
の両面化タブ用テープが充分に活用できなかった。
【0011】ハ)後のソフトエッチング時にスルホール
内の銅メッキが損傷や腐食を受けぬようにするため、エ
ッチングに先立ち各スルホール内をソルダーレジストで
孔埋めする工程が必要であった。
【0012】ニ)また、上記の如く長尺のタブ用テープ
にスルホール用銅メッキ工程を必要とするため、両面タ
ブ用テープの製造を一貫して自動化するには技術的な難
点や設備費用が高くついた、等の問題点がある。
【0013】本発明は、両面タブ用テープ、およびその
製造方法に関し、上記従来のものが有する問題点を解決
しようとするものである。即ち、スルホール用銅メッキ
工程を無くして、コストの低減と高密度な回路の形成を
可能とすると共に、一貫して製造の自動化を図れるよう
にし、更にタブ用テープであることを最大限に利用し
て、製造の容易・迅速化と歩留りの向上を図り、かつ検
査も容易に行えるようにした、両面タブ用テープおよび
その製造方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
A 本発明に係る両面タブ用テープは、ベース材1の表
・裏面に銅箔による回路7,8が形成され、該表・裏面
の回路7,8間に導通部10が形成された両面タブ用テ
ープであって、裏面の回路8の一部に形成の各スルホー
ル用孔5から、ベース材1のスルホール2を経て表面の
回路7の裏面に達するまで充填し硬化された導電性ペー
スト9を、両回路7,8間の導通部10としたものであ
る。
【0015】B 本発明に係る両面タブ用テープの製造
方法は、表・裏面に回路が形成される部分の各所定箇所
にスルホール2をもち、かつ両側部にスプロケット孔1
1をもつ絶縁性フィルムをベース材1とし、該ベース材
1の表面に、表面の銅箔3をラミネートすると共に、そ
の裏面に、該ベース材1の上記各スルホール2に対応し
たスルホール用孔5とスプロケット孔12とを予め形成
した裏面の銅箔4を、スプロケット孔11,12の位置
合わせでラミネートして、該ベース材1の各スルホール
2が裏面側で開口し表面側で閉止したものとし、上記表
・裏面の銅箔3,4に、感光性レジスト6の塗布と回路
パターンの露光・現像処理をして、ベース材1の各スル
ホール2とディバイス用孔15を裏止め後に、エッチン
グで表・裏面に各々銅箔による回路7,8を形成し、上
記感光性レジスト6を剥離後に、裏面の回路8のスルホ
ール用孔5から、ベース材1の各スルホール2を経て表
面の回路7の裏面に達する如く導電性ペースト9を充填
し、該導電性ペースト9を硬化させることにより、表・
裏面の回路7,8間の導通部10を形成し、後はインナ
ーリード20に部分メッキ20を施すようにしたもので
ある。
【0016】
【発明の実施の形態】絶縁性フィルムをベース材1と
し、該ベース材1は両面に接着剤13を有するととも
に、スプロケット孔11、ディバイス用孔15と共に、
回路が形成される部分の各所定箇所にスルホール2を形
成する。このベース材1としては、例えばポリイミド樹
脂、ガラス−エポキシ樹脂、又はポリエステル樹脂等を
用いる。また接着剤13としては、ポリイミド樹脂系、
エポキシ樹脂系、又はポリエステル樹脂系のものを用い
ればよい。
【0017】上記ベース材1にスプロケット孔11、デ
ィバイス用孔15、およびスルホール2を形成するには
例えばプレス加工により行うのがよい。上記スルホール
2の内径は、ファインパターンに対しては小さい程良い
が、後に導電性ペースト9を充填する関係で、通常は
0.3mm程度とすることが望ましいが、これに限るも
のではない。
【0018】上記ベース材1の表面に、表面の銅箔3を
ラミネートするが、その表面の銅箔3はベース材1の横
幅より幅が狭いものを用い、スプロケット孔11のある
両側寄り部分を除いてラミネートする。該表面の銅箔3
の厚みは例えば18μm又は35μmのものを用い、ま
たラミネートはロールで熱圧着することが望ましい。
【0019】裏面の銅箔4には予め、上記ベース材1の
スプロケット孔11、ディバイス用孔15およびスルホ
ール2に対応して、予めスプロケット孔12、ディバイ
ス用孔17、およびスルホール用孔5を形成してある。
この裏面の銅箔4の各孔16,17,5の形成には、上
記ベース材1でプレス加工に用いたものと同じの金型に
より行うのがよい。該裏面の銅箔4の横幅は、ベース材
1の横幅とほぼ同じにし、また厚みも例えば18μm又
は35μmのものを用いることが望ましい。該裏面の銅
箔4に形成したディバイス用孔17は、ベース材1のデ
ィバイス用孔15より、各辺を0.15〜0.2μm程
度大きくしておく。
【0020】そして、該裏面の銅箔4を上記ベース材1
の裏面にラミネートするには、上記と同様にロールで熱
圧着するのがよい。この場合に、本発明では上記の通り
裏面の銅箔4には、ベース材1のスプロケット孔11に
対応したスプロケット孔12を形成してあるので、該裏
面の銅箔4をラミネートするには、それをベース材1の
スプロケット孔11に位置合わせして行えばよい。これ
で、ベース材1の各スルホール2と裏面の銅箔4の各ス
ルホール用孔5を始め、両者1、4のスプロケット孔1
1,12、ディバイス用孔15,17も正確に合致して
ラミネートが行える。
【0021】上記により、ベース材1の各スルホール2
は、裏面側が裏面の銅箔4の各スルホール用孔5で開口
しているが、表面側が表面の銅箔3の裏面で被覆されて
閉止した非貫通孔になる。この場合に、タブ用テープの
ベース材1は、厚みが例えば125μmで近時はより薄
くなっているから、ベース材に表面のみで閉止したスル
ホールを、パンチングその他の従来技術で形成すること
は難しいが、上記によれば、タブ用テープに非開口のス
ルホールを形成することは容易・迅速かつ確実に行える
ようになっている。
【0022】次に、上記表・裏面の銅箔3,4の各表
面、及び表面の銅箔3の裏面を清浄化処理するには、例
えばソフトエッチングで行い、離型剤や酸化膜等を除去
する。その後に上記両面からエッチング用の感光性レジ
スト6をコーティングするが、感光性液を塗布してもよ
いし、ED法によってもよい。
【0023】上記各面の感光性レジスト6に回路パター
ンを露光し現像処理するが、これでベース材1の各スル
ホール2の表面側は表面の銅箔2が被覆し、裏面側は裏
面の銅箔4に形成されたスルホール用孔5の周辺部にス
ルホールランド18が形成される。この露光・現像処理
は、従来と同様のフォトレジスト技術によればよい。
【0024】上記表面の銅箔3裏面を裏止めするには、
ベース材1のディバイス用孔15内へは裏面の銅箔4の
ディバイス用孔17から裏止め剤19を流し込み、また
各スルホール2へは裏面の銅箔4の各スルホール用孔5
から裏止め剤19を流し込んで、硬化させる。この裏止
め剤19としては、上記感光性レジスト6と同様に感光
液を用いてもよいが、ED法により通電してED膜を形
成するようにしてもよい。またここで専用の裏止め剤を
用いてもよい。
【0025】上記表・裏面の銅箔3,4を各々エッチン
グして、各々回路7,8を形成するが、このエッチング
は従来と同様のエッチング技術を用いればよく、またそ
の後の感光性レジスト6や裏止め剤19の剥離も、従来
の方法によって行えばよい。
【0026】そして次に、上記裏面の銅箔4の各スルホ
ール用孔5から、ベース材1の各スルホール2を経て表
面の銅箔3の裏面に達する如く導電性ペースト9を充填
するが、ここでの導電性ペースト9としては、例えば銀
ペースト、半田ペーストまたは銅ペーストを用いること
が望ましい。
【0027】上記で導電性ペースト9の充填手段として
は、スクリーン印刷法即ち、版上にインクの代わりに導
電性ペースト9を塗布しておき、裏面の銅箔4の各スル
ホール用孔5から、ベース材1の各スルホール2内へ印
刷して埋めるようにするのがよい。しかしそれに限ら
ず、例えば導電性ペースト9の入った容器に細いピンを
設け、該ピンの先から導電性ペーストを各スルホール用
孔5・スルホール2内へ点滴させることで、充填させて
もよい。
【0028】上記の導電性ペースト9をベース材1の各
スルホール2内へ充填させる場合、本発明はタブ用テー
プに関するものであり、そのベース材1に形成の各スル
ホール2へ充填すればよいのが、各スルホール2はベー
ス材1の厚みと同じく非常に浅いものになっている。そ
のため、ベース材1のスルホール2が、表裏面へ貫通し
た貫通孔でなく表面側が表面の銅箔3で閉止された非貫
通孔であっても、該各スルホール2への導電性ペースト
9の充填時に空気を逃がし易い。それゆえ、スルホール
2の奥部に空気が溜まること無く導電性ペースト9を充
填できることになり、該導電性ペースト9はスルホール
2の最奥端で表面の銅箔3裏面へ確実に密着させられ
る。
【0029】上記の導電性ペースト9を硬化させること
で、裏面の銅箔4の各スルホール用孔5周辺部のスルホ
ールランド18から、ベース材1の各スルホール2を経
て表面の銅箔3の裏面へ密着状となった導通部10が形
成される。
【0030】その後は、表・裏面の各回路7,8を保護
すべくソルダーレジストを印刷し、インナーリード14
にバンプ金属に対応した部分メッキ20を施すが、それ
には例えば、電解ニッケル−金メッキ、無電解ニッケル
−金メッキ、あるいは無電解すずメッキを施せばよい。
これで本発明に係る両面タブ用テープが形成される。
【0031】後は、チェッカー検査を受ければよいが、
本発明は上記の如くタブ用テープのベース材1に表面側
が表面の銅箔3で被覆されたスルホール2へ導電性ペー
スト9を充填して導通部10を形成したものである。そ
のため、ここでのチェッカー検査は表面の銅箔3を通し
て、導通部10が該表面の銅箔3の裏面へ密着状となっ
ているかを、目視によって検査することが可能となって
いる。
【0032】上記の如く本発明では、両面タブ用テープ
でありながら、スルホール用銅メッキ無しに両面回路の
導通を図れる。そのため、長尺で薄いベース材1にスル
ホール用銅メッキをする工程が不要となり、両面タブ用
テープの製造が容易になり、製造コストも低減される。
【0033】また本発明では、上記の如くスルホール用
銅メッキを行わないことで、ベース材1両面の表・裏面
の各銅箔3,4上に銅メッキ膜が形成されておらず、薄
い銅箔3,4をそのまま露光・現像・エッチング処理し
て、各々回路7,8を形成している。そのため、タブ用
テープのリードパターン・回路のファイン化・高密度化
を図り易くなっている。
【0034】さらに本発明では、ベース材1のスルホー
ル内にスルホール用銅メッキがなされていないから、防
錆剤や不純物除去用のソフトエッチング時に銅メッキ膜
の損傷・腐食等の心配もないし、長尺のタブ用テープへ
のスルホール用銅メッキ工程の必要がないので、タブ用
テープの製造を一貫して自動化することも容易になって
いる。
【0035】
【実施例】図1乃至図11は、本発明に係る両面タブ用
テープ、及びその製造方法の実施例を示すものである。
まず、絶縁性フィルムをベース材1とし(図1参照)、
両面に接着剤13を有すると共に、スプロケット孔1
1、ディバイス用孔15、および回路が形成される部分
の所定箇所に各スルホール用孔5を形成する(図2参
照)。ここでベース材1にはポリイミド樹脂を用いてお
り、また接着剤13にはポリイミド樹脂系のものを用い
ている。スプロケット孔11、ディバイス用孔15、お
よびスルホール用孔5の形成はいずれもプレス加工によ
り行った。
【0036】次に、上記ベース材1の表面に表面の銅箔
3をラミネートする(図3参照)。該表面の銅箔3は、
ベース材1のスプロケット11のある両側寄り部分を除
いてラミネートするため、ベース材1の横幅より幅が狭
いものを用いる。このラミネートはロールで熱圧着して
いる。該表面の銅箔3の厚みは、18μmのものを用い
た。
【0037】他方、裏面の銅箔4として、上記ベース材
1のスプロケット孔11、ディバイス用孔15およびス
ルホール2に対応して、予めスプロケット孔12、ディ
バイス用孔17およびスルホール用孔5を形成したもの
を用意する。この裏面の銅箔4の各孔12、17、5の
形成には、ラミネート時の位置合わせのため、上記ベー
ス材1でのプレス加工で用いたものと同じ金型により行
った。該裏面の銅箔4は、ベース材1の横幅とほぼ同じ
幅であり、また厚みはここでは18μmのものを用い
た。なお、ディバイス用孔17は、ベース材1のディバ
イス用孔15よりやや大きめ、例えば各辺が0.15〜
0.2mm程度大きくしておく。
【0038】そして、該裏面の銅箔4を上記ベース材1
の裏面にラミネートする(上記図3参照)。ここでのこ
のラミネートもロールで熱圧着する。このラミネート
は、上記の如くベース材1のスプロケット孔11に裏面
の銅箔4のスプロケット孔12の位置を合わせて行う。
【0039】次に、上記表・裏面の銅箔3,4の各表
面、およびディバイス用孔17を介して露出する表面の
銅箔3の裏面を、各々ソフトエッチングで清浄化処理
し、離型剤や酸化膜等を除去した後、上記両面からエッ
チング用の感光性レジスト6を塗布する(図4参照)。
ここでは感光性液を塗布することにより行ったが、ED
法によってもよい。
【0040】上記各面の感光性レジスト6に回路のパタ
ーン等を露光するとともに、現像処理する(図5参
照)。この露光・現像処理は従来より行われている方法
と同じでよい。
【0041】次に、上記表面の銅箔3の裏面を裏止めす
る(図6参照)。これには、ベース材1のディバイス用
孔15内へは裏面の銅箔4のディバイス用孔17から裏
止め剤19を流し込み、またベース材1の各スルホール
2へは裏面の銅箔4の各スルホール用孔5から裏止め剤
19を流し込む。この裏止め剤19としては、上記感光
性レジスト6と同様に感光液を用いて感光硬化させてい
るが、ED法を用いて通電させてもよい。
【0042】上記でディバイス用孔15を裏止めする場
合に、裏面の銅箔4のディバイス用孔17がベース材1
のディバイス用孔15より各辺でやや大きめに形成して
あるので、裏止め剤19を裏側面から充填することを支
障なく行える。
【0043】上記表・裏面の銅箔3,4をエッチングし
て、各々回路7,8を形成する(図7参照)。これで、
ベース材1の各スルホール2は、表面側では表面の回路
8が被覆して閉止しているが、裏面側では、裏面の回路
7のスルホール用孔5が開口しており、その周辺部にス
ルホールランド18が形成される。その後に、上記表・
裏面の銅箔3,4に残った感光性レジスト6、および裏
止め剤19を剥離する(図8参照)。
【0044】そして次に、上記裏面の回路8の各スルホ
ール用孔5から、ベース材1の各スルホール2を経て表
面の回路7の裏面に達する如く導電性ペースト19を充
填すると共に、該導電性ペースト19を硬化させる(図
9参照)。
【0045】上記の導電性ペースト19の材料として
は、銀ペースト、半田ペースト、または銅ペースト等が
望ましいが、ここでは銀ペーストを用いた。また導電性
ペースト19を、裏面の回路8の開口部からベース材1
のスルホール2内へ充填する手段としては、ここではス
クリーン印刷法、即ち版上にインクの代わりに導電性ペ
ースト19を塗布しておき、裏面の回路8の各スルホー
ル用孔5からベース材1の各スルホール2へ印刷して埋
めるようにした。
【0046】次に、表・裏面の各回路7,8を保護すべ
くソルダーレジストを塗布した後、インナーリード14
の必要箇所に電解Ni−Auメッキで部分メッキ20を
施せばよい。これで、本発明に係る両面タブ用テープが
形成される(図10・図11参照)。後はチェッカー検
査を受ければよいが、ここでは導通部10が該表面の銅
箔3の裏面に密着状になっているかは、表面の銅箔3を
通して目視で行えばよい。
【0047】
【発明の効果】以上で明らかな如く、本発明に係る両面
タブ用テープ、及びその製造方法によれば、スルホール
用銅メッキ工程を無くして、コストの低減と高密度な回
路の形成ができると共に、一貫して製造の自動化が可能
となり、更にタブ用テープであることを最大限に利用し
て、製造の容易・迅速化と歩留りの向上を図ることがで
き、かつチェッカー検査も容易に行うことができるよう
になる。
【0048】即ち、従来の両面タブ用テープやその製造
方法では、長尺で薄いタブ用テープにスルホール用銅メ
ッキが必要でコスト高であったし、銅箔とスルホール用
銅メッキからなる厚い銅層を露光・現像・エッチッグす
るため、高密度なリードパターンを形成し難かった。ま
た長尺のタブ用テープにスルホール用銅メッキの工程が
必要で、両面タブ用テープの製造を一貫して自動化する
のが難しかった。
【0049】これに対して、本発明に係る両面タブ用テ
ープ及びその製造方法では、まず、両面タブ用テープで
ありながらスルホール用銅メッキ無しに両面の導通を図
ることができるため、長尺で薄いタブ用テープにスルホ
ール用銅メッキを施す必要が無くなり、製造コストを低
減できる。
【0050】また、上記の如くスルホール用孔にスルホ
ール用銅メッキを施さないため、ベース材上の銅箔面に
はスルホール用銅メッキの銅メッキ膜が無く、薄い銅箔
のまま露光・現像・エッチングしてリードパターンを形
成することになり、リードパターンのファイン化・高密
度化を図ることができる。
【0051】さらに、長尺のタブ用テープにスルホール
用銅メッキを施す工程に代えて、スプロケット孔で間欠
搬送させながら、同一ピッチで各スルホール用孔内に導
電性ペーストを充填させることで、両面の回路を導通さ
せることができ、両面タブ用テープの製造を一貫して自
動化することが容易となり、設備費用を低減できる。
【0052】それに加えて、本発明に係る両面タブ用テ
ープ及びその製造方法では、タブ用テープであることを
最大限に利用して、予めスプロケット孔等を形成した裏
面の銅箔を、ベース材のスプロケット孔と位置を合わせ
てラミネートすることで、表面側で閉止された非貫通の
スルホールをもつタブ用テープを形成している。そのた
め、従来技術のように両面に銅箔をラミネート後にプレ
ス加工で表面側だけを残すのと異なり、きわめて薄いタ
ブ用テープにも表面側が閉止された非貫通のスルホール
を、容易・迅速かつ確実に形成することができる。
【0053】また本発明では、ベース材の各スルホール
に導電性ペーストを充填させているが、ここで用いるタ
ブ用テープの各スルホールは、上記のように非貫通では
あっても非常に浅いものになっている。そのため、各ス
ルホールへ導電性ペーストを充填する際に、空気はうま
く逃げてくれるから、非貫通のものでも内部に空気が混
入することが無く、導電性ペーストは表面の銅箔の裏面
へ確実に密着させることができ、表裏面の銅箔の回路を
確実に導通できる導通部付きの両面タブ用テープが形成
できる。
【0054】さらに本発明では、ベース材のスルホール
を表面側で閉止する薄い表面の銅箔を通じて、通電部が
該表面の銅箔に密着しているかどうかを確認することが
できるので、チェッカー検査を目視で容易・迅速に行う
こともできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る両面タブ用テープの製造方法の実
施例で用いた、両面に接着剤付きのベース材を示す拡大
縦断側面図である。
【図2】図1で示したベース材にスプロケット孔、スル
ホール孔、ディバイス用孔を形成した状態の拡大縦断側
面図である。
【図3】図2で示したベース材の表・裏両面に、銅箔を
ラミネートした状態の拡大縦断側面図である。
【図4】図3で示したベース材の表・裏両面の銅箔上か
ら、感光性レジストをコーティングした状態の拡大縦断
側面図である。
【図5】図4で示したベース材の表・裏両面上の感光性
レジストを、露光後に現像処理した状態の拡大縦断側面
図である。
【図6】図5で示したベース材のスルホールとディバイ
ス用孔に、裏止め剤を充填した状態の拡大縦断側面図で
ある。
【図7】図6で示したベース材の表・裏面上の感光性レ
ジストを、エッチング処理して回路が形成された状態の
拡大縦断側面図である。
【図8】図7で示したベース材の表・裏面上の感光性レ
ジストや裏止め剤を剥離した状態の拡大縦断側面図であ
る。
【図9】図8で示したベース材のスルホールに、導電性
ペーストを充填した状態の拡大縦断側面図である。
【図10】図9で示したスルホール内の導電性ペースト
を硬化させ、インナーリードに部分メッキを施した状態
の拡大縦断側面図である。
【図11】図10で示した状態のものの一部を、より拡
大した縦断側面図である。
【図12】従来の両面タブ用テープの製造方法で、スル
ホール用銅メッキをする前の状態を示す拡大縦断側面図
である。
【図13】従来の両面タブ用テープの製造方法で、スル
ホール用銅メッキを施して導通した状態を示す拡大縦断
側面図である。
【符号の説明】
1−ベース材 11−スプロケット孔 2−スルホール 12−スプロケット孔 3−表面の銅箔 13−接着材 4−裏面の銅箔 14−インナーリード 5−スルホール用孔 15−ディバイス用孔 6−感光性レジスト 17−ディバイス用孔 7−表面の回路 18−スルホールラン
ド 8−裏面の回路 19−裏止め剤 9−導電性ペースト 20−部分メッキ 10−導通部 21−スルホール用
銅メッキ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ベース材1の表・裏面に銅箔による回路
    7,8が形成され、該表・裏面の回路7,8間に導通部
    10が形成された両面タブ用テープであって、 裏面の回路8の一部に形成の各スルホール用孔5から、
    ベース材1のスルホール2を経て表面の回路7の裏面に
    達するまで充填し硬化された導電性ペースト9を、両回
    路7,8間の導通部10としたことを特徴とする、両面
    タブ用テープ。
  2. 【請求項2】表・裏面に回路が形成される部分の各所定
    箇所にスルホール2をもち、かつ両側部にスプロケット
    孔11をもつ絶縁性フィルムをベース材1として、 該ベース材1の表面に、表面の銅箔3をラミネートする
    と共に、その裏面に、該ベース材1の上記各スルホール
    2に対応したスルホール用孔5とスプロケット孔12と
    を予め形成した裏面の銅箔4を、スプロケット孔11,
    12の位置合わせでラミネートして、該ベース材1の各
    スルホール2が裏面側で開口し表面側で閉止したものと
    し、 上記表・裏面の銅箔3,4に、感光性レジスト6の塗布
    と回路パターンの露光・現像処理をして、エッチングに
    より表・裏面に各々回路7,8を形成し、 上記感光性レジスト6を剥離後に、裏面の回路8のスル
    ホール用孔5から、ベース材1の各スルホール2を経て
    表面の回路7の裏面に達する如く導電性ペースト9を充
    填し、 該導電性ペースト9を硬化させることにより、表・裏面
    の回路7,8間の導通部10を形成し、 後はインナーリード14の所定箇所に、部分メッキ20
    を施すようにした、両面タブ用テープの製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN110356014A (zh) * 2019-07-10 2019-10-22 深圳市金企电子有限公司 一种铜箔覆膜生产工艺

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN110356014A (zh) * 2019-07-10 2019-10-22 深圳市金企电子有限公司 一种铜箔覆膜生产工艺
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