JPH09243572A - 支持体表面検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】フィルム幅両端へ行く程発生するレーザ光の光
量低下による光電子増倍管出力信号のレベル低下を補正
することにより、フィルム幅の両端付近の欠陥誤検出を
無くした、また、レーザ照射装置から照射されるレーザ
光の光量変化による光電子増倍管出力信号のレベル変化
を補正することにより、フィルム全幅にわたるフィルム
の欠陥誤検出を無くした支持体表面検査装置を提供す
る。 【解決手段】少なくとも、支持体を連続搬送する搬送手
段と、レーザ光発生部材とレーザ光照射手段と、受光し
たレーザ光に応じた電気信号を出力する光電子増倍管
と、第１の増幅回路と、判定回路とを有する支持体表面
検査装置において、第１の増幅回路の出力信号を、レー
ザ光照射手段が支持体を幅手方向に１回走査する時間Ｔ
よりも長い時間、積分する第１の積分回路と、積分結果
とあらかじめ定められた基準値とを比較して差電圧を求
める第１の比較回路と、差電圧に応じた電圧を光電子増
倍管に印加する高電圧発生回路とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フィルムなどの支
持体表面の傷、その表面に塗布された感光材料の塗布む
ら、フィルムの折れ等のような製造したフィルムに発生
した欠陥（以下、総称してフィルム傷という。）を検出
する支持体表面検査装置の改良に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、フィルム傷の検査においては、検
査対象物であるフィルムにスポット光を照射し、フィル
ムからの反射光あるいは透過光を、光電変換素子、例え
ば光電子増倍管に入射して、光電子増倍管から得られる
出力信号を処理し、判定することにより、フィルム傷を
検出する支持体表面検査装置、例えばフィルム傷検査装
置を使用している。つぎに、従来技術の一例として、レ
ーザ光を使用したフィルム傷検査装置について説明をす
る。図２は、レーザ光を使用したフィルム傷検査装置の
概略構成を示す図である。図２において、３３は検査対
象物であるフィルム、３１はレーザ光照射装置、３２
は、レーザ光がフィルム３３の全幅に順次照射されるよ
うにするための回転鏡、３４は、フィルム３３の表面よ
り反射されたレーザ光を集光するように反射する凹面
鏡、３５は光電子増倍管、３７は、光電子増倍管３５へ
高電圧を印加する高圧発生回路、３６は、光電子増倍管
３５の出力信号を増幅する増幅回路、３８は、増幅回路
３６の出力信号を処理し所定の欠陥判定値と比較してフ
ィルム３３のフィルム傷の有無を判定する欠陥判定回路
を示す。

【０００３】フィルム傷の有無を検査するフィルム３３
は、ローラーにより一定速度で搬送されつつ検査され
る。レーザ光照射装置３１からレーザ光を回転鏡３２、
例えばポリゴンミラーへ照射し、レーザ光をポリゴンミ
ラー３２で反射させる。ポリゴンミラー３２で反射され
たレーザ光は、ローラーにより一定速度で搬送されるフ
ィルム３３の表面に照射され、フィルム３３の表面で反
射し、凹面鏡３４へ照射される。フィルム３３の表面に
照射されるレーザ光は、回転するポリゴンミラー３２で
反射されたレーザ光であるため、反射されたレーザ光が
フィルム３３の表面全幅に順次照射されることになる。
フィルム３３の表面全幅から凹面鏡３４へ反射されたレ
ーザ光は、凹面鏡３４で光電子増倍管３５へ集光するよ
うに反射される。

【０００４】光電子増倍管３５へ照射されたレーザ光
は、光電変換され、電気信号となり、増幅回路３６で所
要レベルまで増幅され、欠陥判定回路３８へ出力され
る。欠陥判定回路３８には、別途所定の欠陥判定値が入
力されており、増幅回路３６から入力した光電子増倍管
３５からの出力信号と所定の欠陥判定値と比較し、フィ
ルム傷の有無が判定される。欠陥判定回路３８からは、
フィルム傷と判定した欠陥信号が他の装置へ出力され、
フィルム傷の位置信号、フィルム傷のカウント等に使用
される。

【０００５】ここで、フィルム表面の傷と、レーザ反射
光が入射した光電子増倍管の出力信号との関係を説明す
る。図３は、フィルム表面の傷と、レーザ反射光のレベ
ル差による光電子増倍管の出力信号の変化の様子を示す
図である。図３において、（ａ）は、検査するフィルム
の傷部分を中心としたフィルム断面図、（ｂ）は、フィ
ルムの傷部分を中心としたレーザ反射光による光電子増
倍管の出力信号波形図、（ｃ）は、光電子増倍管の出力
信号を処理した欠陥判定回路の出力信号波形図である。

【０００６】図３（ａ）に示すように、フィルム３３の
表面に傷があると、レーザ光が照射された場合、傷の部
分のみレーザ光の反射レベルが低下する。この反射レベ
ルが低下したレーザ光が、凹面鏡３４で反射され、光電
子増倍管３５に入射されると、図３（ｂ）に示すよう
に、傷の部分に対応する部分のレベルが低下した出力信
号が光電子増倍管３５から出力される。光電子増倍管３
５から出力される出力信号は、所要レベルまで増幅され
たのち、欠陥判定回路３８内の比較回路等で所定の欠陥
判定値と比較され、図３（ｂ）に示すように、所定の欠
陥判定値を超えるレベルの出力信号を発生する傷は、欠
陥と判定されている。

【０００７】しかし、レーザ光照射装置３１から照射さ
れ、検査対象物のフィルム３３で反射あるいは透過する
レーザ光の光量が、検査するフィルムの品種による反射
率・透過率の違いなどにより変化した場合、例えば光量
が低下した場合、光電子増倍管３５から出力される出力
信号のレベルが低下し、フィルムに傷がなくても、フィ
ルム全幅にわたり欠陥と判定することになる誤検出の出
力信号を発生するという問題があった。そして、ポリゴ
ンミラー３２の回転に従いフィルム３３表面全幅に照射
されるレーザ光も、フィルム３３表面の両端に行くほ
ど、光路長が長くなり光量が低下するため、図３（ｄ）
に示すように、光電子増倍管３５から出力される出力信
号は両端へ行くほどレベルが低下する。このため、例え
ば欠陥判定回路３８に入力する所定の欠陥判定値をフィ
ルム幅に応じて補正する等の処理を行なわないと、図３
（ｅ）に示すように、フィルム３３の両端付近に傷が無
くても欠陥と判定することになる誤検出の出力信号を発
生する。また、この場合、同じ欠陥信号レベルでも、フ
ィルム３３の幅手方向中央と端部に傷があった場合は、
図３（ｆ）に示すように検出される傷と検出されない傷
とが存在してしまい、誤検出の出力信号を発生すること
になる。

【０００８】このような、（１）支持体の地合や品種の
違いによる反射率・透過率の差によって、光電子増倍管
の受ける光量が変わることに起因する出力信号レベルの
変化の補正、（２）レーザ光照射装置の劣化、光電子増
倍管の感度低下の補償、といった問題を解決する方法と
して、従来は、（イ）検出信号を微分したものと欠陥判
定値とをコンパレータで比較し欠陥判別をしていたが、
微分することによる過渡特性によりエッジ部分に未検査
領域ができたり、エッジ部の検出出力が低下するといっ
た問題があった。また、（ロ）光電子増倍管に印加する
高電圧調整をはじめとして、機器の調整が必要であり、
（ハ）例えば、写真感光材料用カラーペーパーの生産等
では、連続的にベースの地合が異なる支持体が搬送され
ることがあるが、従来は人手により、地合の変化に応じ
て信号レベルを変化させる（光電子増倍管に印加する高
電圧を変える。）、あるいは、あらかじめ定められたコ
ンパレータレベルを切替えるといった非常に煩雑な操作
が必要であった。また、（３）幅手方向における感度ム
ラの存在の解消、（４）傷等不具合の位置による検出感
度の差の解消には、コンパレータにおける比較を光電子
増倍管が出力した検出信号の波形に沿ったシェーディン
グ状のものにすることで対応していたが、このようなシ
ェーディング状の比較をするコンパレータを得る方法と
しては、（ニ）検出信号をローパスフィルタに入力して
得た波形に所定のバイアスを加える方法、（ホ）あらか
じめ、コンピュータ等のメモリ上に、所望のコンパレー
タ値を記憶しておき、このコンパレータ値を検出信号に
同期して読み出しＤ／Ａ変換し比較する方法、などが使
用されていたが、当然ながら回路が複雑になるという問
題があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題を
解決し、フィルム幅両端へ行く程発生するレーザ光の光
量低下による光電子増倍管出力信号のレベル低下を補正
することにより、フィルム幅の両端付近の欠陥誤検出を
無くした、また、レーザ照射装置から照射されるレーザ
光の光量変化による光電子増倍管出力信号のレベル変化
を補正することにより、フィルム全幅にわたるフィルム
の欠陥誤検出を無くした支持体表面検査装置を提供する
ことを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の支持体表面検査装置は、少なくとも、支持
体を連続搬送する搬送手段と、レーザ光発生部材と支持
体の幅手方向にレーザ光を走査させる走査部材とを備え
たレーザ光照射手段と、支持体によって反射されたレー
ザ光あるいは支持体を透過したレーザ光を受光して光電
変換し、受光したレーザ光に応じた電気信号を出力する
光電子増倍管と、該光電子増倍管から出力された電気信
号を増幅する第１の増幅回路と、増幅された電気信号と
あらかじめ定められた所定の判定値領域とを比較し、増
幅された電気信号が判定値領域に含まれていない場合に
故障信号を出力する判定回路とを有する支持体表面検査
装置において、前記第１の増幅回路の出力信号を、前記
レーザ光照射手段が前記支持体を幅手方向に１回走査す
る時間Ｔよりも長い時間、積分する第１の積分回路と、
該第１の積分回路によって得られた積分結果とあらかじ
め定められた基準値とを比較して差電圧を求める第１の
比較回路と、差電圧に応じた電圧を前記光電子増倍管に
印加する高電圧発生回路とを有するものである。

【００１１】また、本発明の支持体表面検査装置は、少
なくとも、支持体を連続搬送する搬送手段と、レーザ光
発生部材と支持体の幅手方向にレーザ光を走査させる走
査部材とを備えたレーザ光照射手段と、支持体によって
反射されたレーザ光あるいは支持体を透過したレーザ光
を受光して光電変換し、受光したレーザ光に応じた電気
信号を出力する光電子増倍管と、該光電子増倍管から出
力された電気信号を増幅する第１の増幅回路と、増幅さ
れた電気信号とあらかじめ定められた所定の判定値領域
とを比較し、増幅された電気信号が判定値領域に含まれ
ていない場合に故障信号を出力する判定回路とを有する
支持体表面検査装置において、前記第１の増幅回路によ
って増幅された電気信号の出力を、あらかじめ定められ
た所定の範囲に保つように補正を行ない、補正された出
力を前記判定回路に出力する自動利得制御回路を有する
ものである。

【００１２】さらに詳しくは、本発明の支持体表面検査
装置は、第１の増幅回路によって増幅された電気信号の
出力を、あらかじめ定められた所定の範囲に保つように
補正を行ない、補正された出力を判定回路に出力する自
動利得制御回路を有するものである。また、本発明の支
持体表面検査装置は、自動利得制御回路が、第１の増幅
回路によって増幅された電気信号の出力の中心値を所定
レベルにシフトさせるレベルシフト回路と、該レベルシ
フト回路によってシフトされた電気信号を増幅する増幅
回路であって、入力されるコントロール信号に応じて増
幅の度合いが変化する、前記第１の増幅回路とは別の第
２の増幅回路と、該第２の増幅回路によって増幅された
電気信号を絶対値化する絶対値化回路と、該絶対値化回
路によって絶対値化された電気信号を、レーザ光照射手
段が支持体を幅手方向に１回走査する時間Ｔよりも短い
時間、積分する第１の積分回路とは別の第２の積分回路
と、該第２の積分回路による積分結果とあらかじめ定め
られた基準値とを比較して差電圧を求め、差電圧をコン
トロール信号として前記第２の増幅回路に入力する第２
の比較回路とを有するものである。また、本発明の支持
体表面検査装置は、走査部材が、回転多面鏡である。

【００１３】本発明による支持体表面検査装置の作用に
ついて説明する。本願発明請求項１の発明によれば、支
持体の表面を走査し、反射または透過したレーザ光を受
光した光電子増倍管の出力を、第１の増幅回路によって
増幅し、第１の積分回路はこの増幅された出力をレーザ
光照射手段が支持体を幅手方向に１回走査する時間Ｔよ
りも長い時間、積分し、第１の比較回路は、積分結果と
あらかじめ定められた基準値とを比較して差電圧を求
め、次いで高圧発生回路は、差電圧に応じた電圧を光電
子増倍管に印加するので、光電子増倍管の出力信号は所
定レベルに維持され、結果的に第１の増幅回路を経て判
定回路に伝達される信号も安定したものになる。本願発
明請求項２の発明によれば、支持体の表面を走査し、反
射または透過したレーザ光を受光した光電子増倍管の出
力を、第１の増幅回路によって増幅し、この第１の増幅
回路によって増幅された前記電気信号の出力を、自動利
得制御回路によってあらかじめ定められた所定の範囲に
保つように補正を行ない、この補正された出力が判定回
路で判定されるので、レーザ光による走査に伴うシェー
ディング状の光量変化が補正されて判定が行われる。

【００１４】本願発明請求項３の発明によれば、支持体
の表面を走査し、反射または透過したレーザ光を受光し
た光電子増倍管の出力を、第１の増幅回路によって増幅
し、第１の積分回路はこの増幅された出力をレーザ光照
射手段が前記支持体を幅手方向に１回走査する時間Ｔよ
りも長い時間、積分し、第１の比較回路は積分結果とあ
らかじめ定められた基準値とを比較して差電圧を求め、
次いで高電圧発生回路は、差電圧に応じた電圧を光電子
増倍管に印加するので、光電子増倍管の出力信号は所定
レベルに維持され、さらに第１の増幅回路によって増幅
された前記電気信号の出力を、自動利得制御回路によっ
てあらかじめ定められた所定の範囲に保つように補正を
行なうので、安定した出力がさらに自動利得制御回路に
よって補正されてから判定回路で判定されることにな
り、レーザ光による走査に伴うシェーディング状の光量
変化が補正されて判定が行われる。本願発明請求項４の
発明によれば、特に、自動利得制御回路が、レベルシフ
ト回路、第２の増幅回路、絶対値化回路、第２の積分回
路、第２の比較回路を有しており、あらかじめ第１の増
幅回路によって増幅された電気信号は、レベルシフト回
路によって所定レベルにシフトされ、次いで第２の増幅
回路によって増幅された後、絶対値化回路によって絶対
値化される。そして、第２の積分回路が、絶対値化され
た信号をレーザ光照射手段が支持体を幅手方向に１回走
査する時間Ｔよりも短い時間、積分し、第２の比較回路
は、積分結果と、あらかじめ定められた基準値とを比較
して求めた差電圧を第２の増幅回路にコントロール信号
として入力する。第２の増幅回路は入力されたコントロ
ール信号に応じて増幅の度合いが変化するので、常に自
動利得制御回路から判定回路に出力される信号の１走査
あたりの平均的な出力のレベルは一定になる。本願発明
請求項５の発明によれば、レーザ光発生部材から発生さ
れたレーザ光を走査させるための走査部材が回転多面鏡
によって構成されているので、容易かつ精度良くレーザ
光を走査させることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明による支持体表面検査装
置、例えばフィルム傷検査装置の実施の形態を、図１を
使用して説明する。図１において、３は検査対象である
フィルムなどの支持体、１はレーザ光発生部材であるレ
ーザ光照射装置、２はレーザ光が支持体３の全幅に順次
照射されるようにするための走査部材である回転鏡（回
転多面鏡、ポリゴンミラー）、４は、支持体３の表面よ
り反射されたレーザ光を集光するように反射する凹面
鏡、５は、凹面鏡４で反射されたレーザ光が入射して光
電変換される光電子増倍管、６は、光電子増倍管５の出
力信号を所要レベルにまで増幅する第１の増幅回路、７
は、第１の増幅回路６の出力信号を定められた時定数で
積分する第１の積分回路、８は所定の基準値と第１の積
分回路７の出力との差電圧を比較算出する第１の比較回
路、９は、第１の比較回路８からの出力電圧に応じた高
電圧を光電子増倍管５に印加する高圧発生回路、１０
は、第１の増幅回路６から入力した信号があらかじめ定
められた所定の範囲に保たれるように制御する自動利得
制御回路、１８は、自動利得制御回路１０からの出力信
号と所定の判定値とを比較し、欠陥の有無を判定する判
定回路である。自動利得制御回路１０はいくつかの要素
によって構成されており、１１は、第１の増幅回路６か
ら入力した信号をあらかじめ定められたレベルにシフト
させるレベルシフト回路、１２は入力されたコントロー
ル信号に応じて利得を制御し、レベルシフト回路１１か
ら入力された信号の増幅度を変化させる第２の増幅回
路、１３は、第２の増幅回路１２の出力を絶対値化する
絶対値化回路、１４は、絶対値化回路１３によって絶対
値化された信号をレーザ光照射手段が支持体を幅手方向
に１回走査する時間Ｔよりも短い時間、積分する第２の
積分回路、１５は、第２の積分回路１４による積分結果
と、あらかじめ定められた基準値とを比較して求めた差
電圧を第２の増幅回路にコントロール信号として入力す
るための第２の比較回路、１６は、第２の比較回路１５
の出力の大きさを調整するためのゲイン調整回路、１７
は、ゲイン調整回路１６の出力信号を第２の増幅回路１
２に所要の大きさでコントロール信号として出力するた
めのバイアス回路である。また、凹面鏡４は必要に応じ
て設ければ良く、フィルム３を反射または透過したレー
ザ光を光電子増倍管が直接受光する形式であってもよ
い。

【００１６】以下、本発明によるフィルム傷検査装置の
動作を説明する。フィルム傷の有無を検査するフィルム
３は、搬送手段であるローラーにより一定速度で搬送さ
れつつ検査される。レーザ光照射装置１から出射したレ
ーザ光を、所定位置に設置した回転鏡２、例えばポリゴ
ンミラーへ照射し、レーザ光を反射させる。このポリゴ
ンミラー２で反射されたレーザ光は、ローラーにより一
定速度で搬送されるフィルム３の表面に照射され、フィ
ルム３の表面で反射し、所定位置に設置したレーザ光を
集光するように反射する凹面鏡４へ照射される。

【００１７】ポリゴンミラー２で反射するレーザ光は、
回転するポリゴンミラー２で反射角度が一定の変化をす
るため、ポリゴンミラー２が例えば図１に示す矢印方向
に回転しているとすると、反射されたレーザ光がフィル
ム３の表面の手前端から向端へ全幅に順次照射され、フ
ィルム３の表面を走査することになる。フィルム３の表
面全幅から反射して、凹面鏡４へ順次照射されるレーザ
光は、凹面鏡４で反射し、光電子増倍管５へ集光するよ
うに入射する。

【００１８】光電子増倍管５へ入射したレーザ光は、光
電子増倍管５で光電変換され、出力信号となり、第１の
増幅回路６へ出力され、第１の増幅回路６で所要レベル
まで増幅されてから、第１の積分回路７および自動利得
制御回路１０へ出力される。一方の第１の積分回路７に
入力された出力信号は、積分されて、一定時間ごとの現
在の平均光量を表す出力信号電圧となり第１の比較回路
８へ出力される。なお、第１の積分回路７の時定数は、
例えばレーザ光がフィルム幅を１走査する時間の１０倍
以上とする。第１の比較回路８では、入力された平均光
量を表す出力信号電圧と、あらかじめ入力されている所
定の基準値Ａとの差電圧が比較算出され、高圧発生回路
９へ出力される。

【００１９】高圧発生回路９は、第１の比較回路８から
入力された差電圧により制御される高電圧を光電子増倍
管５へ印加し、光電子増倍管５の感度を制御している。
したがって、高圧発生回路９は、平均光量を表す出力信
号電圧が所定の基準値Ａより低ければ、光電子増倍管５
への印加電圧を上げ、平均光量を表す出力信号電圧が所
定の基準値Ａより高ければ、光電子増倍管５への印加電
圧を下げることにより、光電子増倍管５の感度を制御
し、常に平均光量を表す出力信号電圧が所定の基準値Ａ
に等しくなるように制御している。

【００２０】他方、第１の増幅回路６の信号出力は、レ
ベルシフト回路１１を経て、第２の増幅回路１２に入力
され、判定回路１８へ出力される。さらに、制御信号
（コントロール信号）によって利得制御可能な第２の増
幅回路１２の信号出力は、絶対値化回路１３を経て、第
２の積分回路１４に入力されて積分される。特に、絶対
値回路を使用することにより、検出信号の無い領域（ブ
ランキング）の影響をなくすことができる。例えば、従
来は、１走査の終わりのエンドエッジでサンプルホール
ドする方法も考えられたが、次の信号のスタートエッジ
で段差ができたり、また、時定数を大きくしようとする
と、リークの少ないスチロールコンデンサを使用するこ
とになるため、コンデンサが大型化してしまうという問
題があったが、絶対値回路を用いると、このような問題
を解消できる。ここで、第２の積分回路１４の時定数は
第１の積分回路７の時定数よりも短く設定されている。
そして、その時定数は、検査対象の光学条件、光学系な
どによって決定されるものであるが、走査によって生じ
る光路長に起因するシェーディングを解消することがで
きる範囲で任意に決定される。ただし、自動利得制御回
路１０は１走査中における出力のレベルに差が無いよう
にするためのものであるので、当然ながら光学系が支持
体を幅手方向に１走査する時間よりも短い時間に設定さ
れる。さて、積分されることにより、光路長の差による
光量ムラ（シェーディング）を有する出力信号が抽出さ
れる。この出力信号は第２の比較回路１５に入力され、
別途入力される所定の基準値Ｂとの差信号（差電圧）が
比較算出され、この差信号をコントロール信号として利
得制御可能な第２の増幅回路１２の利得を制御するのに
使用する。ここで本実施の形態にはゲイン調整回路１６
と、バイアス回路１７とが設けられており、第２の比較
回路１５から出力される差信号（差電圧）、すなわちコ
ントロール信号はこれら２つの回路を経て第２の増幅回
路１２に入力されるが、それぞれコントロール信号のレ
ベルやバイアス等を調整するための構成であって、必要
に応じて同様の構成を適宜取捨選択可能である。

【００２１】すなわち、利得制御可能な第２の増幅回路
１２の利得は、フィルム３の幅両端へ向かう部分で、信
号レベルが低下している出力信号が入力していれば、自
動利得制御回路１０で幅両端へ向かう部分で利得を上
げ、常に判定回路１８の平均入力信号を所定の基準値Ｂ
に等しくなるように補正する。本発明のフィルム傷検査
装置によれば、フィルム幅の中央付近と両端付近に存在
するほぼ同じ大きさの傷による信号レベルがほぼ同じに
なるように補正され、かつ、レーザ光照射装置自体が原
因の光量変化による影響も大幅に軽減されるため、フィ
ルム傷誤検出の無い安定した欠陥検出が可能となる。な
お、上述のフィルム傷検査装置の説明においては、レー
ザ光をフィルム表面で反射させ光電子増倍管へ入射する
手段の説明を行なったが、フィルムを透過したレーザ光
を光電子増倍管へ入射する手段においても、上述のフィ
ルム傷検査装置を使用して、同様にフィルム傷の検査が
行なえることは言うまでもない。

【００２２】

【発明の効果】本願請求項１の発明によれば、積分結果
とあらかじめ定められた基準値とを比較して求めた差電
圧に応じた高電圧を光電子増倍管に加えるので、検査対
象であるフィルムなどの支持体の表面の反射率・透過率
などが変化したとしても、欠陥を示す信号の変化・ばら
つきがなくなり、常に安定かつ信頼性の高い表面検査が
できる。すなわち、検出信号自体にコンパレータを使用
する方式を使用しているので、エッジ部の検出力を低下
させることがない。さらに光源（例えばレーザ）の劣化
や光電子増倍管の感度低下に対する前述の機器類の調整
は全く必要が無い。また、検出信号レベルでの調整がリ
アルタイムで自動化でき、人手を要することがない。本
願請求項２の発明によれば、検出信号を平滑化するため
の従来のような煩雑な構成は一切必要とせずに、増幅さ
れた電気信号の平均レベルを常に一定に保つので、検査
対象である支持体の幅手方向における出力の差が解消さ
れるので、幅手方向における欠陥判定の基準を等しくす
ることができ、常に安定かつ信頼性の高い表面検査がで
きる。本願請求項３の発明によれば、常にほぼ一定の信
号出力を得た上で、さらに支持体の幅手方向における出
力の差をも解消でき、安定かつ信頼性の高い表面検査が
できる。本願請求項４の発明によれば、従来のような煩
雑な構成でなく、非常にシンプルでありながら、増幅さ
れた電気信号の平均レベルを常に一定に保つので、検査
対象である支持体の幅手方向における出力の差が解消さ
れ、確実に幅手方向の感度ムラを解消可能な表面検査が
可能である。本願請求項５の発明によれば、簡単かつ小
型の構成でレーザ光を走査させることが可能である。前
記により、フィルム幅両端へ行く程発生するレーザ光の
光量低下による光電子増倍管出力信号のレベル低下を補
正することにより、フィルム幅の両端付近の欠陥誤検出
を無くした、また、レーザ照射装置から照射されるレー
ザ光の光量変化による光電子増倍管出力信号のレベル変
化を補正することにより、フィルム全幅にわたるフィル
ムの欠陥誤検出を無くした支持体表面検査装置を提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるフィルム傷検査装置の一実施例を
示す概略ブロック図である。

【図２】従来のフィルム傷検査装置を示す概略ブロック
図である。

【図３】フィルムの傷とレーザ反射光並びに欠陥判定回
路の判定結果との関係を示す図である。

【符号の説明】

１、３１…レーザ光照射装置、２、３２…回転鏡、３、
３３…フィルム、４、３４…凹面鏡、５、３５…光電子
増倍管、６、３６…第１の増幅回路、７…第１の積分回
路、８…第１の比較回路、９…高圧発生回路、１０…自
動利得制御回路、１１…レベルシフト回路、１２…第２
の増幅回路、１３…絶対値化回路、１４…第２の積分回
路、１５…第２の比較回路、１６…ゲイン調整回路、１
７…バイアス回路、１８…判定回路、３６…増幅回路、
３７…高圧発生回路、３８…欠陥判定回路。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも、支持体を連続搬送する搬送
   手段と、レーザ光発生部材と支持体の幅手方向にレーザ
   光を走査させる走査部材とを備えたレーザ光照射手段
   と、支持体によって反射されたレーザ光あるいは支持体
   を透過したレーザ光を受光して光電変換し、受光したレ
   ーザ光に応じた電気信号を出力する光電子増倍管と、該
   光電子増倍管から出力された電気信号を増幅する第１の
   増幅回路と、増幅された電気信号とあらかじめ定められ
   た所定の判定値領域とを比較し、増幅された電気信号が
   判定値領域に含まれていない場合に故障信号を出力する
   判定回路とを有する支持体表面検査装置において、 前記第１の増幅回路の出力信号を、前記レーザ光照射手
   段が前記支持体を幅手方向に１回走査する時間Ｔよりも
   長い時間、積分する第１の積分回路と、 該第１の積分回路によって得られた積分結果とあらかじ
   め定められた基準値とを比較して差電圧を求める第１の
   比較回路と、 差電圧に応じた電圧を前記光電子増倍管に印加する高電
   圧発生回路とを有することを特徴とする支持体表面検査
   装置。
2. 【請求項２】 少なくとも、支持体を連続搬送する搬送
   手段と、レーザ光発生部材と支持体の幅手方向にレーザ
   光を走査させる走査部材とを備えたレーザ光照射手段
   と、支持体によって反射されたレーザ光あるいは支持体
   を透過したレーザ光を受光して光電変換し、受光したレ
   ーザ光に応じた電気信号を出力する光電子増倍管と、該
   光電子増倍管から出力された電気信号を増幅する第１の
   増幅回路と、増幅された電気信号とあらかじめ定められ
   た所定の判定値領域とを比較し、増幅された電気信号が
   判定値領域に含まれていない場合に故障信号を出力する
   判定回路とを有する支持体表面検査装置において、 前記第１の増幅回路によって増幅された電気信号の出力
   を、あらかじめ定められた所定の範囲に保つように補正
   を行ない、補正された出力を前記判定回路に出力する自
   動利得制御回路を有することを特徴とする支持体表面検
   査装置。
3. 【請求項３】 第１の増幅回路によって増幅された電気
   信号の出力を、あらかじめ定められた所定の範囲に保つ
   ように補正を行ない、補正された出力を判定回路に出力
   する自動利得制御回路を有する、請求項１記載の支持体
   表面検査装置。
4. 【請求項４】 自動利得制御回路は、 第１の増幅回路によって増幅された電気信号の出力の中
   心値を所定レベルにシフトさせるレベルシフト回路と、 該レベルシフト回路によってシフトされた電気信号を増
   幅する増幅回路であって、入力されるコントロール信号
   に応じて増幅の度合いが変化する、前記第１の増幅回路
   とは別の第２の増幅回路と、 該第２の増幅回路によって増幅された電気信号を絶対値
   化する絶対値化回路と、 該絶対値化回路によって絶対値化された電気信号を、レ
   ーザ光照射手段が支持体を幅手方向に１回走査する時間
   Ｔよりも短い時間、積分する第１の積分回路とは別の第
   ２の積分回路と、 該第２の積分回路による積分結果とあらかじめ定められ
   た基準値とを比較して差電圧を求め、差電圧をコントロ
   ール信号として前記第２の増幅回路に入力する第２の比
   較回路とを有することを特徴とする請求項２または請求
   項３に記載の支持体表面検査装置。
5. 【請求項５】 走査部材は、回転多面鏡であることを特
   徴とする請求項１、請求項２、請求項３、請求項４に記
   載の支持体表面検査装置。