JPH09241885A - 錫−コバルト合金メッキ浴 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】毒性が無く廃水処理が容易で、しかも安定性の
良好なメッキ浴であって、外観、物性共に良好な錫−コ
バルト合金メッキ皮膜を形成し得る錫−コバルト合金メ
ッキ浴を提供する。 【解決手段】スズ酸アルカリをスズ金属として１０〜８
０ｇ／ｌ、有機コバルト塩をコバルト金属として０．１
〜１０ｇ／ｌ、及びオキシカルボン酸化合物を５０〜６
００ｇ／ｌ含有する水溶液からなる錫−コバルト合金メ
ッキ浴。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、錫−コバルト合金
メッキ浴に関する。

【０００２】

【従来の技術】錫−コバルト合金メッキ浴としては、フ
ッ化第一錫、酸性フッ化ソーダ等のフッ化物を必須成分
として含有するフッ化物浴（特公昭４８−２７５８１号
公報等）、ピロリン酸のアルカリ金属塩を必須成分とし
て含有するピロリン酸浴（特公昭５４−４４６５３号公
報等）、燐酸エステル化合物を必須成分として含有する
燐酸エステル浴（特開平１−１４９９８７号公報等）な
どの各種のメッキ浴が知られている。

【０００３】これらのメッキ浴の内で、フッ化物浴につ
いては、使用するフッ化物が毒性を有するため、設備の
維持、排水、排気等が困難であり、公害、労働衛生面か
ら見てもその使用は好ましくない。又、ピロリン酸浴に
ついては、メッキ浴を長期間使用するとオルソリン酸が
蓄積して浴中に沈殿物が生じ、安定した合金皮膜を得る
ことが困難になるという欠点がある。更に、フッ化物浴
やピロリン酸浴は、錫化合物として第１錫塩を用いるも
のであり、錫イオンが酸化され易く、連続して作業を行
うと、第２錫塩となって浴中に蓄積し、浴が不調となっ
て安定な合金皮膜を得難くなるという問題点がある。

【０００４】又、特開平１−１４９９８７号公報に記載
の燐酸エステル浴は、錫塩として第２錫塩を含有するも
のであり、沈殿物の発生は少ないが、形成される合金皮
膜は、応力が高くクラックが発生し易いという欠点があ
る。さらにピロリン酸浴、燐酸エステル浴等は、浴成分
中にリン化合物を含んでおり、排水が河川、湖沼ヘ流入
にすることによる汚染問題が考えられるため、公害防止
の観点からその使用は好ましくない。

【０００５】特開昭５０−１０１２３５号公報には、錫
化合物として第２錫塩を含有し、コバルト化合物として
無機コバルト塩を含有する錫−コバルト合金メッキ浴が
記載されているが、このメッキ浴には無機コバルト塩の
錯化剤および電解電位調整剤としてエチレンジアミン４
酢酸塩が多量に含まれており、形成されるコバルト錯体
の安定性が高すぎるために、ｐＨ調整や市販の金属凝集
剤では金属の除去が困難であり、廃水処理が繁雑になる
という欠点がある。更に、このメッキ浴は、浴の安定
性、得られるメッキ皮膜の外観なども満足のいくもので
はない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の主な目的は、
毒性が無く廃水処理が容易で、しかも安定性の良好なメ
ッキ浴であって、外観、物性共に良好な錫−コバルト合
金メッキ皮膜を形成し得る錫−コバルト合金メッキ浴を
提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記した如
き目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、錫化合物と
して４価の錫化合物である錫酸アルカリを用い、コバル
ト化合物として有機コバルト塩を用いた特定の配合のメ
ッキ浴に、更に、錫及びコバルトの錯化剤として、オキ
シカルボン酸化合物を配合したメッキ浴は、毒性がな
く、長期間保存した場合や連続的に使用した場合にもメ
ッキ液の分解や沈殿の生成による性能の劣化のない安定
性に優れたメッキ浴であって、しかも通常の市販の金属
凝集剤を用いて比較的簡単に金属分を除去できるために
廃水処理が容易であり、形成されるメッキ皮膜は平滑で
良好な外観を有し、クラックの少ない優れた物性を有す
るものとなることを見出した。更に、斯かる組成のメッ
キ浴に、光沢剤として、エチレンアミン化合物及びアミ
ノカルボン酸化合物から選ばれた少なくとも一種の成分
を少量配合したメッキ浴は、上記した優れた特性をその
まま維持した上で、広い電流密度範囲において良好な光
沢の錫−コバルト合金メッキ皮膜を形成できることを見
出し、ここに本発明を完成するに至った。

【０００８】即ち、本発明は、スズ酸アルカリをスズ金
属として１０〜８０ｇ／ｌ、有機コバルト塩をコバルト
金属として０．１〜１０ｇ／ｌ、及びオキシカルボン酸
化合物を５０〜６００ｇ／ｌ含有する水溶液からなる錫
−コバルト合金メッキ浴、並びに、該メッキ液に、更
に、エチレンアミン化合物及びアミノカルボン酸化合物
から選ばれた少なくとも１種類の化合物を、０．５ｍｇ
／ｌ〜１０ｇ／ｌの範囲内の配合量であって、エチレン
アミン化合物の配合量が１００ｍｇ／ｌ以下となるよう
に配合してなる錫−コバルト合金メッキ浴に係る。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の錫−コバルト合金メッキ
浴では、錫化合物として、４価の錫化合物である錫酸ア
ルカリを用いることが必要である。錫酸アルカリとして
は、錫酸ナトリウム、錫酸カリウム等を用いることがで
き、特に、経済性の点で錫酸ナトリウムが好ましい。こ
の様な４価の錫化合物である錫酸アルカリを配合するこ
とによって、従来のメッキ浴における問題点である錫イ
オンの酸化による沈殿の発生を防止して、メッキ浴を長
期間安定に使用することが可能となる。

【００１０】本発明のメッキ浴では、錫酸アルカリは、
一種単独で又は２種以上混合して用いることができ、そ
の配合量は、スズ金属として１０〜８０ｇ／ｌ程度とす
ることが適当であり、２０〜５０ｇ／ｌ程度とすること
が好ましい。錫酸アルカリの配合量がこの範囲外では、
平滑で良好なメッキ皮膜が形成され難くなるので好まし
くない。

【００１１】本発明のメッキ浴では、コバルト化合物と
しては有機コバルト塩を用いることが必要である。有機
コバルト塩を上記した錫酸アルカリと組み合わせて用い
ることによって、無機コバルト塩を用いた場合と比べ
て、メッキ浴の安定性が向上し、形成されるメッキ皮膜
の外観も良好になる。有機コバルト塩としては、特に限
定はなく、水溶性の有機コバルト塩であればいずれも用
いることができ、その具体例としては、酒石酸コバル
ト、酢酸コバルト、シュウ酸コバルト、クエン酸コバル
ト、グルコン酸コバルト、サリチル酸コバルト等を挙げ
ることができる。有機コバルト塩は、一種単独で又は２
種以上混合して用いることができ、その配合量は、コバ
ルト金属として０．１〜１０ｇ／ｌ程度とすることが適
当であり、０．５〜５ｇ／ｌ程度とすることが好まし
い。有機コバルト塩の配合量がこの範囲外では、平滑で
良好なメッキ皮膜が形成され難くなるので好ましくな
い。

【００１２】本発明のメッキ浴には、更に、オキシカル
ボン酸化合物を配合することが必要である。本発明のメ
ッキ浴において、オキシカルボン酸化合物は、電導性の
付与の働きと共に、錫イオン及びコバルトイオンの錯化
剤としての働きをするものと考えられ、この様な錯化剤
を配合したメッキ浴は、安定性が良好であって、通常の
市販の金属凝集剤を用いて比較的簡単に金属分を除去で
きるために廃水処理が容易であり、形成されるメッキ皮
膜は、平滑で良好な外観を有し、応力が低くクラック等
の生じ難いものとなる。オキシカルボン酸化合物として
は、オキシカルボン酸及びその塩から選ばれた少なくと
も一種の化合物を用いればよい。オキシカルボン酸とし
ては、グルコヘプトン酸、グルコン酸、酒石酸、クエン
酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、サリチル酸、マン
デル酸を挙げることができ、オキシカルボン酸の塩とし
ては、上記したオキシカルボン酸のカリウム塩、ナトリ
ウム塩等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩等を挙げる
ことができる。本発明では、オキシカルボン酸化合物
は、一種単独で又は２種以上混合して用いることができ
る。オキシカルボン酸化合物の配合量は、５０〜６００
ｇ／ｌ程度とすることが適当であり、８０〜２５０ｇ／
ｌ程度とすることが好ましい。オキシカルボン酸化合物
の配合量が少なすぎると浴の安定性が低下し、形成され
るメッキ皮膜が粗雑なものとなり易く、一方配合量が多
くなり過ぎると浴比重、粘性などが増大して、汲み出し
量の増大、浴コストの上昇などが生じるので好ましくな
い。

【００１３】本発明のメッキ浴は、上記した錫酸アルカ
リ、有機コバルト塩、及びオキシカルボン酸化合物を必
須成分として含有するものであり、浴安定性が良好で、
形成される合金メッキ皮膜は外観、物性共に優れたもの
となる。

【００１４】更に、本発明のメッキ浴には、必要に応じ
て、光沢剤として、エチレンアミン化合物及びアミノカ
ルボン酸化合物の少なくとも一種を配合することができ
る。これらの光沢剤を配合することによって、形成され
るメッキ皮膜は、広い電流密度範囲においてレベリング
が良好で優れた光沢を有するものとなる。エチレンアミ
ン化合物としては、エチレンジアミン、ジエチレントリ
アミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペン
タミン、ペンタエチレンヘキサミンなどのエチレンアミ
ン類；エチレンジアミン４酢酸、ジエチレントリアミン
５酢酸、トリエチレンテトラミン６酢酸、ヒドロキシエ
チルエチレンジアミン３酢酸等のエチレンアミン類の酢
酸誘導体；上記エチレンアミン類の酢酸誘導体のナトリ
ウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、アンモニウム
塩等を用いることができる。また、アミノカルボン酸化
合物としては、グリシン、システイン、グルタミン酸、
リジン、フェニルアラニン、ヒスチジン等のアミノカル
ボン酸；これらのアミノカルボン酸のナトリウム塩、カ
リウム塩等のアルカリ金属塩、塩酸塩等を用いることが
できる。これらの内で、好ましいものとしては、エチレ
ンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテト
ラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチレントリア
ミン５酢酸、トリエチレンテトラミン６酢酸等のエチレ
ンアミン化合物、グルタミン酸ナトリウム、グリシン、
Ｌ−ヒスチジン塩酸塩，Ｌ−システイン、Ｌ−リジン塩
酸塩等のアミノカルボン酸化合物などを挙げることがで
きる。これらの内で、アミノカルボン酸化合物を用いる
場合には、配合量の幅が大きいので浴管理が容易であ
る。

【００１５】本発明では、光沢剤としては、エチレンア
ミン化合物及びアミノカルボン酸化合物から選ばれた化
合物を一種単独で又は２種以上混合して用いることがで
き、その配合量は、０．５ｍｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌ程度の
範囲とすることが好ましく、１ｍｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌ程
度の範囲とすることがより好ましい。この範囲の配合量
とすることによって、良好な外観のメッキ皮膜を形成で
きる。尚、上記範囲を上回る量の光沢剤を配合すること
も可能であるが、より光沢が向上することはないので、
不経済である。尚、エチレンアミン化合物については、
アミノカルボン酸化合物との合計量としては１０ｇ／ｌ
まで配合することができるが、エチレンアミン化合物の
量としては、１００ｍｇ／ｌ程度以下とすることが必要
である。エチレンアミン化合物の含有量が多くなりすぎ
ると、メッキ浴中のコバルトと錯体を形成する可能性が
生じて廃水処理が煩雑になり、更に、形成されるメッキ
皮膜の外観も劣るものとなるので好ましくない。

【００１６】本発明のメッキ浴では、ｐＨ範囲は特に限
定されるものではないが、６．５〜１０程度の範囲とす
ることが好ましく、この範囲内では、浴の安定性が良好
でメッキ皮膜の均一性も優れたものとなる。ｐＨの調整
は必要に応じて硫酸、塩酸、酢酸などの無機酸、有機
酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化ア
ルカリ等を用いて行えばよい。

【００１７】更に、本発明のメッキ浴には、必要に応じ
て、一般にピット防止剤として用いられているラウリル
硫酸ナトリウムなどのアニオン性界面活性剤を配合する
ことができる。

【００１８】本発明のメッキ浴を用いて錫−コバルト合
金メッキを行なう場合には、メッキ浴の浴温は２５〜７
０℃程度の広い範囲とすることができ、４０〜６０℃程
度とすることが好ましい。又、陰極電流密度は、０．１
〜５Ａ／ｄｍ²程度の範囲とすることが適当である。

【００１９】陽極材料としては、通常、カーボン、チタ
ン−白金等の不溶性陽極を用いることが望ましい。

【００２０】本発明のメッキ浴によれば、浴中の組成、
浴温等を調整することによって、錫−コバルト合金メッ
キ皮膜の合金組成、色調などを広い範囲で変化させるこ
とが可能である。例えば、錫塩とコバルト塩の濃度を変
化させることにより析出物の合金比、色調などを変える
ことが可能であり、コバルト塩の濃度を上げることによ
って、合金皮膜中のコバルトの割合を増加させることが
できる。また、浴温を変化させることにより析出物の合
金比、色調を変化させることができ、浴温が高くなる
と、錫の合金比が上昇する傾向となる。

【００２１】

【実施例】以下の実施例により本発明をより詳細に説明
する。

【００２２】実施例１ 錫酸ナトリウム５０ｇ／ｌ、酢酸コバルト４．５ｇ／
ｌ、ロッセル塩１２０ｇ／ｌ及びクエン酸アンモニウム
１５ｇ／ｌを含有するｐＨ７．５のメッキ液中で、被め
っき物として面積１ｄｍ²の真鍮板を用い、陽極材料と
してチタン−白金陽極を用いて、浴温５５℃、陰極電流
密度１．０Ａ／ｄｍ²で１５分間メッキを行った。その
結果、平滑なメッキ皮膜が形成され、析出皮膜の組成は
錫６８％及びコバルト３２％であった。このめっき浴を
上記作業条件で５０時間電解後、室温にて３０日間放置
したところ、電解中及び放置後のいずれの場合において
も、メッキ浴に濁りが生じることがなく、安定であっ
た。

【００２３】実施例２ 実施例１と同様の被めっき物及び陽極を用い、錫酸ナト
リウム４５ｇ／ｌ、酒石酸１００ｇ／ｌ、酒石酸コバル
ト３ｇ／ｌ、グルタミン酸ソーダ８ｇ／ｌ及びＬ−リジ
ン塩酸塩０．０５ｇ／ｌを含有するｐＨ８．０のめっき
浴中で、浴温５０℃、陰極電流密度１Ａ／ｄｍ²で１５
分間メッキを行った。その結果、全面が良好な光沢を有
するメッキ皮膜が形成され、析出皮膜の組成は錫５８％
及びコバルト４２％であった。このめっき浴を上記作業
条件で５０時間電解後、室温にて３０日間放置したとこ
ろ、電解中及び放置後のいずれの場合においても、メッ
キ浴に濁りが生じることがなく、安定であった。

【００２４】実施例３ 実施例１と同様の被めっき物及び陽極を用い、錫酸ナト
リウム５０ｇ／ｌ、クエン酸コバルト７ｇ／ｌ、５０％
乳酸２０ｇ／ｌ、グリコール酸５０ｇ／ｌ、及びトリエ
チレンテトラミン６酢酸５０ｍｇ／ｌを含有するｐＨ
６．８のめっき浴中で浴温５０℃、陰極電流密度１Ａ／
ｄｍ²で１５分間メッキを行った。その結果、全面光沢
のメッキ皮膜が形成され、析出皮膜の組成は錫５４％及
びコバルト４６％であった。このめっき浴を上記作業条
件で５０時間電解後、室温にて３０日間放置したとこ
ろ、電解中及び放置後のいずれの場合においても、メッ
キ浴に濁りが生じることがなく、安定であった。

【００２５】実施例４ 実施例１と同様の被めっき物及び陽極を用い、錫酸ナト
リウム４０ｇ／ｌ、酢酸コバルト５．８ｇ／ｌ、ロッセ
ル塩６０ｇ／ｌ、グルコン酸ソーダ１８０ｇ／ｌ、Ｌ−
システイン２ｇ／ｌ及びジエチレントリアミン６０ｍｇ
／ｌを含有するｐＨ９．０のめっき浴中で浴温４０℃、
陰極電流密度４Ａ／ｄｍ²で５分間メッキを行った。そ
の結果、全面光沢のメッキ皮膜が得られ、析出皮膜の組
成は錫３８％及びコバルト６２％であった。このめっき
浴を上記作業条件で５０時間電解後、室温にて３０日間
放置したところ、電解中及び放置後のいずれの場合にお
いても、メッキ浴に濁りが生じることがなく、安定であ
った。

【００２６】実施例５ 実施例１と同様の被めっき物及び陽極を用い、錫酸ナト
リウム７０ｇ／ｌ、酢酸コバルト５ｇ／ｌ、ロッセル塩
１８０ｇ／１、グルコン酸ソーダ４０ｇ／ｌ、Ｌ−ヒス
チジン塩酸塩０．０２ｇ／ｌ及びラウリル硫酸ナトリウ
ム５０ｍｇ／ｌを含有するｐＨ７．５のめっき浴中で、
浴温５５℃、０．５Ａ／ｄｍ²で６０分間メッキを行っ
た。その結果、全面光沢のメッキ皮膜が得られ、析出皮
膜の組成は錫７８％及びコバルト２２％であった。この
めっき浴を上記作業条件で５０時間電解後、室温にて３
０日間放置したところ、電解中及び放置後のいずれの場
合においても、メッキ浴に濁りが生じることがなく、安
定であった。

【００２７】実施例６ 実施例１と同様の被めっき物及び陽極を用い、錫酸ナト
リウム９５ｇ／ｌ、酢酸コバルト６ｇ／ｌ、シュウ酸コ
バルト５．５ｇ／ｌ、酒石酸ナトリウム８０ｇ／ｌ、シ
ュウ酸４０ｇ／ｌ及びエチレンジアミン８０ｍｇ／ｌを
含有するｐＨ８．５のめっき浴中で、浴温４５℃、陰極
電流密度０．７Ａ／ｄｍ²で４０分間メッキを行った。
その結果、全面光沢のメッキ皮膜が得られ、析出皮膜の
組成は錫６２％及びコバルト３８％であった。このめっ
き浴を上記作業条件で５０時間電解後、室温にて３０日
間放置したところ、電解中及び放置後のいずれの場合に
おいても、メッキ浴に濁りが生じることがなく、安定で
あった。

【００２８】実施例７ 実施例１と同様の被めっき物及び陽極を用い、錫酸ナト
リウム７０ｇ／ｌ、酢酸コバルト５ｇ／ｌ、ロッセル塩
１８０ｇ／ｌ、グルコン酸ソーダ４０ｇ／ｌ及びＬ−ヒ
スチジン塩酸塩０．０２ｇ／ｌを含有するｐＨ７．５の
めっき浴中で、浴温５０℃、陰極電流密度０．５Ａ／ｄ
ｍ²で５０分間メッキを行った。その結果、全面光沢の
メッキ皮膜が得られ、析出皮膜の組成は錫７８％及びコ
バルト２２％であった。このめっき浴を上記作業条件で
５０時間電解後、室温にて３０日間放置したところ、電
解中及び放置後のいずれの場合においても、メッキ浴に
濁りが生じることがなく、安定であった。

【００２９】実施例８ 実施例１と同様の被めっき物及び陽極を用い、錫酸ナト
リウム６０ｇ／ｌ、酢酸コバルト５ｇ／ｌ、ロッセル塩
１７０ｇ／ｌ、クエン酸アンモニウム２０ｇ／ｌ及びラ
ウリル硫酸ナトリウム２０ｍｇ／ｌを含有するｐＨ６．
８のメッキ浴中で、浴温４５℃、０．５Ａ／ｄｍ²で３
０分間メッキを行った。その結果、平滑なメッキ皮膜が
得られ、析出皮膜の組成は錫５８％及びコバルト４２％
となった。このめっき浴を上記作業条件で５０時間電解
後、室温にて３０日間放置したところ、電解中及び放置
後のいずれの場合においても、メッキ浴に濁りが生じる
ことがなく、安定であった。

【００３０】比較例１ 実施例１と同様の被めっき物を用い、ピロリン酸カリウ
ム２５０ｇ／ｌ、ピロリン酸第１錫１３ｇ／ｌ、塩化コ
バルト３０ｇ／ｌ、１，３−プロパンジアミン３ｍｌ／
ｌ及び４，１，２−トリアゾール０．８ｇ／ｌを含有す
るｐＨｌ０のめっき浴中で、カーボン陽極を用いて陰極
電流密度０．５Ａ／ｄｍ²、浴温５５℃で３０分間メッ
キめっきを行ったところ、粗雑な乳白色の皮膜が形成さ
れた。又、このめっき液を上記作業条件で５０時間電解
後、室温にて３０日間放置したところ、メッキ浴に濁り
が生じた。

【００３１】比較例２ 実施例１と同様の被めっき物を用い、沸化第１錫５０ｇ
／ｌ、酸性フッ化ソーダ３０ｇ／ｌ、塩化コバルト４０
０ｇ／ｌ及びアセチルチオ尿素０．１ｇ／ｌを含有する
ｐＨ２．０のめっき浴中で、カーボン陽極を用いて陰極
電流密度１Ａ／ｄｍ²、浴温６５℃で２０分間メッキを
行った。その結果、粗雑な白色の皮膜が形成された。

【００３２】比較例３ 実施例１と同様の被めっき物を用い、１−ヒドロキシエ
タン−１，１ホスホン酸５０ｇ／ｌ、錫酸ナトリウム７
５ｇ／ｌ、塩化コバルト２０ｇ／ｌ、メタンスルホン酸
３０ｇ／ｌ及び塩化ナトリウム２０ｇ／ｌを含有するｐ
Ｈ８．５のめっき浴中で、錫陽極を用いて陰極電流密度
２Ａ／ｄｍ²、浴温５５℃で１０分間メッキを行った。
その結果、粗雑な灰色皮膜が形成された。

【００３３】比較例４ 実施例１と同様の被めっき物を用い、錫酸ナトリウム７
０ｇ／ｌ、硫酸コバルト１００ｇ／ｌ、酒石酸ナトリウ
ム１５０ｇ／ｌ及びＥＤＴＡ−４Ｎａ２００ｇ／ｌを含
有するｐＨ１３のメッキ浴中で、カーボン陽極を用い
て、陰極電流密度０．５Ａ／ｄｍ²、浴温７０℃で６０
分間メッキを行ったところ、粗雑な灰色皮膜が形成され
た。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】スズ酸アルカリをスズ金属として１０〜８
   ０ｇ／ｌ、有機コバルト塩をコバルト金属として０．１
   〜１０ｇ／ｌ、及びオキシカルボン酸化合物を５０〜６
   ００ｇ／ｌ含有する水溶液からなる錫−コバルト合金メ
   ッキ浴。
2. 【請求項２】更に、エチレンアミン化合物及びアミノカ
   ルボン酸化合物から選ばれた少なくとも１種類の化合物
   を、０．５ｍｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌの範囲内の配合量であ
   って、エチレンアミン化合物の配合量が１００ｍｇ／ｌ
   以下となるように含有する請求項１に記載の錫−コバル
   ト合金メッキ浴。
3. 【請求項３】メッキ浴のｐＨが６．５〜１０である請求
   項１又は２に記載の錫−コバルト合金メッキ浴
4. 【請求項４】有機コバルト塩が、酒石酸コバルト、酢酸
   コバルト、シュウ酸コバルト、クエン酸コバルト、グル
   コン酸コバルト及びサリチル酸コバルトから選ばれた少
   なくとも１種の化合物である請求項１乃至３のいずれか
   に記載の錫−コバルト合金メッキ浴。
5. 【請求項５】オキシカルボン酸化合物が、グルコヘプト
   ン酸、グルコン酸、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、グリ
   コール酸、乳酸、リンゴ酸、サリチル酸、マンデル酸、
   及びこれらのオキシカルボン酸の塩から選ばれた少なく
   とも１種の化合物である請求項１乃至４のいずれかに記
   載の錫−コバルト合金めっき浴。
6. 【請求項６】エチレンアミン化合物が、エチレンジアミ
   ン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
   テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミ
   ン、エチレンジアミン４酢酸、ジエチレントリアミン５
   酢酸、ヒドロキシエチレンジアミン３酢酸、トリエチレ
   ンテトラミン６酢酸、及びこれらのエチレンアミン類の
   酢酸誘導体の塩から選ばれた少なくとも１種の化合物で
   あり、アミノカルボン酸化合物が、グリシン、システイ
   ン、グルタミン酸、リジン、フェニルアラニン、ヒスチ
   ジン、及びこれらのアミノカルボン酸の塩から選ばれた
   少なくとも１種の化合物である請求項２乃至５のいずれ
   かに記載の錫−コバルト合金メッキ浴。