JPH09239237A

JPH09239237A - 排ガスの脱硫方法及び装置

Info

Publication number: JPH09239237A
Application number: JP8082126A
Authority: JP
Inventors: Naoki Sakai; 直樹酒井; Akira Ishizawa; 亮石澤; Kenichi Komatsu; 建一小松
Original assignee: Chiyoda Corp; Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Current assignee: Chiyoda Corp; Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Priority date: 1996-03-11
Filing date: 1996-03-11
Publication date: 1997-09-16
Anticipated expiration: 2016-03-11
Also published as: JP3637140B2

Abstract

(57)【要約】【課題】撹拌機吐出量に対する槽内上下の液循環量の
比を大きくすると共に撹拌機周囲の液上昇流速分布の不
均一性が小さいく、かつ構内構造が簡単な大容量排ガス
用の脱硫方法及び装置を提供する。【解決手段】排ガスを、密閉槽内に形成された排ガス
脱硫室内に収容されている吸収液中に吹込む工程を有す
る排ガスの脱硫方法において、（ｉ）該密閉槽としてそ
の水平断面が四辺形の密閉槽を用いること、（ii）その
四辺形の横方向の辺の長さａと縦方向の辺の長さｂとの
比ａ／ｂが、０．７〜１．４の範囲にあること、（ii
i）該密閉槽内に形成された水平断面が四辺形の排ガス
脱硫室のその四辺形の中心部又はほぼ中心部に相当する
位置に水平方向に回転する撹拌羽根を有する撹拌機を１
つ配設すること、（iv）排ガス脱硫室の水平断面積と同
じ水平断面積の円の直径（等面積直径）Ｄｅに対する吸
収液の静止液面の高さＨの比Ｈ／Ｄｅが０．２以上であ
ること、を特徴とする排ガスの脱硫方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、排ガスの脱硫方法
及び脱硫装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、多数の透孔を有する水平隔板によ
ってその内部が２つ又は３つの室に区画された密閉槽
と、その水平隔板に配設された多数の透孔に垂設された
多数のガス分散管を備えた多管式排ガス脱硫装置は知ら
れている（特公平３−７０５３２号、特開平３−７２９
１３号、特開平３−２６２５１０号等）。

【０００３】このような従来の排ガス脱硫装置において
は、その密閉槽としては、その水平断面が円形のものが
用いられているが、該密閉槽を大型化するに伴い、吸収
液を収容する排ガス脱硫室における槽径に対する液深の
比が小さくなる。この比が小さくなるに従い、撹拌機吐
出量に対する槽内上下の液循環量の比が低下し、排ガス
の円滑な脱硫に必要な液循環が得られなくなる。この傾
向への対処として、該密閉槽に複数の撹拌機を設置する
とともに、その周壁に複数のバッフル板を配設してい
る。しかしながら、このような対処では、構内構造が複
雑化し、装置コストが高くなるとともに、撹拌機周囲の
液上昇流速分布の不均一性が拡大し、排ガス脱硫室内に
全体として十分な上下方向の液循環量を与えても局部的
には不足するところが出てくる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、撹拌機吐出
量に対する槽内上下の液循環量の比を大きくすると共に
撹拌機周囲の液上昇流速分布の不均一性が小さいく、か
つ構内構造が簡単な大容量排ガス用の脱硫方法及び装置
を提供することをその課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、排ガスを、密閉槽内
に形成された排ガス脱硫室内に収容されている吸収液中
に吹込む工程を有する排ガスの脱硫方法において、
（ｉ）該密閉槽としてその水平断面が四辺形の密閉槽を
用いること、（ii）その四辺形の横方向の辺の長さａと
縦方向の辺の長さｂとの比ａ／ｂが、０．７〜１．４の
範囲にあること、（iii）該密閉槽内に形成された水平
断面が四辺形の排ガス脱硫室のその四辺形の中心部又は
ほぼ中心部に相当する位置に水平方向に回転する撹拌羽
根を有する撹拌機を１つ配設すること、（iv）排ガス脱
硫室の水平断面積と同じ水平断面積の円の直径（等面積
直径）Ｄｅに対する吸収液の静止液面の高さＨの比Ｈ／
Ｄｅが０．２以上であること、を特徴とする排ガスの脱
硫方法が提供される。また、本発明によれば、排ガス
を、密閉槽内に形成された排ガス脱硫室内に収容されて
いる吸収液中に吹込む機構を有する排ガスの脱硫装置に
おいて、（ｉ）該密閉槽の水平断面が四辺形であるこ
と、（ii）その四辺形の横方向の辺の長さａと縦方向の
辺の長さｂとの比ａ／ｂが、０．７〜１．４の範囲にあ
ること、（iii）該密閉槽内に形成された水平断面が四
辺形の排ガス脱硫室のその四辺形の中心部又はほぼ中心
部に相当する位置に水平方向に回転する撹拌羽根を有す
る撹拌機を１つ有すること、（iv）排ガス脱硫室の水平
断面積と同じ水平断面積の円の直径（等面積直径）Ｄｅ
に対する吸収液の静止液面の高さＨの比Ｈ／Ｄｅが０．
２以上であること、を特徴とする排ガスの脱硫装置が提
供される。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明において用いる密閉槽は、
その水平断面が四辺形（正方形又は長方形）を示すもの
である。本発明では、その密閉構内に形成された水平断
面が四辺形の排ガス脱硫室の中心部又はほぼ中心部に相
当する位置に、水平方向に回転する撹拌羽根を有する撹
拌機を配設する。図１に密閉槽又は密閉槽内に形成され
た排ガス脱硫室の水平断面図を示す。図１において、線
Ａ（１）、Ａ（２）、Ｂ（１）及びＢ（２）はいずれも
密閉槽の周壁（側板）を示し、これらの線を辺とする四
辺形は、密閉槽又は排ガス脱硫室の水平断面形状を示
す。ａ及びｂはその四辺形（正方形又は長方形）の横方
向の長さと縦方向の長さを示す。Ｘはその四辺形Ｒの中
心部又はほぼ中心部を示し、Ｘはその左辺からｃ、右辺
からｄ、上辺からｅ、下辺からｆの位置にある。図１に
示した四辺形Ｒにおいて、その横方向の上辺（Ａ
（１））と下辺（Ａ（２））の長さはａで、その縦方向
の両側辺（Ｂ（１）、Ｂ（２））の長さはｂで、その面
積はａ×ｂである。この四辺形Ｒにおいて、ａ／ｂは
０．７〜１．４、望ましくは０．９５〜１．０５とする
のが好ましい。ａ／ｂの比が前記範囲を逸脱すると排ガ
スの脱硫処理を効率よく行うことが困難になる。また、
四辺形Ｒにおけるｃ：ｄ及びｅ：ｆは０．９〜１．１、
望ましくは０．９８〜１．０２とする。ｃ／ｄ及びｅ／
ｆの比が前記範囲を逸脱すると、排ガスの脱硫処理を効
率よく行うことが困難になる。

【０００７】図２に、図１に示した四辺形状の水平断面
を有する排ガス脱硫室内に撹拌機を配設したときの状態
説明図を示す。この図において、撹拌機Ｓは、四辺形Ｒ
の中心部又はほぼ中心部Ｘに対応する位置に配設されて
いる。即ち、四辺形Ｒの中心部又はほぼ中心部Ｘの位置
に、水平方向に回転する撹拌羽根を有する撹拌機の垂直
回転軸を位置させる。

【０００８】本発明で用いる撹拌機Ｓとしては、水平方
向に回転して、吸収液を下方向に流動させるように形成
された撹拌羽根を有するものが用いられる。このような
撹拌羽根の回転により、密閉槽内に収容された吸収液
は、撹拌羽根の上方から撹拌羽根の下方向に流動され、
密閉槽の底面に衝突してその流れを反転して、上方向に
拡がりをもって上昇する。また、吸収液は、この撹拌羽
根の回転方向と同じ方向へも回動する。この撹拌機の回
転方向と同じ方向に流動する吸収液の回動流は、密閉槽
の周壁に接触するが、この場合、密閉槽はその水平断面
が従来のように円形状ではなく、四辺形状に形成されて
いることから、その吸収液の回動流はその四辺形の各辺
を形成する側板〔Ａ（１）、Ａ（２）、Ｂ（１）、Ｂ
（２）〕面に衝突するようになる。そして、この吸収液
回動流の側板面に対する衝突により、その回動流は大き
く乱され、これにより、上方向へ拡がりをもって流動す
る上昇流がさらに生ずる。このようにして、撹拌機周囲
には、流速分布の均一性がよい上方向へ拡がりをもって
流動する十分な量の上昇流が形成される。その結果、効
率のよい排ガスの脱硫が達成される。本発明で用いる撹
拌機の大きさは、その消費する電力で表わして、吸収液
１０ｍ³当り、０．４ｋｗ以上、好ましくは０．８〜
１．２ｋｗである。

【０００９】本発明の場合には、前記したように、水平
断面が円形状の従来の排ガス脱硫室に必要とされたバッ
フル板や複数の撹拌の配設を要することなく、１つの撹
拌機の使用により、排ガス脱硫室内には、吸収液の均一
な上昇流を生じさせることができ、効率の良い脱硫を行
うことができる。もちろん、本発明の場合でも、必要に
応じバッフル板を用いることができるが、バッフル板を
用いなくても、前記のように均一な上昇液流が形成され
るので、通常の場合はその設置は特に必要とされない。

【００１０】次に本発明を図面を参照して説明する。図
３は３室構造の排ガス脱硫装置の１例についての模式図
を示す。この図において、１は脱硫装置、２は密閉槽、
３は第１隔板、４は第１室、５は第２室、６は第３室、
７は排ガス導入口、８は排ガス排出口、９は排ガス分散
管、１０は排ガス噴出孔、１１は攪拌羽根、１２は攪拌
軸、１３は吸収剤供給管、１４は酸化用空気供給管、１
５は吸収液抜出管、１６は第２隔板、１７は排ガス上昇
筒、１８は洗浄液供給管、１９は洗浄液排出管、２０は
天板、Ｌは吸収液、Ｗは吸収液の静止液面、Ａは気液混
合相（フロス層）、Ｂは固液体分離空間を各々示す。図
４に、四辺形Ｒ内に排ガス分散管、撹拌機及び排ガス上
昇筒を配設したときの１例についての説明図を示す。図
４において、９は排ガス分散管、１２は撹拌軸、１７は
排ガス上昇筒を示す。

【００１１】図３に示す排ガス脱硫装置は、その水平断
面形状が四辺形の密閉槽２の内部を第１隔板３及び第２
隔板１６によって区画して、第１室４、第２室５及び第
３室６の３室構造に形成されている。第１隔板３及び第
２隔板１６は、水平板、階段状板、傾斜板等のいずれで
もよい。第１室４はその内部に吸収液Ｌを収容し、排ガ
ス脱硫室を形成する。第２室５には排ガス導入口７が配
設され、ここから導入された排ガスは、排ガス分散管９
を通じて排ガス噴出孔１０から吸収液Ｌの静止液面Ｗよ
り下の部分に吹き込まれる。排ガス噴出孔１０より上方
には、気液混合相Ａが形成され、ここで排ガス中の亜硫
酸ガスが吸収される。吸収液Ｌとしては、カルシウム化
合物又はカルシウム化合物含有物、例えば石灰石及び／
又は消石灰を吸収剤として含む石こうスラリー等が用い
られる。

【００１２】第１室４内の気液混合相Ａの上方に放散さ
れた浄化排ガスは、第１室４の上部空間Ｂ（固液体分離
空間）を上昇しながらかつ水平方向に移動する。このよ
うにして浄化排ガスが流動する間に、排ガス中のミスト
及び固体粒子は固液体分離空間Ｂにおいて重力沈降によ
り及び排ガス分散管９との衝突によりその大部分は浄化
排ガスから分離される。固液体の分離された浄化排ガス
は、排ガス上昇筒１７を上昇し、第３室６に導入され
る。第３室６において、浄化排ガスは上昇流から略水平
流に方向転換し、浄化排ガスに同伴されるミスト及び固
体粒子が分離された後に排ガス排出口８から排出され
る。

【００１３】第３室６の底面（第２隔板１６）上に堆積
した固体粒子は、洗浄液、例えば石こう含有スラリー、
石こうを分離した吸収液、水、海水などの液体を間欠的
又は連続的に洗浄液供給管１８から供給して第２隔板１
６の表面から剥離させ、洗浄液とともに１箇所以上の洗
浄液排出口１９から排出させる。排ガス上昇筒１７から
第３室６に導入された浄化排ガスは、第３室６の天板に
衝突した後、略水平流に方向転換するため、排ガスに同
伴されるミスト及び固体粒子がその衝突により及び重力
沈降により浄化排ガスから分離される。なお、排ガス排
出口８は、必ずしも側壁に配設する必要はなく、天板に
配設することもできる。

【００１４】排ガス分散管９は、円形、三角形、四角
形、六角形などの多角形若しくはトラフなどの任意の断
面形状のものとすることができる。また、排ガス分散管
９の周壁には、水平面から一定の高さの位置に複数の排
ガス噴出孔１０が開いており、その排ガス噴出孔の形状
は円形、三角、四角、六角、星型など任意の形状とする
ことができるし、スリット状にすることも可能である。
この排ガス噴出孔１０は、排ガス分散管９に対し、高さ
一定の一列に配列してもよいし、高さの異なる二列又は
三列以上に配列してもよい。さらに、排ガス分散管９
は、その先端をノズル構造にし、その先端ノズルから排
ガスを下方向に噴出させることもできる。排ガス分散管
９の相当内直径は、一般的には、２５〜３００ｍｍ、好
ましくは５０〜３００ｍｍである。排ガス噴出孔１０の
相当直径は３〜１００ｍｍ、好ましくは５〜５０ｍｍで
ある。３ｍｍ未満では、閉塞の問題がある。なお、排ガ
ス分散管の相当内直径及び排ガス噴出孔の相当直径は次
式で示される。Ａ：排ガス分散管の排ガス噴出孔の配設位置における内
部空間の水平断面積Ｂ：排ガス分散管の排ガス噴出孔の配設位置における内
部空間の水平断面を囲む周辺の長さＣ：排ガス噴出孔の面積Ｄ：排ガス噴出孔の周辺の長さ排ガス分散管９の下端開口部の形状は、単純な水平端面
をもつもの、任意の傾斜端面をもつもの、鋸の刃状また
は複数のノッチを切った形状をもつものなどいずれでも
よい。排ガス分散管９としては、内径２５〜３００ｍｍ
の円筒管からなり、その側壁のほぼ一定の高さに一定間
隔で開口した直径５〜１００ｍｍの円形孔を形成したも
のの使用が好ましい。このような排ガス分散管は、市販
の低廉なプラスチック円筒管を使用して容易に作製する
ことができる。

【００１５】排ガス上昇筒１７の横断面形状は、円形や
正方形、長方形等の各種の形状であることができる。こ
の排ガス上昇筒の数は該排ガス上昇筒内の排ガスの上昇
速度が６〜２０ｍ／ｓ、好ましくは８〜１５ｍ／ｓとな
るよう選定すればよい。排ガスの速度を６ｍ／ｓより小
さくすると第１室が大きくなり過ぎるので経済的ではな
く、２０ｍ／ｓ以上では排ガス中のミスト及び固体粒子
が上昇排ガスに巻き込まれるという問題がある。

【００１６】図３に示した第１室４内においては、亜硫
酸ガスと吸収剤と酸素との反応が起り、この反応で生成
した石こうは、これを吸収液とともにライン１５を介し
て系外へ除去し、一方、その反応で消費した吸収剤に相
当する吸収剤をライン１３を介して吸収液中へ供給す
る。

【００１７】気液混合相Ａにおいては、以下の反応式で
示される亜硫酸ガスと吸収剤と酸素との反応が起り、排
ガス中の亜硫酸ガスは石こうとして固定化される。ＳＯ₂＋ＣａＣＯ₃＋1/2Ｏ₂＋Ｈ₂Ｏ→ ＣａＳＯ₄・２Ｈ
₂Ｏ↓＋ＣＯ₂↑ 排ガスの脱硫率を向上させるためには、気液混合相Ａに
おける前記反応を効率よく行わせることが必要となる。
１時間当りに吸収液中へ導入される空気中の酸素と亜硫
酸ガスとのモル比（Ｏ₂／ＳＯ₂）を０．５〜６、好まし
くは１〜５の範囲に設定し、これにより、前記反応を効
率よく行わせることができる。

【００１８】ライン１４を介して吸収液中へ吹込む空気
量を多くするにつれて空気を吸収液へ吹込むエネルギー
量も増大することから、過剰の空気量の吹込みは好まし
いものではない。従って、経済的な観点からは、空気吹
込み量は、前記Ｏ₂／ＳＯ₂モル比が特に１〜５の範囲に
なるように規定するのがよい。

【００１９】本発明においては、排ガス脱硫室４の吸収
液の静止液面Ｗの高さＨと等面積直径Ｄｅとの比Ｈ／Ｄ
ｅを０．２以上、好ましくは０．２５以上にするのがよ
い。前記値より小さくなると、撹拌により好ましい吸収
液の液流れを形成するのが困難になるので好ましくな
い。

【００２０】図５は、２室構造の排ガス脱硫装置の１例
についての模式図を示す。この図において、図３に示さ
れた符号と同一の符号は同一の意味を有する。図５に示
した脱硫装置においては、第１室４内の吸収液と接触し
て浄化された排ガスは、その平均上昇速度を０．５〜５
ｍ／ｓ、好ましくは０．７〜４ｍ／ｓ、平均水平速度を
８ｍ／ｓ以下、好ましくは６ｍ／ｓ以下に保持され、第
１室４の上部空間Ｂを上昇しながらかつ水平方向に移動
する。このようにして浄化排ガスが流動する間に、排ガ
ス中のミスト及び固体粒子は、固液体分離空間Ｂにおい
て重力沈降により及び排ガス分散管９との衝突分離によ
り排ガス中から分離され、ミスト及び固体の分離された
浄化排ガスは排ガス排出口８から排出される。

【００２１】図６は、２室構造の排ガス脱硫装置の他の
例についての模式図を示す。図６に示した装置は、その
中央部には、第２室５を貫通し、その下端が第１室４内
に開口する排ガス上昇筒３１が立設されている。この排
ガス上昇筒の横断面形状は四角形や八角形等の方形状や
円形状等であることができる。排ガス上昇筒３１の配設
数は１個又は複数個であることができ、装置規模によっ
て適宜選定する。図６における２０は第２室５の天板を
示し、３３は空気吹き込みノズルを示す。排ガス排出口
８は排ガス上昇筒の上端に配設された密閉板に配設して
もよいし、排ガス上昇筒の側壁に配設してもよい。図６
の場合、排ガス排出口は側壁に配設されている。排ガス
上昇筒３１の上部内部には充填層３２が配設され、その
上方には吸収液分散手段としてのスプレーノズル３７が
配設されている。充填層３２は、必要に応じ、省略する
ことができる。充填層３２に用いる充填材としては、従
来公知の各種のもの、例えば、ラシッヒリング、テラレ
ット、ポールリング、サドル、レッシングリング、木格
子等を挙げることができる。充填層３２の厚さは特に制
約されず、適宜決められるが、通常は０．５〜５ｍであ
る。充填層は、多孔板上に充填して形成されることがで
きるし、内面に金網を積層した多孔板上に充填して形成
させることもできる。

【００２２】図６に示した装置を用いて排ガスの浄化処
理を行うには、排ガスを排ガス導入ダクト７から第２室
５内に導入し、ここからガス分散管９を介して第１室４
内の吸収液Ｌ中に吹込む。吸収液中に吹込まれた排ガス
は気泡となって上昇し、その分散管のガス噴出孔より上
方には気泡と吸収液との混合相からなる気液混合相Ａが
形成される。排ガスが吸収液中を気泡として上昇する間
に排ガス中に含まれている汚染物質は吸収液と反応し、
排ガス中から除去される。このようにして浄化された排
ガスは、気液混合層Ａから上部空間に放散され、排ガス
上昇筒３１開口内に集められ、ここからその筒内を上昇
する。排ガス上昇筒内には、吸収液導管３６、ポンプ３
５を通って循環させる吸収液がスプレーノズル３７から
スプレーされ、充填層３２内を流下している。排ガス上
昇筒３１内を上昇する排ガスは、この充填層３２内にお
いて流下する吸収液と接触した後、浄化排ガス排出口８
を通って排出される。吸収剤は、吸収剤導入管３４から
吸収液導管３３に導入される。また、この吸収剤は、吸
収液導入管３８を介して吸収液Ｌ中に導入することもで
きる。

【００２３】排ガス上昇筒３１の横断面積Ｓ₁と第１室
４の横断面積Ｓ₂との比Ｓ₁／Ｓ₂は、０．１〜０．９、
好ましくは０．３〜０．７の範囲に規定するのがよい。
Ｓ₁／Ｓ₂が前記範囲より大きくなると、排ガス分散管９
の必要本数を配設するための隔板３の表面を広くする必
要が生じ、装置全体が大きくなる上、少量の吸収液を排
ガス上昇筒３１内に分散させるときに、その吸収液を安
定的に均一に分散させるのが困難になる。一方、前記範
囲より小さくなると、排ガス上昇筒３１内を上昇するガ
ス上昇線速度が高速になりすぎて、排ガスの圧力損失が
大きくなったり、第１室５の上部空間での排ガスの偏流
が大きくなる等の問題が生じるので好ましくない。排ガ
ス上昇筒３１の高さは特に制約されないが、隔板３から
スプレーノズル３７での距離は２ｍ以上、好ましくは４
〜７ｍの範囲に規定するのがよい。また、排ガス上昇筒
３１を上昇する排ガスの上昇線速度は、１．０ｍ／秒以
上、好ましくは１．５〜３ｍ／秒の範囲に規定するのが
よい。排ガスの上昇線速度が前記範囲より小さいと、充
分な気液接触効率が確保できない等の不都合を生じるの
で好ましくない。排ガスの上昇線速度を前記範囲に規定
することにより、排ガス上昇筒３１内における排ガスか
らの汚染物質の除去を少ない吸収液の使用量で効率よく
除去することができる。さらに、スプレーノズル３７か
らスプレーさせる吸収液の量は、標準状態に換算された
排ガス量１ｍ³／ｈｒ当り、通常、０．１〜１０ｋｇ／
ｈｒ、好ましくは０．２〜２ｋｇ／ｈｒである。このよ
うな吸収液量をスプレーさせることにより、排ガス中に
残存する極く少量の汚染物質を効果的に除去することが
できる。

【００２４】図６に示した装置は２室構造のもので、し
かも排ガス上昇筒の数も少なく、通常は１個で十分であ
ることから、構造簡単で装置コストが低いという利点が
得られる。その上、排ガス上昇筒３１を上昇する排ガス
流速は、その排ガス上昇筒の横断面積により自由に選定
することができ、その断面積を小さくすることにより速
くすることができるので、排ガス上昇筒内での排ガスと
吸収液との接触を緊密に行うことができ、排ガス上昇筒
内での排ガス中からの汚染物質の除去率を高くすること
ができる。さらに、図６に示す装置の場合には、装置の
天板２０の高さが低くなるので、水平方向に回転する撹
拌機を採用した場合には、撹拌機のシャフト長さが短か
くなり、取り付けが容易となる上、図３に示す３室構造
の装置に見られる第３室の底板（第２隔板１６）上への
石膏堆積がなくなる等の利点も得られる。

【００２５】本発明の脱硫装置において、その密閉槽内
の圧力は負圧又は加圧のいずれであってもよいが、好ま
しくは負圧である。負圧の場合には、大気圧よりも０〜
１，０００ｍｍ水柱程度低い圧力が採用される。密閉槽
内を負圧にするには、排ガス排出口を、排煙処理ファン
に連結し、その排ガス排出口を介して密閉槽内の排ガス
を吸引して排出させる。密閉槽内を加圧するには排煙処
理ファンを脱硫装置の入口に設置し、密閉槽内へ排ガス
を押し込む。密閉槽内を加圧にする場合と負圧にする場
合を比較すると、負圧にする方が排煙処理ファンの動力
が小さくなる。水平断面が丸型の脱硫装置では密閉槽内
圧力を加圧から負圧に変えた場合、槽形状を保つため構
造部材重量が増加するのに対し、水平断面が四辺形の脱
硫装置では構造部材重量は変らない。故に水平断面を四
辺形にすることにより負圧にすることによる排煙処理フ
ァン動力減少の利点をそのまま享受できる。

【００２６】

【発明の効果】本発明で脱硫反応に用いる密閉槽は、そ
の水平断面が四辺形状を有し、その四辺形の中心部又は
ほぼ中心部に相当する位置に水平方向に回転する１つの
撹拌機を配設した構造を有する。従って、本発明では、
密閉槽を大型化し、そのため、槽の水平断面積に対する
液深（静置液面の高さ）の比が小さくなっても、撹拌機
吐出量に対する槽内上下の液循環量の比を大きく保持す
ることができるとともに、各撹拌機周囲の液上昇流速分
布の不均一性も小さく保持することができ、その結果、
排ガスの脱硫処理を効率良くかつ安全に行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明で用いる密閉槽又は排ガス脱硫室の水平
断面形状を示す。

【図２】図１に示した四辺形状の水平断面を有する排ガ
ス脱硫室内に撹拌機を配設したときの状態説明図を示
す。

【図３】３室構造の脱硫装置の１例についての模式図を
示す。

【図４】四辺形Ｒに排ガス分散管、撹拌軸及排ガス上昇
筒を配設したときの１例についての説明図を示す。

【図５】２室構造の脱硫装置の１例についての模式図を
示す。

【図６】２室構造の脱硫装置の他の例についての模式図
を示す。

【符号の説明】

１：脱硫装置２：密閉槽３：第１隔板４：第１室５：第２室６：第３室７：排ガス導入口８：排ガス排出口９：排ガス分散管１０：排ガス噴出孔１１：撹拌羽根１２：撹拌軸１３：吸収剤供給管１４：酸化用空気供給管１５：吸収液抜出管１６：第２隔板１７：排ガス上昇筒１８：洗浄液供給管１９：洗浄液排出口３１：排ガス上昇筒３２：充填層Ｒ：四辺形Ｘ：四辺形の中心部又はほぼ中心部Ｓ：撹拌機

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】排ガスを、密閉槽内に形成された排ガス
脱硫室内に収容されている吸収液中に吹込む工程を有す
る排ガスの脱硫方法において、（ｉ）該密閉槽としてその水平断面が四辺形の密閉槽を
用いること、（ii）その四辺形の横方向の辺の長さａと縦方向の辺の
長さｂとの比ａ／ｂが、０．７〜１．４の範囲にあるこ
と、（iii）該密閉槽内に形成された水平断面が四辺形の排
ガス脱硫室のその四辺形の中心部又はほぼ中心部に相当
する位置に水平方向に回転する撹拌羽根を有する撹拌機
を１つ配設すること、（iv）排ガス脱硫室の水平断面積と同じ水平断面積の円
の直径（等面積直径）Ｄｅに対する吸収液の静止液面の
高さＨの比Ｈ／Ｄｅが０．２以上であること、を特徴と
する排ガスの脱硫方法。
【請求項２】該密閉槽内を大気圧より低い圧力に保持
する請求項１の方法。
【請求項３】排ガスを、密閉槽内に形成された排ガス
脱硫室内に収容されている吸収液中に吹込む機構を有す
る排ガスの脱硫装置において、（ｉ）該密閉槽の水平断面が四辺形であること、（ii）その四辺形の横方向の辺の長さａと縦方向の辺の
長さｂとの比ａ／ｂが、０．７〜１．４の範囲にあるこ
と、（iii）該密閉槽内に形成された水平断面が四辺形の排
ガス脱硫室のその四辺形の中心部又はほぼ中心部に相当
する位置に水平方向に回転する撹拌羽根を有する撹拌機
を１つ有すること、（iv）排ガス脱硫室の水平断面積と同じ水平断面積の円
の直径（等面積直径）Ｄｅに対する吸収液の静止液面の
高さＨの比Ｈ／Ｄｅが０．２以上であること、を特徴と
する排ガスの脱硫装置。