JPH09213191A - 静電型可動接点素子および静電型可動接点集積回路 - Google Patents

静電型可動接点素子および静電型可動接点集積回路

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JPH09213191A
JPH09213191A JP1978296A JP1978296A JPH09213191A JP H09213191 A JPH09213191 A JP H09213191A JP 1978296 A JP1978296 A JP 1978296A JP 1978296 A JP1978296 A JP 1978296A JP H09213191 A JPH09213191 A JP H09213191A
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movable contact
electrostatic
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fixed electrode
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JP1978296A
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Inventor
Hideo Akitani
秀夫 秋谷
Kazuo Imai
和雄 今井
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H59/00Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
    • H01H59/0009Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics

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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回路間の接続をより低抵抗で接続を可能にす
ることを目的とする。 【解決手段】 スイッチ10を閉じて直流電圧5Vを固
定電極2と可動電極4との間に印加することで、生じた
静電引力により支持梁5が撓み、可動電極4が固定電極
2に引きつけられ接触する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、電子システムの
相互接続を行う静電型可動接点素子およびそれを用いた
静電型可動接点集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路の進展により、電子シス
テムの小型化と同時に機能の革新および規模の拡大はめ
ざましく、これにともないシステム開発コストの増大も
甚だしくなっている。このため、LSIの開発期間の短
縮が強く求められており、機能の変更や拡張が容易なF
PGA(Field Programmable Gate Array )などのプロ
グラマブルLSIが、システムの中核部品として有望視
されている。
【0003】これまでのFPGAの実現手法としては、
文献1(Chenming Hu, "Interconnect Device For Fiel
d Programmabl Gate Array,"IEDM92(1992))などにみら
れるように、SRAM型、E(E)PROM型、アンチ
フューズ型の3種が知られている。SRAM型は、プロ
グラム情報をSRAMメモリセルに蓄えておき、それに
基づいて論理モジュール間の相互接点をMOSFETス
イッチのオンオフで制御するものである。
【0004】また、E(E)PROM型は、プログラム
情報を、SRAMメモリセルではなくフローティングゲ
ートMOSFETに蓄積して制御を行うものである。前
者がSRAMという揮発性メモリを用いるのに比べ、後
者は不揮発性のフローティングゲート素子を用いている
ことや、相互スイッチ用MOSFETをそれ自身で兼用
もできることなどの利点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、いずれの方式
においても、相互接続点のオンオフをMOSFETで行
うことは共通であり、導通時の抵抗がkΩ台の値とな
る。このため、論理モジュール間で信号をやりとりする
際にRC遅延が生じ、高速システムでは使えないという
問題があった。
【0006】一方、アンチフューズ型では、相互接続点
の電極間に薄い絶縁膜を挿入しておき、プログラム情報
に従って高電圧を印加するなどして強制的に大きな電流
を流し、その薄膜を絶縁破壊させることにより電気的接
続を実現する。従って、この場合は不揮発性であり、再
プログラミングはできない。但し、接続点は低抵抗とな
るので高速化には有利である。しかし、このアンチフュ
ーズ型では絶縁破壊領域の大きさが接続点毎にまちまち
となり、また、絶縁破壊と同時に電極材料がジュール熱
で溶融することもあるので、一般的に抵抗値のバラツキ
が大きいという問題があった。
【0007】この発明は、以上のような問題点を解消す
るためになされたものであり、より低抵抗で接続を可能
にすることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明の静電型可動接
点素子は、絶縁性基体上に固定された接続部および絶縁
性基体と一定の空隙を隔てて接続部に続く可動な支持部
から構成された支持梁と、支持部下の絶縁性基体上に形
成された第1の電極と、支持部の第1の電極に対向する
面に、第1の電極と所定の空隙をあけて形成された第2
の電極とを少なくとも備えるようにした。第1と第2の
電極間に電位差を与えると、静電引力が発生し、互いに
引き寄せ合う。また、この発明の静電型可動接点集積回
路は、静電型可動接点素子の第1の電極および第2の電
極の互いに対向または近設する電極の間に所定の電圧を
供給する駆動用回路を備えるようにした。発生した静電
引力により、支持梁の支持部が絶縁性基板に引き寄せら
れる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下この発明の実施の形態を図を
参照して説明する。 実施の形態1.図1は、この発明の実施の形態における
静電型可動接点素子の構成を示す構成図である。同図に
おいて、絶縁性基板1(絶縁性基体)の上に固定電極2
(第1の電極)を設け、微小空隙3を隔てて可動電極4
(第2の電極)が支持梁5によって支えられている。
【0010】固定電極2,可動電極4,それぞれの配線
6,7、そして支持梁5はアルミニウムの薄膜とし、各
電極は100μm×100μmの正方形、膜厚0.5μ
mとし、各配線は幅1μm、厚さ0.5μmとした。と
ころで、支持梁5は、アルミニウムに限るものではな
く、他の金属薄膜で形成するようにしても良い。また、
支持梁5は、幅5μm、厚さ0.5μm長さ40μmと
し、微小空隙3は、約1μmとした。そして、電圧源8
は、保護抵抗9およびスイッチ10を介して、固定電極
2用配線と可動電極4用配線の間に接続した。なお、こ
の実施の形態では、支持梁5が導体であるので、可動電
極4を設けず、この支持梁5を可動電極と兼用するよう
にしてもよい。
【0011】以上の構成で、スイッチ10を閉じて直流
電圧5Vを固定電極2と可動電極4との間に印加したと
ころ、生じた静電引力により支持梁5が撓み、可動電極
4が固定電極2に引きつけられ接触すると同時に電流が
流れた。このように、固定電極2と可動電極4との対
は、この回路でのもう1つのスイッチとして働くことが
明かであり、その開閉は静電引力の有無によっている。
印加電圧の極性に関して、固定電極2を正,可動電極4
を負とした場合も、また、その逆とした場合も同じよう
に静電引力による接触が生じた。
【0012】実施の形態2.図2は、この発明の実施の
形態2における静電型可動接点素子の構成を示す構成図
である。同図において、2a,2bは可動電極4下に互
いに2μm離れて近設配置された固定電極(第1の電
極)であり、他は図1と同様である。上述の図2に示し
た構成で、スイッチ10をオンにすることで固定電極2
aと可動電極4との間に直流電圧5Vを印加したとこ
ろ、上記実施の形態1と同様に、可動電極4は、固定電
極2aに引き寄せられて2つならんでいる固定電極2
a,2bに接触した。
【0013】このことにより、固定電極2aは、可動電
極4との間だけでなく、固定電極2bとの間も導通を得
たことになる。すなわち、図2に示した電流回路の他
に、固定電極用配線6に接続する回路(図示せず)や、
固定電極2bに配線を介して接続する回路(図示せず)
との間を接続することができたことになる。
【0014】ところで、この実施の形態では、固定電極
2aと可動電極4との間に電圧を印加するようにした
が、これに限るものではなく、固定電極2bと可動電極
4との間に電圧を印加するようにしても良いことはいう
までもない。また、固定電極2aと固定電極2bとの間
に、電圧を印加するようにしても良い。この場合、可動
電極4は電圧が印加されないが、それぞれの固定電極2
a,2bは、近設した可動電極4との間で静電容量結合
を生じている。このため、可動電極4は固定電極2a,
2bより吸引力を受けることになる。
【0015】実施の形態3.図3は、この発明の実施の
形態3における静電型可動接点素子の構成を示す構成図
である。同図において、5aは絶縁物質から構成され、
絶縁性基板1に形成された支持梁である。図2と同様
に、支持梁5aは可動電極4を支えており、この可動電
極4下に、固定電極用配線6に接続する固定電極2aと
分離した固定電極2bが形成されている。
【0016】前記実施の形態2では、図2に示すよう
に、固定電極2aと可動電極4との間に電圧を印加する
ようにしたが、ここでは、固定電極2aと固定電極2b
との間に所定の電圧を印加する。この電圧印加により、
固定電極2aと固定電極2bは、対向している可動電極
4との間で静電容量結合を生じ、可動電極4は固定電極
2a,2bより吸引力を受ける。そして、可動電極4
は、固定電極2a,2bに接触し、固定電極2aと固定
電極2bとの間が導通することになる。
【0017】以上示したように、絶縁物からなる支持梁
5aを用いるようにしても、実施の形態2と同様に、固
定電極用配線6に接続する回路(図示せず)や、固定電
極2bに配線を介して接続する回路(図示せず)との間
を接続することができることになる。なお、上述では、
図1では1つであった固定電極2を、近設する2つの固
定電極2a,2bとするようにしたが、これに限るもの
ではなく、近設する3つの,または,4つの電極とする
ようにしても良い。
【0018】また、支持梁側にの可動電極4を電気的に
分離した近設する2つの電極で構成し、これに対向する
固定電極2は1つとし、2つの可動電極の間に電位差を
与え、固定電極との間に静電引力を発生させるようにし
ても良い。すなわち、図3において、固定電極2aおよ
び固定電極2bと可動電極4とを入れ換えた構成であ
る。この場合においても、可動電極4を電気的に分離し
た近設する3つ以上の電極で構成するようにしても良
い。
【0019】実施の形態4.図4は、この発明の実施の
形態4における静電型可動接点素子の構成を示す構成図
である。同図において、11は支持梁5に設けられた可
動電極(第4の電極)、12は可動電極11に対向する
ように絶縁性基板1上に形成した固定電極(第3の電
極)である。なお、他は図2と同様である。
【0020】この実施の形態4において、スイッチ10
をオンにすることで、固定電極2と可動電極4との間に
電圧を印加すると、それらの間で静電容量結合を生じ、
可動電極4は固定電極2に引きつけられる。そして同時
に、支持梁5に懸架されている可動電極11は下降し、
固定電極12と接触することになる。このことにより、
可動電極11と固定電極12は導通することになる。す
なわち、これらをスイッチの両端子とみなした回路(図
示していない)を、スイッチ10のオンオフにより開閉
することができる。
【0021】実施の形態5.この実施の形態5は、上記
実施の形態4において1つの電極としていた固定電極1
2を、近設する2つの固定電極とし、また、可動電極1
1を絶縁膜を介して形成するようにしたものである。図
5の構成図に示すように、可動電極11と支持梁5とを
絶縁膜14で分離し、また、固定電極12a,12bを
電気的に分離して近設すれば、上述のことが達成でき
る。なお、他は図4と同様である。そして、図5に示す
構成においても、スイッチ10をオンにすることで、固
定電極2と可動電極4との間に電圧を印加すると、それ
らの間で静電容量結合を生じ、可動電極4は固定電極2
に引きつけられる。このことにより、可動電極11は固
定電極12aと固定電極12bとに接続することにな
り、固定電極12aと固定電極12bとが、支持梁5と
は絶縁された状態で接続することになる。
【0022】ところで、絶縁膜14は配置しなくても良
いが、固定電極12aと固定電極12bによるスイッチ
で回路の開閉を行う場合、それら固定電極12a,12
bと支持梁5を介した他の電極とが接続する必要はな
い。むしろ、固定電極12a,12bは支持梁5と絶縁
されている方が、回路外に不要な漏れ電流を発生するこ
となくかえって好都合である。ここで、この固定電極1
2a,12bに接続する図示していない回路は、図5に
示している回路とは電気的に分離されているため、固定
電極12a,12bに接続する回路は全く独立に実現で
きる。このように、この実施の形態5によれば、よりシ
ステムへ応用する場合の設計自由度が高いという利点を
有する。
【0023】実施の形態6.図6は、この発明の第6の
実施の形態における静電型可動接点素子の構成を示す構
成図である。この実施の形態6は、図2と図5の接続を
組み合わせたものである。この実施の形態6の場合、上
記実施の形態5と同様に、固定電極2aと可動電極4と
の間に電圧を印加してもよいが、固定電極2aと固定電
極2bとの間に電圧を印加するようにしても良い。
【0024】このことによっても、前述の実施の形態3
でも説明したように、固定電極2aと固定電極2bは、
近設している可動電極4との間で静電容量結合を生じ、
可動電極4は固定電極2a,2bより吸引力を受ける。
そして、結果として、上記実施の形態5と同様の効果を
奏するものとなる。すなわち、固定電極12aと固定電
極12bをスイッチの両端子とみなした回路(図示して
いない)を、スイッチ10のオンオフにより開閉するこ
とができる。このようにすることで、可動電極には電圧
を印加することがないので、構造が単純化され製造が容
易になる。
【0025】実施の形態7.図7は、この発明の実施の
形態7における静電型可動接点素子の構成を示す構成図
である。この実施の形態7においては、図7に示すよう
に、絶縁膜15を可動電極4の表面にも形成するように
した。このことにより、固定電極2aと固定電極2bと
の間に電圧を印加して可動電極4を引きつけても、上記
実施の形態6とは異なり、固定電極2aと固定電極2b
とが導通状態とはならない。一方、固定電極12aと固
定電極12bとは、上記実施の形態6と同様に、導通状
態となる。
【0026】このように、支持梁5に配置した可動電極
4を引きつけるようにしても、この実施の形態7におい
ては、固定電極2aと固定電極2bとが導通状態となら
ず、この回路には電流が流れない。従って、この場合
は、電圧は供給されるのみでほとんど電力を消費しない
という利点がある。なお、上述では、可動電極4の表面
に絶縁膜15を形成するようにしたが、可動電極4を形
成せず、可動電極4と同位置に、絶縁膜だけを形成する
ようにしても良い。支持梁5が導電性を有するからであ
る。また、上述では、可動電極4の表面に絶縁膜15を
形成するようにしたが、この絶縁膜15は形成せずに、
固定電極2a,2b上に絶縁膜を形成するようにしても
同様である。
【0027】実施の形態8.図8は、この発明の実施の
形態8における静電型可動接点素子の構成を示す構成図
である。同図に示すように、この実施の形態8において
は、固定電極2a,2bに対向して支持梁5に絶縁膜1
5を形成した上に、可動電極4aおよび可動電極4bを
近設して形成するようにした。固定電極2aと支持梁5
もしくは固定電極2aと固定電極2bとの間に電圧を印
加することで、固定電極2a,2b,12a,12b側
に支持梁5を引きつけたとき、固定電極2a,2bは、
可動電極4a,4bと接触することになる。このように
しても、上記実施の形態7と同様に、支持梁5に配置し
た可動電極4a,4bを引きつけるようにしても、固定
電極2aと支持梁5もしくは固定電極2aと固定電極2
bとの間に電流が流れることがない。
【0028】ところで、上述では、断面構造図で説明す
る都合上、各電極や支持梁などを横1列方向に並べた
が、これらは2次元平面上で考えれば、より自由な配置
が可能であることはいうまでもない。また、電極材料と
してアルミニウムを例示したが、これに限るものではな
く、半導体電子素子で用いられる他の材料を用いるよう
にしても良い。例えば、ポリシリコンなどの半導体材
料、タングステンやモリブデンなどの高融点金属、各種
金属シリサイド、チタンや窒化チタン、銅や白金および
金など様々な材料を用いることができる。
【0029】一方、支持梁の材料としては、アルミニウ
ムや上述した導電体の他に、二酸化シリコン,窒化シリ
コン,窒化アルミニウムなどの絶縁材料を用いることも
できる。また、上述では、支持梁の基板への固定は、片
側の一カ所としているが、両側を固定した梁構造として
も良いことはいうまでもない。また、梁の本数も、一方
向に一本とは限らず、複数本の梁を用いるようにしても
良い。
【0030】実施の形態9 図9は、この発明の実施の形態9における静電型可動接
点集積回路の構成を示す構成図であり、可動のための電
圧を供給する電気回路(駆動用集積回路)を組み込んだ
状態を示している。同図において、91はp型のシリコ
ンからなる基板、92は素子分離用の絶縁層、93は基
板91表面の所望の領域に形成されたnウエル、94は
ゲート絶縁膜、95aはpMOSFETのゲート電極、
95bはnMOSFETのゲート電極、96はn形の不
純物が導入されたnMOSFETのソース・ドレイン領
域、97はp形の不純物が導入されたpMOSFETの
ソース・ドレイン領域、98は層間絶縁膜である。
【0031】また、99はドレイン引き出し電極、10
0は出力引き出し電極、101はソース引き出し電極、
102は層間絶縁膜、103はドレイン引き出し電極9
9に接続するVDD端子、104はソース引き出し電極
101および支持梁5に接続するGND端子、105は
出力引き出し電極100と固定電極2とを接続する出力
用ビア配線であり、他はほぼ図5と同様である。ただ
し、ここでは、可動電極4が絶縁膜15を介して支持梁
5に形成されている。そして、ゲート電極95aとゲー
ト電極95bには、図示していないが、共通の配線によ
って同一の電位が与えられ、これらで駆動用のCMOS
インバータ回路106が形成されている。
【0032】このCMOSインバータ回路106の動作
により、出力引き出し電極100の電位が変化するの
で、固定電極2と支持梁5の間の電圧が変化する。この
動作に合わせて、支持梁5の可動部分は上下に運動し、
可動電極4および可動電極11が上下する。そして、固
定電極12a,12bの間が、可動電極11により開閉
される。以上示したように、この実施の形態9によれ
ば、静電型可動接点素子の駆動用の電圧供給回路(CM
OSインバータ回路)をその静電型可動接点素子の下に
組み込むようにしたので、占有面積が小さくなる。ま
た、電圧供給回路と静電型可動接点素子との接続配線も
最短距離となるので、全体として高速動作が可能とな
る。
【0033】実施の形態10.図10は、この発明の実
施の形態10における静電型可動接点集積回路の構成を
示す構成図であり、可動のための電圧を供給する電気回
路を組み込んだ状態を示している。この実施の形態10
では、ドレイン引き出し電極99に固定電極2aを接続
し、出力引き出し電極100には固定電極2bを接続す
るようにしている。そして、固定電極2bに対向するよ
うに可動電極4bを配置し、また、支持梁5は回路より
分離している。
【0034】この実施の形態10においては、CMOS
インバータ回路106の動作により、出力引き出し電極
100の電位が変化し、固定電極2aと固定電極2bの
間の電圧が変化する。固定電極2aと固定電極2bの間
に電位差が発生したとき、静電引力が生じ、支持梁5を
引きつける。そして、この動作に合わせて、支持梁5の
可動部分は上下に運動し、可動電極4a,4bおよび可
動電極11が上下する。そして、固定電極12a,12
bの間が、可動電極11により開閉される。以上示した
ように、この実施の形態10においても、上記実施の形
態9と同様に、占有面積を小さくすることが可能とな
り、また、電圧供給回路と静電型可動接点素子との接続
配線も最短距離となり、全体として高速動作が可能とな
る。
【0035】ところで、上記実施の形態9,10で示し
た静電型可動接点集積回路を、一つの基板に複数組集積
化し、任意のCMOSインバータ回路を選んで動作させ
る選択回路を同時に集積化することで、多接点集積回路
が実現できる。この、多接点集積回路によれば、所望の
接点の開閉状態をプログラムデータに応じて切り替える
ことが可能となり、これを用いれば、FPGAを構成す
ることが可能となる。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、この発明では、電
圧を印加することで第1の電極と第2の電極の間に電位
差を発生させ、このことにより発生した静電引力により
支持梁を引き寄せることで、オンオフ動作をさせるよう
にした。この結果、この発明によれば、回路間をより低
抵抗で接続可能にできるという効果がある。そして、こ
れらを複数組み合わせることで、高速性に優れたFPG
Aなどを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1における静電型可動
接点素子の構成を示す構成図である。
【図2】 この発明の実施の形態2における静電型可動
接点素子の構成を示す構成図である。
【図3】 この発明の実施の形態3における静電型可動
接点素子の構成を示す構成図である。
【図4】 この発明の実施の形態4における静電型可動
接点素子の構成を示す構成図である。
【図5】 この発明の実施の形態5における静電型可動
接点素子の構成を示す構成図である。
【図6】 この発明の第6の実施の形態における静電型
可動接点素子の構成を示す構成図である。
【図7】 この発明の実施の形態7における静電型可動
接点素子の構成を示す構成図である。
【図8】 この発明の実施の形態8における静電型可動
接点素子の構成を示す構成図である。
【図9】 この発明の実施の形態9における静電型可動
接点集積回路の構成を示す構成図である。
【図10】 この発明の実施の形態10における静電型
可動接点集積回路の構成を示す構成図である。
【符号の説明】
1…絶縁性基板、2…固定電極、3…微小空隙、4…可
動電極、5…支持梁、6,7…配線、8…電圧源、9…
保護抵抗、10…スイッチ。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁性基体上に固定された接続部および
    前記絶縁性基体と一定の空隙を隔てて前記接続部に続く
    可動な支持部から構成された支持梁と、 前記支持部下の前記絶縁性基体上に形成された第1の電
    極と、 前記支持部の前記第1の電極に対向する面に、前記第1
    の電極と所定の空隙をあけて形成された第2の電極とを
    少なくとも備えたことを特徴とする静電型可動接点素
    子。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の静電型可動接点素子にお
    いて、 前記支持部下の前記絶縁性基体上に形成された第3の電
    極と、 前記支持部の前記第3の電極に対向する面に、前記第3
    の電極と所定の空隙をあけて形成された第4の電極とを
    少なくとも備えたことを特徴とする静電型可動接点素
    子。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の静電型可動接点
    素子において、 前記第2の電極または第4の電極は、絶縁膜を介して形
    成されていることを特徴とする静電型可動接点素子。
  4. 【請求項4】 請求項1または2記載の静電型可動接点
    素子において、 前記第1の電極または第2の電極は、他の電極と対向す
    る面上に絶縁膜が形成されていることを特徴とする静電
    型可動接点素子。
  5. 【請求項5】 請求項1から4いずれか1項記載の静電
    型可動接点素子において、 前記第1,第2,第3,または,第4の電極の少なくと
    も1つが、電気的に分離された近設する2つ以上の電極
    から構成されていることを特徴とする静電型可動接点素
    子。
  6. 【請求項6】 請求項1から5いずれか1項記載の静電
    型可動接点素子を設けた静電型可動接点集積回路におい
    て、 前記第1の電極および第2の電極の互いに対向または近
    設する電極の間に所定の電圧を供給する駆動用回路を備
    えたことを特徴とする静電型可動接点集積回路。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の静電型可動接点集積回路
    において、 前記駆動用回路は、前記静電型可動接点素子の下に形成
    されていることを特徴とする静電型可動接点集積回路。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の静電型可動接点集積回路
    において、 前記第1から第4の電極の少なくとも2つに接続する選
    択回路を有し、前記静電型可動接点素子および駆動用回
    路が複数備えて集積されていることを特徴とする静電型
    可動接点集積回路。
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